CN221225056U - 光路转折元件、成像镜头模块及电子装置 - Google Patents

光路转折元件、成像镜头模块及电子装置 Download PDF

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CN221225056U CN202322407942.9U CN202322407942U CN221225056U CN 221225056 U CN221225056 U CN 221225056U CN 202322407942 U CN202322407942 U CN 202322407942U CN 221225056 U CN221225056 U CN 221225056U
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Abstract

本揭示公开一种光路转折元件，包含主体、光线吸收膜层以及消光结构。主体具有光学表面，其包含入射面、反射面以及出射面。光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置，且光线吸收膜层与主体实体接触。消光结构与至少部分光学表面相邻设置。消光结构使光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构与主体一体成型。本揭示还公开具有上述光路转折元件的成像镜头模块及具有光路转折元件的电子装置。

Description

光路转折元件、成像镜头模块及电子装置
技术领域
本揭示涉及一种光路转折元件、成像镜头模块及电子装置，特别是一种适用于电子装置的光路转折元件及成像镜头模块。
背景技术
随着科技日新月异，具有高光学品质的镜头俨然成为不可或缺的一环。并且，配备光学镜头的电子装置的应用范围更加广泛，对于光学镜头的要求也是更加多样化。
然而，近年来传统的光学镜头已难以满足多元化发展下的电子产品的高光学品质需求，特别是在具有光轴转折配置的光学镜头内部的非成像反射光会造成光学品质不佳。已知的具有光轴转折配置的光学镜头其内部常会形成易产生非成像反射光的配置，故无法满足目前日渐严格的光学品质市场需求。因此，如何改良光学镜头的光轴转折元件来避免产生非成像反射光，以满足现今对电子装置高规格的需求，已成为目前相关领域的重要议题。
实用新型内容
本揭示提供一种光路转折元件、成像镜头模块以及电子装置。其中，光路转折元件具有能够降低反射率的消光结构或光线吸收膜层，借此避免杂散光于光路转折元件的内部反射，从而满足高成像品质的需求。
本揭示提供一种光路转折元件，包含一主体、一光线吸收膜层以及一消光结构。主体具有一光学表面，且光学表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置，且光线吸收膜层与光路转折元件的主体实体接触。消光结构与至少部分光学表面相邻设置。消光结构使光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构与光路转折元件的主体一体成型。
本揭示另提供一种光路转折元件，包含一主体以及一光线吸收膜层。主体具有一光学表面，且光学表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置，且光线吸收膜层与光路转折元件的主体实体接触。光线吸收膜层自光学表面朝远离光路转折元件的方向上依序包含第一抗反射膜以及吸光膜。第一抗反射膜用以降低反射率，吸光膜包含一金属层，且金属层的主要成分为铬(Cr)金属。
本揭示又另提供一种光路转折元件，包含一主体以及一光线吸收膜层。主体具有一反射面，其用于反射一光线，以使光线的行进方向改变。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置，且光线吸收膜层与光路转折元件的主体实体接触。光线吸收膜层包含一吸光膜，且吸光膜包含一金属层以及一氧化金属层。金属层的主要成分为铬金属。氧化金属层的主要成分为MOy，其中M为钽(Ta)金属、钛(Ti)金属和铬金属中的任一者，且y满足下列条件：y≤1。
本揭示再另提供一种光路转折元件，包含一主体以及一消光结构。主体具有一光学表面，且光学表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。消光结构与至少部分光学表面相邻设置。消光结构使光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构与光路转折元件的主体一体成型。至少部分光学表面的边缘具有一阶差结构，且阶差结构使光学表面相对于其周边的区域凸起或凹陷。
本揭示提供一种成像镜头模块，包含前述的光路转折元件、一第一透镜组以及一成像面。第一透镜组设置于光路转折元件的物侧，且第一透镜组包含一第一透镜以及一第一遮光件。第一透镜包含一第一光学有效部，且光线通过第一光学有效部。第一遮光件具有一第一通光孔，第一通光孔与光路转折元件对应设置，且光线通过第一通光孔。成像面接收来自于光路转折元件的光线。第一通光孔为第一透镜组中的最小通光孔，第一通光孔的最小孔径为φ1，第一通光孔与光路转折元件之间的最短垂直距离为D1，较佳地，其满足下列条件：
0.2≤φ1/(D1+1)≤9。
本揭示提供一种电子装置，其包含前述的光路转折元件。
根据以上所揭露的光路转折元件、成像镜头模块与电子装置，借由光线吸收膜层或消光结构的设置，有助于降低反射率，以避免杂散光(非成像光)于光路转折元件的内部反射。
当0.2≤φ1/(D1+1)≤9满足上述条件时，可有效阻挡杂散光。
以上关于本揭示内容的说明及以下的实施方式的说明用以示范与解释本揭示的精神与原理，并且提供本揭示的权利要求书更进一步的解释。
附图说明
图1绘示依照本揭示第一实施例的成像镜头模块的立体示意图。
图2为图1的成像镜头模块的分解示意图。
图3为图1的成像镜头模块的剖切示意图。
图4为图1的成像镜头模块的光路转折元件的立体示意图。
图5为图4的光路转折元件沿线5-5的剖切示意图。
图6为图5的光路转折元件沿线6-6的剖切示意图。
图7绘示依照本揭示第二实施例的光路转折元件的立体示意图。
图8为图7的光路转折元件另一侧的立体示意图。
图9为图8的光路转折元件的局部A的放大示意图。
图10为图7的光路转折元件沿线10-10的剖切示意图。
图11绘示依照本揭示第三实施例的光路转折元件的立体示意图。
图12为图11的光路转折元件另一侧的立体示意图。
图13为图11的光路转折元件的局部B的放大示意图。
图14为图12的光路转折元件的局部C的放大示意图。
图15为图11的光路转折元件沿线15-15的剖切示意图。
图16绘示依照本揭示第四实施例的成像镜头模块的剖切示意图。
图17为图16的成像镜头模块的光路转折元件的立体示意图。
图18为图17的光路转折元件沿线18-18的剖切示意图。
图19绘示依照本揭示第五实施例的成像镜头模块的立体示意图。
图20为图19的成像镜头模块的分解示意图。
图21为图19的成像镜头模块的剖切示意图。
图22为图19的成像镜头模块的光路转折元件的立体示意图。
图23为图22的光路转折元件的局部D的放大示意图。
图24和图25为图22的光路转折元件沿线24-24的剖切示意图。
图26为图22的光路转折元件沿线26-26的剖切示意图。
图27为图26的光路转折元件的局部E的放大示意图。
图28为图25的光路转折元件沿线28-28的剖切示意图。
图29绘示依照本揭示第六实施例的成像镜头模块的立体示意图。
图30为图29的成像镜头模块的分解示意图。
图31为图29的成像镜头模块的剖切示意图。
图32为图29的成像镜头模块的光路转折元件的立体示意图。
图33为图32的光路转折元件的局部F放大示意图。
图34为图32的光路转折元件沿线34-34的剖切示意图。
图35为图34的光路转折元件沿线35-35的剖切示意图。
图36绘示依照本揭示第七实施例的成像镜头模块的立体示意图。
