DE2007267A1 - Wässrige Entwicklerlösung zur Ausbildung eines Reliefbildes in einer fotopolymerisierharen Schicht - Google Patents

Description

PATENTANWÄLTE DR.-IN6. VON KREISLER DR.-ING. SCHDNWALD DR.-ING. TH. MEYER DR. FUES DIPL.-CHEM. ALEK VON KREISLER DIPL.-CHEM. CAROLA KELLER DR.-ING. KLDPSCH KÖLN 1, DEICHMANMHAUS

12. Februar 1970 Mr/bz

E. I. du Pont de Nemours and Company, Wilmington, Delaware I9898

Wässrige Bntwlcklerlösung zur Ausbildung eines Reliefbildes In einer fotopolymerisierbaren Schicht

Die Erfindung betrifft wässrige Entwicklerlösungen, die zur Ausbildung von Bildern in fotopolymerisierbaren Schichten geeignet sind.

In der Technik des graphischen Gewerbes macht man in steigendem Maße von fotopolymerisierbaren Massen und Schichten, insbesondere fotopolymerisierbaren Druckpiat-- ι ten und Filmen, öebrauch. In den fotopolymerisierbaren μ Schichten liegen additionspolymerislerbare, äthylenisch ungesättigte Monomere und makromolekulare Polymere in flüssiger Form, in QeIfοrm oder in fester Form vor (vergl. französische Patentschrift 1 529 218). Man bringt die Schichten gewöhnlich auf einen flexiblen oder starren Träger auf, insbesondere auf Folien aus organischen Polymeren oder auf Träger aus Metall, beispielsweise Bänder oder Platten aus Bisen oder AlumlriLum. Abweichend /on den früher verwendeten fotomechanischen Druckplatten, bei denen lichtempfindliche DiazoVerbindungen und deren KombinatLonan zur Wirkung kamen, enthalten ULe addltlonepoLymat'lijlurbartm fly üb ο πιο ein makromolekulare«, organ la.) hu β PoLymoras utul »In

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additionspolymerisierbares Monomeres, das mindestens eine endständige äthylenische Gruppe (CHo=C^ ) aufweist und bei Belichtung mit aktlnlscher Strahlung ein Polymeres von hohem Molekulargewicht ausbildet. Belichtet man die fotopolymerisierbare Schicht, so wird die Löslichkeit der Schicht beeinflußt, wodurch die belichteten Bereiche gehärtet und unlöslich gemacht werden. Obgleich Belichtung und anschließende Entwicklung ein Bild ergeben können, zeigen durch Fotopolymerisation erhaltene lithografische Druckplatten häufig Mängel« die auf die angewandte Entwicklerlösung zurückgehen.

Es ist nachteilig, daß eine ungleichmäßige Entwicklung oder die Verwendung ungeeigneter Lösungen zu einer unzureichenden Entwicklung oder einer teilweisen Entfernung des entstandenen Bildes sowie des Untergrundbereiches fUhren kann. Arbeitet man mit alkalischen Entwicklern, so entsteht bei Verwendung von Metallträgern, die vor der Beschichtung nicht mit einer besonderen Schutzschicht Überzogen wurden, die Schwierigkeit, daß sie oxydiert werden. Die Oxydation der Untergrundbereiche führt zum Schäumen (scumlng) oder zum unerwünschten Einfärben der Nichtbildbereiche. Störend 1st es fernerhin, daß der pH-Wert und die Wirksamkeit des Entwicklers mit längerer Lagerzelt abnehmen. Um eine wesentliche Verbesserung derartiger Systeme zu erreichen, sind verschiedenartige Polymere und EntwLoklermodlfikatlonen erforderlich. In manchen Fällen gelang es, die schädlichen Einflüsse durch Einarbeitung besonderer Substanzen In das Polymere oder oLne upezlelle Vorbeschlchtung oder bestimmte naehpolymerLuLurende Behandlungen herabzusetzen. Auf Jeden Pail nl ml Iti rieht Igor Entwicklung oder Fixierung entnuh&Lcluxi:!:) Faktoren für dlo Ei·/. Li Lung Im· gowlinuohten olnwanclfi'oUm Druckformen su fi^hwu,

