DE1097273B - o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten fuer Flachdruckformen - Google Patents
o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten fuer FlachdruckformenInfo
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Description
DEUTSCHES
Man kann durch Beschichten von Trägermaterial, beispielsweise von Folien aus Metallen, Kunststoffen
oder Papier, mit einer lichtempfindlichen Kopierschicht, anschließendes Belichten unter einer Vorlage und Entwickeln
Flachdruckformen erhalten, mit denen man nach Einfärben mit fetter Farbe drucken kann.
In den Kopierschichten solcher Druckformen hat man als lichtempfindliche Substanzen bereits o-Benzo- und
o-Naphthochinondiazidverbindungen verwendet. Auch Sulfonsäure- und Carbonsäureester und Amide von
solchen o-Chinondiaziden mit verschiedenen Hydroxylverbindungen bzw. Aminen haben bereits Verwendung
gefunden.
Zum Entwickeln dieser Schichten nach der Belichtung wurden schon saure, alkalische und organische Lösungsmittel
enthaltende Entwickler herangezogen.
Bekanntlich entstehen aus o-Chinondiazidverbindungen bei Lichteinwirkung carboxylgruppenhaltige, saure Verbindungen.
Wenn man solche o-Chinondiazidverbindungen enthaltende Kopierschichten nach dem Belichten
mit alkalischen Substanzen entwickelt, werden die Lichtzersetzungsprodukte in Form ihrer Salze vom
Trägermaterial abgelöst. Es entstehen dabei positive Druckformen, deren Tonwerte denen der Vorlage entsprechen.
Um von Vorlagen negative Druckformen zu erhalten, bei denen also eine Umkehr der Tonwerte beim
Entwicklungsprozeß erfolgt, hat man bereits durch Einwirkung von lösungsmittelhaltigen Entwicklern das ohne
Lichteinwirkung gebliebene o-Chinondiazid von den Trägern abgelöst. Da aber auch die Lichtzersetzungsprodukte,
wenn auch in geringerem Maße, in Lösungsmitteln löslich sind, bedarf es einer sehr feinen Abstimmung
der Entwicklungszeit und der Menge des angewendeten, lösungsmittelhaltigen Entwicklers.
Es wurden auch schon negative Druckformen dadurch hergestellt, daß man o-Chinondiazide verwendete, die
noch basische Gruppen enthielten, und die belichteten Kopierschichten mit sauren Entwicklern behandelte.
Auch hierbei treten Schwierigkeiten auf, da die Lichtzersetzungsprodukte in den sauren Entwicklungsflüssigkeiten,
wenn auch in geringem Maße, löslich sind.
Man hat auch schon negative Druckformen dadurch hergestellt, daß man in Wasser unlösliche, in organischen
Lösungsmitteln lösliche Chinon-l,4-diazide und Aryl- bzw. Acyliminochinondiazide, besonders solche der
Benzol- und Naphthalinreihe, als lichtempfindliche Substanzen verwendet hat. Die Cinon-l,4-diazide zeigen
aber häufig eine unbefriedigende Lichtempfindlichkeit, und das mit Iminochinondiaziden beschichtete Material
hat eine für praktische Zwecke im allgemeinen nicht ausreichende Lagerfähigkeit.
Es wurden nun o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten für negative Druckformen gefunden, die durch
einen Gehalt an mindestens einer festen, aromatischen o-Chinondiazide enthaltende
Kopierschichten für Flachdruckformen
Kopierschichten für Flachdruckformen
Anmelder:
Kalle Aktiengesellschaft,
Wiesbaden-Biebrich, Rheingaustr. 190-196
Wiesbaden-Biebrich, Rheingaustr. 190-196
Dr. Oskar Süs und Dr. Karl Möller,
Wiesbaden-Biebrich,
sind als Erfinder genannt worden
sind als Erfinder genannt worden
Verbindung gekennzeichnet sind, welche mindestens eine freie primäre Aniinogruppe enthält.