图37为图36的成像镜头模块的剖切示意图。
图38为图37的成像镜头模块的第一光路转折元件的示意图。
图39为图38的第一光路转折元件的立体示意图。
图40为图39的第一光路转折元件另一侧的立体示意图。
图41为图39的第一光路转折元件的局部G放大示意图。
图42为图40的第一光路转折元件另一侧的局部H的放大示意图。
图43为图37的成像镜头模块的第二光路转折元件的示意图。
图44为图43的第二光路转折元件的立体示意图。
图45为图44的第二光路转折元件另一侧的立体示意图。
图46绘示依照本揭示第八实施例的一种电子装置的一侧的立体示意图。
图47绘示依照本揭示第九实施例的一种电子装置的一侧的立体示意图。
图48绘示图47的电子装置的另一侧的立体示意图。
图49绘示图47的电子装置的***方块图。
【符号说明】
1、1a、2、3、4:成像镜头模块
10:第一透镜组
110:第一透镜
111:第一光学有效部
121:第一通光孔
120:第一遮光件
30、30a、30b、30c、30d、30e、30f:光路转折元件
39、39a、39b、39c、39d、39e、39f、49f:主体
310:光学表面
311:入射面
312、312d:反射面
3121:反射膜
313:出射面
314:阶差结构
315、316、317:突出部
320:光线吸收膜层
321:吸光膜
3211:金属层
3212:氧化金属层
322:第一抗反射膜
323:中介层
324:第二抗反射膜
330:消光结构
20:第二透镜组
210:第二透镜
211:第二光学有效部
220:第二遮光件
221:第二通光孔
40、40f:第二光路转折元件
412:反射面
50:成像面
60:固定件
200、300:电子装置
100、100a、100b、100c、100d、100e、100f、100g、100h:取像装置
301:闪光灯模块
302:对焦辅助模块
303:影像信号处理器
304:显示模块
305:影像软件处理器
306:被摄物
OA2:第二光轴
OA3:第三光轴
OA4:第四光轴
OA5:第五光轴
具体实施方式
本揭示的一实施例揭露一种光路转折元件，可应用于成像镜头模块以及电子装置。借由光路转折元件的设置，可使空间配置更加灵活，有利于压缩成像镜头模块的体积。
光路转折元件的主体可为棱镜或反射镜。主体可具有光学表面，且光学表面可包含入射面、反射面以及出射面。光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。反射面可镀有反射膜以反射光线，其中反射膜的成分可包含铝。此外，入射面和出射面可进行抗反射处理，如设置由高折射率层与低折射率层堆叠而形成的抗反射膜，或者设置具有渐变折射率的蛾眼抗反射结构层，但本揭示并不以上述抗反射处理为限。
光路转折元件可包含用于降低反射率的光线吸收膜层。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置，且光线吸收膜层与光路转折元件的主体实体接触。光线吸收膜层可定义出反射面的面积范围，并可减少杂散光产生。其中，光路转折元件的光线吸收膜层可与反射面相邻设置。借此，可减少反射面周边所产生的杂散光。
光路转折元件可包含消光结构。消光结构与至少部分光学表面相邻设置。消光结构使光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构与光路转折元件的主体一体成型。光线吸收膜层可设置于消光结构上。凹凸起伏的表面轮廓有助于破坏杂散光线的反射路径。其中，光路转折元件的消光结构可与反射面相邻设置。借此，可减少反射面周边所产生的杂散光。
本揭示的消光结构的凹凸起伏可为规则设置或不规则设置。规则设置的消光结构例如为条状或者锥状的凸起或凹陷，不规则设置的消光结构例如为磨砂表面，因此消光结构的具体态样并非用以限制本揭示。规则设置的消光结构有助于提升品质稳定性。
光线吸收膜层可包含吸光膜。吸光膜可包含金属层，且金属层的主要成分为铬(Cr)金属。吸光膜可呈现深色外观，其可吸收可见光以降低反射率。
吸光膜可进一步包含氧化金属层，而有助于提升吸光膜的消光性质。吸光膜可由金属层与氧化金属层交替堆叠而成。氧化金属层的主要成分可为MOy。其中，M可为钽(Ta)金属、钛(Ti)金属和铬金属中的任一者，且y可满足下列条件:y≤1。
光路转折元件的光线吸收膜层可进一步包含第一抗反射膜。第一抗反射膜用以降低反射率。第一抗反射膜可避免杂散光于光路转折元件的内部反射。具体来说，第一抗反射膜可包含一第一高折射率层与一第一低折射率层。第一高折射率层的折射率大于第一低折射率层，且第一高折射率层与第一低折射率层交替堆叠。第一高折射率层的主要成分可为TiO2(二氧化钛)，且第一低折射率层的主要成分可为SiO2(二氧化硅)。第一抗反射膜利用薄膜干涉原理降低反射率。借此，可避免杂散光于光路转折元件的内部反射。其中，光线吸收膜层的第一抗反射膜以及吸光膜可自光学表面朝远离光路转折元件的方向上依序排列。或者也可以说，第一抗反射膜可相对吸光膜靠近光路转折元件的主体。
光路转折元件的光线吸收膜层可进一步包含中介层。中介层可设置于第一抗反射膜与吸光膜之间。中介层的主要成分可与第一高折射率层的主要成分或第一低折射率层的主要成分相同。借此，可提高吸光膜的连接稳定性。其中，中介层的主要成分可为SiO2。
光路转折元件的光线吸收膜层可进一步包含第二抗反射膜。第二抗反射膜可相对吸光膜远离光路转折元件的主体，且第二抗反射膜可包含第二高折射率层以及第二低折射率层。第二高折射率层的折射率大于第二低折射率层，且第二高折射率层可与第二低折射率层交替堆叠。第二高折射率层的主要成分可为TiO2，且第二低折射率层的主要成分可为SiO2。第二抗反射膜可避免杂散光线于光路转折元件的外表面反射，也可作为吸光膜的保护层来避免吸光膜氧化。
光路转折元件的材料可为塑胶。借此，有助于大量生产。
光路转折元件的至少部分光学表面的边缘可具有阶差结构。阶差结构使光学表面相对其周边的区域凸起或凹陷。阶差结构有助于提升光学表面的成型品质。请参照图9、图14与图23，绘示有阶差结构314。
光路转折元件的光学表面的边缘轮廓可具有多个突出部。其中，入射面、反射面以及出射面其中任一者的边缘轮廓可具有多个突出部。突出部使光学表面的局部边缘轮廓朝远离光学表面中心的方向延伸。借此，有助于提升成像品质。其中，反射面的边缘轮廓可具有多个突出部，且突出部使反射面的局部边缘轮廓朝远离反射面中心的方向延伸。请参照图13、图14与图17，分别绘示有突出部315、316。
光路转折元件更可包含第二反射面。第二反射面用于反射光线，以使光线的行进方向改变。借此，有助于成像镜头模块的微型化设计。
本揭示的另一实施例揭露一种成像镜头模块，包含上述的光路转折元件、第一透镜组以及成像面。第一透镜组设置于光路转折元件的物侧，且第一透镜组包含第一透镜以及第一遮光件。第一透镜包含一第一光学有效部，且光线可通过第一光学有效部。第一遮光件具有第一通光孔。第一通光孔与光路转折元件对应设置，且光线可通过第一通光孔。第一通光孔为第一透镜组中的最小通光孔。成像面接收来自于光路转折元件的光线。第一遮光件可为镜筒、遮光片、间隔环或固定环等具有通光孔的不透光元件。
本揭示的成像镜头模块中，第一通光孔的最小孔径为φ1，第一通光孔与光路转折元件之间的最短垂直距离为D1，其满足下列条件：0.2≤φ1/(D1+1)≤9。借此，有助于有效阻挡杂散光。请参照图3、图21与图31，绘示有参数φ1与D1。
本揭示的成像镜头模块可进一步包含第二透镜组。第二透镜组设置于光路转折元件的像侧，且第二透镜组包含第二透镜以及第二遮光件。第二透镜包含第二光学有效部，且光线可通过第二光学有效部。第二遮光件具有第二通光孔。第二通光孔与光路转折元件对应设置，且光线可通过第二通光孔。第二通光孔为第二透镜组中的最小通光孔。第二遮光件可为镜筒、遮光片、间隔环或固定环等具有通光孔的不透光元件。第二透镜组可相对成像面移动，以提供成像镜头模块光学影像稳定或者自动对焦功能。由于使用光路转折元件的成像镜头模块可能有较长的光程，因此通过第一遮光件、光线吸收膜层、第二遮光件的多次遮光，可减少杂散光线到达成像面的机率。
