DE2007484C3 - Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die FotoätztechnikInfo
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- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik,
bei dem auf eine Glasplatte eine Bleisulfidschicht aufgebracht wird und nach Aufbringung
einer Ätzmaske, z. B. in Form einer Fotolackschicht, die nicht abgedeckten Teile der Bleisulfidschicht mit
Chromschwefelsäure herausgeätzt werden.
Bei der Herstellung von Leiterplatten im Wege der Fotoätztechnik und beim Ätze.i von Formteilen
werden Belichtungsmasken verwendet, die aus Glasplatten bestehen, die eine etwa 1 μΐη starke Bleisulfidschicht
mit dem gewünschten Muster aufweisen. Die Herstellung dieser Glasoriginale erfolgt in der Weise,
daß auf eine Glasplatte eine etwa 1 μ starke Bleisulfidschicht aufgebracht, darüber im Wege der Fotoätztechnik
eine Ätzmaske hergestellt wird, worauf die Bleisulfidschicht mit Hilfe von Chromschwefelsäure
geätzt wird. Während dieses Ätzvorgangs wird das Bleisulfid zu Bleichromat und Bleisulfat oxydiert.
Diese Reaktionsprodukte sind schwerlöslich und bleiben an der angeätzten Oberfläche als gelbe Schutzhaut
haften, so daß das Durchätzen der Bleisulfidschicht verlangsamt wird. Erst nach dem Durchätzen
lassen sich die Reakionsprodukte, z. B. durch Abwischen mit einem nassen Schwamm, entfernen. Die
Konturengenauigkeit der auf diese Weise hergestellten Glasoriginale ist jedoch beschränkt, da während
der Ätzung eine Unterätzung der Kanten auftritt. Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde,
ein Verfahren zur Herstellung von Glasoriginalen anzugeben, das die Herstellung von Glasoriginalen
mit größerer Konturengeiiauigkeit gestattet.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird ein Verfahren der eingangs genannten Art vorgeschlagen, nach dem erfindungsgemäß
die Ätzung in mehreren Verfahrensstufen durchgeführt wird und nach jeder Teilätzung
die geätzten Teile mit Komplexbildnern behandelt werden, um die gebildeten Ätzprodukte zu entfernen,
worauf die Ätzung fortgesetzt wird.
Hierbei wird die schilderte gelbe Deckschicht entfernt.
Das dadurch reigelegte Bleisulfid wird Eidann weitergeätzt und die neu gebildete gelbe Deckschicht
wiederum mit Komplexbildnern abgetragen. Meist genügt ein 4-Stufen-Prozeß zum Freiätzen einer Platte.
Als besonders gut geeignet hat sich die Verwen-
ao dung von Dinatriumsalz von Äthylendiamintetra-Essigsäure
erwiesen. Andere geeignete Komplexbildner sind unter anderem: ammoniakalische Weinsäurelösung,
neutrale Lösungen von Nitrilotriessigsäure und Diäthylentriaminpentaessigsäure.
as Die bei diesen Verfahren sich ergebende Unterätzung
des Bleisulfidmusters ist äußerst gering. Es ist daher möglich, hiernach Glasoriginale mit sehr geringen
Toleranzen herzustellen.
Ausführungsbeispiel
Glasplatten, die eine etwa 1 μ dicke Bleisulfidschicht aufwiesen, auf die eine die nicht zu ätzenden
Teile bedeckende Maske aufgebracht war, wurden zunächst mit Leitungswasesr benetzt, in einen geeigneten
Rahmen eingelegt und sodann während 10 Sekunden einer Sprühätzung mit einer Ätzlösung aus
150 g pro Liter Chromtrioxyd, 112 ml pro Liter konzentrierter
Schwefelsäure, 3 ml pro Liter konzentrierter Salzsäure bei einer Temperatur von etwa 45°
unterzogen. Hierauf wurden die so behandelten Glasplatten mit deionisiertem Wasser gespült und in eine
Komplexlösung aus etwa 150 g Dinatriumsalz der Äthylendiamintetra-Essigsäure in 21 deionisiertem
Wasser ausgesetzt. Gleichzeitig wurde mit einem weichen, flachen Pinsel die Oberfläche des Glasoriginals
überstrichen, bis die durch das Ätzen gebildete gelbe Bleichromatschicht entfernt war und die graue Farbe
der darunterliegenden Bleisulfidschicht zum Vorschein kam. Nach einer weiteren Spülung mit Leitungswasser
wurde die Ätzung für eine Dauer von etwa 7 bis 8 Sekunden fortgesetzt. Hierauf erfolgte
wiederum eine Behandlung in der Komplexbildnerlösung. In der Regel ist damit der Ätzprozeß beendet.
Ist das nicht der Fall, so kann eine weitere Ätzung,
die diesmal nur 2 Sekunden dauert, erfolgen. Hierauf erfolgt eine weitere Spülung in Leitungswasser,
dann Spülung in deionisiertem Wasser und anschließend das Trocknen der Glasoriginale mit Preßluft.
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik, bei dem auf eine
Glasplatte eine Bleisulfidschicht von ungefähr 1 μ Dicke aufgebracht wird und nach Aufbringung
einer Ätzmaske die nicht abgedeckten Teile der Bleisulfidschicht mit Chromschwefelsäure herausgeätzt
werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Ätzung in mehreren Verfahrensstufen durchgeführt wird und daß nach jeder Teilätzung
die geätzten Teile mit einem Komplexbildner behandelt werden, um das schwerlösliche Ätzprodukt
Bleisulfat in ein leichtlösliches Salz umzuwandeln und dadurch zu entfernen, worauf die
Ätzung fortgesetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Komplexbildner das Dinatriumsalz
der Äthylendiamintetra-Essigsäure verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Komplexbildner ammo-
" niakalische Weinsäure verwendet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Komplexbildner neutrale
Lösungen von Nitrilotri-Essigsäure oder Diäthylentriaminpenta-Essigsäure verwendet werden.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702007484 DE2007484C3 (de) | 1970-02-18 | 1970-02-18 | Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik |
FR7104569A FR2078463A5 (en) | 1970-02-18 | 1971-02-11 | Photographic etching exposure matrix prodn |
NL7102108A NL7102108A (de) | 1970-02-18 | 1971-02-17 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702007484 DE2007484C3 (de) | 1970-02-18 | 1970-02-18 | Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2007484A1 DE2007484A1 (de) | 1971-09-16 |
DE2007484B2 DE2007484B2 (de) | 1973-03-15 |
DE2007484C3 true DE2007484C3 (de) | 1973-09-27 |
Family
ID=5762634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702007484 Expired DE2007484C3 (de) | 1970-02-18 | 1970-02-18 | Verfahren zur Herstellung einer Belichtungsmaske für die Fotoätztechnik |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2007484C3 (de) |
FR (1) | FR2078463A5 (de) |
NL (1) | NL7102108A (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02124228A (ja) * | 1988-10-29 | 1990-05-11 | Fanuc Ltd | ワイヤ放電加工装置 |
-
1970
- 1970-02-18 DE DE19702007484 patent/DE2007484C3/de not_active Expired
-
1971
- 1971-02-11 FR FR7104569A patent/FR2078463A5/fr not_active Expired
- 1971-02-17 NL NL7102108A patent/NL7102108A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7102108A (de) | 1971-08-20 |
FR2078463A5 (en) | 1971-11-05 |
DE2007484A1 (de) | 1971-09-16 |
DE2007484B2 (de) | 1973-03-15 |
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