DE10042913A1 - Antireflexfilm und damit beschichtetes optisches Element - Google Patents
Antireflexfilm und damit beschichtetes optisches ElementInfo
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Abstract
Der erfindungsgemäße Antireflexfilm umfaßt einen alternierend mehrlagigen Film (20) mit auf einem Basiselement (10) gebildeten 10 Schichten, wobei der Film (20) schwachbrechende Schichten (21) an - gezählt von der dem Basiselement abgewandten Seite her - ungeradzahligen Positionen und hochbrechende Schichten (22) an geradzahligen Positionen enthält. Die schwachbrechenden Schichten besitzen je einen Brechungsindex von 1,45 bis 1,52 bei einer ersten Wellenlänge (lambda¶1¶) von 248 nm, und die hochbrechenden Schichten besitzen je einen Brechungsindex von 1,65 bis 1,80 bei der ersten Wellenlänge (lambda¶1¶). Die an der ersten, der zweiten und der dritten Position befindlichen Schichten - bei Zählung von der dem Basiselement abgewandten Seite her - besitzen je eine optische Dicke im Bereich von 0,21 lambda¶1¶ bis 0,28 lambda¶1¶, derart, daß der Antireflexfilm Antireflexionsvermögen in zwei Wellenlängenbereichen aufweist, welche die erste Wellenlänge (lambda¶1¶) von 248 nm und eine zweite Wellenlänge (lambda¶2¶) von 633 nm als Mittenwellenlängen besitzen.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Antireflexfilm und ein damit
beschichtetes optisches Element, insbesondere betrifft sie einen Antireflexfilm,
der auf eine Oberfläche eines optischen Elements mit einem Quarz-Substrat
aufgebracht ist, wobei der Antireflexfilm eine Antireflexwirkung in zwei
Wellenlängenbereichen aufweist, nämlich für UV-Licht einer Wellenlänge von
248 nm, beispielsweise einen KrF-Excimer-Laserstrahl, und für Licht einer
Wellenlänge von 633 nm, also sichtbares Licht, beispielsweise entsprechend
einem He-Ne-Laserstrahl.
Die japanischen Patentveröffentlichungen 7-7124 und 7-107563 zeigen
herkömmliche Antireflexfilme für zwei Wellenlängenbereiche, nämlich UV-Licht
bei einer Wellenlänge von 300 nm oder weniger, und sichtbares Licht, wobei ein
Oxidfilm und ein Fluoridfilm verwendet werden. Antireflexfilme mit einer
sechslagigen Schichtstruktur unter Einsatz eines Oxidfilms sind in der
japanischen Patent-Offenlegungsschrift 7-218701 offenbart.
In den oben angesprochenen herkömmlichen Beispielen war jedoch der Einsatz
des Fluoridfilms insofern ein Problem, als sich die Brauchbarkeit angesichts der
Umgebungseinflüsse stark verschlechterte, während der Filmaufbau mit nur dem
Oxidfilm, der eine gute Beständigkeit gegenüber Umgebungseinflüssen aufwies,
insofern problematisch war, als die Bandbreite für die Antireflexwirkung schmal
war.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, die oben angesprochenen Probleme zu
lösen und einen leistungsstarken Antireflexfilm mit guten Antireflexeigenschaften
in zwei Wellenlängenbereichen, von UV-Licht bei einer Wellenlänge von 248 nm
und von sichtbarem Licht bei einer Wellenlänge von 633 nm, zu schaffen, wobei
der Antireflexfilm außerdem hervorragende Beständigkeit aufweisen soll.
Außerdem soll ein mit einem solchen Antireflexfilm beschichtetes optisches
Element angegeben werden.
Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung eines
Antireflexfilms mit einem alternierend mehrlagigen Film (20) mit 10 Schichten,
der auf einem Basiselement (10) gebildet ist und schwachbrechende Schichten
(21), die an ungeradzahligen Stellen von einer dem Basiselement abgewandten
Seite her angeordnet sind, und hochbrechenden Schichten (22), die an
geradzahligen Stellen von der dem Basiselement abgewandten Seite aus
angeordnet sind, umfaßt, wobei der Antireflexfilm dadurch gekennzeichnet ist,
daß die schwachbrechenden Schichten je einen Brechungsindex von 1,45 bis
1,52 bei einer ersten Wellenlänge (λ1) von 248 nm aufweisen, die
hochbrechenden Schichten je einen Brechungsindex von 1,65 bis 1,80 bei der
ersten Wellenlänge (λ1) aufweisen, und Schichten an der ersten, der zweiten und
der dritten Stelle - gerechnet von der dem Basiselement abgewandten Seite
aus - je eine optische Dicke im Bereich von 0,21 λ1 bis 0,28 λ1 derart
aufweisen, daß der Antireflexfilm Antireflexionseigenschaften in zwei
Wellenlängenbereichen aufweist, welche die erste Wellenlänge (λ1) von 248 nm
und eine zweite Wellenlänge (λ2) von 633 nm als Mittenwellenlängen enthalten.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Schaffung eines optischen Elements mit
einem. Basiselement (10), welches mit dem oben beschriebenen Antireflexfilm
(40) beschichtet ist.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Schaffung eines Antireflexfilms mit einem
alternierend mehrlagigen Film (40) aus 8 Lagen, die auf einem Basiselement (30)
gebildet sind, wobei der alternierend mehrlagige Film (40) aufgebaut ist aus
schwachbrechenden Schichten (41), die an ungeradzahligen Stellen von einer
dem Basiselement abgewandten Seite her angeordnet sind, und hochbrechenden
