DE1293903B - Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung mit thermisch gekoppelten Schaltungselementen - Google Patents

Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung mit thermisch gekoppelten Schaltungselementen

Info

Publication number
DE1293903B
DE1293903B DET24202A DET0024202A DE1293903B DE 1293903 B DE1293903 B DE 1293903B DE T24202 A DET24202 A DE T24202A DE T0024202 A DET0024202 A DE T0024202A DE 1293903 B DE1293903 B DE 1293903B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
transistor
stage
circuit arrangement
integrated semiconductor
collector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DET24202A
Other languages
English (en)
Inventor
Evans Lee Leland
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Texas Instruments Inc
Original Assignee
Texas Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Texas Instruments Inc filed Critical Texas Instruments Inc
Publication of DE1293903B publication Critical patent/DE1293903B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/45Differential amplifiers
    • H03F3/45071Differential amplifiers with semiconductor devices only
    • H03F3/45479Differential amplifiers with semiconductor devices only characterised by the way of common mode signal rejection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0207Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
    • H01L27/0211Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique adapted for requirements of temperature
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/30Modifications of amplifiers to reduce influence of variations of temperature or supply voltage or other physical parameters
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/30Modifications of amplifiers to reduce influence of variations of temperature or supply voltage or other physical parameters
    • H03F1/302Modifications of amplifiers to reduce influence of variations of temperature or supply voltage or other physical parameters in bipolar transistor amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/34Negative-feedback-circuit arrangements with or without positive feedback
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/4813Connecting within a semiconductor or solid-state body, i.e. fly wire, bridge wire
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01014Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1203Rectifying Diode
    • H01L2924/12035Zener diode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1203Rectifying Diode
    • H01L2924/12036PN diode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19041Component type being a capacitor
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F2203/00Indexing scheme relating to amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements covered by H03F3/00
    • H03F2203/45Indexing scheme relating to differential amplifiers
    • H03F2203/45498Indexing scheme relating to differential amplifiers the CSC comprising only resistors
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F2203/00Indexing scheme relating to amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements covered by H03F3/00
    • H03F2203/45Indexing scheme relating to differential amplifiers
    • H03F2203/45594Indexing scheme relating to differential amplifiers the IC comprising one or more resistors, which are not biasing resistor
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F2203/00Indexing scheme relating to amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements covered by H03F3/00
    • H03F2203/45Indexing scheme relating to differential amplifiers
    • H03F2203/45664Indexing scheme relating to differential amplifiers the LC comprising one or more cascaded inverter stages as output stage at one output of the dif amp circuit
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F2203/00Indexing scheme relating to amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements covered by H03F3/00
    • H03F2203/45Indexing scheme relating to differential amplifiers
    • H03F2203/45701Indexing scheme relating to differential amplifiers the LC comprising one resistor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Amplifiers (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

