DE1522469C3 - Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von ReliefdruckformenInfo
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Description
Es ist bekannt, Reliefformen für Druckzwecke herzustellen, indem man Platten, Filme oder Folien aus
Gemischen von hochpolymeren Cellulose-Derivaten mit ungesättigten Monomeren, die mehr als eine polymerisierbare
Doppelbindung haben, und Photoinitiatoren durch eine Vorlage belichtet und die unbelichteten
Stellen mit geeigneten Lösungsmitteln bis zu der gewünschten Tiefe des Reliefs entfernt. Derartige
Reliefformen eignen sich für den Buchdruck und Trockenoffsetdruck (indirekter Hochdruck). Reliefformen
dieser Art sind jedoch nicht immer abriebfest genug und reproduzierbar herzustellen. Daneben haben
sie eine für die Praxis oft unerwünschte hohe Sprödigkeit.
Es ist ferner bekannt, zum Herstellen von Reliefformen für Dmckzwecke Platten, Folien oder Filme
aus linearen gesättigten Polyamiden, Monomeren mit mindesten zwei Doppelbindungen und Photoinitiatoren
zu verwenden. Werden die Monomeren in Mengen von 1 bis 25 Gewichtsprozent, bezogen auf die Gesamtmischung
verwendet, so erhält man Produkte, deren Lichtempfindlichkeit nicht immer befriedigt. Die
durch Belichten dieser Platten durch eine Vorlage und anschließendes Entwickeln — d. h. Auswaschen der
unbelichteten Stellen — mit üblichen Lösungsmitteln hergestellten Reliefformen, zeigen außerdem schlechte
Konturenschärfen. Versucht man, um diese Fehler zu beseitigen, die Monomeren-Konzentration zu erhöhen,
z. B. über 25%, so lösen sich diese Mengen nicht mehr vollständig in den Polyamiden, und es treten Trübungen,
Ausschwitzungen und Inhomogenitäten an den Platten auf.
Man hat zwar versucht, die Verträglichkeit der Polyamide mit den Monomeren zu verbessern, indem
man Polyamide verwendete, welche zunächst mit Formaldehyd methyloliert und deren Methylolgruppen
anschließend veräthert worden waren. Beim Verwenden solcher Gemische besteht aber die Gefahr, daß
schon beim Herstellen der Platten, Filme oder Folien unerwünschte Vernetzungen auftreten. Die Platten,
Filme oder Folien aus solchen Polymeren sind darüber hinaus wenig lagerstabil.
In manchen Fällen kann die ungenügende Verträglichkeit der Monomeren mit den Polyamiden durch
Zusätze von Hilfssubstanzen, wie Weichmachern, verbessert
werden. Diese Hilfssubstanzen sind jedoch nur in relativ hoher Konzentration wirksam und beeinträchtigen
die mechanischen Eigenschaften der fertigen Druckplatten ungünstig.
ίο Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde,
ein Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen durch bildmäßiges Belichten und Entwickeln
einer photopolymerisierbaren Schicht auf der Basis einer Polyamid-Monomer-Mischung zu finden, bei
dem die unbelichteten photopolymerisierbaren Schichten auch nach Lagerung praktisch keine Inhomogenitäten
in Folge eines Ausschwitzens von Monomeren aufweisen und gleichzeitig bei relativ kurzer bildmäßiger
Belichtungszeit Druckreliefs mit guter Konturenschärfe erzielt werden können.
Es wurde nun gefunden, daß die gestellte Aufgabe in einem Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen
durch bildmäßiges Belichten einer photopolymerisierbaren Schicht auf Basis eines Gemischs aus 50 bis
80 Gewichtsprozent eines synthetischen, linearen Polyamids und 20 bis 50 Gewichtsprozent eines photopolymerisierbaren
Monomeren mit mindestens zwei polymerisierbaren Doppelbindungen, das Photoinitiatoren
und gegebenenfalls Polymerisationsinhibitoren enthält, unter einer Vorlage und Auslösen der
unbelichteten Schichtteile weitgehend erreicht werden kann, wenn das Gemisch als photopolymerisierbares
Monomeres m-Xylylen-bisacrylamid oder -bismethacrylamid enthält.