Schichten (42), die an geradzahligen Stellen von der dem Basiselement
abgewandten Seite her angeordnet sind, und wobei der Antireflexfilm dadurch
gekennzeichnet ist, daß die schwachbrechenden Schichten je einen
Brechungsindex von 1,45 bis 1,52 bei einer ersten Wellenlänge (λ1) von 248 nm
aufweisen, die hochbrechenden Schichten je einen Brechungsindex von 1,65 bis
1,80 bei der ersten Wellenlänge (λ1) aufweisen, und Schichten an der ersten, der
zweiten und der dritten Stelle - gezählt von der dem Basiselement abgewandten
Seite aus - je eine optische Dicke im Bereich von 0,21 λ1 bis 0,28 λ1 in der
Weise besitzen, daß der Antireflexfilm Antireflexeigenschaften in zwei
Wellenlängenbereichen aufweist, die die erste Wellenlänge (λ1) bei 248 nm und
eine zweite Wellenlänge (λ2) bei 633 nm als Mittenwellenlängen enthalten.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Schaffung eines optischen Elements mit
einem Basiselement (30), das mit dem oben beschriebenen Antireflexfilm (40)
beschichtet ist.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung
näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Querschnittansicht eines optischen Systems mit
Antireflexfilm gemäß der Erfindung;
Fig. 2 eine schematische Querschnittansicht eines Filmaufbaus eines
Antireflexfilms gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 3 eine graphische Darstellung, welche die Reflexionseigenschaften eines
Antireflexfilms gemäß Beispiel 1 der vorliegenden Erfindung in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm veranschaulicht;
Fig. 4 eine vergrößerte graphische Darstellung, welche die
Reflexionseigenschaften des Antireflexfilms gemäß Beispiel 1 der
vorliegenden Erfindung in der Nähe einer Wellenlänge von 280 nm
zeigt;
Fig. 5 eine graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften eines
Antireflexfilms gemäß Beispiel 2 der Erfindung in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm;
Fig. 6 eine vergrößerte graphische Darstellung, die die
Reflexionseigenschaften des Antireflexfilms gemäß Beispiel 2 der
Erfindung in der Nähe einer Wellenlänge von 248 nm zeigt;
Figur '7 eine graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften eines
Antireflexfilms gemäß Beispiel 3 der Erfindung in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm;
Fig. 8 eine vergrößerte graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften
des Antireflexfilms gemäß Beispiel 3 der Erfindung in der Nähe einer
Wellenlänge von 248 nm;
Fig. 9 eine schematische Querschnittansicht, die den Filmaufbau eines
Antireflexfilms gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung
veranschaulicht;
Fig. 10 eine graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften eines
Antireflexfilms gemäß Beispiel 4 der Erfindung in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm;
Fig. 11 eine vergrößerte graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften
des Antireflexfilms gemäß Beispiel 4 der Erfindung in der Nähe einer
Wellenlänge von 248 nm;
Fig. 12 eine graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften eines
Antireflexfilms gemäß Beispiel 5 der Erfindung in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm;
Fig. 13 eine vergrößerte graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften
des Antireflexfilms gemäß Beispiel 5 der Erfindung in der Nähe einer
Wellenlänge von 248 nm;
Fig. 14 eine graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften eines
Antireflexfilms gemäß Beispiel 6 der Erfindung in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm; und
Fig. 15 eine vergrößerte graphische Darstellung der Reflexionseigenschaften
des Antireflexfilms gemäß Beispiel 6 der Erfindung in der Nähe einer
Wellenlänge von 248 nm.
Fig. 1 zeigt in schematischer Querschnittsdarstellung ein optisches System,
welches von einem Antireflexfilm Gebrauch macht, der im folgenden beschrieben
werden soll. Fig. 1 zeigt Linsen 1 und 2 als optische Elemente. Auf der
Lichteintrittsfläche und der Lichtaustrittsfläche dieser Linsen 1 und 2 befindet
sich jeweils ein Antireflexfilm.
Fig. 2 ist eine schematische Querschnittansicht, die den Filmaufbau eines
Antireflexfilms gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung zeigt. Der
Film nach dieser Ausführungsform ist ein Antireflexfilm für zwei Wellenlängen
mit einer Antireflexionskennlinie für zwei Wellenlängenbereiche, die eine erste
Wellenlänge (λ1) von 248 nm und eine zweite Wellenlänge (λ2) von 633 nm als
Mittenwellenlängen aufweisen. Bei dieser Ausführungsform wird als Antireflex
film ein mehrlagiger Film mit abwechselnden Schichten oder Lagen 20 dadurch
gebildet, daß fünf schwachbrechende Schichten 21 abwechselnd mit fünf
hochbrechenden Schichten 22, das heißt insgesamt 10 Schichten, auf einem
Substrat 10, welches zum Beispiel aus Quarz besteht und ein Basiselement des
zu beschichtenden optischen Elements darstellt, übereinander angeordnet sind.