1 2
Die Erfindung betrifft eine integrierte Halbleiter- elemente sowie bezüglich des Einsatzes dieser Schalschaltungsanordnung mit mehreren auf oder in einem tungselemente in der Schaltung.
Halbleiterplättchen angeordneten Schaltungselemen- Besonders vorteilhaft wirkt sich die vorliegende
ten, bei der zur Steuerung des Arbeitspunktes der Anordnung der Schaltungselemente bei Anwendung Schaltungsanordnung mindestens zwei Schaltungs- 5 auf wenigstens zweistufige Transistorverstärker aus; so elemente vorgesehen sind, die zur Erzeugung eines ist es bei einem Transistorverstärker mit wenigstens elektrischen Rückkopplungssignals in thermischem einem in dem Halbleiterplättchen gebildeten Tran-Kontakt miteinander stehen. sistor in der ersten Stufe sowie einem im Ausgang
Es ist schon eine Halbleiterschaltungsanordnung eines Transistors der zweiten Stufe vorgesehenen Arbekanntgeworden, die der thermischen Stabilisierung io beitswiderstand gemäß einem weiteren Merkmal der des Arbeitspunktes eines Transistors mit Hilfe einer Erfindung möglich, eine thermische Stabilisierung mit Halbleiterdiode dient. Zu diesem Zweck ist bei der den ohnehin notwendigen Schaltungselementen dabekannten Anordnung auf einem die Basis des Tran- durch zu erreichen, daß dieser Arbeitswiderstand sistors bildenden Halbleiterplättchen im Abstand von thermisch mit dem Transistor der ersten Stufe geden Elektroden des Transistors eine Emitterzone der 15 koppelt wird. Weist die zweite Stufe keinen beson-Diode angeordnet, so daß die Diode über das Halb- deren Arbeitswiderstand auf, so kann die thermische leiterplättchen in wärmeleitender Verbindung mit der Stabilisierung der ersten beiden Stufen ohne Mehr-Basiszone des Transistors steht. Bei einer Tempera- aufwand an Bauelementen in besonders einfacher turänderung der Anordnung, d. h. insbesondere des Weise durch eine thermische Ankopplung der Kollek-Halbleiterplättchens, ändert sich infolge der thermi- ao torzone der zweiten Transistorstufe an die erste Transchen Kopplung zwischen Transistor und Diode die sistorstufe erzielt werden.
Leitfähigkeit der Diode ebenso wie die Leitfähigkeit Weitere vorteilhafte Ausbildungen von Schaltungs-
des Emitter-Basis-Bereichs des Transistors; die Schal- anordnungen nach der Erfindung ergeben sich aus tung ist so gestaltet, daß durch die temperaturabhän- den Patentansprüchen und/oder zusammen mit der gige Änderung des Spannungsabfalles an der Diode as nachfolgenden Beschreibung, die der Erläuterung die Emitter-Basis-Vorspannung des Transistors kon- einiger in der Zeichnung dargestellter Ausführungsstant gehalten und so der Arbeitspunkt des Tran- beispiele der Erfindung dient. Es zeigt
sistors thermisch stabilisiert wird. F i g. 1 ein schematisches Schaltbild eines gemäß
Nachteilig wirkt sich bei dieser bekannten Anord- der Erfindung stabilisierten Verstärkers,
nung jedoch die hierbei unvermeidbare elektrische 30 F i g. 2 eine perspektivische Ansicht eines auf Kopplung zwischen Diode und Transistor über das einem Halbleiterwiderstand angeordneten Transistors, n- oder p-leitende Plättchen aus, das die Basis des wie er z. B. in der Schaltung gemäß Fig. 1 verwendet Transistors und die zweite Elektrode der Diode bildet. werden kann,
Infolge der temperaturabhängigen elektrischen Leit- F i g. 3 ein schematisches Schaltbild eines weiteren
fähigkeit des Halbleiterplättchens ändert sich diese 35 gemäß der Erfindung ausgebildeten Verstärkers,
Kopplung außerdem auch bei Temperaturschwan- F i g. 4 eine perspektivische Ansicht eines Ausf üh-
kungen. rungsbeispiels der Schaltung gemäß F i g. 3 als inte-
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, grierte Schaltung,
eine Halbleiterschaltungsanordnung der eingangs er- F i g. 5 einen Schnitt durch die integrierte Schaltung
wähnten Art so auszubilden, daß trotz möglichst 40 gemäß F i g. 4 nach Linie 5-5 dieser Figur und
enger thermischer Kopplung der beiden Schaltungs- F i g. 6 einen Schnitt durch die integrierte Schaltung
elemente deren elektrische Kopplung vollständig ver- nach Linie 6-6 der F i g. 4.
mieden wird. Diese Aufgabe wird nach der Erfin- Der in F i g. 1 dargestellte Verstärker eignet sich
