TWI812422B - 成像鏡頭、相機模組及電子裝置 - Google Patents

成像鏡頭、相機模組及電子裝置 Download PDF

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Abstract

成像鏡頭包含複數光學元件及鏡筒。光軸通過光學元件，光學元件中至少一光學元件為透鏡。鏡筒容置光學元件。透鏡包含光學有效部、外周部、遮光塗層及奈米結構層。遮光塗層設置於物側外周面及像側外周面中至少一面並包含漸縮部，漸縮部朝光學有效部的中心漸縮，且漸縮部漸縮於光學有效部及外周部的交界處附近。奈米結構層設置於光學有效部及遮光塗層的漸縮部上，奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起。遮光塗層的漸縮部於交界處附近沿環繞光軸方向形成通光孔。藉此，以提升成像品質。

Description

成像鏡頭、相機模組及電子裝置
本揭示內容係關於一種成像鏡頭、相機模組及電子裝置，且特別是一種微型化成像鏡頭、相機模組及可攜式電子裝置。
近年來，可攜式電子裝置發展快速，例如智慧型電子裝置、平板電腦等，已充斥在現代人的生活中，而裝載在可攜式電子裝置上的相機模組也隨之蓬勃發展。但隨著科技愈來愈進步，使用者對於電子裝置及其相機模組的品質要求也愈來愈高。因此，發展一種微型化且兼顧成像品質的成像鏡頭、相機模組及其電子裝置遂成為產業上重要且急欲解決的問題。
本揭示內容提供一種成像鏡頭、相機模組及電子裝置，成像鏡頭的複數光學元件中至少一光學元件為透鏡，透鏡包含光學有效部、外周部、遮光塗層及奈米結構層。遮光塗層設置於物側外周面及像側外周面中至少一面並包含漸縮部，漸縮部朝光學有效部的中心漸縮，且漸縮部漸縮於光學有效部及外周部的交界處附近。奈米結構層設置於光學有效部及遮光塗層的漸縮部上，奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起，遮光塗層的漸縮部於交界處附近沿環繞光軸方向形成通光孔。藉此，以提升成像品質。
依據本揭示內容一實施方式提供一種成像鏡頭，包含複數光學元件及鏡筒。光軸通過光學元件，光學元件中至少一光學元件為透鏡。鏡筒容置光學元件。透鏡包含光學有效部、外周部、遮光塗層及奈米結構層。光軸通過光學有效部，光學有效部包含物側光學有效面及像側光學有效面。物側光學有效面面向成像鏡頭的物側。像側光學有效面面向成像鏡頭的像側並與物側光學有效面相對設置。外周部環繞光學有效部並包含物側外周面、像側外周面及外徑面。物側外周面面向成像鏡頭的物側。像側外周面面向成像鏡頭的像側並與物側外周面相對設置。外徑面連接物側外周面及像側外周面。遮光塗層設置於物側外周面及像側外周面中至少一面並包含漸縮部，漸縮部朝光學有效部的中心漸縮，且漸縮部漸縮於光學有效部及外周部的交界處附近。奈米結構層設置於光學有效部及遮光塗層的漸縮部上，奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起。遮光塗層的漸縮部於交界處附近沿環繞光軸方向形成通光孔，通光孔的真圓度公差值為t，其滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中光學有效部的各面可皆為光滑表面，外周部中設置遮光塗層的所述一面可為光滑表面。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於90 nm至350 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於125 nm至300 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於195 nm至255 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中透鏡可更包含連接結構層，連接結構層設置於奈米結構層及光學有效部之間，並設置於奈米結構層及外周部之間。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中遮光塗層可更設置於外徑面。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中遮光塗層可設置於物側外周面、像側外周面及外徑面。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中透鏡可更包含至少一軸向連接結構，軸向連接結構用以連接相鄰的另一光學元件，並與相鄰的另一光學元件對正光軸。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中遮光塗層可由外徑面延伸至至少一軸向連接結構。