Als o-Chinondiazide können Verbindungen der verschiedensten Konstitution verwendet werden, da es, wie
noch weiter unten beschrieben wird, im wesentlichen darauf ankommt, daß die lichtempfindliche o-Chinondiazidkonfiguration
in einer aromatischen Verbindung vorhanden ist. Es kommen also besonders Verbindungen
aus der Benzol-, Diphenyl-, Naphthalin- oder Dinaphthylreihe in Frage, die eine oder mehrere o-Chinondiazidgruppierungen
tragen, wie o-Benzochinondiazid, Naphthochinon-l,2-diazid-(l), Naphthochinon-l,2-diazid-(2),
7-Methoxy-naphthochinon-l ,2-diazid-(2), 6-Methylnaphthochinon-l,2-diazid-(2),
ö-Chlor-naphthochinon-l^-diazid-(2),
7-Chlor-naphthochinon-l,2-diazid-(2), 6-Nitronaphthochinon-1,2-diazid-(2),
5-(Carboxy-rnethyI)-naphthochinon-l,2-diazid-(l), Diphenyl-bis-chinon-3,3',4,4'-diazid-(4,4'),
Phenanthrenchinon-2,3-diazid-(2), Phenanthrenchinon-diazid-(9,10), Chrysenchinon-3,4-diazid-(3).
Es können vorteilhaft auch solche Verbindungen dieser
aromatischen Kerne verwandt werden, die neben der o-Chinondiazidgruppierung noch Sulfonsäure- oder Carboxylgruppen
tragen, die mit primären oder sekundären, aliphatischen oder aromatischen Aminen, bevorzugt mit
primären, aromatischen Aminen, zu Amiden oder mit aliphatischen oder aromatischen Hydroxylverbindungen
zu Estern umgesetzt wurden. Als solche Verbindungen kommen besonders Benzochinon -1,2 - diazid - (2) - sulfanilid
- (4), 3 - Methylbenzochinon -1,2 - diazid -(I)- sulfanilid-(5),
Naphthochinon-1,2-diazid-(l)-carbonsäure-(6), Naphthochinon -1,2 - diazid - (1) - carbonsäureanilid - (6),
Naphthochinon - 1,2 - diazid - (2) - carbonsäureamid - (3), Naphthochinon -1,2 - diazid - (2) - carbonsäureanilid - (3),
Naphthochinon-1,2-diazid-(2)-sulf anüid-(5), Naphthochinon-1
,2-diazid-(2)-sulf anilid-(4), N,N-Bis-[naphthochinon-l,2-diazid-(2)-sulfonyl-(5)]-anilin,
2'-[Naphtho-
009 698/307
chinon-l,2-diazid-(2) -sulfonylaminö- (5)] - diphenylether,
Naphthochinon-l^-diazid- (2) -sulfonsäureäthylester- (5),
Bis - [naphthochinon -1,2 - diazid - (2) - sulf onsäure - (5)] - diphenyl-diester-(4',4"),
Bis-[naphthochinon-l ,2-diazid-(2)-sulfonsäure-(S)]-diiiaphthylinethan-(l')l")-diester-(2',2"),
Tetra - [naphthochinon -1,2 - diazid - (2) - sulf onsäure - (5)]-diphenyl-tetraester-(2',2",4',4")
in Frage.
Als feste, aromatische Verbindungen mit wenigstens einer freien, primären Aminogruppe kommen besonders
Amine, die mindestens einen Benzol- oder Naphthalinkern tragen, in Frage. Bevorzugt werden solche, deren
Schmelzpunkt oberhalb 80° C liegt, da mit diesen hergestellte Kopierschichten eine erhöhte Lagerbeständigkeit
aufweisen. Beispielsweise seien angeführt: Benzidin, 4,4'-Diamino-diphenyl, 4,4'-Diamino-diphenylmethan,
4,4'-Diamino-benzophenon, 1,4-Diamino-benzol, 4,4'-Diamino-diphenyl,
^^'-Diamino-S.S'-dimethoxydiphenyl,
4,4' - Diamino - diphenylmethan, 4,4' - Diamino - benzophenon, 2-Amino-stilben, 4-Amino-stilben, 4,4'-Diaminostilben,
4,4'-Diamino-diphenylsulfon, 4,4'Diamino-diphenylamin,
1-Amino-napthalin, 2-Amino-naphthaJin,
1,4-Diamino-naphthaHn, 1,5-Diamino-naphthaJin- 2,6-Diamino-naphthafin,
2,7-Diamino-naphthaün, 2-Aminochrysen, 2-Amino-fluoren.
Als besonders vorteilhaft haben sich niederpolymere,
Aminogruppen enthaltende, aromatische Verbindungen, beispielsweise des Aminostyrols, wie das pentamere
4-Aminostyrol, erwiesen.