dung dadurch gelöst, daß die Schaltungselemente besonders für die Erzielung hoher Verstärkungsgrade, durch eine Schicht hoher Impedanz in oder am Halb- 45 Ein gegebenenfalls mit einer niederfrequenten Wechleiterplättchen elektrisch voneinander getrennt sind selstromsignalquelle verbundener Eingangsanschluß und im wesentlichen über dieses Halbleiterplättchen 10 liegt an der Basis eines Transistors 11 in einer in thermischem Kontakt miteinander stehen. Da hier ersten Verstärkerstufe. Der Kollektor dieses Trandie Wahl unter den Materialien für die Schicht hoher sistors 11 ist über einen Belastungswiderstand 13 an Impedanz verhältnismäßig frei getroffen werden 50 eine an einer positiven Spannung liegende Leitung kann, ermöglicht die Erfindung die Auswahl eines 12 angeschlossen, während der Emitter über einen Werkstoffs verhältnismäßig guter Temperaturleit- Emitterwiderstand 15 sowie eine Leitung 14 an einer fähigkeit bei gleichzeitig guten elekrischen Isolie- negativen Spannung liegt. Die Basis des Transistors rungseigenschaften, so daß eine Rückkopplung ge- 11 ist über einen geeigneten Vorspannungswiderstand ringer Trägheit bei vollständiger elektrischer Isolie- 55 16 geerdet, so daß diese Stufe in einem annehmbaren rung der beiden Schaltungselemente voneinander er- linearen Bereich der Transistorcharakteristik arbeitet, reicht werden kann, was gerade bei integrierten Schal- Ein an den Eingangsanschluß 10 angelegtes Signal errungen besonders ins Gewicht fällt. Wird die Schicht scheint in verstärkter Form am Kollektor des Tranhoher Impedanz von einem pn-übergang gebildet, so sistors 11 und wird über eine Zenerdiode 17 an die kann im Vergleich zu der bekannten Schaltungsanord- 60 Basis eines Transistors 18 einer zweiten Verstärkernung eine wesentlich dichtere Packung der einzelnen stufe angekoppelt. Die Zenerdiode wird an Stelle Schaltungselemente vorgenommen werden, ohne daß einer Kapazität als Kopplungselement verwendet, da die Gefahr besteht, daß diese elektrisch nicht ein- sie in einer integrierten Schaltung leichter herzustelwandfrei voneinander getrennt sind. Dieser Vorteil ist len ist. Der Sperrspannungsabfall an dieser Diode 17 bei integrierten Schaltungen von ausschlaggebender 65 reduziert den relativ hohen Gleichstrompegel an dem Bedeutung. Schließlich gibt die erfindungsgemäße Kollektor der ersten Stufe auf eine annehmbare Höhe Lehre eine große Freiheit in der Gestaltung der bei- für die Basisvorspannung der zweiten Stufe. Der Emitden thermisch miteinander gekoppelten Schaltungs- ter des Transistors 18 ist unmittelbar mit der Leitung
3 4
14 verbunden, während der Kollektor über einen Be- Lot- oder Fließgas, auf der Widerstandsstange 19
lastungswiderstand 19 mit der Leitung 12 verbunden elektrisch isoliert angeordnet. Das Plättchen 25 kann,
ist. Der Abnahme der verstärkten Signale dient ein wie abgebildet, ein Mesatransistor sein, wobei die
Ausgangsanschluß 20. Basis- und die Emitterleitungen an dem Basis- und
Da bei dem Verstärker gemäß F i g. 1 eine Gleich- 5 dem Emitterstreifen 26, 27 an der Oberfläche des
Stromgegenkopplung verwendet wird, kann eine kleine Mesatransistors befestigt sind. An der Oberfläche
Änderung der Größe des Eingangssignals oder des des Plättchens 25 ist im Abstand von dem Mesa
Arbeitspunkts des Transistors 11 den Transistor 18 ferner noch ein Kollektorkontakt 28 angeordnet. Der
in den Sättigungs- oder Abschaltbereich treiben. Ein Transistor 21 könnte auch gegebenenfalls auf dem
weiterer in Gegenschaltung mit dem Transistor 11 io Widerstand 22 dadurch angeordnet sein, daß das
verbundener Transistor 21 ist thermisch mit einem diesen Transistor bildende Halbleiterplättchen mit
Widerstand 22 gekoppelt, um einen Bezugspunkt für der den Widerstand in ähnlicher Weise wie in F i g. 2
die Stabilisierung zu schaffen. Der Transistor 21 wird bildenden Halbleiterstange verbunden ist. Ein Wider-
durch einen Widerstand 23 auf einen ausgewählten stand und sein zugehöriger Transistor können auch
Arbeitspunkt vorgespannt, der zwischen Basis und 15 in dem gleichen Plättchen aus monokristallinem SiIi-
Erde angeordnet ist. Der Widerstand 23 kann ge- zium gebildet werden, wobei beide durch pn-Über-