依據本揭示內容另一實施方式提供一種相機模組，包含前述的成像鏡頭。
依據本揭示內容更一實施方式提供一種電子裝置，包含前述的相機模組，其中相機模組更包含電子感光元件，且電子感光元件設置於相機模組的成像面。
依據本揭示內容又一實施方式提供一種成像鏡頭，包含複數光學元件及鏡筒。光軸通過光學元件，光學元件中至少一光學元件為透鏡。鏡筒容置光學元件。透鏡包含光學有效部、外周部、遮光塗層、奈米結構層及至少一軸向連接結構。光軸通過光學有效部，光學有效部包含物側光學有效面及像側光學有效面。物側光學有效面面向成像鏡頭的物側。像側光學有效面面向成像鏡頭的像側並與物側光學有效面相對設置。外周部環繞光學有效部並包含物側外周面、像側外周面及外徑面。物側外周面面向成像鏡頭的物側。像側外周面面向成像鏡頭的像側並與物側外周面相對設置。外徑面連接物側外周面及像側外周面。遮光塗層設置於物側外周面及像側外周面中至少一面並包含漸縮部，漸縮部朝光學有效部的中心漸縮，且漸縮部漸縮於光學有效部及外周部的交界處附近。奈米結構層設置於光學有效部及遮光塗層的漸縮部上，奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起。鏡筒包含軸向校準結構，軸向校準結構連接至少一軸向連接結構，使透鏡對正光軸。遮光塗層的漸縮部於交界處附近沿環繞光軸方向形成通光孔，通光孔的真圓度公差值為t，其滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中光學有效部的各面可皆為光滑表面，外周部中設置遮光塗層的所述一面可為光滑表面。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於90 nm至350 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於125 nm至300 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於195 nm至255 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中透鏡可為玻璃透鏡。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中透鏡可更包含連接結構層，連接結構層設置於奈米結構層及光學有效部之間，並設置於奈米結構層及外周部之間。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中遮光塗層可更設置於外徑面。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中遮光塗層可設置於物側外周面、像側外周面及外徑面。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中遮光塗層可由外徑面延伸至至少一軸向連接結構。
依據本揭示內容再一實施方式提供一種成像鏡頭，包含複數光學元件及鏡筒。光軸通過光學元件，光學元件中至少一光學元件為透鏡。鏡筒容置光學元件。透鏡包含光學有效部、外周部、遮光塗層及奈米結構層。光軸通過光學有效部，光學有效部包含物側光學有效面及像側光學有效面。物側光學有效面面向成像鏡頭的物側。像側光學有效面面向成像鏡頭的像側並與物側光學有效面相對設置。外周部環繞光學有效部並包含物側外周面、像側外周面及外徑面。物側外周面面向成像鏡頭的物側。像側外周面面向成像鏡頭的像側並與物側外周面相對設置。外徑面連接物側外周面及像側外周面。遮光塗層設置於物側外周面及像側外周面中至少一面並包含漸縮部，漸縮部朝光學有效部的中心漸縮，且漸縮部漸縮於光學有效部及外周部的交界處附近。奈米結構層設置於光學有效部及遮光塗層的漸縮部上，奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起。遮光塗層的漸縮部於交界處附近沿環繞光軸方向形成通光孔。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中光學有效部的各面可皆為光滑表面，外周部中設置遮光塗層的所述一面可為光滑表面。