本揭示的成像镜头模块中，第二通光孔的最小孔径为φ2，第二通光孔与光路转折元件之间的最短垂直距离为D2，其可满足下列条件：0.3≤φ2/(D2+1)≤12。借此，能有效阻挡杂散光。请参照图3与图31，绘示有参数φ2与D2。
本揭示的成像镜头模块可进一步包含第二光路转折元件。第二光路转折元件设置于第二透镜组的像侧。第二光路转折元件用于反射光线至成像面。使用多个光路转折元件多次折叠光线，有助于成像镜头模块的微型化设计。其中，第二光路转折元件也可设置有光线吸收膜层。当成像镜头模块包含多个光路转折元件时，光线吸收膜层可优先设置于与透镜组距离较近的光路转折元件。
本揭示的又另一实施例揭露一种电子装置，包含上述的光路转折元件。
本揭示的光路转折元件中，所述一物件的主要成分表示此成分在此物件中所占重量百分比大于50wt％。举例来说，当描述到光线吸收膜层的吸光膜包含金属层，且金属层的主要成分为铬金属，则代表铬金属在金属层中所占重量百分比大于50wt％，例如金属层为60wt％铬金属与40wt％镍所组成的合金。
上述本揭示所揭露的光路转折元件、成像镜头模块以及电子装置中的各技术特征皆可组合配置，而达到对应的功效。
根据上述实施方式，以下提出具体实施例并配合附图予以详细说明。
<第一实施例>
请参照图1至图6，其中图1绘示依照本揭示第一实施例的成像镜头模块的立体示意图，图2为图1的成像镜头模块的分解示意图，图3为图1的成像镜头模块的剖切示意图，图4为图1的成像镜头模块的光路转折元件的立体示意图，图5为图4的光路转折元件沿线5-5的剖切示意图，且图6为图5的光路转折元件沿线6-6的剖切示意图。为清楚示意配置上的相对关系，部分元件被省略或被简化处理。
本实施例的成像镜头模块1沿光路的行进方向依序包含第一透镜组10、光路转折元件30、第二透镜组20、第二光路转折元件40以及成像面50。
第一透镜组10设置于光路转折元件30的物侧。第一透镜组10包含第一透镜110以及第一遮光件120。图3绘示出单片第一透镜110，但第一透镜110的数量并不以此为限。第一透镜110包含第一光学有效部111，且光线能通过第一光学有效部111。第一遮光件120例如但不限于是固定环，其具有第一通光孔121。其中，第一遮光件120也可为镜筒、遮光片或间隔环等实体为不透光的元件。第一通光孔121与光路转折元件30对应设置，且光线可通过第一通光孔121。第一通光孔121为第一透镜组10中的最小通光孔。
第二透镜组20设置于光路转折元件30的像侧。第二透镜组20包含第二透镜210以及第二遮光件220。图3绘示出多片第二透镜210，但第二透镜210的数量并不以此为限。各个第二透镜210包含第二光学有效部211，且光线能通过第二光学有效部211。第二遮光件220例如但不限于是遮光片，其具有第二通光孔221。其中，第二遮光件220也可为镜筒、间隔环或固定环等实体为不透光的元件。第二通光孔221与光路转折元件30对应设置，且光线可通过第二通光孔221。第二通光孔221为第二透镜组20中的最小通光孔。第二透镜组20可相对成像面50移动，以提供成像镜头模块1具有光学影像稳定或者自动对焦功能。
光路转折元件30设置于第一透镜组10和第二透镜组20之间。进一步来说，光路转折元件30可包含作为玻璃制棱镜的主体39，其设置于第一透镜组10的像侧且设置于第二透镜组20的物侧。主体39具有光学表面310，且光学表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光线由入射面311进入光路转折元件30。反射面312用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面313离开光路转折元件30。
在本实施例中，光路转折元件30还包含用于降低反射率的光线吸收膜层320。光线吸收膜层320与至少部分光学表面310相邻设置，且光线吸收膜层320与光路转折元件30的主体39实体接触。详细来说，光线吸收膜层320与光学表面310的反射面312相邻设置，且光线吸收膜层320与光学表面310以外的主体39的其他表面区域实体接触。
在本实施例中，光线吸收膜层320包含吸光膜321。吸光膜321包含金属层，且金属层的主要成分为铬金属。吸光膜321可呈深色外观且可吸收可见光。
在本实施例中，光线吸收膜层320还包含第一抗反射膜322。如图6所示，第一抗反射膜322相对吸光膜321靠近光路转折元件30的主体39。第一抗反射膜322包含第一高折射率层与第一低折射率层，且第一高折射率层与第一低折射率层交替堆叠。第一高折射率层的主要成分可为TiO2，且第一低折射率层的主要成分可为SiO2。
在本实施例中，光线吸收膜层320还包含中介层323。如图6所示，中介层323设置于第一抗反射膜322与吸光膜321之间。中介层323的主要成分与第一高折射率层的主要成分或第一低折射率层的主要成分相同。
在本实施例中，光线吸收膜层320还包含第二抗反射膜324。如图6所示，第二抗反射膜324相对吸光膜321远离光路转折元件30的主体39。第二抗反射膜324包含第二高折射率层与第二低折射率层，且第二高折射率层与第二低折射率层交替堆叠。第二高折射率层的主要成分可为TiO2，且第二低折射率层的主要成分可为SiO2。
在本实施例中，光路转折元件30还包含消光结构330，且消光结构330与至少部分光学表面310相邻设置。消光结构330使光路转折元件30的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构330与光路转折元件30的主体39一体成型。在本实施例中，消光结构330的凹凸起伏为不规则设置，如磨砂表面。光线吸收膜层320设置于消光结构330上，且光线吸收膜层320和消光结构330皆与光学表面310的反射面312相邻设置。
第二光路转折元件40设置于第二透镜组20的像侧，其用于反射光线至成像面50，以使光线的行进方向改变。如图3所示，光路沿第一光轴OA1经过第一透镜组10以及光路转折元件30的入射面311至反射面312上。反射面312将光路由第一光轴OA1转折至第二光轴OA2。光路沿第二光轴OA2经过出射面313以及第二透镜组20至第二光路转折元件40的反射面412。反射面412将光路由第二光轴OA2转折至第三光轴OA3。光路沿第三光轴OA3离开第二光路转折元件40至成像面50上。
图1至图3绘示出第二光路转折元件40的光学表面上没有设置光线吸收膜层，但本揭示并不以此为限。在其他实施例中，第二光路转折元件的光学表面(例如反射面412)也可设置有光线吸收膜层。
在本实施例揭示的第一透镜组10中，第一通光孔121的最小孔径为φ1，第一通光孔121与光路转折元件30之间的最短垂直距离为D1，其满足下列条件：φ1＝4.82公厘(mm)；D1＝1.81mm；且φ1/(D1+1)＝1.72。
在本实施例揭示的第二透镜组20中，第二通光孔221的最小孔径为φ2，第二通光孔221与光路转折元件30之间的最短垂直距离为D2，其满足下列条件：φ2＝4.79mm；D2＝5.1mm；且φ2/(D2+1)＝0.79。
<第二实施例>
请参照图7至图10，其中图7绘示依照本揭示第二实施例的光路转折元件的立体示意图，图8为图7的光路转折元件另一侧的立体示意图，图9为图8的光路转折元件的局部A的放大示意图，且图10为图7的光路转折元件沿线10-10的剖切示意图。本实施例的光路转折元件30a可应用于图1的成像镜头模块1。进一步来说，光路转折元件30a可用来替换图1中的光路转折元件30或第二光路转折元件40。
光路转折元件30a可包含作为塑胶制棱镜的主体39a，且主体39a具有光学表面310。光学表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光线由入射面311进入光路转折元件30a。反射面312用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面313离开光路转折元件30a。