fi On 8 50/ 1 ö 1 \ BAD ORIGINAL

Belichtete fotopolymerisierbare Schichten kann man mit Hilfe von wässrigen Lösungen von Alkaliphosphaten, Alkalisilikaten- oder -metasilikaten entwickeln, wie in den USA-Patentschriften 3 199 9Ö1 und 5 264 104 beschrieben. Die USA-Patentschrift 2 76O 863 erläutert ein wässriges Entwicklersystem, worin die Lösung eine gegenüber der fotopolymerisierbaren Schicht entgegengesetzte Polarität aufweist. Beispielsweise würde eine saure Schicht ein wässriges alkalisches Entwicklersystem verlangen. Diese Patentschrift erwähnt zwar die Anwendung gewisser organischer Lösungsmittel und deren Mischungen, die die unbelichteten Bereiche der Schicht auflösen, Jedoch die belichteten Bereiche nicht wesentlich beeinflussen, rät aber von deren Benutzung ab. Die belgische Patentschrift 709 435 beschreibt wässrige Entwickler für fotopolymerisierbare Schichten, die neben mindestens einem organischen Lösungsmittel alkalisch reagierende Substanzen, wie beispielsweise Alkalihydroxyde, Alkalicarbonate, Alkaliphosphate, Alkalimetasilikate, enthalten. Die Entwickler können zwischen 1 und 50 Vol.-Ji des organischen Lösungsmittels aufweisen und pH-Werte zwischen 8 und I3 haben. Die Verwendung von alkalischen Substanzen mit einem Ver- g

hältnis von SiO₂ : Alkalioxyd von mehr als 1 : 1 in Kombination mit organischen Lösungsmitteln mit dem Ziele der Ausschaltung der erwähnten Mängel ist nicht empfohlen worden.

Die Erfindung geht aus von einer wässrigen Entwicklerlösung zur Ausbildung eines Reliefbildes in einer fotopolymerisierbaren Schicht, die ein additionspolymeriaierbares Monomeres mit mindestens einer endständigen äthylenischen Gruppe und ein organisches makromolekulares Polymeres enthält, in der ein lösliches Alkali-Bilikat und mindestens ein mit Wasser mischbares, organisches Lösungsmittel in einer Menge von 2 bis 25

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Vol.-% der Lösung vorliegt, wobei die Lösung einen pH-Wert von 10 bis 13 hat. Diese Entwicklerlösung ist dadurch gekennzeichnet, daß das Alkalisilikat ein SiO₂ : Alkalioxyd-Verhältnis von über 1,5 : 1 aufweist und in einer Menge von mindestens 0,5 Gew.-# Je Liter Lösung vorliegt.

Die Entwicklerlösungen enthalten im wesentlichen also Alkalisilikate mit einem SiO₂ : M_g0-Verhältnis (worin M für Lithium, Natrium oder Kalium steht) von mindestens 1,5 : 1 und in Kombination damit mindestens ein mit Wasser mischbares organisches Lösungsmittel In den vorstehend wiedergegebenen Anteilen. Die Lösungen können färbende Substanzen, oberflächenaktive Substanzen, Pufferstoffe und sequestering agents (s. Römpp "Chemie-Lexikon", 6. Auflage, S. 585¹O enthalten. Die Entwicklerlösungen können zur Behandlung polymerisierbar er Schichten verwendet werden, wie sie beispielsweise in den belgischen Patentschriften 709 **35, 720 122, 681 944 und 753 5^3 beschrieben sind.

Alkalisilikate sollen in ausreichender Menge vorliegen, um einen pH-Wert von 10,0 bis 13 einzustellen. Insbesondere sollen Jene Alkalisilikate, die ein Verhältnis von SiO₂ : Alkalimetall- oder Alkalloxyd von über 1,5: 1 haben und zur Herstellung einer Lösung mit einen pH-Wert zwischen 10,5 und 12 befähigt sind, eingesetzt werden. Mengen unterhalb 0,5 0ew.-£ sollen In den zur Behandlung verwendeten wässrigen Entwicklerlösungen nicht vorliegen. Man arbeitet also mit Silikaten der allgemeinen Formel

X SiO₂ . Y M₂O,

worin M ein Alkalimetall, wie Natrium, Lithium, oder Kalium ist. Die Koeffizienten X und Y zeigen, 4** die entsprechenden Mol-Konzentrationen an SlO₂ und Alkall-

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- 5 metalloxyd an.