Die Wirkung der Amine in der Kopierschicht beruht darauf, daß bei der Lichtzersetzung der o-Chinondiazide
in Anwesenheit von Aminen direkt Säureamide von relativ hohem Molekulargewicht und sehr geringer Löslichkeit
entstehen. Dadurch werden die Druckformen, die mit solchen Kopierschichten hergestellt wurden, besonders
geeignet für die negative Wiedergabe von Vorlagen. Die Lichtzersetzungsprodukte, die bei den erfindungsgemäßen
Kopierschichten gebildet werden, sind so schwer löslich, daß saure, alkalische und auch organische
Lösungsmittel enthaltende Entwicklerfiüssigkeiten angewendet werden können und dabei trotzdem sehr scharfe,
negative Kopien erhalten werden. Da bei dem Lichtzersetzungsprozeß
gemäß dem vorliegenden Verfahren eine Molekülvergrößerung eintritt, ist auch mit gutem
Erfolg die Anwendung von relativ einfach gebauten und damit leicht herzustellenden o-Chinondiaziden, die keine
weiteren Ester oder Amidgruppierungen tragen, möglich.
Man wendet die primären, aromatischen, festen Amine in solchen molaren Mengenverhältnissen zu den o-Chinondiaziden
an, daß auf eine o-Chinondiazidgruppe mindestens eine Aminognippe kommt.
Zur Aufbringung der Kopierschichten auf das Trägermaterial werden eine oder mehrere o-Chinondiazidverbindungen
und eine oder mehrere primäre, feste, aromatische Amine in einem oder mehreren geeigneten
Lösungsmitteln, wie Ketonen, Alkoholen, Alkoholäthern, Dioxan oder Dimethylformamid, vorzugsweise solchen,
die bei Temperaturen von etwa 80 bis etwa 15O0C sieden,
gelöst. Diese Lösung wird auf das Trägermaterial, das sich beispielsweise auf einer rotierenden Platte befindet,
aufgebracht und dann das Lösungsmittel in einem Luftstrom, gegebenenfalls bei erhöhter Temperatur, getrocknet.
Um eine möglichst gute Haftung der Schicht auf der Unterlage zu erhalten, ist eine gute Trocknung
erforderlich. Die so beschichteten Träger können unter einer Vorlage belichtet und anschließend entwickelt
werden, wobei die unbelichteten Stellen der Kopierschicht entfernt werden und das Trägermaterial freigelegt
und somit eine negative Druckform der Vorlage erhalten wird. Von diesen Druckformen können nach Einfärben
mit fetter Farbe Kopien hergestellt werden.
Die gemeinsam mit den primären, aromatischen, festen Aminen verwendeten o-Chinondiazide werden nach bekannten
Verfahren hergestellt. Im folgenden werden zu den in den Formelzeichnungen als Beispiele angegebenen
Verbindungen Literaturangaben gemacht, in denen Verfahren zu ihrer Herstellung angegeben sind.
Formel 1 und 2:
Analog den Verbindungen, die in der deutschen Patentschrift 888 204 beschrieben sind: Kondensation
von Benzoxazolon-sulfonsäurechlorid-(5) mit Anilin, Aufspaltung des Oxazolonringes durch
Kochen mit wäßriger Natronlauge und anschließende Diazotierung in salzsaurer Lösung.
Formel 3:
J. ehem. Soc. (London) (1929), S. 151.
Formel 4:
Formel 4:
J.pr. (2), Bd. 105 (1923), S. 251.
Formel 5:
Herstellung durch Eintragen von Naphthochinonl,2-diazid-(2)-carbonsäurechlorid-(3),
dessen Herstellung in der deutschen Patentschrift 957 392 beschrieben ist, in 25°/oige wäßrige Ammoniaklösung;
gelbe, verfilzte Nädelchen.
Formel 6:
Liebigs Ann. Chem., Bd. 579, S. 151 (1953).
Formel 7:
Formel 7:
Liebigs Ann. Chem., Bd. 579, S. 154 (1953).
Formel 8:
Deutsche Patentschrift 865 410.
Formel 9:
Formel 9:
Analog ähnlichen Verbindungen, deren Darstellung in der deutschen Patentschrift 865 109 beschrieben
ist: Kondensation von 1 Mol 4,4'-Dihydroxy-diphenyl mit 2 Mol Naphthochinon-l,2-diazid-(2)-sulfonsäurechlorid-(5);
gelbe Kristalle.
Formel 10:
Darstellung analog Formel 9: Kondensation von
1 Mol 2,2'-Dihydroxy-l,l'-dmaphthyl-methan mit
2 Mol Naphthochinon-l,2-diazid-(2)-sulfonsäurechlorid-(3).
Formel 11:
Herstellung Beispiel 2.