Selbstverständlich kann das Gemisch zusätzlich zu dem m-Xylylen-bisacrylamid andere photopolymerisierbare
Monomere enthalten.
m-Xylylen-bisacrylamid und -methacrylamid können in sehr hoher Konzentration in die zur Druckplattenherstellung
verwendeten Polyamide eingearbeitet werden. Sie verbessern ferner die Verträglichkeit
dieser Polyamide mit anderen Monomeren. Hierdurch wird eine Erhöhung der Monomerenkonzentration in
der Gesamtmischung ermöglicht. Dies führt zu einer verbesserten Lichtempfindlichkeit der Platten, was
eine hervorragende Konturenschärfe der aus diesen Platten hergestellten Reliefs zur Folge hat. Die gesteigerte
Lichtempfindlichkeit der Platten erlaubt ferner die oft erwünschte Verwendung schwächerer
Lichtquellen.
Synthetische lineare Polyamide im Sinne der Erfindung sind vorzugsweise Mischpolyamide, welche in
üblichen Lösungsmitteln oder Lösungsmittelgemischen, wie in niederen aliphatischen Alkoholen oder Alkohol-Wasser-Gemischen,
Ketonen, Aromaten oder Benzol-Alkohol-Wasser-Gemischen löslich sind, beispielsweise
Mischpolyamide, die in üblicher Weise durch Polykondensation oder aktivierte anionische Polymerisation
aus zwei oder mehreren Lactamen mit 5 bis 13 Ringgliedern hergestellt sind. Solche Lactame sind beispielsweise
Pyrrolidon, Caprolactam, önanthlactam, Capryllactam, Laurinlactam bzw. entsprechend C-substituierte
Lactame, wie C-Methyl-oCaprolactam, e-Äthyl-c-caprolactam oder
<5-Äthylönanthlactam. An
6S Stelle der Lactame können die ihnen zugrundeliegenden
Aminocarbonsäuren polykondensiert sein. Weitere geeignete Mischpolyamide sind Polykondensationsprodukte
aus Salzen vom Typ Diamin-Dicarbonsäure,
die aus mindestens drei polyamidbildenden Ausgangsstoffen hergestellt sind. Hierfür übliche und geeignete
Dicarbonsäuren bzw. Diamine sind beispielsweise Adipinsäure, Korksäure, Sebazinsäure, Dodecandicarbonsäure
sowie entsprechende Substitutionsprodukte, wie «,«'-Diäthyladipinsäure, «-Äthylkorksäure,
u-Nonyl, «,(«-Octandicarbonsäure und «-Octyl,«,«)-Nonandicarbonsäure,
bzw. deren Gemische sowie aliphatische oder aromatische Ringe enthaltende Dicarbonsäuren; Diamine, wie Pentamethylendiamin, 1Q
Hexamethylendiamin, Heptamethylendiamin, Octamethylendiamin oder C- und/oder N-substituierte
Derivate dieser Amine, wie N-Methyl-, N-Äthylhexamethylendiamin,
1,6-Diamine-3-methylhexan, cycloaliphatische oder aromatische Diamine wie
m-Phenylendiamin, m-Xylylendiamin, 4,4'-Diaminodiphenylmethan,
wobei die Brückenglieder zwischen den beiden Carbonsäuren bzw. Aminogruppen durch
Heteroatome unterbrochen sein können. Besonders geeignete Mischpolyamide sind solche, die durch
Mischkondensation eines Gemischs aus einem oder mehreren Lactamen und mindestens einem Dicarbonsäure/Diaminsalz
hergestellt sind, z. B. aus f-Caprolactam,
Hexamethylendiammonium-adipat und p,p'-Diammoniumcyclohexylmethan-adipat. Auch Homopolymerisate
und -polykondensate, gegebenenfalls im Gemisch mit den genannten polyamidbildenden Ausgangsstoffen
sind geeignet, sofern sie löslich sind.
Geeignete Comonomere, welche gegebenenfalls im Gemisch mit den erfindungsgemäßen Monomeren
verwendet werden und welche wie diese mindestens zwei polymerisierbare Doppelbindungen enthalten,
sind z. B. solche, die neben den Doppelbindungen noch Amidgruppen besitzen, wie Methylen-bis-acrylamid,
Methylen-bis-methacrylamid, sowie die Bis-acryl- oder
Bis-methacrylamide von Äthylendiamin, Propylendiamin, Butylendiamin, Pentamethylendiamin, Hexamethylendiamin,
Heptamethylendiamin, Octamethylendiamin, sowie von Polyaminen und anderen Diaminen,
deren Ketten verzweigt oder durch Heteroatome unterbrochen' sind. Gut geeignet sind auch Monomere,
welche Urethan- oder Harnstoffgruppen enthalten, wie die Umsetzungsprodukte von Diolmonoacrylaten oder
-methacrylaten mit Diisocyanaten oder die entsprechenden Umsetzungsprodukte der Monoacrylamide
von Diaminen mit Diisocyanaten. Weiterhin geeignet sind die Di-, Tri- oder Tetraacrylate oder -methacrylate
von zwei- oder mehrwertigen Alkoholen oder Phenolen. Die Verwendung zwei- oder mehifunktioneller
polymerisierbarer Monomerer ist jedoch nicht auf die oben genannte Auswahl begrenzt.