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung stellt das Entwicklersystem eine wässrige Lösung dar, in der ein Silikat der angegebenen allgemeinen Formel mit X > Y oder vorzugsweise χ > oder gleich 2 y und mindestens ein organisches Lösungsmittel in Kombination mit Üblichen Zusatzstoffen vorliegt. Handelsübliche Silikate dieses Typs sind mit SlOp : Me₂O-Verhältnissen von 8,5 : 1 zugänglich. Hierhin gehören die handelsüblichen Natriumsilikate (3,85 : 1), Kaliumsilikate(4,0 :1) und Lithiumsilikate (4,8 bis 8,50 : 1). Die handelsüblichen Produkte kann man als Konzentrate mit verschiedenen Anteilen an Wasser erhalten, beispielsweise Na₂O . 3,75 SiO₂ . χ H₂O; 2,1 SiO₂ χ K₂O χ 5 H₂O; 2,5 SiO₂ . K₂O . H₂O; 8,5 SiO₂ . Li₂O . 9 H₂O. Die hydratisieren Silikate sind löslicher als die der wasserfreien Form. Im Rahmen der Erfindung sind Jedoch Alkalisilikate mit einem SiO₂ : Me₂O-Verhältnis unterhalb oder gleich 1 : 1 wie 3 Na₂O . 2 SiO₂ . H₂O; 2 Na₂O . SiO₂; K₂Si₂O₅, Na₂SlO, nicht brauchbar. Es kommen also für die Erfindung nur Kombinationen der aus- " gewählten Silikate mit organischen Lösungsmitteln Infrage, die befähigt sind, in wirksamer Weise einen guten Schutz von Metalloberflächen gegen Oxydation und eine gute Stabilisierung der pH-Werte sicherzustellen. Die organischen Lösungsmittel sollen die fotopolymerlslerten Bereiche der Schichten oder die Trägeroberflächen nicht schädigen.

Bevorzugte organische Lösungsmittel sind mit Wasser mischbare Substanzen, die befähigt sind, das fotopol ymer leierbare Material aufzulösen und außerdem mit den Alkalisilikaten vertraget. Lnh sind. Das angewandte Lösungsmittel muli In elrujr solchen Konzentration vor-

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liegen, daß das nicht belichtete fotopolymerisierbare Material gequollen wird, ohne daß das polymere Bild aufgeweicht wird. Besonders geeignet sind aliphatlsche Alkohole von niederem Molekulargewicht« Ketone« Äther oder Mischungen dieser Stoffe. Kondensierte» aus mehreren Bestandteilen zusammengesetzte Lösungsmittel« wie die Mono- und Dialkyläther des Äthylenglykols, und deren Derivate, eignen sich gleichfalls für die Entwicklersysteme der beschriebenen Art. Die Lösungsmittel mit niedrigem Molekulargewicht weisen eine Kette mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen neben der funktioneilen Gruppe auf. Die kondensierten Lösungsmittel der Entwicklerlösungen können jedoch bis zu 10 Kohlenstoffatome enthalten. Der Entwicklerlösung der Erfindung werden demgemäß bevorzugt 2 bis 25 Vol.-Ji, bezogen auf die gesamte wässrige Entwicklerlösung, an folgenden Verbindungen zugefUgt: Äthanol, Butanol, Methylethylketon, Diäthylketon, Methyläthyläther, Äthylenglykol und Monobutyläther. Durch Auswahl bestimmter Lösungsmittel kann man zusätzlich einen gewünschten angenehmen Geruch erreichen. PUgt man färbende Stoffe oder Irgendwelche besondere Wirkungen hervorrufende Bestandteile zu, so werden die Konzentrationen so eingestellt, daß ein bemerkbarer Einfluß auf die Entwicklerwirksamkeit nicht eintritt und ein schädigender Einfluß auf das fotopolymerlsierte Material ausgeschaltet ist.