Formel 12:
Herstellung analog Formel 6: Kondensation von 1 Mol 2-Amino-diphenyläther mit 1 Mol Naphthochinon-l,2-diazid-(2)-sulfonsäurechlorid-(5).
2,2 Gewichtsteile Benzochinon -1,2 - diazid - (2) - sulfanilid-(4)
(Formel 1) und 0,96 Gewichtsteile pentameres 4-Aminostyrol (M. Martinoff, Bull. Soc. China. France
[1955], S. 376) werden in 25 Volumteilen Dimethylformamid gelöst, und die Lösung wird mit 75 VolumteiJ
Äthylenglykohnonomethyläther verdünnt. Diese Lösung" wird auf eine mechanisch aufgerauhte AluminiumfoHey die sich auf einer rotierenden Platte befindet, aufget
und die beschichtete FoHe in einem warmen Luf ts
Entfernung der Lösungsmittel getrocknet,
wird die so sensibüisierte Folie unter einer Vo
Äthylenglykohnonomethyläther verdünnt. Diese Lösung" wird auf eine mechanisch aufgerauhte AluminiumfoHey die sich auf einer rotierenden Platte befindet, aufget
und die beschichtete FoHe in einem warmen Luf ts
Entfernung der Lösungsmittel getrocknet,
wird die so sensibüisierte Folie unter einer Vo
5 6
einer Bogenlampe, ζ. B. mit einer Lampe von 18 Ampere geklärt und das Umsetzungsprodukt unter starkem,
bei einem Lampenabstand von etwa 70 cm etwa 90 Se- mechanischem Rühren durch Eintropfen von 500 Volumkunden
lang, belichtet. Zur Entwicklung des ent- teilen Alkohol aus dem Filtrat wieder ausgefällt. Die
standenen, latenten Bildes wird die belichtete Schicht Verbindung stellt ein tanninfarbenes Pulver dar und
mit einem mit 1,5 bis 2°/0iger Phosphorsäurelösung ge- 5 zersetzt sich beim Erhitzen im Schmelzpunktröhrchen
tränkten Wattebausch behandelt. Das Bild wird auf dem spontan bei 160 bis 165° C.
metallischen Untergrund deutlich sichtbar. Es wird mit .
fetter Farbe eingefärbt. Die Folie ist nun als Flachdruck- Beispiel^
metallischen Untergrund deutlich sichtbar. Es wird mit .
fetter Farbe eingefärbt. Die Folie ist nun als Flachdruck- Beispiel^
form verwendbar. Man erhält von der Vorlage durch die Eine einseitig gebürstete Aluminiumfolie wird auf der
Umkehr der Tonwerte negative Druckformen. io gebürsteten Seite mit einer Lösung von 2,38 Gewichts-
In gleicher Weise lassen sich auch folgende o-Chinon- teilen Naphthochinon-(l,2-)-diazid-(2)-sulfanilid-(5) (For-
diazid-Aminostyrol-Kombinationen verwenden: 2,9 Ge- mel 6) und 0,79 Gewichtsteilen 4,4'-Diamino-diphenyl-
wichtsteile 3 -Methylbenzochinon-1,2-diazid- (1) -sulf- methan in 100 Volumteilen Äthylenglykolmonomethyl-
anilid-(5) (Formel 2) oder 1,2 Gewichtsteüe Bis-o-chinon- äther beschichtet. Nach der Belichtung der getrockneten,
diazid aus dem 3,3'-Dihydroxy-4,4'-diamino-diphenyl 15 sensibilisierten Folie unter einer Filmvorlage wird das
(Formel 3) oder 2,93 Gewichtsteile Naphthochinon-(1,2)- entstandene, negative Bild der Vorlage durch Behandeln
diazid-(2)-sulfanilid-(5) (Formel 6) jeweils mit 1,2 Ge- mit 1,5 bis 2°/0iger Phosphorsäure entwickelt und an-
wichtsteüen pentameren 4-Aminostyrol oder 1,12 Ge- schließend mit fetter Farbe eingefärbt. Man erhält so
wichtsteile Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure eine reibfeste Flachdruckform. An Stelle von verdünnter