Die Schichten, die an ungeradzahligen Stellen bei Betrachtung von der Luftseite
her (von der Seite, die dem Substrat abgewandt ist) in Richtung zu der
Substratseite hin angeordnet sind (die ungeradzahligen Schichten), das heißt die
erste, die dritte, die fünfte, die siebte und die neunte Schicht, sind
schwachbrechende Schichten 21, das heißt Schichten mit einem niedrigen
Brechungsindex, welche je aus SiO2 oder ähnlichem Material als Hauptbestandteil
bestehen, während die an geradzahligen Stellen befindlichen Schichten (die
geradzahligen Schichten), das heißt die zweite, die vierte, die sechste, die achte
und die zehnte Schicht, je stark brechende Schichten 22 sind und je aus Al2O3
oder ähnlichem Material als Hauptbestandteil bestehen.
Das Schichtmaterial für die schwachbrechenden Schichten 21 ist derart
ausgewählt, daß der Brechungsindex jeder schwachbrechenden Schicht für die
erste Wellenlänge (λ1) 1,45 bis 1,52 beträgt, während das Material für die
hochbrechenden Schichten 22 so gewählt ist, daß der Brechungsindex für jede
hochbrechende Schicht 1,65 bis 1,80 bei der ersten Wellenlänge (λ1) beträgt.
Die optische Dicke d1, d2 und da der ersten, der zweiten und der dritten Schicht
ist jeweils so eingestellt, daß sie in einen Bereich von 0,21 λ1 bis 0,28 λ1 fällt.
Die optische Dicke jeder Schicht in dem alternierend mehrlagigen Film 20 ist
unter den Bedingungen optimiert, daß der für zwei Wellenlängen geeignete
Antireflexfilm ein gutes Antireflexionsverhalten in den beiden
Wellenlängenbereichen des UV-Lichts der ersten Wellenlänge von 248 nm und
des sichtbaren Lichts bei der zweiten Wellenlänge von 633 nm realisierbar ist.
Wenn die jeweiligen optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, d8, d9 und d10 der
ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten, achten, neunten
bzw. zehnten Schicht innerhalb des mehrlagigen Films 20 der Zehnschicht-
Struktur in Bereiche fallen, die deren unten angegebenen Beziehungen genügen,
erhält man einen guten Antireflexfilm für zwei Wellenlängen:
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,30 λ1 ≦ d4 ≦ 0,35 λ1
0,12 λ1 ≦ d5 ≦ 0,22 λ1
0,10 λ1 ≦ d6 ≦ 0,20 λ1
0,50 λ1 ≦ d7 ≦ 0,70 λ1
0,20 λ1 ≦ d8 ≦ 0,35 λ1
1,00 λ1 ≦ d9 ≦ 1,35 λ1
0,35 λ1 ≦ d10 ≦ 0,75 λ1
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,30 λ1 ≦ d4 ≦ 0,35 λ1
0,12 λ1 ≦ d5 ≦ 0,22 λ1
0,10 λ1 ≦ d6 ≦ 0,20 λ1
0,50 λ1 ≦ d7 ≦ 0,70 λ1
0,20 λ1 ≦ d8 ≦ 0,35 λ1
1,00 λ1 ≦ d9 ≦ 1,35 λ1
0,35 λ1 ≦ d10 ≦ 0,75 λ1
Wenn die jeweiligen optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, d8, d9 und d10 der
ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten, achten, neunten
bzw. zehnten Schicht in dem alternierend mehrlagigen Film 20 der Zehnschicht-
Struktur als weiteres spezifisches Gestaltungsbeispiel in Bereiche fallen, die ihren
unten angegebenen Beziehungen genügen, läßt sich ein guter Antireflexfilm für
zwei Wellenlängen erhalten:
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,30 λ1 ≦ d4 ≦ 0,48 λ1
0,01 λ1 ≦ d5 ≦ 1,15 λ1
0,22 λ1 ≦ d6 ≦ 0,41 λ1
0,39 λ1 ≦ d7 ≦ 0,60 λ1
0,65 λ1 ≦ d8 ≦ 0,85 λ1
0,24 λ1 ≦ d9 ≦ 0,45 λ1
0,32 λ1 ≦ d10 ≦ 0,58 λ1
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,30 λ1 ≦ d4 ≦ 0,48 λ1
0,01 λ1 ≦ d5 ≦ 1,15 λ1
0,22 λ1 ≦ d6 ≦ 0,41 λ1
0,39 λ1 ≦ d7 ≦ 0,60 λ1
0,65 λ1 ≦ d8 ≦ 0,85 λ1
0,24 λ1 ≦ d9 ≦ 0,45 λ1
0,32 λ1 ≦ d10 ≦ 0,58 λ1
Wenn die jeweiligen optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, d8, d9 und d10 der
ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten, achten, neunten
bzw. zehnten Schicht in dem alternierend mehrlagigen Film 20 der Zehnschicht-
Struktur bei einem weiteren spezifischen Gestaltungsbeispiel in Bereiche fallen,
die deren unten angegebenen Relationen genügen, läßt sich ein guter
Antireflexfilm für zwei Wellenlängen erreichen:
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,22 λ1 ≦ d4 ≦ 0,46 λ1
0,05 λ1 ≦ d5 ≦ 1,28 λ1
0,01 λ1 ≦ d6 ≦ 0,25 λ1
0,55 λ1 ≦ d7 ≦ 0,80 λ1
0,55 λ1 ≦ d8 ≦ 0,85 λ1
0,01 λ1 ≦ d9 ≦ 0,15 λ1
0,01 λ1 ≦ d10 ≦ 0,15 λ1
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,22 λ1 ≦ d4 ≦ 0,46 λ1
0,05 λ1 ≦ d5 ≦ 1,28 λ1
0,01 λ1 ≦ d6 ≦ 0,25 λ1
0,55 λ1 ≦ d7 ≦ 0,80 λ1
0,55 λ1 ≦ d8 ≦ 0,85 λ1
0,01 λ1 ≦ d9 ≦ 0,15 λ1
0,01 λ1 ≦ d10 ≦ 0,15 λ1
Bei dem alternierend mehrlagigen Film 20 sind die hochbrechenden Schichten 22
vorzugsweise aus einem Oxidfilm gebildet, der als Hauptbestandteil Al2O3 oder
ein ähnliches Material enthält, welches sich durch hervorragende Beständigkeit
gegen Umwelteinflüsse auszeichnet, während die schwachbrechenden Schichten
21 vorzugsweise aus einem Oxidfilm gebildet werden, der als Hauptkomponente
SiO2 oder ähnliches Material enthält, welches sich ebenfalls durch gute
Beständigkeit gegenüber Umwelteinflüssen auszeichnet.