Beim Einsatz in Entwickelvorrichtungen können gewisse Silikate ausfallen und auf ungleichmäßig bespUlten Teilen der Vorrichtung Schuppenbildung hervorrufen. Diese flockenartlg-unlösllche Anreicherung, die mit Hilfe üblicher Wasserenthärter oder "sequestering agents" wie Natriumhexametaphosphat, Kbhylandlainlntetraesslgnüure oder DLUthylenfcrLutnLnpuntaesslguHure herabgesetzt werden kann, erforrlurt zusätzlich« Pflege. Me-

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dingt durch Ihre größere Löslichkeit oder verminderte Haftfestigkeit auf den infragekommenden Maschinenteilen erzeugen Lithiumsalze diese für Natrium- und Kaliumsilikate typischen Ansätze nicht.

Da die Eigenschaften einzelner Alkalisilikate sich voneinander unterscheiden, können eines oder mehrere der bevorzugten Silikate mit organischen Lösungsmitteln sowie geeigneten alkalischen Pufferstoffen vermischt werden, um als Mehrzweckentwickler zu wirken. Dement- g sprechend liefert eine Zubereitung, die aus einer Mischung von 50 Gew.-Teilen des bevorzugten Natrium- und 50 Gew.-Teilen Lithiumsilikate neben dem organischen Lösungsmittel und üblichen Zusätzen besteht, eine einwandfreie Entwicklung der polymerisierten Schicht, setzt weiterhin die Ansatzbildung herab und sichert einen guten Schutz gegen Oxydation. Eine solche Lösung stellt auch ein wirksames und wirtschaftliches System zur Verhinderung von Ansatzbildung beim Betrieb von Entwicklermaschinen dar. In ähnlicher Weise kann man ein Kaliumsilikat mit höherem Siliciumgehalt mit einem vorzugsweise anzuwendenden Natriumsilikat vermischen, um die Verträglichkeit mit dem organischen Lösungsmittel ([ zu erhöhen.

Bei der Verwendung von kombinierten Silikatlösungen 1st lediglich darauf zu achten, daß die zur Erzielung einer bestimmten Wirkung erforderliche Menge einer Einzelkomponente die Entwicklerwirkung der angewandten Substanz nicht merkbar herabsetzt.

Verschiedene Pufferstoffe können der wässrigen Lösung zugesetzt werden« beispielsweise Kalium- oder Natriumhydroxyd, Trlnatrluaphosphate in Mischung mit Mononatrlumphosphaten, Karbonate und organische Amine.

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Ausreichende Mengen der einzelnen Bestandteile werden zugesetzt, um den pH-Wert zu erniedrigen und die Stabilität zu erhöhen, ohne den bevorzugten pH-Wert von bis 12 bei den Behandlungstemperatüren wesentlich zu verändern.

Durch den Einsatz der Entwickler der Erfindung auf Silikatbasis wird eine gegenüber üblichen Entwicklern für Fotopolymerplatten besonders günstige pH-Stabilität erreicht. Weiterhin läßt sich eine wesentlich verbesserte Lagerbeständigkeit erzielen, wenn im Entwickler das Verhältnis von SiOg ; M₂O bei 2,0 : 1 oder höher liegt. Eine besonders günstige pH-Stabilität ist von speziellem Vorteil bei automatisch ablaufenden Behandlungsverfahren, bei denen eine Kreislaufführung der Lösung auf mechanischem Wege erfolgt, wobei der Entwickler atmosphärischem COp ausgesetzt ist.