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於90 nm至350 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於125 nm至300 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的平均高度可介於195 nm至255 nm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中透鏡可更包含連接結構層，連接結構層設置於奈米結構層及光學有效部之間，並設置於奈米結構層及外周部之間。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中奈米結構層的材質可包含金屬氧化物。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中連接結構層的材質可包含非金屬氧化物。
本揭示內容的一實施方式提供一種成像鏡頭，包含複數光學元件及鏡筒。光軸通過光學元件，光學元件中至少一光學元件為一透鏡。鏡筒容置光學元件。所述透鏡包含光學有效部、外周部、遮光塗層及奈米結構層。光軸通過光學有效部，光學有效部包含物側光學有效面及像側光學有效面。物側光學有效面面向成像鏡頭的物側，像側光學有效面面向成像鏡頭的像側並與物側光學有效面相對設置。外周部環繞光學有效部並包含物側外周面、像側外周面及外徑面。物側外周面面向成像鏡頭的物側，像側外周面面向成像鏡頭的像側並與物側外周面相對設置，外徑面連接物側外周面及像側外周面。遮光塗層設置於物側外周面及像側外周面中至少一面並包含漸縮部。漸縮部朝光學有效部的中心漸縮，且漸縮部漸縮於光學有效部及外周部的交界處附近。奈米結構層設置於光學有效部及遮光塗層的漸縮部上，奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起。遮光塗層的漸縮部於交界處附近沿環繞光軸方向形成通光孔，通光孔的真圓度公差值為t，其滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。藉此，所述實施方式為一種透鏡表面追加遮光塗層後再施作奈米結構層的抗反射對策，奈米結構層設置於遮光塗層的漸縮部上，可減少光線於漸縮部的通光孔反射，以提升成像品質。
進一步而言，遮光塗層可以是由環氧樹脂(epoxy resin)為基底的速乾型墨水形成的黑色塗墨層(black ink spraying layer)、化學氣相沉積的黑化鍍膜層或是光阻墨層(photoresistive coating layer)…等，但不以此為限。從橫截面觀察不規則脊狀凸起，其如山脊般呈現下寬上窄的形式，如此可使奈米結構層的等效折射率自底部向頂部遞減，可破壞反射光，以減少反射光產生。由遮光塗層所形成的通光孔具有一可被量測的真圓度，表示遮光塗層塗佈技術的精度可控制。光學有效部及外周部的交界處為一可被肉眼清楚辨識的稜線，但不以此為限。交界處也可以呈現一種凸狀階差外觀，凸狀階差是由光學有效部與外周部各自的表面延伸出且相互交會而成，且具有一稜線於相互交界處，但不以此為限。所謂交界處附近，指的是距離交界處稜線+/-0.03 mm的範圍內。
詳細而言，光學有效部的各面可皆為光滑表面，外周部中設置遮光塗層的所述一面可為光滑表面。藉此，使遮光塗層於外周部的各表面塗佈時的流動性更佳，可精準控制遮光塗層的遮光位置與通光孔的真圓度。所謂光滑表面，指的是表面粗糙度Ra ＜ 0.1 um(micrometer)的表面。
奈米結構層的平均高度可介於90 nm至350 nm，所述為不影響成像品質且兼顧較佳抗反射效果的奈米結構層的高度設定範圍。再者，奈米結構層的平均高度可介於125 nm至300 nm，所述為不影響成像品質且兼顧較佳抗反射效果的奈米結構層的高度設定範圍。此外，奈米結構層的平均高度可介於195 nm至255 nm。奈米結構層的材質包含氧化鋁(Al 2O 3)，當奈米結構層的平均高度接近200 nm時，對於特定條件的入射光有較佳的抗反射效果，但不以此為限。
通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。藉此，使遮光塗層可取代傳統遮光片的遮光性能。再者，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。藉此，可對應更精準的遮光位置需求。
所述透鏡可更包含連接結構層，連接結構層設置於奈米結構層及光學有效部之間，連接結構層並設置於奈米結構層及外周部之間。藉此，連接結構層使所述透鏡與奈米結構層之間緊密接合，具有較高的結構穩定性。奈米結構層也可說是設置於連接結構層的最頂層，例如第1R圖、第1S圖、第1T圖所示的以電子顯微鏡觀察透鏡的剖面(即橫截面)，由上至下依序為奈米結構層、連接結構層、光學有效部。連接結構層也可以是由複數個折射率相異且交替堆疊的膜層組成，且連接結構層包含至少一個二氧化矽(SiO 2)膜層。奈米結構層的表面具有複數個孔洞結構，例如第1P圖、第1Q圖所示的以電子顯微鏡俯視觀察奈米結構層於透鏡上的分布情形，奈米結構層的表面具有複數個孔洞結構，而孔洞結構露出部分的連接結構層，被露出的連接結構層與空氣接觸。