Wenn der alternierend mehrlagige Film 20 nur mit den Oxidfilmen gebildet wird,
wie es oben erläutert ist, erhält man einen für hohe Leistungsfähigkeit
geeigneten Antireflexfilm für zwei Wellenlängen, der die gewünschten
Antireflexionseigenschaften in zwei Wellenlängenbereichen des UV-Bereichs und
des sichtbaren Bereichs aufweist und sich durch hervorragende Haltbarkeit
auszeichnet.
Ein für zwei Wellenlängen geeigneter Antireflexfilm mit einem
Antireflexionseffekt sowohl für UV-Licht mit einer Wellenlänge von 248 nm als
auch für sichtbares Licht bei einer Wellenlänge von 633 nm wurde einem aus
Synthetik-Quarzglas bestehenden Substrat in einer Struktur gemäß Tabelle 1 mit
Hilfe eines Niederschlagungsverfahrens im Vakuum hergestellt. Die
Reflexionseigenschaften des so gebildeten Antireflexfilms in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm sind schematisch in Fig. 3
dargestellt. Die Reflexionseigenschaften in der Nähe einer Wellenlänge von
248 nm sind schematisch und in vergrößertem Maßstab in Fig. 4 dargestellt.
Aus diesen Zeichnungen ist ersichtlich, daß der Antireflexfilm gemäß Beispiel 1
gute Antireflexionseigenschaften für zwei Wellenlängen aufweist, indem er
geringes Reflexionsvermögen in einem breiten Band zeigt, was durch ein
Reflexionsvermögen von 0,06% oder weniger und einen Wellenlängenbereich
von 34 nm mit einem Reflexionsvermögen von 0,2% bei einer Wellenlänge von
248 nm aufweist, außerdem bei einer Wellenlänge von 633 nm ein Reflexions
vermögen von 0,2% oder darunter besitzt.
Auf einem Substrat aus synthetischem Quarzglas wurde mit einem Filmaufbau
gemäß Tabelle 2 unter Anwendung eines Sputter-Verfahrens ein für zwei
Wellenlängen geeigneter Antireflexfilm mit Antireflexionseigenschaft sowohl für
UV-Licht mit einer Wellenlänge von 248 nm als auch für sichtbares Licht mit
einer Wellenlänge von 633 nm gebildet. Die Reflexionseigenschaften des so
erhaltenen Antireflexfilms in einem Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm
sind schematisch in Fig. 5 dargestellt. Die Reflexionseigenschaften in der Nähe
der Wellenlänge von 248 nm sind schematisch und in vergrößertem Maßstab in
Fig. 6 dargestellt.
Aus diesen Zeichnungen ist ersichtlich, daß der Antireflexfilm gemäß Beispiel 2
gute Antireflexionseigenschaften bei zwei Wellenlängen aufweist, indem er ein
geringes Reflexionsvermögen in einem breiten Band besitzt, wie dies durch ein
Reflexionsvermögen von 0,05% oder weniger und ein Reflexionsvermögen von
0,2% in einem Wellenlängenbereich von 28 nm bei einer Wellenlänge von
248 nm aufweist, während das Reflexionsvermögen bei einer Wellenlänge von
633 nm 0,5% oder weniger beträgt.
Es wurde ein Antireflexfilm für zwei Wellenlängen mit
Antireflexionseigenschaften sowohl für UV-Licht bei einer Wellenlänge von
248 nm als auch sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von 633 nm auf einem
Substrat aus synthetischem Quarzglas mit einem in Fig. 3 dargestellten
Filmaufbau mittels Sputter-Verfahren hergestellt. Die Reflexionseigenschaften
des so gebildeten Antireflexfilms in einem Wellenlängenbereich von 200 nm bis
700 nm sind schematisch in Fig. 7 dargestellt. Die Reflexionseigenschaften in
der Nähe einer Wellenlänge von 248 nm sind schematisch und in vergrößertem
Maßstab in Fig. 8 gezeigt.
Aus diesen Zeichnungen ist ersichtlich, daß der Antireflexfilm gemäß Beispiel 3
gute Antireflexionseigenschaften für zwei Wellenlängen aufweist, indem er ein
geringes Reflexionsvermögen in einem breiten Band zeigt, demonstriert durch ein
Reflexionsvermögen von 0,05% oder weniger und ein Reflexionsvermögen von
0,2% in einem Wellenlängenbereich von 26 nm bei einer Wellenlänge von
248 nm und einem Reflexionsvermögen von 0,5% oder weniger bei einer
Wellenlänge von 633 nm.