Durch die Erfindung wird weiterhin eine wesentliche Verbesserung des Oxydationsschutzes der Trägeroberfläche erreicht. Dementsprechend wird die Oberfläche des Metall trägers, wie in der belgischen Patentschrift 733 5^3 beschrieben, bei der Entwicklung mit den bevorzugt anzuwendenden Silikatlösungen der Erfindung stärker hydrophil. Die bevorzugten Entwicklerlösungen mit einem SiOp : MgO-Verhältnis oberhalb 1,8 : 1 verhindern nämlich in erheblichem Maße das Anhaften von Druckfarbe in Jenen Bereichen, von denen das Fotopolymere entfernt worden ist, so daß reinere Untergrundbereiche geliefert werden. Der Untergrund betrifft die Wiedergabefähigkeit der Platte, von der das Fotopolymere vollständig entfernt worden ist. Dieses unerwünschte Anhaften von Druckfarbe und deren anschließende Übertragung geht auf die durch den Entwickler auf einem oxydierbaren Träger, ζ. B. einem solchen aus unbehandeltem Aluminium, hervorgerufene Oxydation zurück. Die an-

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fäiiglichen Bemühungen zur Aufschaltung dieses Oxydationsproblenia bestanden darin,. vor dem Beschichten mit dem Fotopolymeren eine Schutzschicht mit darin vorliegendem SiO^ oder geeigneten Lichthofschutzstoffen aufzubringen. Derartige Zubereitungen sind in den USA-Patentschriften <2 YoO iüj, 2 791 504 und 2 904 401 sowie in der französischen Patentschrift 1 529 218 und der belgischen Patentschrift b8l 944 beschrieben. In vielen Füllen werden Lichthofschutzstoffe eingearbeitet oder in gesonderten Schichten aufgebracht. J Unabhängig davon ist aber eixi Gummieren oder· eine unmittelbar vorfärbende Behandlung mit Druckfarbe der frisch entwickelten fotopolymerisierten Oberfläche erforderlich, um eine Oxydation zu verhüten. PUr diesen Gummlerungsprozeü verwendet man handelsübliche Gummiarabicumlösungen. Demgegenüber sichert die Verwendung der Silikatlösungen der Erfindung einen einwandfreien Schutz gegen Oxydation, wobei die Arbeltsstufe der Oummlerung entfallen kann.

Die Entwicklung fotopolymerisierter lithografischer Platten erfordert eine Lösungsbehandlung zwischen 10 ^

und 120 Sek. bei Temperaturen von 18 - j52°C. Obgleich ™

sich die Platten in ausreichender Weise durch einfaches Tränken oder Eintauchen entwickeln lassen, sind auf mechanischem Wege durchgeführte oder von Hand arbeitende Verfahren wirksamer. En solchen Fälien wird die Lösung im Entwicklungsgefäß durch Schwabbeln, Bürsten, DüsensprLtzen oder Umrühren zur Wirkung gebracht. Bei Berührung mit der Lösung werden die löslichen unbelichteten Bereiche der fotopolymerisierten Schioht abgelöst. Mehrmalige Anwendungen des gleichen Entwicklers und anschließendes Waschen haben sich als zweckmäßig erwiesen. Ein Gummieren der getrockneten Platte 1st nicht erforderlich.

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- ίο -

Die nachstehenden Beispiele veranschaulichen die Erfindung.

Beispiel 1

Auf eine aufgerauhte Aluin I η lumplatte wurde eine fotopolymerisierbare Masse aufgebracht, die In der belgischen Patentschrift 733 543 beschrieben 1st. Sie enthielt einen freie RadLkaLe abgebenden Fotopoiymeri- «atlonalnltlator und außerdem Lophlndimere Ln Kombination inLt, MLchler'a-Keton (4,4'-BLs-dlmethyiamLnobenzophenon). Die sor'gfältlg durchgerührte Mischung wurde mit einem Pinsel auf AO-Aluinlniuin oder nicht behandeltes Aluminium mit körniger Oberfläche aufgetragen; nachstehend ihre Zusammensetzung:

Bestandteile

Zugesetzte Mengen	β
300,0	g
Ii)O,0	g
11.2	g
6,0	g
1500,0

Poly-(methylmethacrylat/ methacrylsäure) (90/10)

TrlmethylolpropantrLacrylat

2-(o-chlorphenyl)-4,5-dlme thoxyphenylimldazolyldimeres

Mlchler's Keton (4,4'-Bis-dlme thylaminobenzophenon)

2-Äthoxyäthanol

Oberzugsgewichte: Etwa 35 bis 45 mg/dm .