在本实施例中，光路转折元件30a还包含用于降低反射率的光线吸收膜层320。光线吸收膜层320与至少部分光学表面310相邻设置，且光线吸收膜层320与光路转折元件30a的主体39a实体接触。详细来说，光线吸收膜层320与光学表面310的入射面311、反射面312以及出射面313相邻设置，且光线吸收膜层320与光学表面310以外的主体39a的其他表面区域实体接触。
在本实施例中，光路转折元件30a还包含消光结构330，且消光结构330与至少部分光学表面310相邻设置。消光结构330使光路转折元件30a的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构330与光路转折元件30a的主体39a一体成型。进一步来说，可通过射出成型工艺使主体39a与消光结构330一体成型。在本实施例中，消光结构330的凹凸起伏为规则设置，如图9中所示的阵列式排列的多个四角锥状凸起。光线吸收膜层320设置于消光结构330上，且光线吸收膜层320和消光结构330皆与光学表面310的反射面312相邻设置。
在本实施例中，光路转折元件30a的至少部分光学表面310的边缘具有阶差结构314。阶差结构314使光学表面310相对周边的区域凸起。如图9所示，反射面312的边缘具有阶差结构314，且反射面312相对周边的消光结构330凸起。
<第三实施例>
请参照图11至图15，其中图11绘示依照本揭示第三实施例的光路转折元件的立体示意图，图12为图11的光路转折元件另一侧的立体示意图，图13为图11的光路转折元件的局部B的放大示意图，图14为图12的光路转折元件的局部C的放大示意图，且图15为图11的光路转折元件沿线15-15的剖切示意图。
本实施例的光路转折元件30b可应用于图1的成像镜头模块1。进一步来说，光路转折元件30b可用来替换图1中的光路转折元件30或第二光路转折元件40。
光路转折元件30b可包含作为塑胶制棱镜的主体39b，且主体39b具有光学表面310。光学表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光线由入射面311进入光路转折元件30b。反射面312用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面313离开光路转折元件30b。
在本实施例中，光路转折元件30b还包含用于降低反射率的光线吸收膜层320。光线吸收膜层320与至少部分光学表面310相邻设置，且光线吸收膜层320与光路转折元件30b的主体39b实体接触。详细来说，光线吸收膜层320与光学表面310的入射面311、反射面312以及出射面313相邻设置，且光线吸收膜层320与光学表面310以外的主体39b的其他表面区域均实体接触。
在本实施例中，光路转折元件30b还包含消光结构330，且消光结构330与至少部分光学表面310相邻设置。消光结构330使光路转折元件30b的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构330与光路转折元件30b的主体39b一体成型。在本实施例中，消光结构330的凹凸起伏为规则设置，如图11中所示的按固定间隔线性排列的多个条状凹陷。光线吸收膜层320设置于消光结构330上，且光线吸收膜层320和消光结构330皆与光学表面310的反射面312和出射面313相邻设置。
在本实施例中，光路转折元件30b的至少部分光学表面310的边缘具有阶差结构314。阶差结构314使光学表面310相对周边的区域凸起。如图14所示，反射面312的边缘具有阶差结构314，且反射面312相对周边的消光结构330凸起。
在本实施例中，光路转折元件30b的光学表面310的边缘轮廓具有多个突出部315、316。突出部315、316使光学表面310的局部边缘轮廓朝远离光学表面310中心的方向延伸。如图13所示，出射面313的边缘轮廓具有突出部315。突出部315使出射面313的局部边缘轮廓朝远离出射面313中心的方向延伸。如图14所示，反射面312的边缘轮廓具有突出部316。突出部316使反射面312的局部边缘轮廓朝远离反射面312中心的方向延伸。突出部315、316分别使出射面313和反射面312的边缘轮廓呈现波浪状。
<第四实施例>
请参照图16至图18，其中图16绘示依照本揭示第四实施例的成像镜头模块的剖切示意图，图17为图16的成像镜头模块的光路转折元件的立体示意图，且图18为图17的光路转折元件沿线18-18的剖切示意图。
本实施例的成像镜头模块1a沿光路的行进方向依序包含第一透镜组10、光路转折元件30c、第二透镜组20、第二光路转折元件40以及成像面50。
第一透镜组10设置于光路转折元件30c的物侧。第一透镜组10包含第一透镜110以及第一遮光件120。图16绘示出单片第一透镜110，但第一透镜110的数量并不以此为限。第一透镜110包含第一光学有效部111，且光线能通过第一光学有效部111。第一遮光件120具有第一通光孔121。第一通光孔121与光路转折元件30c对应设置，且光线可通过第一通光孔121。
第二透镜组20设置于光路转折元件30c的像侧。第二透镜组20包含第二透镜210以及第二遮光件220。图16绘示出多片第二透镜210，但第二透镜210的数量并不以此为限。各个第二透镜210包含第二光学有效部211，且光线能通过第二光学有效部211。第二遮光件220具有第二通光孔221。第二通光孔221与光路转折元件30c对应设置，且光线可通过第二通光孔221。第二透镜组20可相对成像面50移动，以提供成像镜头模块1a具有光学影像稳定或者自动对焦功能。
光路转折元件30c设置于第一透镜组10和第二透镜组20之间。进一步来说，光路转折元件30c设置于第一透镜组10的像侧且设置于第二透镜组20的物侧。光路转折元件30c可包含作为平面反射镜的主体39c，且主体39c具有反射面312，但不包含入射面311以及出射面313。换句话说，光路转折元件30c的光学表面为单一表面(反射面312)。反射面312用于反射光线，以使光线的行进方向改变。此外，反射面312镀有反射膜3121以反射光线，且反射膜3121的主要成分可包含铝。
在本实施例中，光路转折元件30c还包含用于降低反射率的光线吸收膜层320。光线吸收膜层320与反射面312相邻设置，且光线吸收膜层320与光路转折元件30c的主体39c实体接触。
在本实施例中，光路转折元件30c的反射面312的边缘轮廓具有多个突出部316。突出部316使反射面312的局部边缘轮廓朝远离反射面312中心的方向延伸。
第二光路转折元件40设置于第二透镜组20的像侧，其用于反射光线至成像面50，以使光线的行进方向改变。如图16所示，光路沿第一光轴OA1经过第一透镜组10至光路转折元件30c的反射面312上。反射面312将光路由第一光轴OA1转折至第二光轴OA2。光路沿第二光轴OA2经过第二透镜组20至第二光路转折元件40的反射面412。反射面412将光路由第二光轴OA2转折至第三光轴OA3。光路沿第三光轴OA3离开第二光路转折元件40至成像面50上。
<第五实施例>
请参照图19至图28，其中图19绘示依照本揭示第五实施例的成像镜头模块的立体示意图，图20为图19的成像镜头模块的分解示意图，图21为图19的成像镜头模块的剖切示意图，图22为图19的成像镜头模块的光路转折元件的立体示意图，图23为图22的光路转折元件的局部D的放大示意图，图24和图25为图22的光路转折元件沿线24-24的剖切示意图，图26为图22的光路转折元件沿线26-26的剖切示意图，图27为图26的光路转折元件的局部E的放大示意图，且图28为图25的光路转折元件沿线28-28的剖切示意图。
本实施例的成像镜头模块2沿光路的行进方向依序包含第一透镜组10、光路转折元件30d、成像面50以及固定件60。第一透镜组10和光路转折元件30d承载于固定件60上。