Geeignete Photoinitiatoren sind beispielsweise Verbindungen, welche unter Lichteinwirkung in Radikale
zerfallen und die Polymerisation starten, beispielsweise vicinale Ketaldonylverbindungen, wie Diacetyl, Benzil,
Acyloine, wie Benzoin; Acyloinäther, wie Benzoinmethyläther; «-substituierte aromatische Acyloine,
wie u-Methylbenzoin; Azonitrile, wie 1,1-AzodicycIohexancarbonitril;
sowie substituierte und unsubstituierte mehrkernige Chinone, beispielsweise 9,10-Anthrachinon-I-Chloranthrachinon-2-Chloranthrachinon,
2-Methylanthrachinon, 1,4-Naphthochinon, 9,10-Phenanthrenchinon.
Diese Initiatoren haben den Vorzug, bis zu 85°C, in manchen Fällen sogar bis 170"C,
thermisch inaktiv zu sein, wodurch unerwünschte Polymerisationsreaktionen während der Herstellung
der Platten und bei deren Lagerung vermieden werden. Die Photoinitiatoren werden in Mengen von 0,01 bis
5 Gewichtsprozent, vorzugsweise in Mengen von 0,01 bis 3 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht,
eingesetzt.
Es hat sich gezeigt, daß es sich in manchen Fällen empfiehlt, den Gemischen Polymerisationsinhibitoren
in Mengen von 0,001 bis 1 Gewichtsprozent, vorzugsweise 0,01 bis 0,5 Gewichtsprozent, bezogen auf das
Gesamtgewicht, zuzusetzen, die eine thermische Poly-, merisation verhindern, falls die Verarbeitungsbedingungen
Temperaturen einschließen, bei denen die verwendeten Monomeren zu thermischer Polymerisation
neigen. Auch kann die Lagerstabilität der Platten in den meisten Fällen durch den Zusatz von Inhibitoren
wesentlich verbessert werden. Solche Inhibitoren sind vielfach schon in den verwendeten Monomeren enthalten,
wie beispielsweise Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Ditertiärbutyl-p-kresol oder Phenothiazin.
Die Platten, Filme oder Folien für das erfindungsgemäße Verfahren können nach den üblichen Verfahren
hergestellt werden, z. B. durch Lösen der Komponenten, Entfernung des Lösungsmittels und anschließendes
Pressen, Extrudieren oder Walzen des feinverteilten Gemischs. Ferner können die Lösungen oder
Schmelzen der Komponenten zu Folien oder Filmen gegossen werden.
Zum Belichten können neben den üblichen energiereichen Lampen, wie Kohlebogen-, Xenon-, Quecksilberdampflampen
oder Leuchtstoffröhren, auch UV-arme Lichtquellen, wie Leuchtstoffröhren mit hohem
Blaulichtanteil, verwendet werden.
Die unbelichteten Stellen werden ausgelöst. Das Auslösen wird durch Besprühen, Ausreiben oder Ausbürsten
in Gegenwart von Lösungsmitteln vorgenommen.
Man erhält bei relativ kurzer Belichtungszeit erfindungsgemäß Reliefformen für Druckzwecke mit ausgezeichneter
Konturenschärfe. Der hohe Monomergehalt im Gemisch Polyamide/Monomere führt nicht
zu Inhomogenitäten. Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich sowohl für die Herstellung von Reliefformen
für den Hochdruck (Buchdruck), den autotypischen Tiefdruck, als auch für den Trockenoffsetdruck
(indirekter Hochdruck), wobei die Platten, Filme oder Folien vor oder nach dem Belichten mit starren oder
flexiblen Unterlagen aus Metall, Holz, Papier oder Kunststoffen verbunden sein können.
Die in den Beispielen genannten Teile beziehen sich auf das Gewicht.
