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Die erfindung betrifft Anlagen zum Anstreichen von Flächen im elektrostatischen
Feld, genauer gesagt, solche von diesen Anlagen, die einen teilweisen Zonenanstrich
oder einen gleichzetigen Anstrich der Fläche in zwei oder mehreren Farben durchzuführen
gestatten.
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Solche Vorrichtungen sind hauptsächlich zum Anstreichen von Oberflächen
der Objekte mit großen Abmessungen, beispielsweise der Eisenbahnwagen bestimmt.
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Es ist bekannt, daß bei solch einem Anstreichen abscWt mende Einrichtungen
mit einem Schirm verwendet werden, der aus einem Dielektrikum ausgeführt und gleichnamig
mit dem elektrostatischen eld geladen ist.( S. z.B die japanische Patentschrift
Nr.5372, 1960, Klasse 24B43 Auf diesen Schirme findet eine ungleichmäßige Verteilung
der Ladungen über ihre Fläche statt, d.h. die meisten ladungen sammeln sich an den
Rändern des Schirmes an. Deshalb sammelt sich während des Anstreichens im mittleren
l'eil der Fläche der schirme die Farbe an, die dann, indem sie abfließt, Farbenabflüsse
an der anzustreichenden Fläche bildet. Das vermindert die Qualität des Anstreichens
und erhöht außerdem den itarbenverbrauch.
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Zweck der vorliegenden 'erfindung ist die Behebung der g-enannten
Nachteile.
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Der erfindung wurde die Aufgabe zugrunde gelegt, eine
gleichmäßige
Verteilung von Ladungen über die Oberfläche des Schirmes zu gewährleisten.
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Das gestellte Ziel wird dadurch erreicht, daß in der Anlage zum Anstreichen
der Oberfläche der Objekte im elektrostatischen Feld, die mindestens einen Elarhenzerstäuber
und mindestens eine abschirmende einrichtung aufweist,die zur Abgrenzung der anzustreichenden
Fläche dient und deren Schirm mit dem elektrostatischen Feld gleichnamig geladen
und aus einem Dielektrikum ausgeführt ist.
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Die Oberfläche des Schirmes weist eine Vielzahl von Unebenheiten auf,
die eine gleichmäßige Verteilung der Ladungen über die Oberfläche dieses Schirmes
sichern.
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is ist zweckmäßi, den Schirm aus einem mikroporösen Material auszuführen,
dessen Poren sich an der Oberfläche öffen.
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Ein solcher Schirm kann auch eine Nadeloberfläche haben.
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Nachstehend wird eine ausführliche Beschreibung einer konkreten Ausführungsform
der Erfindung unter Bezugnahme auf beigefügte Zeichnungen angerührt, welche darstellen;
Fig. 1 die erfindungsgemäß ausgeführte Anlage für den Swei-Farben-Anstrich im elektrostatischen
Feld, vorderansicht; Fig. 2 schematisch einen Teil derselben orrichtunc, nähmlich
de4Schirm in Stellung zwischen zwei Farbenzerstäubern; Fig. 3 dasselbe, Ansicht
nach dem Pfeil A in der Fig. 2.
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Die Anlage weist auf: das Gerüst 1 (Fig. 1), die an diesem angeordneten
Zerstäuber 2 und 21, die zum nstreichen des Daches a des Wagens 3 in eine graue
Farbe bestimmt sind, die erstäuber 4, die zum Anstreichen der Seitenflächen b des
Wagens 9 in eine grunde Farbe bestimmt sind; zwei abschirmende Vorrichtungen 5 mit
dem Schirm 6, die 1 verschiebbar am Gerüst 1 zwischen den Zerstäbern 2 und 4 verschiebbar
in waagerechter und senkrechter Richtung angeordnet sind ( die Vorrichtung zum Verschieben
ist iii der Zeichnung nicht wiedergegeben).
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Der Schirm besteht aus zwei Schildern 7 und 8 (Fig. 2 und 3), die
aus einem Dielektrikum ausgeführt sind; als Dielektrikum wurde ein mikroporöser
Plast verwendet, dessen Poren sich an der Oberfläche desselben öffnen.
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Das gewährleistet gleichmäßige Verteilung und Abfließen der elektrischen
Ladungen über die gesammte Fläche der So bilder0 Der Schirm 6 ist an den isolierten
Haltern 9 befestigt und der Längsachse der Zerstäuber 4 entlang oder unter einem
kleinen Winkel zu dieser achse angeordnet.
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Die Schilder 7 und 8 (Fig. 2 und 3) sind in Bezug auf die aufzuzeichnende
Grenze B zwischen den verschledenen Farben zu den Seiten verschoben, die den Zerstäubern
21und 4 gegenüberliegen.
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Die Größe der Verschiebung der Schilder 7 und 8 in Bezug auf die
Grenze B ist von der Fröße der zuzuführenden Spannung sowie voll der Entfernung
zwischen der Schirm und
der anzustreichenden Oberfläche abhängig.
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Die Entfernung zwischen den Schildern 7 und 8 des Schirmes und der
anzustreichenden Oberfläche soll so groß sein, daß keine Funkenentladung entsteht.
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Die Zerstäuber 2,21 und 4 (Fig.1.) sind an den negativen Pol einer
Hochspannungsquelle und der Wagen 3 an den positiven Pol dieser Quelle angeschlossen.
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Die Anlage hat folgende Arbeitsweise.
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Bei der Schaffung des elektrostatischen Feldes zwischen den Zerstäubern
2,21 und 4 (Fig. 13 und den Oberfla chen a und b an den Schildern 7 und 8 des Schirmes
erfolgt eine Ansammlung von gleichnamigen Ladungen.
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Die Farbe wird mittels des Systems 10 den Zerstäubern 2,21 und 4
zugeführt. Beim Zerstäuben werden die Teilchen der Farbe ebenfalls negativ geladen.
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Unter der Einwirkung des elektrostatischen Feldes bewegen sich die
Farbteilchen zu den Flächen a und b und setzen sich auf diesen ab. Zu einer gleichmäßigen
Auftragung der Farbschicht auf die Flächen a und b des Wagens wird den Zerstäubern
2 und 4 mittels der Vorrichtung 11 die hin- und hergehende Bewegung längs der anzustreichenden
Oberfläche verliehen, während der Wagen selbst im Laufe des Anstreichens auf dem
Förderer 12 bewegt wird.
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Die grauen Teilchen, die negativ geladen sind, bewegen sich von dem
Zerstäber 21 (Fig. 2) zu der anzustreichenden Fläche des Wagens wa". DiZ enigen
Farbteilchen, deren Bahn nshe am Schirm verläuft, werden dank der Gleichnamigkeit
der
Ladungen von demselben abgestoßen0 Dadurch ändern die Teilchen der grauen Farbe
die Bahn ihrer Verschiebung und werden zu der anzustreichenden Oberfläche längs
der Oberfläche des Schirmes 6 bewegt, indem sie die Grenze für die Auftragung der
grauen Farbe bilden.
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Ähnliches passiert auch den Teilchen der grünen Farbel Dadurch, daß
die Schilder 7 und 8 in Bezug auf die aufzuzeichnende Grenze B zwischen einer und
der anderen Farbe in Richtung von den Farbenzerstäubern verschoben sindt findet
kein Unteranstrich infolge des Abstoßens der Farbteilchen von den Schildern auf
eine Fntfernungstatt, die von der Größe des Potentials des Schirmes 6 bestimmt ist.
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Bei der einhaltung der oben genannten Verschiebung der Schilder 7
und 8 des Schirmes ist die Grenze B scharf und gleichmäßig.