第一透镜组10设置于光路转折元件30d的物侧。第一透镜组10包含第一透镜110以及第一遮光件120。图21绘示出多片第一透镜110，但第一透镜110的数量并不以此为限。各个第一透镜110包含第一光学有效部111，且光线能通过第一光学有效部111。第一遮光件120具有第一通光孔121。第一通光孔121与光路转折元件30d对应设置，且光线可通过第一通光孔121。第一通光孔121为第一透镜组10中的最小通光孔。
光路转折元件30d设置于第一透镜组10和成像面50之间。进一步来说，光路转折元件30d设置于第一透镜组10的像侧。光路转折元件30d可包含作为塑胶制棱镜的主体39d，且主体39d具有光学表面310。光学表面310包含入射面311、反射面312、反射面312d以及出射面313。光线由入射面311进入光路转折元件30d。反射面312、312d用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面313离开光路转折元件30d。在本实施例中，反射面312镀有反射膜以反射光线，且反射膜的主要成分可包含铝。反射面312d借由全内反射使光线的行进方向改变。
在本实施例中，光路转折元件30d还包含用于降低反射率的光线吸收膜层320。光线吸收膜层320与至少部分光学表面310相邻设置，且光线吸收膜层320与光路转折元件30d的主体39d实体接触。详细来说，光线吸收膜层320与光学表面310的入射面311、反射面312、312d以及出射面313相邻设置，且光线吸收膜层320与光学表面310以外的主体39d的其他表面区域实体接触。
在本实施例中，光线吸收膜层320包含吸光膜321。吸光膜321包含金属层，且金属层的主要成分为铬金属。吸光膜321可呈深色外观且可吸收可见光。
在本实施例中，光线吸收膜层320还包含第一抗反射膜322。如图28所示，第一抗反射膜322相对吸光膜321靠近光路转折元件30d的主体39d。第一抗反射膜322包含第一高折射率层与第一低折射率层，且第一高折射率层与第一低折射率层交替堆叠。第一高折射率层的主要成分可为TiO2，且第一低折射率层的主要成分可为SiO2。
在本实施例中，光线吸收膜层320还包含中介层323。如图28所示，中介层323设置于第一抗反射膜322与吸光膜321之间。中介层323的主要成分与第一高折射率层的主要成分或第一低折射率层的主要成分相同。
在本实施例中，光路转折元件30d还包含消光结构330，且消光结构330与至少部分光学表面310相邻设置。消光结构330使光路转折元件30d的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构330与光路转折元件30d的主体39d一体成型。在本实施例中，消光结构330的凹凸起伏为规则设置，如按固定间隔线性排列的多个条状凹陷。光线吸收膜层320设置于消光结构330上，且光线吸收膜层320和消光结构330皆与光学表面310的反射面312相邻设置。
在本实施例中，光路转折元件30d的至少部分光学表面310的边缘具有阶差结构314。阶差结构314使光学表面310相对周边的区域凹陷。如图23所示，反射面312的边缘具有阶差结构314，且反射面312相对周边的消光结构330凹陷。
在本实施例中，光路转折元件30d的主体39d的通光区域具有多个突出部317。如图27所示，突出部317使光路转折元件30d的主体39d的局部截面的边缘轮廓呈现波浪状，而有助于减少杂散光。
如图21所示，光路沿第一光轴OA1经过第一透镜组10以及光路转折元件30d的入射面311至反射面312上。反射面312将光路由第一光轴OA1转折至第二光轴OA2。光路沿第二光轴OA2行进至反射面312d，且反射面312d将光路由第二光轴OA2转折至第三光轴OA3。光路沿第三光轴OA3行进至另一反射面312d，且反射面312d将光路由第三光轴OA3转折至第四光轴OA4。光路沿第四光轴OA4行进至另一反射面312，且反射面312将光路由第四光轴OA4转折至第五光轴OA5。光路沿第五光轴OA5离开光路转折元件30d至成像面50。简而言之，光线于光路转折元件30d内进行四次反射，其中在反射面312d发生全内反射。
在本实施例揭示的第一透镜组10中，第一通光孔121的最小孔径为φ1，第一通光孔121与光路转折元件30d之间的最短垂直距离为D1，其满足下列条件：φ1＝4.85mm；D1＝1.11mm；且φ1/(D1+1)＝2.30。
<第六实施例>
请参照图29至图35，其中图29绘示依照本揭示第六实施例的成像镜头模块的立体示意图，图30为图29的成像镜头模块的分解示意图，图31为图29的成像镜头模块的剖切示意图，图32为图29的成像镜头模块的光路转折元件的立体示意图，图33为图32的光路转折元件的局部F的放大示意图，图34为图32的光路转折元件沿线34-34的剖切示意图，且图35为图34的光路转折元件沿线35-35的剖切示意图。
本实施例的成像镜头模块3沿光路的行进方向依序包含第一透镜组10、光路转折元件30e、第二透镜组20以及成像面50。
第一透镜组10设置于光路转折元件30e的物侧。第一透镜组10包含第一透镜110以及第一遮光件120。图31绘示出多片第一透镜110，但第一透镜110的数量并不以此为限。各个第一透镜110包含第一光学有效部111，且光线能通过第一光学有效部111。第一遮光件12具有第一通光孔121。第一通光孔121与光路转折元件30e对应设置，且光线可通过第一通光孔121。第一通光孔121为第一透镜组10中的最小通光孔。
第二透镜组20设置于光路转折元件30e的像侧。第二透镜组20包含第二透镜210以及第二遮光件220。图31绘示出多片第二透镜210，但第二透镜210的数量并不以此为限。各个第二透镜210包含第二光学有效部211，且光线能通过第二光学有效部211。第二遮光件220具有第二通光孔221。第二通光孔221与光路转折元件30e对应设置，且光线可通过第二通光孔221。第二通光孔221为第二透镜组20中的最小通光孔。
光路转折元件30e设置于第一透镜组10和第二透镜组20之间。进一步来说，光路转折元件30e设置于第一透镜组10的像侧且设置于第二透镜组20的物侧。光路转折元件30e可包含作为塑胶制棱镜的主体39e，且主体39e具有光学表面310。光学表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光线由入射面311进入光路转折元件30e。反射面312用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面313离开光路转折元件30e。
在本实施例中，光路转折元件30e还包含用于降低反射率的光线吸收膜层320。光线吸收膜层320与至少部分光学表面310相邻设置，且光线吸收膜层320与光路转折元件30e的主体39e实体接触。详细来说，光线吸收膜层320与光学表面310的入射面311及反射面312相邻设置，且光线吸收膜层320与光学表面310以外的主体39e的其他表面区域实体接触。
在本实施例中，光线吸收膜层320包含吸光膜，且吸光膜包含金属层3211以及氧化金属层3212，且吸光膜321可由金属层3211与氧化金属层3212堆叠而成。金属层3211的主要成分为铬金属，氧化金属层3212的主要成分为MOy。其中，M为钽金属、钛金属和铬金属中的任一者，且y满足下列条件：y≤1。吸光膜321可呈深色外观且可吸收可见光。
在本实施例中，光路转折元件30e还包含消光结构330，且消光结构330与至少部分光学表面310相邻设置。消光结构330使光路转折元件30e的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构330与光路转折元件30e的主体39e一体成型。在本实施例中，消光结构330的凹凸起伏为规则设置，如按固定间隔线性排列的多个条状凹陷。光线吸收膜层320设置于消光结构330上，且消光结构330与光学表面310的反射面312相邻设置。