Fig. 9 ist eine schematische Ansicht eines Filmaufbaus eines Antireflexfilms
gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung. Der Film nach dieser
Ausführungsform ist ein für zwei Wellenlängen ausgelegter Antireflexfilm mit
Antireflexionseigenschaften in zwei Wellenlängenbereichen, einschließlich einer
ersten Wellenlänge (λ1) von 248 nm und einer zweiten Wellenlänge (λ2) von
633 nm als jeweilige Mittenwellenlängen. Bei dieser Ausführungsform ist als
Antireflexfilm ein alternierend mehrlagiger Film 40 dadurch gebildet, daß auf
einem Substrat 30 (als Basiselement eines zu beschichtenden optischen
Elements) aus beispielsweise Quarz abwechselnd vier schwachbrechende
Schichten 41 und vier hochbrechende Schichten 42, das heißt insgesamt acht
Schichten oder Lagen übereinander gebildet sind.
Die (ungeradzahligen) Schichten, die an ungeradzahligen Stellen bei Betrachtung
von der Luftseite (abgewandt von der Seite des Substrats) in Richtung der
Substratseite angeordnet sind, das heißt, die erste, die dritte, die fünfte und die
siebte Schicht, sind schwachbrechende Schichten 41 je aus SiO2 oder ähnlichem
als Hauptbestandteil, während die (geradzahligen) Schichten an geradzahligen
Positionen, das heißt die zweite, die vierte, die sechste und die achte Schicht,
hochbrechende Schichten 42 mit Al2O3 oder ähnlichem als Hauptbestandteil sind.
Ein Schichtmaterial für die schwachbrechenden Schichten 41 ist derart gewählt,
daß der Brechungsindex jedes schwachbrechenden Films 1,45 bis 1,52 bei der
ersten Wellenlänge (λ1) beträgt, während als Schichtmaterial für die
hochbrechenden Schichten 42 ein Material gewählt ist, bei dem der
Brechungsindex jedes hochbrechenden Films 1,65 bis 1,80 bei der ersten
Wellenlänge (λ1) beträgt.
Die optischen Dicken d1, d2 und d3 der ersten, zweiten und dritten Schicht sind
jeweils so voreingestellt, daß sie in einen Bereich von 0,22 λ1 bis 0,28 λ1 fallen.
Die optische Dicke jeder Schicht in dem alternierend mehrlagigen Film 40 ist
unter den Bedingungen optimiert, daß der für zwei Wellenlängen geeignete
Antireflexfilm gute Antireflexionseigenschaften in den beiden
Wellenlängenbereichen des UV-Lichts mit einer ersten Wellenlänge von 248 nm
und sichtbaren Lichts bei einer Wellenlänge von 633 nm erreicht werden.
Wenn die jeweiligen optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, und d8 der ersten,
zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten und achten Schicht in einem
solchen mehrlagigen Film 40 einer Achtschicht-Struktur in Bereiche fallen, die
ihre nachstehend angegebenen Beziehungen erfüllen, wird ein guter
Antireflexfilm für zwei Wellenlängen erhalten:
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,72 λ1 ≦ d4 ≦ 0,80 λ1
0,44 λ1 ≦ d5 ≦ 0,52 λ1
0,76 λ1 ≦ d6 ≦ 0,85 λ1
0,33 λ1 ≦ d7 ≦ 0,41 λ1
0,40 λ1 ≦ d8 ≦ 0,51 λ1
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,72 λ1 ≦ d4 ≦ 0,80 λ1
0,44 λ1 ≦ d5 ≦ 0,52 λ1
0,76 λ1 ≦ d6 ≦ 0,85 λ1
0,33 λ1 ≦ d7 ≦ 0,41 λ1
0,40 λ1 ≦ d8 ≦ 0,51 λ1
Wenn die jeweiligen optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, und d8 der ersten,
zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten und achten Schicht in dem
alternierend mehrlagigen Film 40 der Achtschicht-Struktur bei einer weiteren
spezifischen Ausgestaltung in Bereiche fallen, die ihre unten angegebenen
Beziehungen erfüllen, erhält man einen guten Antireflexfilm für zwei
Wellenlängen:
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,72 λ1 ≦ d4 ≦ 0,80 λ1
0,44 λ1 ≦ d5 ≦ 0,52 λ1
0,82 λ1 ≦ d6 ≦ 0,92 λ1
0,25 λ1 ≦ d7 ≦ 0,35 λ1
0,43 λ1 ≦ d8 ≦ 0,53 λ1
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,72 λ1 ≦ d4 ≦ 0,80 λ1
0,44 λ1 ≦ d5 ≦ 0,52 λ1
0,82 λ1 ≦ d6 ≦ 0,92 λ1
0,25 λ1 ≦ d7 ≦ 0,35 λ1
0,43 λ1 ≦ d8 ≦ 0,53 λ1
Wenn die jeweiligen optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, und d8 der ersten,
zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten und achten Schicht in dem
alternierend mehrlagigen Film 40 der Achtschicht-Struktur eines weiteren
spezifischen Ausgestaltungsbeispiels in Bereiche fallen, die ihre entsprechenden,
unten angegebenen Beziehungen erfüllen, erhält man einen guten Antireflexfilm
für zwei Wellenlängen:
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d4 ≦ 0,28 λ1
1,00 λ1 ≦ d5 ≦ 1,20 λ1
0,52 λ1 ≦ d6 ≦ 0,65 λ1
0,22 λ1 ≦ d7 ≦ 0,31 λ1
0,96 λ1 ≦ d8 ≦ 1,12 λ1
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d4 ≦ 0,28 λ1
1,00 λ1 ≦ d5 ≦ 1,20 λ1
0,52 λ1 ≦ d6 ≦ 0,65 λ1
0,22 λ1 ≦ d7 ≦ 0,31 λ1
0,96 λ1 ≦ d8 ≦ 1,12 λ1
Bei dem alternierend mehrlagigen Film 40 sind die hochbrechenden Schichten 42
vorzugsweise aus einem Oxidfilm gebildet, der als Hauptbestandteil Al2O3 oder
ein ähnliches Material mit hervorragender Beständigkeit gegenüber
Umgebungseinflüssen umfaßt, während die schwachbrechenden Schichten 41
vorzugsweise aus einem Oxidfilm gebildet sind, der als Hauptbestandteil SiO2
oder ähnliches Material mit hervorragender Beständigkeit gegenüber
Umwelteinflüssen enthält.