Die fotopolymerlslerbaren Platten wurden dann getrocknet und einer Belichtung von 26 Sek. durch eine geeignete BLldvorlage ausgesetzt. Die Belichtungen erfolgten mit einem Standardgerät wie einem Kohlebogen-Belichtungsgerät, einem Nu Arc "Flip Top" - Plate Maker, Modell PT 2b L, das unter Verwendung einer XenonLlcht<iwoLle arbeitet. Mehrere der belichteten Platten wurden dann In verschiedenen Alkalllösungen entwickelt. Nachstehend

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Menge	ml
750	g
78	ml
60	tnl
2	Li ter
1

- 11 -

Angaben über die Zusammensetzung der Lösungen und entsprechende Identifizierungen.

Entwickler It Es wurde folgende Lösung auf Silikatbasis hergestellt:

Bestandteile
Destilliertes Wasser Natriumsilikat, ^4° (3,85 SiO₂ : 1 Na₂O 2-n-Butoxyäthanol

10#-ige Lösung von Polyäthylenglykolalkylphenyläther in Wasser

Rest: destilliertes Wasser zu (pH-Wert: 11,0)

Außerdem wurde eine Phosphatlösung hergestellt, dJe der im Beispiel 0 der französischen Patentschrift 1 529 beschriebenen entsprach. Diese Lösung mit einem pH-Wert von 10,95 ist nachstehend als "B" bezeichnet.

Mehrere weitere Lösungen, die verschiedene alkalische Substanzen, ein übliches organisches Lösungsmittel und oberflächenaktive Stoffe enthielten, wurden hergestellt. g Diese Lösungen unterschieden sich nur in den angewandten alkalischen Substanzen und sind nachstehend angegeben:

Entwicklerlösung Menge je SiO₉JMoO pH Liter * *

A Borax 25 g - 9,3

2 Natriumsilikat, SiO₉: Na_o0-Verhältnis v. *

² 3,85 : 1, modifiziert mit .32 ml

- NaOH 75 g 3,2 : 1 11,2

3 Natriumsilikat 57 g 2,0 : 1 12,0

4 wasserfreies Natrium-

nietasilikat 25 g 1,0 : 1 12,H

5 Natriumsilikat 2Qg 1,5:1 12,7 0 " ⁿ 48 g 1,8 : 1 12,3

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Alle Silikatmengen lagen In wässriger Lösung vor. Feststoffe: 25 g/Liter In den Entwicklern A, B und 1 bis 6. Mit Jeder der vorstehend erwähnten Lösungen wurden bei 21⁰C mehrere Druckplatten mit den belichteten fotopolymeren Massen entwickelt. Die Lösungen wurden auf die Platten gegossen« 2 MIn. reagieren gelassen und die erzeugten Bilder durch leichtes Abwischen der gesamten Plattenoberflächen mit Entwickler gewonnen. Die Platten wurden dann mit frischem Wasser gespült. Nach vollständiger Entfernung der aufgelösten, nicht- und unterbelichteten fotopolymerisierbaren Schicht und der überschüssigen Entwicklerlösung wurden die oberen Hälften der Platten gummiert oder mit einer handelsüblichen Gummiarablcummasse behandelt. Die unbehandelten Hälften wurden getrocknet. Jede Platte wurde dann in eine Heidelberg-KOR-Einfarben-Flachdruckpresse eingebaut und zum Druck vorbereitet. Dabei wurde schwarze Offset-Druckerfarbe angewandt. Es wurden mehrere Drucke von den in den verschiedenen Lösungen entwickelten Probeplatten hergestellt und hinsichtlich ihrer allgemeinen Druckeigenschaften verglichen.

Auf der gummierten Plattenhälfte belegten saubere« scharfe Bildübertragungen eine geeignete Entwicklung und befriedigende Haftfestigkeit der Druckfarbe. Verhältnismäßig niedrige prozentuale Anteile an hellsten Blickpunkten und Punkten von tiefem Schatten waren auf der entwickelten Platte sichtbar. Ein unerwünschter Druck auf dem Untergrund lag nicht vor. Jedoch trat in den unbehandelten Bereichen ein starkes Schäumen oder eine unerwünschte Einfärbung und Bedrückung de· Untergrundes bei Jenen Platten auf» die mit den Kntwicklerlösungen entsprechend B (Phosphat), A (Borax) und 4 (Metaeilikatlöeungen) entwickelt worden waren.