如图31所示，光路沿第一光轴OA1经过第一透镜组10以及光路转折元件30的入射面311至反射面312上。反射面312将光路由第一光轴OA1转折至第二光轴OA2。光路沿第二光轴OA2经过出射面313以及第二透镜组20至成像面50上。
在本实施例揭示的第一透镜组10中，第一通光孔121的最小孔径为φ1，第一通光孔121与光路转折元件30e之间的最短垂直距离为D1，其满足下列条件：φ1＝1.96mm；D1＝1.11mm；且φ1/(D1+1)＝0.93。
在本实施例揭示的第二透镜组20中，第二通光孔221的最小孔径为φ2，第二通光孔221与光路转折元件30e之间的最短垂直距离为D2，其满足下列条件：φ2＝3.92mm；D2＝0.14mm；且φ2/(D2+1)＝3.44。
<第七实施例>
请参照图36至图45，其中图36绘示依照本揭示第七实施例的成像镜头模块的立体示意图，图37为图36的成像镜头模块的剖切示意图，图38为图37的成像镜头模块的第一光路转折元件的示意图，图39为图38的第一光路转折元件的立体示意图，图40为图39的第一光路转折元件另一侧的立体示意图，图41为图39的第一光路转折元件的局部G的放大示意图，图42为图40的第一光路转折元件另一侧的局部H的放大示意图，图43为图37的成像镜头模块的第二光路转折元件的示意图，图44为图43的第二光路转折元件的立体示意图，且图45为图44的第二光路转折元件另一侧的立体示意图。
本实施例的成像镜头模块4沿光路的行进方向依序包含光路转折元件30f、第二光路转折元件40f、第一透镜组10以及成像面50。
第一透镜组10包含第一透镜110以及第一遮光件120。图37绘示出多片第一透镜110，但第一透镜110的数量并不以此为限。各个第一透镜110包含第一光学有效部111，且光线能通过第一光学有效部111。第一遮光件120具有第一通光孔121。第一通光孔121与第二光路转折元件40f对应设置，且光线可通过第一通光孔121。
光路转折元件30f和第二光路转折元件40f设置于第一透镜组10的物侧。进一步来说，光路转折元件30f设置于第一透镜组10的物侧且设置于第二光路转折元件40f的物侧。此外，第二光路转折元件40f设置于光路转折元件30f和第一透镜组10之间。进一步来说，第二光路转折元件40f设置于第一透镜组10的物侧且设置于光路转折元件30f的像侧。光路转折元件30f和第二光路转折元件40f可各自包含作为玻璃片或塑胶片的主体39f和49f。
光路转折元件30f的主体39f和第二光路转折元件40f的主体49f各自具有光学表面310，且光学表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光线由入射面311进入光路转折元件30f(或第二光路转折元件40f)。反射面312用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面313离开光路转折元件30f(或第二光路转折元件40f)。反射面312镀有反射膜3121以反射光线，且反射膜3121的主要成分可包含铝。在本实施例中，光路转折元件30f的反射面312在近光轴处，且第二光路转折元件40f的反射面312在离轴处。
在本实施例中，光路转折元件30f和第二光路转折元件40f各自包含用于降低反射率的光线吸收膜层320。光线吸收膜层320与光路转折元件30f的主体39f或第二光路转折元件40f的主体49f实体接触。
在本实施例中，光路转折元件30f还包含消光结构330，且消光结构330与至少部分光学表面310相邻设置。消光结构330使光路转折元件30f的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构330与光路转折元件30f的主体39f一体成型。在本实施例中，消光结构330的凹凸起伏为规则设置。如图39和图41所示，消光结构330包含围绕反射面312排列的多个条状凹陷。如图40和图42所示，消光结构330进一步包含围绕出射面313排列的多个条状凸起。光线吸收膜层320设置于消光结构330上，且消光结构330与反射面312和出射面313相邻设置。
在本实施例中，第二光路转折元件40f还包含消光结构330，且消光结构330与至少部分光学表面310相邻设置。消光结构330使第二光路转折元件40f的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构330与第二光路转折元件40f的主体49f一体成型。如图45所示，消光结构330包含围绕出射面313排列的多个条状凹陷。
如图37所示，光路经过光路转折元件30f至第二光路转折元件40f的反射面312上。反射面312将光路转折，以使光路经过第二光路转折元件40f的入射面311以及光路转折元件30f的出射面313至光路转折元件30f的反射面312。光路转折元件30f的反射面312将光路再次转折，以使光路经过光路转折元件30f的出射面313、第二光路转折元件40f的出射面313以及第一透镜组10至成像面50上。
<第八实施例>
请参照图46，绘示依照本揭示第八实施例的一种电子装置的一侧的立体示意图。
在本实施例中，电子装置200为一智能手机。电子装置200包含取像装置100、取像装置100a、取像装置100b以及取像装置100c。取像装置100、取像装置100a、取像装置100b与取像装置100c皆配置于电子装置200的同一侧。取像装置100包含本揭示第一实施例的成像镜头模块1，且取像装置100可因光路转折元件的设置而可成为一折叠光学***。取像装置100也包含本揭示其他实施例的成像镜头模块2～4，本揭示不以此为限。并且，取像装置100a、取像装置100b与取像装置100c皆可包含本揭示的成像镜头模块且皆可具有与取像装置100类似的结构配置的折叠光学***，在此不再加以赘述。
取像装置100为具有光路转折元件(例如第一实施例的光路转折元件30以及第二光路转折元件40)的一超望远取像装置，取像装置100a为一望远取像装置，取像装置100b为一广角取像装置，且取像装置100c为一超广角取像装置。本实施例的取像装置100、取像装置100a、取像装置100b与取像装置100c具有相异的视角，使电子装置200可提供不同的放大倍率，以达到光学变焦的拍摄效果。具体来说，取像装置100的视角可为5度至30度，取像装置100a的视角可为30度至60度，取像装置100b的视角可为65度至90度，且取像装置100c的视角可为93度至175度。取像装置的具体视角仅作为举例说明，本揭示并不以此为限。
上述电子装置200以包含多个取像装置100、100a、100b、100c为例，但取像装置的数量与配置并非用以限制本揭示。当使用者拍摄被摄物时，电子装置200利用取像装置100、取像装置100a、取像装置100b或取像装置100c聚光取像。
<第九实施例>
请参照图47至图49，其中图47绘示依照本揭示第九实施例的一种电子装置的一侧的立体示意图，图48绘示图47的电子装置的另一侧的立体示意图，且图49绘示图47的电子装置的***方块图。
在本实施例中，电子装置300为一智能手机。电子装置300包含取像装置100、取像装置100d、取像装置100e、取像装置100f、取像装置100g、取像装置100h、闪光灯模块301、对焦辅助模块302、影像信号处理器303(Image Signal Processor)、显示模块304以及影像软件处理器305。取像装置100、取像装置100d及取像装置100e皆配置于电子装置300的同一侧。对焦辅助模块302可采用激光测距或飞时测距(Time of Flight，ToF)模块，但本揭示并不以此为限。取像装置100f、取像装置100g、取像装置100h及显示模块304皆配置于电子装置300的另一侧，并且显示模块304可为使用者界面，以使取像装置100f、取像装置100g及取像装置100h可作为前置镜头以提供自拍功能，但本揭示并不以此为限。并且，取像装置100、取像装置100d、取像装置100e、取像装置100f、取像装置100g及取像装置100h皆可包含本揭示的光路转折元件。详细来说，取像装置100、取像装置100d、取像装置100e、取像装置100f、取像装置100g及取像装置100h各可包含本揭示的成像镜头模块、一驱动装置、一电子感光元件以及一影像稳定模块，并且各可包含光路转折元件。