(5)-äthylester (Formel 8) zusammen mit 0,48 Gewichts- 20 Phosphorsäure kann zur Entwicklung des Bildes auf der
teilen pentamerem 4-Aminostyrol. belichteten Folie ein Gemisch aus 75 Volumteilen Wasser
Werden zur Herstellung der lichtempfindlichen Schicht und 25 Volumteilen 96%igem Alkohol verwendet werden,
entweder 1,36 Gewichtsteüe Naphthochinon-(1,2)-di- Verwendet man Papiervorlagen, z. B. Vorlagen, die von
azid-(2) (Formel 4) oder 0,84 Gewichtsteüe Naphtho- zweiseitig bedruckten Originalen mit Hilfe von Reflex-
chinon-(l,2)-diazid-(2)-carbonsäureamid-(3) (Formel 5) 25 kopierverfahren hergestellt sind, muß entsprechend der
jeweils zusammen mit pentamerem 4-Aminostyrol (0,96 schlechteren Lichtdurchlässigkeit der Vorlage die sensi-
bzw. 0,48 Gewichtsteüe) verwendet, dann ist die Ent- büisierte Folie etwa 5 bis 6 Minuten belichtet werden,
wicklung der im Licht entstandenen Büder bereits mit Als Trägermaterial für die lichtempfindliche Schicht
etwa 0,25%iger Phosphorsäurelösung möglich. können mit gleich gutem Erfolg auch anodisch oxydierte
30 Aluminiumfolien dienen. Für die Entwicklung der auf
Beispiel 2 solchen Folien erzeugten Büder verwendet man 1,5 bis
Eine oberflächlich aufgerauhte Aluminiumfolie wird 2%ige Phosphorsäure oder eine Alkohol enthaltende
mit einer Lösung von 2,88 Gewichtsteilen der Verbindung, Gummiarabikumlösung, zu deren Herstellung man 7,8 Gedie
man durch Veresterung von 1 Mol 2,2'-4,4'-Tetra- wichtsteile Gummiarabikum in 52,2 Gewichtsteüen Wasser
hydroxy-diphenyl mit 4 Mol Naphthochinon-(l,2)-di- 35 löst und- diese Lösung mit 32 Gewichtsteüen 96%igem
azid-(2)-sulfonsäure-(4) erhält (Formel 11), und 0,99 Ge- Alkohol verdünnt. Bei Anwendung der alkoholhaltigen
wichtsteüen 4,4'-Diamino-diphenylmethan in einem Ge- Entwickler empfiehlt es sich, das Büd nach dem Entmisch
aus 30 Volumteilen Dimethylformamid und wicklungsprozeß gut mit Wasser abzuwaschen und zur
70 Volumteilen Äthylenglykolmonomethyläther be- Erhöhung der Hydrophile vor dem Einfärben kurz mit
schichtet. Nach dem Trocknen der sensibüisierten Folie 40 etwa 0,5%iger Phosphorsäure zu behandeln,
wird diese, ähnlich wie es im Beispiel 1 angegeben ist, Die auf anodisch oxydiertem Aluminium hergestellten unter einer Vorlage belichtet. Die Entwicklung des ent- Druckformen zeichnen sich durch ihre Unempfindlichkeit standenen latenten Büdes geschieht durch Behandeln gegen mechanische Einflüsse der Druckmaschine aus und der belichteten Schicht mit 1,5 bis 2°/0iger Phosphorsäure eignen sich daher besonders für sehr hohe Auflagen,
als Entwicklerlösung. Beim Einfärben der entwickelten 45 .
Schicht mit fetter Farbe erhält man eine zur Vorlage Beispiel 4
wird diese, ähnlich wie es im Beispiel 1 angegeben ist, Die auf anodisch oxydiertem Aluminium hergestellten unter einer Vorlage belichtet. Die Entwicklung des ent- Druckformen zeichnen sich durch ihre Unempfindlichkeit standenen latenten Büdes geschieht durch Behandeln gegen mechanische Einflüsse der Druckmaschine aus und der belichteten Schicht mit 1,5 bis 2°/0iger Phosphorsäure eignen sich daher besonders für sehr hohe Auflagen,
als Entwicklerlösung. Beim Einfärben der entwickelten 45 .