gebenenfalls den gleichen Wert wie der Widerstand gänge elektrisch voneinander getrennt werden. Als
16 aufweisen, um so einen ausgeglichenen Stromkreis Transistoren können aber auch beispielsweise Dop-
zu schaffen. peldiffusions-Planartransistoren verwendet werden.
Wenn im Betrieb der Widerstand 19 infolge der ao In F i g. 3 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer
Sättigung des zweiten Transistors 18 zuviel Strom er- erfindungsgemäßen Schaltung dargestellt, bei der eine
hält, erfolgt hierdurch eine Erwärmung des Tran- Wärmegegenkopplung dazu dient, um die Tempera-
sistors 11, so daß für einen konstanten Strom die tür einer integrierten Halbleiterschaltungsanordnung
Basis-Emitter-Spannung reduziert wird. Der Tran- zu stabilisieren. Dabei wird ein erster Transistor 30
sistor 11 nimmt jedoch infolge der erhöhten Tempe- 35 verwendet, der eine Basis 31, einen Emitter 32 und
ratur mehr Strom auf, und der Transistor 21 führt einen Kollektor 33 hat.
entsprechend weniger Strom, da diese Transistoren Die Basis 31 ist dabei so vorgespannt, daß der in Gegenschaltung miteinander verbunden sind bzw. Transistor anfänglich leicht unterhalb des Abschalteinen gemeinsamen Emitterwiderstand 15 besitzen. punktes ist. Bei einem Siliziumtransistor würde diese Dieser erhöhte Strom im Widerstand 13 setzt die 30 Vorspannung ungefähr 0,4 Volt betragen. Sie wird Basisvorspannung des zweiten Transistors 18 herab durch einen großen Widerstand 34 und einen wesent- und reduziert den diesen durchfließenden Strom, so lieh kleineren Widerstand 35 geschaffen, die an die daß auf diese Weise eine Gleichstromgegenkopplung positive und die negative Zufuhrleitung 36 bzw. 37 geschaffen wurde. Wird nun der zweite Transistor 18 in Spannungsteileranordnung angeschlossen sind. Der zum Abschaltpunkt getrieben, so nehmen sein KoI- 35 Kollektor 33 ist über einen Widerstand 38 mit der lektorstrom und die Temperatur des Widerstands 19 Leitung 36 verbunden, während der Emitter 32 unab, wodurch der Kollektorstrom im Transistor 11 re- mittelbar an die negative Leitung 37 angeschlossen duziert wird und eine Erhöhung der Vorspannung ist, so daß sich eine mit dem Emitter an Masse des Transistors 18 eintritt, so daß dieser vom Ab- liegende Verstärkerstufe ergibt. Der Kollektor des schaltpunkt weggetrieben wird. Der vom Signal un- 40 ersten Transistors ist weiterhin durch eine Leitung beeinflußte Widerstand 22 wird auf einer von der an- 39 an die Basis des zweiten Transistors 40 angelegten Spannung abhängigen Temperatur gehalten geschlossen. Dieser Transistor hat in gleicher Weise und erwärmt den Transistor 21 entsprechend, so daß eine Basis 41, einen Emitter 42 und einen Kollektor dieser als Norm wirkt. Wenn die Transistoren 11 und 43, wobei der Kollektor und der Emitter über die
21 ausgeglichen oder abgeglichen sind, wird die 45 Leitungen 44 und 45 unmittelbar mit den positiven Schaltung einen stationären Vorspannungspunkt auf- und negativen Zufuhrleitungen 36 und 37 verbunden rechterhalten, bei dem die Temperatur des Wider- sind. Die durch die gestrichelte Linie 46 angedeutete stands 19 gleich der Temperatur des Widerstands 22 thermische Rückkopplung wird zwischen dem sich ist; bei gleichen Widerständen hat der Ausgang Erd- an den Kollektor des Transistors 40 anschließenden potential. 50 Bereich und der Masse des Transistors 30 dadurch
Bei der Schaltung gemäß F i g. 1 verhindert die geschaffen, daß beide Transistoren in einem einzigen thermische Trägheit der Widerstände 19 und 22, daß Siliziumplättchen 50 gemäß F i g. 4 hergestellt sind, sich deren Temperatur dem Wechselstromsignal ent- wie dies weiter unten noch näher beschrieben wird, sprechend ändert. Eine maximale Rückkopplung er- Beim Arbeiten wird der zweite Transistor 40 in gibt sich, wenn die Widerstände ihre Temperatur 55 der Schaltung gemäß F i g. 3 zunächst durch den je Einheit der Leistungsänderung möglichst stark durch den Widerstand 38 und die Leitung 39 fließenändern, den Basis-Emitter-Strom für starke Leitfähigkeit vor-
Bei Ausführung der Schaltung gemäß F i g. 1 als gespannt. Infolge seiner Leitfähigkeit erwärmt dieser