遮光塗層可更設置於外徑面。藉此，延伸遮光塗層的遮光範圍，以確保外徑面的非成像光線遮蔽效果。
遮光塗層可設置於物側外周面、像側外周面及外徑面。藉此，延伸遮光塗層的遮光範圍，可取代功能相同的相鄰的其他光學元件(例如遮光片)，進而降低生產成本。遮光塗層塗佈整個外周部，如此可提供更好的遮光效果，但不以此為限。
所述透鏡可更包含至少一軸向連接結構，軸向連接結構用以連接相鄰的另一光學元件，並與相鄰的另一光學元件對正光軸。相鄰的二光學元件(即所述透鏡及所述另一光學元件)互相嵌合組裝，藉此對芯與提高成像鏡頭解析度。
遮光塗層可由外徑面延伸至所述至少一軸向連接結構。藉此，滿足軸向連接結構位置的遮光需求，以提升成像品質。
本揭示內容的另一實施方式提供一種相機模組，包含前述的成像鏡頭。
本揭示內容的更一實施方式提供一種電子裝置，包含前述的相機模組，其中相機模組更包含電子感光元件，且電子感光元件設置於相機模組的成像面(即成像鏡頭的成像面)。
本揭示內容的又一實施方式提供一種成像鏡頭，包含複數光學元件及鏡筒。光軸通過光學元件，光學元件中至少一光學元件為一透鏡。鏡筒容置光學元件。所述透鏡包含光學有效部、外周部、遮光塗層、奈米結構層及至少一軸向連接結構。光軸通過光學有效部，光學有效部包含物側光學有效面及像側光學有效面。物側光學有效面面向成像鏡頭的物側，像側光學有效面面向成像鏡頭的像側並與物側光學有效面相對設置。外周部環繞光學有效部並包含物側外周面、像側外周面及外徑面。物側外周面面向成像鏡頭的物側，像側外周面面向成像鏡頭的像側並與物側外周面相對設置，外徑面連接物側外周面及像側外周面。遮光塗層設置於物側外周面及像側外周面中至少一面並包含漸縮部。漸縮部朝光學有效部的中心漸縮，且漸縮部漸縮於光學有效部及外周部的交界處附近。奈米結構層設置於光學有效部及遮光塗層的漸縮部上，奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起。鏡筒包含軸向校準結構，其連接所述至少一軸向連接結構，使所述透鏡對正光軸。遮光塗層的漸縮部於交界處附近沿環繞光軸方向形成通光孔，通光孔的真圓度公差值為t，其滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。
詳細而言，光學有效部的各面可皆為光滑表面，外周部中設置遮光塗層的所述一面可為光滑表面。藉此，使遮光塗層於外周部的各表面塗佈時的流動性更佳，可精準控制遮光塗層的遮光位置與通光孔的真圓度。
奈米結構層的平均高度可介於90 nm至350 nm。再者，奈米結構層的平均高度可介於125 nm至300 nm。此外，奈米結構層的平均高度可介於195 nm至255 nm。藉此，所述皆為不影響成像品質且兼顧較佳抗反射效果的奈米結構層的高度設定範圍。
通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。藉此，使遮光塗層可取代傳統遮光片的遮光性能。再者，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。藉此，可對應更精準的遮光位置需求。
所述透鏡可為玻璃透鏡。藉此，較不受環境溫度變化影響，進而維持光學品質穩定。
所述透鏡可更包含連接結構層，連接結構層設置於奈米結構層及光學有效部之間，連接結構層並設置於奈米結構層及外周部之間。藉此，連接結構層使所述透鏡與奈米結構層之間緊密接合，具有較高的結構穩定性。
遮光塗層可更設置於外徑面。藉此，延伸遮光塗層的遮光範圍，以確保外徑面的非成像光線遮蔽效果。
遮光塗層可設置於物側外周面、像側外周面及外徑面。藉此，延伸遮光塗層的遮光範圍，可取代功能相同的相鄰的其他光學元件，進而降低生產成本。
遮光塗層可由外徑面延伸至所述至少一軸向連接結構。藉此，滿足軸向連接結構位置的遮光需求，以提升成像品質。
本揭示內容的再一實施方式提供一種成像鏡頭，包含複數光學元件及鏡筒。光軸通過光學元件，光學元件中至少一光學元件為一透鏡。鏡筒容置光學元件。所述透鏡包含光學有效部、外周部、遮光塗層及奈米結構層。光軸通過光學有效部，光學有效部包含物側光學有效面及像側光學有效面。物側光學有效面面向成像鏡頭的物側，像側光學有效面面向成像鏡頭的像側並與物側光學有效面相對設置。外周部環繞光學有效部並包含物側外周面、像側外周面及外徑面。物側外周面面向成像鏡頭的物側，像側外周面面向成像鏡頭的像側並與物側外周面相對設置，外徑面連接物側外周面及像側外周面。遮光塗層設置於物側外周面及像側外周面中至少一面並包含漸縮部。漸縮部朝光學有效部的中心漸縮，且漸縮部漸縮於光學有效部及外周部的交界處附近。奈米結構層設置於光學有效部及遮光塗層的漸縮部上，奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起。遮光塗層的漸縮部於交界處附近沿環繞光軸方向形成通光孔。