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Obgleich in beträchtlich geringerem Halle als mit 5 war die Schädigung auch auf den unbehandelten Hälften festzustellen, die mit der Hummer 6 (Sliikatiösung) entwickelt worden waren. Γη diesen Fällen wurden die Eiereiche oxydiert stärker hydrophob. Die schäumenden Wirkungen traten Jedoch nicht bei jenen Drucken auf, die mit Platten erzeugt worden waren, deren Entwicklung mit den Silikat lösungen 1, 2 und ;5 erfolgte.

In den Lösungen I, 2, j5 und 6 lagen entsprechende -

SlO₂ : M₂0-Verhältnisse von 3*Ü5 ι 1; 3,20 : Ij 2,0 :1 * und 1,8 : 1 vor und diese Lösungen lieferten einen Schutz gegen Oxydation und ein herabgesetztes oleophlles Verhalten. Auch bei kontinuierlich durchgeführter Entwicklung zeigten Vergleichsteste hinsichtlich der Druckeigenschaften kein Schäumen. Nur Jene Lösungen, in denen SlOg : MgO-Verhältnlsse oberhalb 1,3 vorlagen, lieferten guten Schutz. Dementsprechend war ein (Himmle ren nicht nötig, um mehr als 5000 gute Drucke zu erhalten.

BeLBpIeI 2

Zusätzliche, Im wesentlichen die gleichen Bestandteile % wie die Zubereitung 1 des Beispiels 1 enthaltende Lösun- ι gen wurden zubereitet mit der Ausnahme, daü verschiedene Sorten von Lithium- und Kaliumslllkaten der Firmen du Pont Industrial und Biochemical als alkalische 5Jubutanzen angewandt wurden. Allquote Anteile der alkaLlachen Substanzen wurden mit destilliertem V/asser und don organischen Lösungsmitteln vermischt, wobei die nir ZubernItung L dnn Beispiele 1 ftlr I Liter angßgubmitm Mungan angewandt wurden. Einzelheiten Über die LMiningou, (Ho ο JL mm pH-Wert zwischen iO und 12 hat ton, lind nachstehend

or. ·*.&«>-1«ι -ν _BAD0RiaiNAL

SiO2:	LL2O	PH
oder	Κ,,Ο
*.β	: 1	LO. »5
H. 5	: L	10,75
V.J	: I	Li, 10
J.2	: L	11,20

Entwickler- Alkalische Menge
lösungen Substanz

7 LLthLumsLLLkat 113 g

B " " LlO g

9 KailiunsLLLkat Ö5 g

LO " " 67 g

χ Trockengewicht-Basis: 2^r> g/Llter EntwLckleriösung

Belichtete, Fotopolymerisate aufweisende Platten entsprechend Beispiel L wurden nach Beispiel L mit HLLfe der Lithium- und Ka L Lum Losungen entwickelt, gewaschen und flli* dLe Prüfung auf DruckeLgenschaften vorbereitet. Das Druckverfahren entsprechend BeLspLeL L wurde wiederholt. Jedoch das ßummleren weggelassen.

DruckfiihL&keLt und Untergrundeigenschaf t. der entwLckelten PLatten waren gut. Auch nach ΊΙ 000 aufeinanderfolgenden Druckvorgängen wurde kein Schaum beobachtet. Die Platten zeigten eine wesentliche Verbesserung hinsichtlich des Schutzes gegen Oxydation beim Vergleich mit Jenen Platten, die mit SillkatlUsungen entwickelt worden waren, bei denen der SiO₂-Oehalt geringer war als der an Alkalioxyd.