integrierte Schaltung können die Widerstände 19 und Transistor 40 das Siliziumplättchen 50 (F i g. 4) im
22 ohne weiteres die Form länglicher, durch pn-Über- 60 Kollektorbereich, und zwar hauptsächlich in der gänge definierter Streifen aus monokirstallinem SiIi- Nähe des Kollektor-Basis-Übergangs. Über das Silizium in Siliziumplättchen haben. In F i g. 2 ist ein ziumplättchen wird die Wärme an den Transistor 30 Beispiel für eine geeignete Anbringung des Tran- weitergegeben. Hierdurch ergibt sich eine Reduziesistors 11 auf einer Halbleiterstange dargestellt, die rung der Basis-Emitter-Spannung, die notwendig ist, den Widerstand 19 bildet. Dieser Transistor weist 65 um den Transistor 30 einzuschalten. Die an der Basis ein Plättchen 25 aus Silizium auf, dessen Hauptteil 31 vorhandene Spannung wird durch den Spannungsden Kollektorbereich bildet. Das Plättchen ist mittels teiler konstant gehalten, so daß der Kollektorstrom eines Zementes oder Klebstoffes, wie beispielsweise zu fließen beginnt, wenn die Temperatur bzw. die
Leitfähigkeit des Transistors 30 einen Punkt erreicht, an dem die feste Basisspannung ausreicht, um ihn einzuschalten. Hierdurch wird die Spannung in der Leitung 39 herabgesetzt, wodurch auch der Basis-Emitter-Vorspannungsstrom für den Transistor 40 reduziert wird. Im Transistor 40 nimmt daher der Kollektorstrom und somit die Temperatur des Kollektorbereichs ab, so daß der Wärmestrom zum Transistor 30 ebenfalls reduziert wird. Damit hat die Schaltung die Tendenz, sich an einem Arbeitspunkt mit einer Temperatur von beispielsweise 125° C zu stabilisieren, bei dem die Temperatur des Plättchens 50 derart ist, daß der Transistor 30 leicht zum leitenden Bereich hin vorgespannt ist und der Transistor 40 stark leitet.
In dem Plättchen SO ist ferner eine Zenerdiode 51 (F i g. 4) so vorgesehen, daß die stabile Temperatur der Unterlage verwendet werden kann, um eine stabile Bezugsspannung zu schaffen. Die Zenerdiode 51 kann außen an eine Stromquelle angeschlossen und ao in Sperrichtung jenseits des Zenerdurchschlagpunktes vorgespannt werden. Der Spannungsabfall über der Diode ist konstant, da die Temperatur der Diode verhältnismäßig konstant ist. Gegebenenfalls können natürlich an Stelle der Zenerdiode auch andere Bauelemente als Bezugselement verwendet werden.
Gemäß Fig.4 und den Schnittdarstellungen der Fig.5 und 6 kann die ganze Temperaturstabilisierungsschaltung in Planarform durch Anwendung üblicher Verfahren mit Oxydabdeckung hergestellt werden. Die Transistoren 30 und 40 sind hier dreifach diffundierte npn-Transistoren, wobei die Kollektoren, Basen und Emitter durch aufeinanderfolgende Diffusionsstufen mit einem p-leitenden Plättchen 50 in der angegebenen Reihenfolge gebildet wurden. Die Zenerdiode 51 könnte gegebenenfalls wie ein Transistor ausgebildet sein, jedoch würden dann nur der Basis- und der Emitterbereich als aktiver Teil verwendet werden, und der Teil, der in einem Transistor den Kollektor bildet, würde hier zur elektrischen Isolierung der Diode vom übrigen Stromkreis dienen. Die Widerstände sind gemäß der Zeichnung in dem gleichen Plättchen 50 wie die Transistoren und die Diode hergestellt, könnten jedoch auch in einem getrennten Plättchen angeordnet sein. Die Widerstände sind als langgestreckte p-leitende, diffundierte Bereiche ausgebildet, die gleichzeitig mit dem Basisbereich des Transistors hergestellt werden. Die Widerstände sind gegeneinander und vom übrigen Stromkreis durch η-leitende Bereiche isoliert, die gleichzeitig mit den Kollektoren der Transistoren gebildet werden. Zwischen den verschiedenen Schaltungselementen können Zwischenverbindungen, wie dargestellt, durch Leitungen hergestellt werden. Gegebenenfalls könnten auch Verbindungen durch Aufdampfen von Aluminium in entsprechenden Formen oben auf dem Siliziumoxydüberzug gebildet werden, der nach den Diffusionen auf dem Plättchen verbleibt. Das Plättchen 50 ist mit Hilfe eines Klebemittels, beispielsweise eines Lötglases, auf einer wärmeisolierenden Platte 52 angebracht, die beispielsweise ein keramisches Plättchen sein kann. Diese dient dazu, die für das Arbeiten der Schaltung erforderliche Energie auf einem Minimum zu halten.