取像装置100为一望远取像装置，取像装置100d为一广角取像装置，取像装置100e为一超广角取像装置，取像装置100f为一广角取像装置，取像装置100g为一超广角取像装置，且取像装置100h为一飞时测距取像装置。本实施例的取像装置100、取像装置100d与取像装置100e具有相异的视角，使电子装置300可提供不同的放大倍率，以达到光学变焦的拍摄效果。另外，取像装置100h可取得影像的深度信息。上述电子装置300以包含多个取像装置100、100d、100e、100f、100g、100h为例，但取像装置的数量与配置并非用以限制本揭示。
当使用者拍摄被摄物306时，电子装置300利用取像装置100、取像装置100d或取像装置100e聚光取像，启动闪光灯模块301进行补光，并使用对焦辅助模块302提供的被摄物306的物距信息进行快速对焦，再加上影像信号处理器303进行影像最佳化处理，来进一步提升折叠光学***所产生的影像品质。对焦辅助模块302可采用红外线或激光对焦辅助***来达到快速对焦。此外，电子装置300也可利用取像装置100f、取像装置100g或取像装置100h进行拍摄。显示模块304可采用触控屏幕，配合影像软件处理器305的多样化功能进行影像拍摄以及影像处理(或可利用实体拍摄按钮进行拍摄)。通过影像软件处理器305处理后的影像可显示于显示模块304。
本揭示的取像装置并不以应用于智能手机为限。取像装置更可视需求应用于移动对焦的***，并兼具优良像差修正与良好成像品质的特色。举例来说，取像装置可多方面应用于三维(3D)影像撷取、数字相机、移动装置、平板计算机、智能电视、网络监控设备、行车记录仪、倒车显影装置、多镜头装置、辨识***、体感游戏机与穿戴式装置等电子装置中。前述电子装置仅是示范性地说明本揭示的实际运用例子，并非限制本揭示的取像装置的运用范围。
虽然本揭示以前述的较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本揭示，任何本领域技术人员，在不脱离本揭示的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本揭示的专利保护范围须视本说明书所附的权利要求所界定者为准。

Claims (39)

1.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
一主体，具有一光学表面，且所述光学表面包含：
一入射面，一光线由所述入射面进入所述光路转折元件；
一反射面，用于反射所述光线以使所述光线的行进方向改变；以及
一出射面，所述光线由所述出射面离开所述光路转折元件；
一光线吸收膜层，用于降低反射率，所述光线吸收膜层与至少部分的所述光学表面相邻设置，且所述光线吸收膜层与所述光路转折元件的所述主体实体接触；以及
一消光结构，与至少部分的所述光学表面相邻设置；
其中，所述消光结构使所述光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏，且所述消光结构与所述光路转折元件的所述主体一体成型。
2.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层与所述反射面相邻设置。
3.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，至少部分的所述光学表面的边缘具有一阶差结构，所述阶差结构使所述光学表面相对于其周边的区域凸起或凹陷。
4.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层包含一吸光膜，且所述吸光膜包含一金属层。
5.根据权利要求4所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层还包含一第一抗反射膜，所述第一抗反射膜相对所述吸光膜靠近所述光路转折元件的所述主体，所述第一抗反射膜包含一第一高折射率层以及一第一低折射率层，所述第一高折射率层的折射率大于所述第一低折射率层，且所述第一高折射率层与所述第一低折射率层交替堆叠。
6.根据权利要求5所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层还包含一中介层，所述中介层设置于所述第一抗反射膜与所述吸光膜之间，所述中介层的主要成分与所述第一高折射率层的主要成分或所述第一低折射率层的主要成分相同。
7.根据权利要求5所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层还包含一第二抗反射膜，所述第二抗反射膜相对所述吸光膜远离所述光路转折元件的所述主体，所述第二抗反射膜包含一第二高折射率层以及一第二低折射率层，所述第二高折射率层的折射率大于所述第二低折射率层，且所述第二高折射率层与所述第二低折射率层交替堆叠。
8.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构与所述反射面相邻设置。
9.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构的凹凸起伏为规则设置。
10.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述入射面、所述反射面和所述出射面其中任一者的边缘轮廓具有多个突出部，所述突出部使所述光学表面的局部边缘轮廓朝远离所述光学表面中心的方向延伸。
11.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，还包含一第二反射面，所述第二反射面用于反射所述光线以使所述光线的行进方向改变。
12.一种成像镜头模块，其特征在于，包含：
根据权利要求1所述的光路转折元件；
一第一透镜组，设置于所述光路转折元件的物侧，所述第一透镜组包含：
一第一透镜，包含一第一光学有效部，所述光线通过所述第一光学有效部；以及
一第一遮光件，具有一第一通光孔，所述第一通光孔与所述光路转折元件对应设置，且所述光线通过所述第一通光孔；以及
一成像面，用于接收所述光线；
其中，所述第一通光孔为所述第一透镜组中的最小通光孔，所述第一通光孔的最小孔径为所述第一通光孔与所述光路转折元件之间的最短垂直距离为D1，其满足下列条件：
13.根据权利要求12所述的成像镜头模块，其特征在于，还包含：
一第二透镜组，设置于所述光路转折元件的像侧，所述第二透镜组包含：
一第二透镜，包含一第二光学有效部，所述光线通过所述第二光学有效部；以及
一第二遮光件，具有一第二通光孔，所述第二通光孔与所述光路转折元件对应设置，且所述光线通过所述第二通光孔；
其中，所述第二通光孔为所述第二透镜组中的最小通光孔，所述第二通光孔的最小孔径为所述第二通光孔与所述光路转折元件之间的最短垂直距离为D2，其满足下列条件：
14.根据权利要求13所述的成像镜头模块，其特征在于，还包含一第二光路转折元件，所述第二光路转折元件设置于所述第二透镜组的像侧。
15.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
一主体，具有一光学表面，且所述光学表面包含：
一入射面，一光线由所述入射面进入所述光路转折元件；
一反射面，用于反射所述光线以使所述光线的行进方向改变；以及
一出射面，所述光线由所述出射面离开所述光路转折元件；以及
一光线吸收膜层，用于降低反射率，所述光线吸收膜层与至少部分的所述光学表面相邻设置，且所述光线吸收膜层与所述光路转折元件的所述主体实体接触；