Schicht mit fetter Farbe erhält man eine zur Vorlage Beispiel 4
negative Flachdruckform, die das Drucken hoher Auf- Eine durch Sandbestrahlung oberflächlich angerauhte
lagen zuläßt. Aluminiumfolie wird durch Auftragen einer Lösung von
Zur Herstellung der Sensibüisierungslösung kann man 2,38 Gewichtsteüen Naphthochinon-1,2-diazid-(2)-sulf-
an Stelle von 0,99 Gewichtsteüen 4,4'-Diamino-diphenyl- 50 anüid-(5) (Formel 6) und 0,72 Gewichtsteüen Benzidin
methan 1,4 Gewichtsteüe /3-Naphthylamin oder 1,4 Ge- m 100 Volumteüen Äthylenglykolmonomethyläther licht-
wichtsteüe a-Naphthylamin verwenden. empfindlich gemacht. Nach dem Trocknen wird die
Die Verbindung entsprechend der Formel 11 wird auf sensibüisierte Folie unter einer Vorlage belichtet. Die
folgendem Wege dargestellt: Entwicklung des entstandenen latenten Büdes geschieht
In eine Lösung von 10 Gewichtsteüen 2,2'-4,4'-Tetra- 55 durch Behandeln der belichteten Schicht mit der im
hydroxy-diphenyl und 50 Gewichtsteüen Naphtho- Beispiel 3 beschriebenen wäßrig-alkoholischen Gummi-
chinon-(l,2)-diazid-(2)-sulfonsäurechlorid-(4) in 640 Vo- arabikumlösung. Zur Fertigsteüung der Druckform wird
lumteüen Dioxan wird im Verlauf von etwa 3 Stunden die entwickelte Schicht gut mit Wasser gewaschen, kurz
unter mechanischem Rühren eine Lösung von 16 Ge- mit etwa 0,5%iger Phosphorsäure nachbehandelt und
wichtsteüen Natriumbicarbonat in 400 Volumteüe Wasser 60 mit fetter Farbe eingefärbt. Man erhält von der Vorlage
eingetropft. Anschließend werden nochmals 30 Volum- eine negative Flachdruckform,
teile 10°/0ige Natriumbicarbonatlösung auf einmal zu- . .
gegeben und das Reaktionsgemisch noch 3 bis 4 Stunden Beispiel 5
gerührt. Nach Stehen über Nacht wird die Flüssigkeit Eine im Handel erhältliche, als Schichtträger für
von dem in Form einer zähen, harzartigen Masse aus- 65 negativ arbeitendes Reproduktionsmaterial hergestellte
gefallenen Kondensationsprodukt abgegossen und dieses Papierfolie wird mit einer unter Verwendung von
mit 1000 Volumteüen etwa 50%igem Alkohol gerührt, 25 Volumteüen Dimethylformamid und 75 Volumteüen
wobei es zu einem rotbraunen Pulver zerfällt. Zur Äthylenglykolmonomethyläther aus 2,93 Gewichtsteüen
Reinigung wird der Niederschlag nach dem Absaugen in Naphthochinon-l,2-diazid-(2)-sulfanüid-(5) (Formelo)und
300 Volumteüen Dioxan gelöst, die Lösung mit Kohle 70 1,2 Gewichtsteüen pentamerem 4-Aminostyrol herge-
Claims (1)
- 7 8stellten Lösung beschichtet und anschließend mit heißer sammengesetzten Entwicklerflüssigkeit entwickelt. DieLuft getrocknet. Die Entwicklung des durch Belichtung Weiterverarbeitung der Folie zur fertigen, negativenunter einer Vorlage erhaltenen negativen Bildes geschieht Flachdruckform geschieht durch Abwaschen mit Wasser,durch Behändem mit einem Wasser, Gummiarabikum, kurzem Behändem mit einem mit etwa 0,25%iger Phos-Phosphorsäure und Tetrahydronaphthalin enthaltenden 5 phorsäure getränkten Wattebausch und Einfärben mitEntwickler. Zwecks Weiterverarbeitung zur Flach- fetter Farbe,druckform wird die Folie nach der Entwicklung mit Beispiel 8
Wasser gewaschen, kurz mit O,25°/oiger Phosphorsäureüberwischt und mit fetter Farbe eingefärbt. An Stelle Zur Sensibüisierung einer oberflächlich angerauhtender Papierfolie können mit gleich gutem Erfolg auch io Aluminiumfolie wird eine Lösung von 0,48 Gewichtsteilenoberflächlich aufgerauhte oder anodisch oxydierte Alumi- 4,4'-Diamino-diphenyhnethan und 1,91 Gewichtsteilenniumfolien verwendet werden. des Diesters des 2,2'-Dihydroxy-l,l'-dinaphthylmethansZur Herstellung des Entwicklers löst man 7,8 Gewichts- mit der Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-sulfonsäure-(5)teile Gummiarabikum in 52,2 Gewichtsteilen Wasser, (Formel 10) in 25 Volumteilen Dimethylformamid undsäuert die Lösung mit 0,5 Gewichtsteilen etwa 85°/0iger 