Claims (10)

65 Patentansprüche:
1. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung mit mehreren auf oder in einem Halbleiterplättchen angeordneten Schaltungselementen, bei der zur Steuerung des Arbeitspunktes der Schaltungsanordnung mindestens zwei Schaltungselemente vorgesehen sind, die zur Erzeugung eines elektrischen Rückkopplungssignals in thermischem Kontakt miteinander stehen, dadurch gekennzeichnet, daß diese Schaltungselemente durch eine Schicht hoher Impedanz in oder am Halbleiterplättchen elektrisch voneinander getrennt sind und im wesentlichen über dieses Halbleiterplättchen im thermischen Kontakt miteinander stehen.
2. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 1 mit wenigstens einem in dem Halbleiterplättchen gebildeten Transistor in der ersten Stufe sowie einem im Ausgang eines Transistors der zweiten Stufe vorgesehenen Arbeitswiderstand, dadurch gekennzeichnet, daß dieser Arbeitswiderstand (19) thermisch mit dem Transistor (11) der ersten Stufe gekoppelt ist.
3. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 1 mit einer ersten und einer zweiten Transistorstufe, dadurch gekennzeichnet, daß die Kollektorzone (43) der zweiten Transistorstufe (40) thermisch mit der ersten Transistorstufe (30) gekoppelt ist.
4. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Arbeitswiderstand ein langgestreckter Bereich monokristallinen Halbleitermaterials ist.
5. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß beide Transistoren (30, 40) in einem einzigen Halbleiterplättchen (50) nebeneinander angeordnet sind und zumindest der Kollektorbereich (43) des Transistors (40) der zweiten Stufe den Basis- und Emitterbereich (41 bzw. 42) dieses Transistors umgibt.
6. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, wobei der Transistor der ersten Stufe über einen Kollektorwiderstand an einer Gleichspannungsquelle liegt, dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerelektrode des Transistors (18; 40) der zweiten Stufe zwischen Kollektor und Kollektorwiderstand (13; 38) an die erste Stufe angekoppelt ist.
7. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß in der ersten Stufe in Gegenschaltung zum ersten Transistor (11) ein zweiter Transistor (21) vorgesehen ist, dessen Kollektor direkt und dessen Emitter zusammen mit dem Emitter des ersten Transistors über einen gemeinsamen Emitterwiderstand (15) an der Gleichspannungsquelle liegt, und daß ein Bezugswiderstand (22) an eine Stromquelle angeschlossen ist, der thermisch mit dem zweiten Transistor (21) der ersten Stufe gekoppelt ist.
8. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch?, dadurch gekennzeichnet, daß der Bezugswiderstand (22) von der gleichen Größenordnung wie der Arbeitswiderstand (19) des Transistors (18) der zweiten Stufe ist.
9. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Transistor (18) der zweiten Stufe über eine jenseits der Zenersparmung betriebene Zenerdiode (17) an den Kollektor des
ersten Transistors (11) der ersten Stufe angekoppelt ist.
10. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 2 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Basis (31) des Transistors (30) der ersten Stufe an einer festen Vorspannung liegt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
DET24202A 1962-09-07 1963-06-27 Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung mit thermisch gekoppelten Schaltungselementen Pending DE1293903B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US22223562A 1962-09-07 1962-09-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1293903B true DE1293903B (de) 1969-04-30