Wenn der alternierend mehrlagige Film 40 mit ausschließlich Oxidfilmen der oben
beschriebenen Art gebildet ist, hat man einen Antireflexfilm hoher
Leistungsfähigkeit für zwei Wellenlängen, der die gewünschten
Antireflexionseigenschaften in zwei Wellenlängenbereichen des UV-Bereichs und
eines sichtbaren Bereichs besitzt und sich außerdem durch hervorragende
Haltbarkeit auszeichnet.
Ein für zwei Wellenlängen ausgelegter Antireflexfilm mit Antireflexionswirkung
sowohl für UV-Licht mit einer Wellenlänge von 248 nm als auch sichtbares Licht
mit einer Wellenlänge von 633 nm wurde auf einem aus synthetischen Quarzglas
bestehenden Substrat gemäß dem in Tabelle 4 angegebenen Schichtaufbau unter
Verwendung eines Niederschlagungsverfahrens im Vakuum hergestellt. Die
Reflexionseigenschaften des so hergestellten Antireflexfilms in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm sind schematisch in Fig. 10
dargestellt. Die Reflexionseigenschaften in der Nähe einer Wellenlänge von
248 nm sind schematisch und in vergrößertem Maßstab in Fig. 11 gezeigt.
Aus diesen Zeichnungen ist ersichtlich, daß der Antireflexfilm gemäß Beispiel 4
gute Antireflexionseigenschaften für zwei Wellenlängen aufweist, indem er
geringe Brechkraft in einem breiten Band aufweist, demonstriert durch ein
Reflexionsvermögen von 0,15% oder weniger und einem 32 nm betragenden
Wellenlängenbereich mit einem Reflexionsvermögen von 0,15% bei einer
Wellenlänge von 248 nm und ein Reflexionsvermögen von 0,2% oder weniger
bei einer Wellenlänge von 633 nm.
Es wurde ein für zwei Wellenlängen ausgelegter Antireflexfilm mit
Antireflexionsvermögen für sowohl UV-Licht mit einer Wellenlänge von 248 nm
als auch sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von 633 nm auf einem Substrat
aus synthetischem Quarzglas mit einem Schichtaufbau nach Tabelle 5 mittels
eines Sputter-Verfahrens gebildet. Die Reflexionseigenschaften des so gebildeten
Antireflexfilms in einem Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm sind
schematisch in Fig. 12 dargestellt. Das Reflexionsverhalten in der Nähe einer
Wellenlänge von 248 nm ist schematisch und in vergrößertem Maßstab in
Fig. 13 dargestellt.
Aus diesen Zeichnungen ist ersichtlich, daß der Antireflexfilm gemäß Beispiel 5
gute Antireflexionseigenschaften für zwei Wellenlängen aufweist und geringes
Reflexionsvermögen in einem breiten Band besitzt, demonstriert durch ein
Reflexionsvermögen von 0,1% oder weniger und ein Wellenlängenband von
22 nm mit einem Reflexionsvermögen von 0,1% bei einer Wellenlänge von
248 nm und einem Reflexionsvermögen von 0,4% oder weniger bei einer
Wellenlänge von 633 nm.
Es wurde ein für zwei Wellenlängen ausgelegter Antireflexfilm mit
Antireflexionswirkung sowohl für UV-Licht bei einer Wellenlänge von 248 nm als
auch sichtbares Licht bei einer Wellenlänge von 633 nm auf einem aus
synthetischem Quarzglas gefertigten Substrat mit einem Schichtaufbau gemäß
Tabelle 6 unter Verwendung eines Sputter-Verfahrens gebildet. Die
Reflexionseigenschaften des so gebildeten Antireflexfilms in einem
Wellenlängenbereich von 200 nm bis 700 nm sind schematisch in Fig. 14
dargestellt. Das Reflexionsverhalten in der Nähe einer Wellenlänge von 248 nm
ist schematisch und in vergrößertem Maßstab in Fig. 15 gezeigt.
Aus diesen Zeichnungen ist ersichtlich, daß der Antireflexfilm nach Beispiel 6
gutes Antireflexionsvermögen bei zwei Wellenlängen aufweist, indem er geringe
Reflexionskraft in einem breiten Band besitzt, demonstriert durch ein
Reflexionsvermögen von 0,1% oder weniger und ein 28 nm breites
Wellenlängenband mit einem Reflexionsvermögen von 0,1% bei einer
Wellenlänge von 248 nm, während das Reflexionsvermögen bei einer
Wellenlänge von 633 nm 0,5% oder weniger beträgt.