Beispiel j

Verschiedene Proben der Lm Beispiel L viral 2 he ;>chrLebeneti f!LLLkatLösungen mit SlOo-Molkonzen /on mindest.οπό V) oder htfher wurden CMv dLe 3tahLLLtiitn~ prllfimgtm iMi.'.aminnnRiiMtol Lt. D«i eine rliuerude CO,,-Absorption JchLltMlLL :li die Alkallnltiit Jyt· Löiun^ bcuLnfLuiit , WiU(ItMi di >. l'illfungen auf die fh)^rwachutu; der j)H-yt*hLLlt s(t ibgoatalL».. Kn wurden goeignot« Ü0O iL

(ΙοΠίϋ i, ILe ΙΓ0 ml der Probe enthU;I lon, läget η und pf»rli>Jl eu.-h untersucht. D* die

BAD

normalerweise mehrere Monate in geschlossenen Behältern gelagert werden, wurden die Gefäße nicht abgedeckt, um die Belichtung zu erleichtern. Die Gefäße lieferten 38 cm Belichtungsfläche. Als Kontrollprobe wurde die B-Lösung entsprechend der französischen Patentschrift 1 529 218 gewählt. Wo teilweise Verdampfung auftrat, wurde destilliertes Wasser zugegeben, um die 100 ml-Marke wieder einzustellen. Die Lösungen wurden gerührt und pH-Werte gemessen; nachstehend die Ergebnlsse:

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In allen Proben trat eine gewisse Verdampfung auf; die Verdampfungsgeschwindigkeiten waren jedoch für einzelne Zubereitungen nicht charakteristisch. Die Tabelle belegt jedoch, daß die Verminderung der pH-Werte in jenen Proben auftrat, bei denen ein SiO₂ s i^O-Verhältnis von weniger als 2,5 ! 1 vorlag. Die Ausgangs-pH-Werte oder OH-Konzentrationen der Proben B, J>_$ 4, 5 und 6 wurden durch COo-Absorption herabgesetzt. Diese negative Wirkung, die das Entwicklerpotential vermindert, trat bei den Entwicklerlösungen 1, 2, 7, 8, 9 und 10 nicht auf. Die Lösungen behielten die hohen pH-Werte weitgehend bei und ließen sich mehr als 6 Monate lang lagern. Auch eignen sich die bevorzugten Silikate mit ihrer höheren pH-Stabilität für solche maschinelle Verarbeitung, wo eine größere Berührung mit Luft infrage kommt.

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Claims (8)

1. - 18 Patentansprüche

   ίΐ) Wässrige Entwicklerlösung zur Ausbildung eines Reliefbildes in einer fotopolymerisierbaren Schicht, die ein additionspolymerisierbares Monomeres mit mindestens einer endständigen äthylenischen Gruppe und ein organisches, makromolekulares Polymeres enthält, in der ein lösliches Alkallsilikat und mindestens ein mit Wasser mischbares organisches Lösungsmittel in einer Menge von 2 bis 25 Volum-# der Lösung vorliegt, wobei die Lösung einen pH-Wert von 10 bis 13 hat, dadurch gekennzeichnet, daß das in der Entwicklerlösung vorliegende Alkalisilikat ein SiO₂ : Alkalioxyd-Verhältnis von Über 1,5 ! 1 aufweist und in einer Menge von mindestens 0,5 Oew.-jC Je Liter Lösung vorliegt.
2. 2) Wässrige Entwicklerlösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie Natriumsilikat als Silikat enthält.
3. 3) Wässrige Entwicklerlösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie Lithiumsilikat als Silikat enthält.
4. 4) Wässrige Entwicklerlösung nach Anspruch 1 bis 3* dadurch gekennzeichnet, daß sie 2-Alkoxyäthanol als Lösungsmittel enthält, insbesondere 2-Äthoxyäthanol oder 2-n-Butoxyäthanol.
5. 5) Wässrige Entwicklerlösung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Benetzungsmittel enthält.
6. 6) Wässrige Entwicklerlöeung nach Anspruch 1 bis 5,

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   dadurch gekennzeichnet, daß sie Polyalkylenglykolalkylphenyläther enthält.
7. 7) Wässrige Entwicklerlösung nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein pH-Puffermittel enthält.
8. 8) Wässrige Entwicklerlösung nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen pH-Wert von 10,5 bis 12 hat.