Family

ID=22831420

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DET24202A Pending DE1293903B (de) 1962-09-07 1963-06-27 Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung mit thermisch gekoppelten Schaltungselementen

Country Status (4)

Country Link
DE (1) DE1293903B (de)
GB (1) GB1021206A (de)
MY (1) MY6900272A (de)
NL (1) NL294700A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2105475A1 (de) * 1970-02-06 1971-08-12 Philips Nv Integrierte Halbleiterschaltung

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2458903A1 (fr) * 1979-06-12 1981-01-02 Thomson Csf Procede et dispositif pour la reduction des reactions thermiques dans les circuits integres monolithiques
DE3671581D1 (de) * 1985-07-09 1990-06-28 Siemens Ag Mosfet mit temperaturschutz.

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2754431A (en) * 1953-03-09 1956-07-10 Rca Corp Semiconductor devices
US2847583A (en) * 1954-12-13 1958-08-12 Rca Corp Semiconductor devices and stabilization thereof
FR1256116A (fr) * 1959-02-06 1961-03-17 Texas Instruments Inc Nouveaux circuits électroniques miniatures et procédés pour leur fabrication

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2754431A (en) * 1953-03-09 1956-07-10 Rca Corp Semiconductor devices
US2847583A (en) * 1954-12-13 1958-08-12 Rca Corp Semiconductor devices and stabilization thereof
FR1256116A (fr) * 1959-02-06 1961-03-17 Texas Instruments Inc Nouveaux circuits électroniques miniatures et procédés pour leur fabrication

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2105475A1 (de) * 1970-02-06 1971-08-12 Philips Nv Integrierte Halbleiterschaltung

Also Published As

Publication number Publication date
MY6900272A (en) 1969-12-31
NL294700A (de) 1900-01-01
GB1021206A (en) 1966-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3821065C2 (de)
DE1152763C2 (de) Halbleiterbauelement mit mindestens einem PN-UEbergang
DE2515309C3 (de) Ingegrierte Transistorverstärkerschaltung
DE1211334B (de) Halbleiterbauelement mit eingelassenen Zonen
DE1279196B (de) Flaechentransistor
DE2166507A1 (de) Bezugsspannungsschaltung
DE1283399B (de) Feldeffekt-Transistor mit zwei ohmschen Elektroden und mit einer isolierten Steuerelektrode
DE2238348B2 (de) Operationsverstärker
DE69020316T2 (de) MOS-Schaltkreis mit einem Gate-optimierten lateralen bipolaren Transistor.
DE1295647B (de) Logische Schaltung mit einem mehrere Eingaenge aufweisenden Dioden-Eingangsgatter
DE2500057C2 (de) Schaltungsanordnung zur Frequenzstabilisierung einer integrierten Schaltung
DE1437435C3 (de) Hochfrequenzverstärker mit Feldeffekttransistor
DE1589707B2 (de) Temperaturkompensierte Z Diodenanord nung
DE1564048C3 (de) Halbleiterschalter für niedrige Schaltspannungen
DE2300116B2 (de) Hochfrequenz-Feldeffekttransistor mit isolierter Gate-Elektrode für Breitbandbetrieb
DE69121615T2 (de) Schaltungsanordnung zur Verhinderung des Latch-up-Phänomens in vertikalen PNP-Transistoren mit isoliertem Kollektor
DE2635218C2 (de) Anordnung zum Schutz eines Transistors
DE1514017A1 (de) Halbleiteranordnung
DE1762435B2 (de) Hochverstaerkende integrierte verstarkerschaltung mit einem mos feldeffekttransistor
DE2607892C3 (de) Schaltungsanordnung zur Formung von Impulsen mit veränderbarem Tastverhältnis unter Verwendung eines Differenzverstärkers
DE2515457B2 (de) Differenzverstärker
DE2236897A1 (de) Verfahren zur herstellung von halbleiterbauteilen
DE1293903B (de) Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung mit thermisch gekoppelten Schaltungselementen
DE1541488B2 (de) Monolithisch-integrierte halbleiter-verstaerker-schaltung
DE68928763T2 (de) Verfahren zur Herstellung von isolierten vertikalbipolaren und JFET-Transistoren und entsprechender IC