15 75 Volumteilen Äthylenglykohnonomethyläther verwen-Phosphorsäure an und setzt dann 40 Gewichtsteile Tetra- det. Die Entwicklung des bei 90 Sekunden langer Belich-hydronaphthaün hinzu. Diese Entwicklernüssigkeit ist tung unter einer Vorlage entstehenden Bildes geschiehtvor Gebrauch jeweils gut durchzuschütteln. durch Behandeln mit einer Lösung aus 53,3 Gewichtsteilen Äthylenglykohnonomethyläther, 35 GewichtsteilenBeispiele 20 Wasser und 5 Gewichtsteilen Gummiarabikum. ZurEine 2,24 Gewichtsteile N,N-Bis-[naphthochinon-(l,2)- Herstellung der negativen Flachdruckform wird analogdiazid-(2)-sulfonyloxy-(5)]-anilid (Formel 7) und 0,84 Ge- den Angaben im Beispiel 7 verfahren,wichtsteile 4,4'-Diamino-benzophenon in einem Lösungs- Zum gleichen Ergebnis führt eine 2,6 Gewichtsteüemittelgemisch aus 25 Volumteilen Dimethylformamid Diester des 4,4'-Dihydroxy-diphenyls und Naphtho-und 75 Volumteilen Äthylenglykohnonomethyläther ent- 25 chinon-l,2-diazid-(2}-sulfonsäure-(5) (Formel 9) undhaltende Lösung wird zur Sensibilisierung einer zweiseitig 0,96 Gewichtsteüe pentameres 4-Aminostyrol enthaltendegebürsteten Aluminiumfolie verwendet. Nach 5 bis Lösung.6 Minuten langer Belichtung unter einer Vorlage wird Beispiel 9
das latente Bild mit dem im Beispiel 3 angegebenenAlkohol-Wasser-Gummiarabikum enthaltenden Gemisch 30 Eine oberflächlich angerauhte Aluminiumfolie wird inentwickelt und kann nach den dort gemachten Angaben üblicher Weise mit einer Lösung von 1,68 Gewichtsteilendruckfertig gemacht werden. . des Sulfonamides aus Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-Bei Verwendung einer transparenten Filmvorlage be- sulfonsäure-(5) und 2-Amino-diphenyläther (Formel 12)trägt die Belichtungszeit nur 90 Sekunden. Man erhält und 0,39 Gewichtsteilen 4,4'-Diamino-diphenyhnethaneine negative Flachdruckform. 35 in einem Gemisch aus 25 Volumteilen DimethylformamidBei Ersatz des 4,4'-Diamino-benzophenons durch und 75 Volumteilen Äthylenglykolmonomethyläther sen-4,4'-Diamino-diphenylmethan (0,79 Gewichtsteüe) oder sibilisiert und nach dem Trocknen unter einer Vorlage/?-Naphthylamin (1,16 Gewichtsteüe) wird die Entwick- nach den Angaben in Beispiel 1 beuchtet. Als Entwicklerlung des in bezug auf die Vorlage negativen Büdes und für das im Licht gebüdete latente Büd dient 0,25 bisdie Fertigstellung der Druckform analog den Angaben 40 0,5°/0ige Trinatriumphosphatlösung. Nach Abwaschenim Beispiel 5 durchgeführt. mit Wasser und kurzem Ätzen mit etwa 0,25°/0igerPhosphorsäure läßt sich das negative Bild mit fetterBeisPiel 7 Farbe einfärben.Eine Zinkfolie, die zuvor mit 4°/„iger, etwa 4 Gewichts- In gleicher Weise kann als hchtempfindliches Materialteüe Kalialaun enthaltender Essigsäure gebürstet und so 45 auch die Verbindung entsprechend der Formel 6, dasgereinigt war, wird mit einer Lösung von 2,24 Gewichts- Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-sulfanihd-(5) (2,38 Ge-teüen N,N-Bis-[naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-sulfonyl- wichtsteüe) zusammen mit 4,4'-Diamino-diphenyhnethanoxy-(5)]-anüid (Formel 7) und 0,96 Gewichtsteüen penta- (0,79 Gewichtsteüe) verwendet werden,
merem 4-Aminostyrol in einem Lösungsmittelgemischaus 25Volumteüen Dimethylformamid und 75 Volum- 50 Patentanspruch:
teüen Äthylenglykolmonomethyläther beschichtet. NachTrocknen der Folie wird sie in üblicher Weise unter einer o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten für Vorlage belichtet und das im Licht entstandene latente Flachdruckformen, gekennzeichnet durch einen GeBild mit einer aus 35 Gewichtsteüen Wasser, 5 Gewichts- halt an mindestens einer festen aromatischen Verteilen Gummiarabikum, 59,7 Gewichtsteüen Tetrahydro- 55 bindung, die mindestens eine freie, primäre Aminonaphthalin und 0,3 Gewichtsteüen Phosphorsäure zu- gruppe enthält.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen© 009 698/307 1.61