詳細而言，光學有效部的各面可皆為光滑表面，外周部中設置遮光塗層的所述一面可為光滑表面。藉此，使遮光塗層於外周部的各表面塗佈時的流動性更佳，可精準控制遮光塗層的遮光位置與通光孔的真圓度。
奈米結構層的平均高度可介於90 nm至350 nm。再者，奈米結構層的平均高度可介於125 nm至300 nm。此外，奈米結構層的平均高度可介於195 nm至255 nm。藉此，所述皆為不影響成像品質且兼顧較佳抗反射效果的奈米結構層的高度設定範圍。
通光孔的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。藉此，使遮光塗層可取代傳統遮光片的遮光性能。再者，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。藉此，使遮光塗層可取代傳統遮光片的遮光性能。此外，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。藉此，可對應更精準的遮光位置需求。
所述透鏡可更包含連接結構層，連接結構層設置於奈米結構層及光學有效部之間，連接結構層並設置於奈米結構層及外周部之間。藉此，連接結構層使所述透鏡與奈米結構層之間緊密接合，具有較高的結構穩定性。
奈米結構層的材質可包含金屬氧化物，所述為較佳抗反射效果的材料特性選用。
連接結構層的材質可包含非金屬氧化物，所述為較佳結構穩定性的材料特性選用。
需要說明的是，上述各實施方式中，相同或相似的技術特徵可達成相同或類似的技術功效，故不重複贅述。根據上述實施方式，以下提出具體實施例並配合圖式予以詳細說明。
＜第一實施例＞
第1A圖繪示依照本揭示內容第一實施例的相機模組100的示意圖(亦為剖面圖)，請參照第1A圖，相機模組100包含成像鏡頭110、濾光元件148及電子感光元件160，且濾光元件148設置於成像鏡頭110與相機模組100的成像面150(即成像鏡頭110的成像面150)之間，電子感光元件160設置於相機模組100的成像面150。成像鏡頭110包含複數光學元件(例如第一透鏡200、第二透鏡300、第三透鏡400、遮光片137、138、間隔環、固定環等)及鏡筒120，且第1A圖中未繪示部分光學元件的完整結構。鏡筒120容置光學元件，光軸z通過光學元件，光學元件中三個光學元件為第一透鏡200、第二透鏡300及第三透鏡400。
第1B圖繪示第1A圖中相機模組100的局部1B放大圖，第1C圖繪示第1B圖中相機模組100的局部1C放大圖，第1D圖繪示第1B圖中相機模組100的局部1D放大圖，第1E圖繪示第1B圖中相機模組100的局部1E放大圖，第1F圖繪示第1A圖中相機模組100的局部1F放大圖，第1G圖繪示第1F圖中相機模組100的局部1G放大圖，第1H圖繪示第1F圖中相機模組100的局部1H放大圖，第1I圖繪示第1F圖中相機模組100的局部1I放大圖，第1J圖繪示第1A圖中相機模組100的第一透鏡200的示意圖(亦為剖面圖與像側視圖的關係圖)，第1K圖繪示第1A圖中相機模組100的第一透鏡200的立體剖面圖。請參照第1A圖至第1K圖，相機模組100的成像鏡頭110的第一透鏡200包含光學有效部230、外周部240、遮光塗層250及奈米結構層270。
請參照第1A圖，光軸z通過第一透鏡200的光學有效部230，光學有效部230包含物側光學有效面231及像側光學有效面232。物側光學有效面231面向成像鏡頭110的物側(即第1A圖中的左側)，像側光學有效面232面向成像鏡頭110的像側(即第1A圖中的右側)並與物側光學有效面231相對設置。第一透鏡200的外周部240環繞光學有效部230並包含物側外周面241、像側外周面242及外徑面243。物側外周面241面向成像鏡頭110的物側，像側外周面242面向成像鏡頭110的像側並與物側外周面241相對設置，外徑面243連接物側外周面241及像側外周面242。