100 Teile eines löslichen Mischpolyamids, welches durch Polykondensation von 35 Teilen Hexamethylendiammoniumadipat,
35 Teilen p,p'-Diammoniumdicyclohexylmethan-adipat und 30 Teilen f-Caprolactam
hergestellt ist, werden zusammen mit 32 Teilen m-Xylylenbisacrylamid, 21 Teilen Hexamethylenbisacrylamid,
10 Teilen Triäthylenglykoldiacrylat, 3 Teilen Butandiolmonoacrylat, 1 Teil Maleinsäuieanhydrid,
1 Teil Benzoinmethyläther und 0,02 Teilen Hydrochinon in 500 Teilen Methanol gelöst. Die klare,
viskose Lösung wird zum Verdunsten des Lösungsmittels in Schalen gegossen und 12 Stunden gut belüftet.
Das getrocknete Produkt wird zerkleinert und weitere 24 Stunden im Vakuum bei 20 bis 50° C nachgetrocknet.
Anschließend wird das Trockengut fein granuliert und bei 16O0C zu einer klären, transparenten
Platte von 1 mm Stärke auf eine mit einer Haftschicht versehene Metallplatte in einem Arbeitsgang aufgc-
preßt. Diese Platte wird in einem Vakuumkopierrahmen durch ein kombiniertes Strich-Raster-Negativ
5 min belichtet. Als Lichtquelle dient eine Anordnung von 20 dicht nebeneinander liegenden Leuchtstoffröhren
vom' typ Philips TLA 40 W/05. Der Abstand
zwischen Platte und Leuchtstoffröhren beträgt 5 cm. Nach dem Belichten wird die Platte unter Verwendung
eines Aussprühapparates mit einem Propanol-Wasser-Gemisch (80: 20) bei einem Druck von 3 atü mit einer
Temperatur von 30 C bis auf die Metallunterlage ausgelöst. Die Ausspritzzeit beträgt etwa 10 min. Es verbleibt
ein bildtragendes Kunststoffrelief von 1 mm Tiefe, welches auch in feinsten Details dem als Vorlage
dienenden Negativ entspricht. Die so hergestellte Druckform kann nach kurzem Trocknen sofort im
Buchdruck verwendet werden.
Eine Lösung von. 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Polyamids, 65 Teilen m-Xylylenbisacrylamid,
15 Teilen Triäthylenglykoldiacrylat, 1 Teil Benzoinmethyläther und 0,01 Teilen p-Methoxyphenol
in 400 Teilen Methanol wird, wie im Beispiel 1 beschrieben, zu einer lichtempfindlichen Platte verarbeitet,
welche wie beschrieben durch ein kombiniertes Strich-Raster-Negativ 5 min belichtet und ausgewaschen
wird. Die Druckform besitzt ein sehr konturenscharfes Relief mit feinster Detail wiedergabe,
sowie mit schrägen Flanken und ausgezeichneter Versockelung der einzelnen Punkte. Die Auswaschtiefe
beträgt nach 11 min 1 mm.
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Polyamids, 50 Teilen m-Xylylenbisacrylamid,
10 Teilen Triäthylenglykoldiacrylat, 10 Teilen Butandiolmonoacrylat, 1 Teil Maleinsäureanhydrid,
1 Teil Benzoinmethyläther und 0,1 Teil p-tert. Butylkresol wird, wie im Beispiel 1 beschrieben, zu einer
1 mm starken lichtempfindlichen Platte verarbeitet, welche wie beschrieben belichtet und ausgewaschen
wird.
Claims (2)
1. Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen durch bildmäßiges Belichten einer photopolymerisierbaren
Schicht auf Basis eines Gemischs aus 50 bis 80 Gewichtsprozent eines synthetischen,
linearen Polyamids und 20 bis 50 Gewichtsprozent eines photopolymerisierbaren Monomeren mit
mindestens zwei polymerisierbaren Doppelbindungen, das Photoinitiatoren und gegebenenfalls
Polymerisationsinhibitoren enthält, unter einer Vorlage und Auslösen der unbelichteten Schichtteile,
dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch als photopolymerisierbares Monomeres
m-Xylylenbisacrylamid oder -bismethacrylamid
enthält.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch zusätzlich zu dem
m-Xylylen-bisacrylamid oder rbismethacrylamid
andere photopolymerisierbare Monomere enthält.
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US4234674A (en) * | 1979-08-08 | 1980-11-18 | Monsanto Company | Amino-functional photopolymer compositions and photo-oxidation imaging processes employing same |
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US4269930A (en) * | 1979-11-13 | 1981-05-26 | Matrix Unlimited, Inc. | Photopolymeric composition containing polyamide and dicarboxylic acid diester |
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US6881533B2 (en) * | 2003-02-18 | 2005-04-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Flexographic printing plate with ink-repellent non-image areas |
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