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---|---|---|---|
NL247939D NL247939A (de) | 1959-02-04 | ||
NL125781D NL125781C (de) | 1959-02-04 | ||
US3126281D US3126281A (en) | 1959-02-04 | Formula | |
DEK36878A DE1097273B (de) | 1959-02-04 | 1959-02-04 | o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten fuer Flachdruckformen |
CH74460A CH388778A (de) | 1959-02-04 | 1960-01-26 | o-Chinondiazide enthaltendes Kopiermaterial |
GB3097/60A GB937159A (en) | 1959-02-04 | 1960-01-28 | Improvements in or relating to photo-reproduction coatings |
BE587146A BE587146A (fr) | 1959-02-04 | 1960-02-01 | Couches de reproduction contenant des orthoquinonediazides. |
FR817295A FR1250805A (fr) | 1959-02-04 | 1960-02-02 | Couches de reproduction contenant des orthoquinonediazides |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEK36878A DE1097273B (de) | 1959-02-04 | 1959-02-04 | o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten fuer Flachdruckformen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1097273B true DE1097273B (de) | 1961-01-12 |
Family
ID=7220828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEK36878A Pending DE1097273B (de) | 1959-02-04 | 1959-02-04 | o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten fuer Flachdruckformen |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3126281A (de) |
BE (1) | BE587146A (de) |
CH (1) | CH388778A (de) |
DE (1) | DE1097273B (de) |
FR (1) | FR1250805A (de) |
GB (1) | GB937159A (de) |
NL (2) | NL247939A (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP0182587A2 (de) * | 1984-11-16 | 1986-05-28 | International Business Machines Corporation | Photolack und Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltung |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CA774047A (en) * | 1963-12-09 | 1967-12-19 | Shipley Company | Light-sensitive material and process for the development thereof |
GB1116737A (en) * | 1966-02-28 | 1968-06-12 | Agfa Gevaert Nv | Bis-(o-quinone diazide) modified bisphenols |
US3837860A (en) * | 1969-06-16 | 1974-09-24 | L Roos | PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS |
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JPS6478249A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive material and image forming method |
GB8729510D0 (en) * | 1987-12-18 | 1988-02-03 | Ucb Sa | Photosensitive compositions containing phenolic resins & diazoquinone compounds |
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JP2944296B2 (ja) | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE596731C (de) * | 1932-05-23 | 1934-05-09 | Kalle & Co Akt Ges | Verfahren zur Darstellung von hoehermolekularen Diazoverbindungen |
BE500222A (de) * | 1949-07-23 | |||
US2702243A (en) * | 1950-06-17 | 1955-02-15 | Azoplate Corp | Light-sensitive photographic element and process of producing printing plates |
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BE545042A (de) * | 1955-02-11 | |||
BE551933A (de) * | 1955-10-25 |
-
0
- NL NL125781D patent/NL125781C/xx active
- US US3126281D patent/US3126281A/en not_active Expired - Lifetime
- NL NL247939D patent/NL247939A/xx unknown
-
1959
- 1959-02-04 DE DEK36878A patent/DE1097273B/de active Pending
-
1960
- 1960-01-26 CH CH74460A patent/CH388778A/de unknown
- 1960-01-28 GB GB3097/60A patent/GB937159A/en not_active Expired
- 1960-02-01 BE BE587146A patent/BE587146A/fr unknown
- 1960-02-02 FR FR817295A patent/FR1250805A/fr not_active Expired
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL125781C (de) | |
CH388778A (de) | 1965-02-28 |
GB937159A (en) | 1963-09-18 |
NL247939A (de) | |
FR1250805A (fr) | 1961-01-13 |
US3126281A (en) | 1964-03-24 |
BE587146A (fr) | 1960-05-30 |
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