DE1521163A1 - Verfahren zur stromlosen Vernickelung von Siliziumoberflaechen - Google Patents
Verfahren zur stromlosen Vernickelung von SiliziumoberflaechenInfo
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Description
- "Verfahren zur stromlosen Vernickelung von Siliziumoberflächen11 Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur stromlosen Vernickelung von Siliziumoberflächen. Es ist bekannt, daß ein Halbleiterelement nur mit einem gestörten Oberflächen-Kristallbereich, z.B. nach einem Läppprozeß, mit einer gut haftenden Nickelschicht versehen werden kann. Die Vernickelung von Siliziumoberflächen, die mit einer z.B. 50 Gew.-%igen Flußsäurelösung blank geätzt wurden, ist äußerst mangelhaft. Will man einen Siliziumkörperg dessen Oberfläche teilweise mit einer Oxydschicht bedeckt ist, vernickeln, so ist das Ätzverfahren nicht anwendbarg da die lange Flußsäureeinwirkung zu einem Ablösen der Oxydschicht führt. Dies ist insbesondere dann une.rwünscht, wenn die Oxydschicht als Maske für die stromlose Vernickelung dienen soll, da sich, wie in der Erfindung erkannt wurde, das Nickel nur auf dem Teil der Siliziumoberfläche niederschlägt, der nicht mit einer Oxydschicht bedeckt ist. Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur stromlosen Vernickelung von Siliziumoberflächen mit ungestörten Oberflächen-Kristallbereichen zu schaffen, also mit z.B. ätz-polierten Oberflächen. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch-gelöst, daß der Siliziumkörper mit konzentrierter Salpetersäure behandelt, daran anschließend für kurze Zeit in Flußsäurelösung getaucht und schließlich in einem an sich bekannten Nickelbad vernickelt wird. Weitere Merkmale des erfindungsgemäßen Verfahrens können der folgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens entnommen werden..
- Ausgegangen wird von einem Siliziumkörper, der teilweise mit einer Oxydschicht bedeckt ist. Dieser Siliziumkörper wird 60 sec. lang bei Raumtemperatur mit einer 65 Gew.-%igen Salpetersäure behandelt. Die Ätzdauer von 60 sec. ist nicht kritisch. Gleich gute Ergebnisse werden erzielt, wenn man den Siliziumkörper im Bereich von 50 bis 70 sec. ätzt. Anschließend wird der Siliziumkörper für kurze Zeit in eine Flußsäurelösung getaucht, die etwa 50 Gew.-% Fluorwasserstoff enthält. Bei diesem Schritt ist es wesentlich, daß auf der Siliziumoberfläche eine bräunliche Schicht entsteht, was nach 1 bis 2 sec. der Fall ist. Dann wird der Siliziumkörper aus der Flußsäurelösung herausgenommen, kurz gewässert und in ein an sich bekanntes Nickelbad (aus Nickelchlorid, Natriumhypophosphitg Ammoniumhydrogeneitrat, Ammoniumehlorid, Ammoniak und dest. Wasser) getaucht und so vernickelt. Dabei scheidet sich das Nickel nur an dem nicht mit einer Oxydschicht bedeckten Teil der Siliziumoberfläche ab.
Claims (2)
- Patentansprüche Verfahren zur stromlosen Vernickelung von Siliziumoberflächen, dadurch gekennzeichnet, daß der Siliziumkörper mit konzentrierter Salpetersäure behandelt, daran anschließend für kurze Zeit in Flußsäurelösung getaucht und schließlich in einem an sich bekannten Nickelbad vernickelt wird.
- 2. Verfahren nach Anßpruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als konzentrierte Salpetersäure solche mit 65 Gew.-% verwendet wird. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Siliziumkörper 50 - 70 sec. mit der konzentrierten Salpetersäurebehandelt wird. 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Flußsäurelösung etwa 50 Gew.-% Fluorwasserstoff enthält. 5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Siliziumkörper bis zum Erscheinen einer bräunlichen Schichtg das sind 1 - 2 see.9 in Flußsäure getaucht wird. 6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es insbesondere bei Siliziumkörpern angewendet wird$ deren Oberfläche teilweise mit einer Oxydschicht bedeckt ist.
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DEB0085919 | 1966-03-23 |
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DE19661521163 Pending DE1521163A1 (de) | 1966-03-23 | 1966-03-23 | Verfahren zur stromlosen Vernickelung von Siliziumoberflaechen |
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Country | Link |
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DE (1) | DE1521163A1 (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE973310C (de) * | 1950-09-15 | 1960-01-14 | Ind Schaeffler O H G | Vollwandiger zylindrischer Nadel-Fensterkaefig, welcher die Nadeln einzeln in Kammern aufnimmt und der gemeinsam mit den Nadeln ein einbaufertiges Bauelement bildet |
DE2301745A1 (de) * | 1973-01-13 | 1974-07-18 | Fischer Brodbeck Gmbh | Verfahren zur herstellung eines kugelfuehrungskaefigs |
FR2516549A1 (fr) * | 1981-11-13 | 1983-05-20 | Mobil Tyco Solar Energy Corp | Procede de nickelage de semiconducteurs au silicium et procede pour la fabrication de cellules solaires comportant ces semiconducteurs nickeles |
DE3608478A1 (de) * | 1986-03-14 | 1987-09-17 | Skf Linearsysteme Gmbh | Kaefig fuer ein linear- oder drehbewegungen ausfuehrendes waelzlager und zugehoeriges waelzlager |
DE4142433C1 (en) * | 1991-12-20 | 1993-05-27 | Ibo Gesellschaft Fuer Beschaffung Und Absatz Von Industrieguetern Mbh, 8011 Kirchheim, De | Combined roller and ball bearing with inner and outer races - is of thin race type with rollers and balls of same dia. and on same race tracks |
-
1966
- 1966-03-23 DE DE19661521163 patent/DE1521163A1/de active Pending
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DE973310C (de) * | 1950-09-15 | 1960-01-14 | Ind Schaeffler O H G | Vollwandiger zylindrischer Nadel-Fensterkaefig, welcher die Nadeln einzeln in Kammern aufnimmt und der gemeinsam mit den Nadeln ein einbaufertiges Bauelement bildet |
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