Durch den oben geschilderten Aufbau gemäß der vorliegenden Erfindung besitzen
Antireflexfilme für zwei Wellenlängen ein extrem effektives gutes
Antireflexverhalten in zwei Wellenlängenbereichen für ultraviolettes Licht mit
einer Wellenlänge von 248 nm und sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von
633 nm, außerdem besitzen die Antireflexfilme hervorragende Beständigkeit.
Claims (14)
1. Antireflexfilm, umfassend
einen alternierend mehrlagigen Film (20) aus 10 Schichten auf einem
Basiselement (10), wobei der Film (20) schwachbrechende Schichten (21),
die sich an ungeradzahligen Positionen - gezählt von der dem Basiselement
abgewandten Seite her - befinden, und hochbrechende Schichten (22) an
geradzahligen Positionen, aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß
die schwachbrechenden Schichten je einen Brechungsindex von 1,45 bis
1,52 bei einer ersten Wellenlänge (λ1) von 248 nm aufweisen, die
hochbrechenden Schichten je einen Brechungsindex von 1,65 bis 1,80 bei
der ersten Wellenlänge (λ1) aufweisen, und Schichten an der ersten, der
zweiten und der dritten Position von der dem Basiselement abgewandten
Seite aus je eine optische Dicke im Bereich von 0,21 λ1 bis 0,28 λ1 in der
Weise aufweisen, daß der Antireflexfilm Antireflexionseigenschaften in zwei
Wellenlängenbereichen aufweist, welche die erste Wellenlänge (λ1) von 248 nm
bzw. eine zweite Wellenlänge (λ1) von 633 nm als Mittenwellenlängen
enthalten.
2. Antireflexfilm nach Anspruch 1, bei dem
die optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, d8, d9 und d10 der Schichten
an der ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten, achten,
neunten und zehnten Position von der dem Basiselement abgewandten
Seite her folgende Beziehungen erfüllen:
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,30 λ1 ≦ d4 ≦ 0,35 λ1
0,12 λ1 ≦ d5 ≦ 0,22 λ1
0,10 λ1 ≦ d6 ≦ 0,20 λ1
0,50 λ1 ≦ d7 ≦ 0,70 λ1
0,20 λ1 ≦ d8 ≦ 0,35 λ1
1,00 λ1 ≦ d9 ≦ 1,35 λ1
0,35 λ1 ≦ d10 ≦ 0,75 λ1
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,30 λ1 ≦ d4 ≦ 0,35 λ1
0,12 λ1 ≦ d5 ≦ 0,22 λ1
0,10 λ1 ≦ d6 ≦ 0,20 λ1
0,50 λ1 ≦ d7 ≦ 0,70 λ1
0,20 λ1 ≦ d8 ≦ 0,35 λ1
1,00 λ1 ≦ d9 ≦ 1,35 λ1
0,35 λ1 ≦ d10 ≦ 0,75 λ1
3. Antireflexfilm nach Anspruch 1, bei dem
die optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, d8, d9 und d10 der Schichten
an der ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten, achten,
neunten und zehnten Position von der dem Basiselement abgewandten
Seite her folgende Beziehungen erfüllen:
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,30 λ1 ≦ d4 ≦ 0,48 λ1
0,01 λ1 ≦ d5 ≦ 1,15 λ1
0,22 λ1 ≦ d6 ≦ 0,41 λ1
0,39 λ1 ≦ d7 ≦ 0,60 λ1
0,65 λ1 ≦ d8 ≦ 0,85 λ1
0,24 λ1 ≦ d9 ≦ 0,45 λ1
0,32 λ1 ≦ d10 ≦ 0,58 l1
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,30 λ1 ≦ d4 ≦ 0,48 λ1
0,01 λ1 ≦ d5 ≦ 1,15 λ1
0,22 λ1 ≦ d6 ≦ 0,41 λ1
0,39 λ1 ≦ d7 ≦ 0,60 λ1
0,65 λ1 ≦ d8 ≦ 0,85 λ1
0,24 λ1 ≦ d9 ≦ 0,45 λ1
0,32 λ1 ≦ d10 ≦ 0,58 l1
4. Antireflexfilm nach Anspruch 1, bei dem
die optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7, d8, d9 und d10 der Schichten
an der ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten, achten,
neunten und zehnten Position von der dem Basiselement abgewandten
Seite her folgende Beziehungen erfüllen:
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,22 λ1 ≦ d4 ≦ 0,46 λ1
0,05 λ1 ≦ d5 ≦ 1,28 λ1
0,01 λ1 ≦ d6 ≦ 0,25 λ1
0,55 λ1 ≦ d7 ≦ 0,80 λ1
0,55 λ1 ≦ d8 ≦ 0,85 λ1
0,01 λ1 ≦ d9 ≦ 0,15 λ1
0,01 λ1 ≦ d10 ≦ 0,15 λ1
0,21 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,21 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,22 λ1 ≦ d4 ≦ 0,46 λ1
0,05 λ1 ≦ d5 ≦ 1,28 λ1
0,01 λ1 ≦ d6 ≦ 0,25 λ1
0,55 λ1 ≦ d7 ≦ 0,80 λ1
0,55 λ1 ≦ d8 ≦ 0,85 λ1
0,01 λ1 ≦ d9 ≦ 0,15 λ1
0,01 λ1 ≦ d10 ≦ 0,15 λ1
5. Antireflexfilm nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem
die hochbrechenden Schichten (22) aus einem Material gebildet sind,
welches als Hauptkomponente Al2O3 enthält, und die schwachbrechenden
Schichten (21) aus einem Material gebildet sind, welches als
Hauptkomponente SiO2 enthält.