其中，所述光线吸收膜层自所述光学表面朝远离所述主体的方向上依序包含一第一抗反射膜以及一吸光膜，所述第一抗反射膜用以降低反射率，且所述吸光膜包含一金属层。
16.根据权利要求15所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层与所述反射面相邻设置。
17.根据权利要求15所述的光路转折元件，其特征在于，至少部分的所述光学表面的边缘具有一阶差结构，所述阶差结构使所述光学表面相对其周边的区域凸起或凹陷。
18.根据权利要求15所述的光路转折元件，其特征在于，所述第一抗反射膜包含一第一高折射率层以及一第一低折射率层，所述第一高折射率层的折射率大于所述第一低折射率层，且所述第一高折射率层与所述第一低折射率层交替堆叠。
19.根据权利要求18所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层还包含一中介层，所述中介层设置于所述第一抗反射膜与所述吸光膜之间，所述中介层的主要成分与所述第一高折射率层的主要成分或所述第一低折射率层的主要成分相同。
20.根据权利要求18所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层还包含一第二抗反射膜，所述第二抗反射膜相对所述吸光膜远离所述光路转折元件的所述主体，所述第二抗反射膜包含一第二高折射率层以及一第二低折射率层，所述第二高折射率层的折射率大于所述第二低折射率层，且所述第二高折射率层与所述第二低折射率层交替堆叠。
21.根据权利要求15所述的光路转折元件，其特征在于，还包含一消光结构，所述消光结构与至少部分的所述光学表面相邻设置以使所述光路转折元件的表面轮廓具有规则设置的凹凸起伏，且所述消光结构与所述光路转折元件的所述主体一体成型。
22.根据权利要求15所述的光路转折元件，其特征在于，还包含一第二反射面，所述第二反射面用于反射所述光线以使所述光线的行进方向改变。
23.一种成像镜头模块，其特征在于，包含：
根据权利要求15所述的光路转折元件；
一第一透镜组，设置于所述光路转折元件的物侧，所述第一透镜组包含：
一第一透镜，包含一第一光学有效部，所述光线通过所述第一光学有效部；以及
一第一遮光件，具有一第一通光孔，所述第一通光孔与所述光路转折元件对应设置，且所述光线通过所述第一通光孔；以及
一成像面，用于接收所述光线；
其中，所述第一通光孔为所述第一透镜组中的最小通光孔，所述第一通光孔的最小孔径为所述第一通光孔与所述光路转折元件之间的最短垂直距离为D1，其满足下列条件：
24.根据权利要求23所述的成像镜头模块，其特征在于，还包含：
一第二透镜组，设置于所述光路转折元件的像侧，所述第二透镜组包含：
一第二透镜，包含一第二光学有效部，所述光线通过所述第二光学有效部；以及
一第二遮光件，具有一第二通光孔，所述第二通光孔与所述光路转折元件对应设置，且所述光线通过所述第二通光孔；
其中，所述第二通光孔为所述第二透镜组中的最小通光孔，所述第二通光孔的最小孔径为所述第二通光孔与所述光路转折元件之间的最短垂直距离为D2，其满足下列条件：
25.根据权利要求24所述的成像镜头模块，其特征在于，还包含一第二光路转折元件，所述第二光路转折元件设置于所述第二透镜组的像侧。
26.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
一主体，具有一光学表面，且所述光学表面包含：
一入射面，一光线由所述入射面进入所述光路转折元件；
一反射面，用于反射所述光线以使所述光线的行进方向改变；以及
一出射面，所述光线由所述出射面离开所述光路转折元件；以及
一消光结构，与至少部分的所述光学表面相邻设置，所述消光结构使所述光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏，且所述消光结构与所述光路转折元件的所述主体一体成型；
其中，至少部分的所述光学表面的边缘具有一阶差结构，所述阶差结构使所述光学表面相对于其周边的区域凸起或凹陷。
27.根据权利要求26所述的光路转折元件，其特征在于，还包含：
一光线吸收膜层，用于降低反射率，所述光线吸收膜层与至少部分的所述光学表面相邻设置，且所述光线吸收膜层与所述光路转折元件的所述主体实体接触。
28.根据权利要求27所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层与所述反射面相邻设置。
29.根据权利要求27所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层包含一吸光膜，且所述吸光膜包含一金属层。
30.根据权利要求29所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层还包含一第一抗反射膜，所述第一抗反射膜相对所述吸光膜靠近所述光路转折元件的所述主体，所述第一抗反射膜包含一第一高折射率层以及一第一低折射率层，所述第一高折射率层的折射率大于所述第一低折射率层，且所述第一高折射率层与所述第一低折射率层交替堆叠。
31.根据权利要求30所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层还包含一中介层，所述中介层设置于所述第一抗反射膜与所述吸光膜之间，所述中介层的主要成分与所述第一高折射率层的主要成分或所述第一低折射率层的主要成分相同。
32.根据权利要求30所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线吸收膜层还包含一第二抗反射膜，所述第二抗反射膜相对所述吸光膜远离所述光路转折元件的所述主体，所述第二抗反射膜包含一第二高折射率层以及一第二低折射率层，所述第二高折射率层的折射率大于所述第二低折射率层，且所述第二高折射率层与所述第二低折射率层交替堆叠。
33.根据权利要求26所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构与所述反射面相邻设置。
34.根据权利要求26所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构的凹凸起伏为规则设置。
35.根据权利要求26所述的光路转折元件，其特征在于，所述反射面的边缘轮廓具有多个突出部，所述突出部使所述反射面的局部边缘轮廓朝远离所述光学表面中心的方向延伸。
36.一种成像镜头模块，其特征在于，包含：
根据权利要求26所述的光路转折元件；
一第一透镜组，设置于所述光路转折元件的物侧，所述第一透镜组包含：
一第一透镜，包含一第一光学有效部，所述光线通过所述第一光学有效部；以及
一第一遮光件，具有一第一通光孔，所述第一通光孔与所述光路转折元件对应设置，且所述光线通过所述第一通光孔；以及
一成像面，用于接收所述光线；
其中，所述第一通光孔为所述第一透镜组中的最小通光孔，所述第一通光孔的最小孔径为所述第一通光孔与所述光路转折元件之间的最短垂直距离为D1，其满足下列条件：
37.根据权利要求36所述的成像镜头模块，其特征在于，还包含：
一第二透镜组，设置于所述光路转折元件的像侧，所述第二透镜组包含：
一第二透镜，包含一第二光学有效部，所述光线通过所述第二光学有效部；以及
一第二遮光件，具有一第二通光孔，所述第二通光孔与所述光路转折元件对应设置，且所述光线通过所述第二通光孔；
其中，所述第二通光孔为所述第二透镜组中的最小通光孔，所述第二通光孔的最小孔径为所述第二通光孔与所述光路转折元件之间的最短垂直距离为D2，其满足下列条件：
38.根据权利要求37所述的成像镜头模块，其特征在于，还包含一第二光路转折元件，所述第二光路转折元件设置于所述第二透镜组的像侧。
39.一种电子装置，其特征在于，包含根据权利要求1、权利要求15或权利要求26所述的光路转折元件。
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