6. Optisches Element mit einem Basiselement (10), welches mit dem
Antireflexfilm (40) nach einem der Ansprüche 1 bis 5 beschichtet ist.
7. Optisches Element nach Anspruch 6, bei dem
das Basiselement (10) aus Quarz gebildet ist.
8. Antireflexfilm, umfassend
einen alternierend mehrlagigen Film (40) aus 8 Schichten auf einem
Basiselement (10), wobei der Film (40) schwachbrechende Schichten (41),
die sich an ungeradzahligen Positionen - gezählt von der dem Basiselement
abgewandten Seite her - befinden, und hochbrechende Schichten (42) an
geradzahligen Positionen, aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß
die schwachbrechenden Schichten je einen Brechungsindex von 1,45 bis
1,52 bei einer ersten Wellenlänge (λ1) von 248 nm aufweisen, die
hochbrechenden Schichten je einen Brechungsindex von 1,65 bis 1,80 bei
der ersten Wellenlänge (λ1) aufweisen, und Schichten an der ersten, der
zweiten und der dritten Position von der dem Basiselement abgewandten
Seite aus je eine optische Dicke im Bereich von 0,21 λ1 bis 0,28 λ1 in der
Weise aufweisen, daß der Antireflexfilm Antireflexionseigenschaften in zwei
Wellenlängenbereichen aufweist, welche die erste Wellenlänge (λ1) von 248 nm
bzw. eine zweite Wellenlänge (λ2) von 633 nm als Mittenwellenlängen
enthalten.
9. Antireflexfilm nach Anspruch 8, bei dem
die optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7 und d8 der Schichten an der
ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten und achten
Position von der dem Basiselement abgewandten Seite her folgende
Beziehungen erfüllen:
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,72 λ1 ≦ d4 ≦ 0,80 λ1
0,44 λ1 ≦ d5 ≦ 0,52 λ1
0,76 λ1 ≦ d6 ≦ 0,85 λ1
0,33 λ1 ≦ d7 ≦ 0,41 λ1
0,40 λ1 ≦ d8 ≦ 0,51 λ1
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,72 λ1 ≦ d4 ≦ 0,80 λ1
0,44 λ1 ≦ d5 ≦ 0,52 λ1
0,76 λ1 ≦ d6 ≦ 0,85 λ1
0,33 λ1 ≦ d7 ≦ 0,41 λ1
0,40 λ1 ≦ d8 ≦ 0,51 λ1
10. Antireflexfilm nach Anspruch 8, bei dem
die optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7 und d8 der Schichten an der
ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten und achten
Position von der dem Basiselement abgewandten Seite her folgende
Beziehungen erfüllen:
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,72 λ1 ≦ d4 ≦ 0,80 λ1
0,44 λ1 ≦ d5 ≦ 0,52 λ1
0,82 λ1 ≦ d6 ≦ 0,92 λ1
0,25 λ1 ≦ d7 ≦ 0,35 λ1
0,43 λ1 ≦ d8 ≦ 0,53 λ1
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,72 λ1 ≦ d4 ≦ 0,80 λ1
0,44 λ1 ≦ d5 ≦ 0,52 λ1
0,82 λ1 ≦ d6 ≦ 0,92 λ1
0,25 λ1 ≦ d7 ≦ 0,35 λ1
0,43 λ1 ≦ d8 ≦ 0,53 λ1
11. Antireflexfilm nach Anspruch 8, bei dem
die optischen Dicken d1, d2, d3, d4, d5, d6, d7 und da der Schichten an der
ersten, zweiten, dritten, vierten, fünften, sechsten, siebten und achten
Position von der dem Basiselement abgewandten Seite her folgende
Beziehungen erfüllen:
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d4 ≦ 0,28 λ1
1,00 λ1 ≦ d5 ≦ 1,20 λ1
0,52 λ1 ≦ d6 ≦ 0,65 λ1
0,22 λ1 ≦ d7 ≦ 0,31 λ1
0,96 λ1 ≦ d8 ≦ 1,12 λ1
0,23 λ1 ≦ d1 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d2 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d3 ≦ 0,28 λ1
0,23 λ1 ≦ d4 ≦ 0,28 λ1
1,00 λ1 ≦ d5 ≦ 1,20 λ1
0,52 λ1 ≦ d6 ≦ 0,65 λ1
0,22 λ1 ≦ d7 ≦ 0,31 λ1
0,96 λ1 ≦ d8 ≦ 1,12 λ1
12. Antireflexfilm nach einem der Ansprüche 8 bis 11, bei dem
die hochbrechenden Schichten (42) aus einem Material gebildet sind,
welches als Hauptkomponente Al2O3 enthält, und die schwachbrechenden
Schichten (41) aus einem Material gebildet sind, welches als
Hauptkomponente SiO2 enthält.
13. Optisches Element mit einem Basiselement (30), welches mit dem
Antireflexfilm (40) nach einem der Ansprüche 8 bis 12 beschichtet ist.
14. Optisches Element nach Anspruch 13, bei dem
das Basiselement (30) aus Quarz gebildet ist.
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