請參照第1B圖至第1D圖、第1J圖及第1K圖，第一透鏡200的遮光塗層250設置於物側外周面241及像側外周面242中至少一面並包含漸縮部254。漸縮部254朝光學有效部230的中心漸縮，且漸縮部254漸縮於光學有效部230及外周部240的交界處245附近。具體而言，遮光塗層250設置於物側外周面241及像側外周面242，二個漸縮部254分別設置於物側外周面241及像側外周面242且朝光學有效部230的中心漸縮，設置於物側外周面241的漸縮部254漸縮於物側光學有效面231及物側外周面241的交界處245附近，設置於像側外周面242的漸縮部254漸縮於像側光學有效面232及像側外周面242的交界處245附近。
第一透鏡200的奈米結構層270設置於光學有效部230及遮光塗層250的漸縮部254上，奈米結構層270具有複數不規則脊狀凸起276，遮光塗層250的漸縮部254於交界處245附近沿環繞光軸z方向形成通光孔257。具體而言，二個奈米結構層270中一個設置於物側光學有效面231及物側外周面241的遮光塗層250的漸縮部254上，所述漸縮部254於對應的交界處245附近沿環繞光軸z方向形成一通光孔257。二個奈米結構層270中另一個設置於像側光學有效面232及像側外周面242的遮光塗層250的漸縮部254上，所述漸縮部254於對應的交界處245附近沿環繞光軸z方向形成另一通光孔257(如第1J圖中右上方放大圖及右下方放大圖所示，通光孔257較對應的交界處245略為接近光軸z)。
詳細而言，請參照第1J圖，通光孔257的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。此外，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。再者，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。如第1J圖中右下方放大圖所示，通光孔257為實際通光孔形狀並不為真圓的理想通光孔形狀257b，且通光孔257的真圓度公差值t依據真圓度上限值t1及真圓度下限值t2的差值而定義。
第一透鏡200可為玻璃透鏡，光學有效部230的物側光學有效面231及像側光學有效面232可皆為光滑表面，物側外周面241及像側外周面242皆設置遮光塗層250且可皆為光滑表面。
請參照第1J圖，第1J圖中最左側圖的遮光塗層範圍250a表示遮光塗層250的範圍且不表示遮光塗層250的高度，遮光塗層250更設置於外徑面243，即是遮光塗層250設置於物側外周面241、像側外周面242及外徑面243。具體而言，遮光塗層250本質上塗佈整個外周部240的表面。
請參照第1B圖及第1J圖，第一透鏡200更包含軸向連接結構280，其設置於像側外周面242上，軸向連接結構280用以連接相鄰的第二透鏡300，軸向連接結構280具體上間接連接相鄰的第二透鏡300，軸向連接結構280並與相鄰的第二透鏡300對正光軸z，相鄰的第一透鏡200及第二透鏡300互相嵌合組裝。再者，第一透鏡200的遮光塗層250由外徑面243延伸至軸向連接結構280。
請參照第1C圖、第1D圖、第1J圖及第1K圖，其中第1J圖中最左側圖的奈米結構層範圍270a表示奈米結構層270的範圍且不表示奈米結構層270的高度，奈米結構層270的平均高度可介於90 nm至350 nm。再者，奈米結構層270的平均高度可介於125 nm至300 nm。此外，奈米結構層270的平均高度可介於195 nm至255 nm。再者，奈米結構層270的材質可包含金屬氧化物。
第1L圖繪示第1A圖中相機模組100的第二透鏡300的示意圖(亦為剖面圖與像側視圖的關係圖)，第1M圖繪示第1A圖中相機模組100的第二透鏡300的立體剖面圖。請參照第1B圖、第1D圖、第1E圖、第1L圖及第1M圖，相機模組100的成像鏡頭110的第二透鏡300包含光學有效部330、外周部340、遮光塗層350及奈米結構層370。
請參照第1A圖，光軸z通過第二透鏡300的光學有效部330，光學有效部330包含物側光學有效面331及像側光學有效面332。物側光學有效面331面向成像鏡頭110的物側，像側光學有效面332面向成像鏡頭110的像側並與物側光學有效面331相對設置。第二透鏡300的外周部340環繞光學有效部330並包含物側外周面341、像側外周面342及外徑面343。物側外周面341面向成像鏡頭110的物側，像側外周面342面向成像鏡頭110的像側並與物側外周面341相對設置，外徑面343連接物側外周面341及像側外周面342。
請參照第1B圖、第1D圖、第1E圖、第1L圖及第1M圖，第二透鏡300的遮光塗層350設置於物側外周面341及像側外周面342中至少一面並包含漸縮部354。漸縮部354朝光學有效部330的中心漸縮，且漸縮部354漸縮於光學有效部330及外周部340的交界處345附近。具體而言，遮光塗層350設置於物側外周面341及像側外周面342，二個漸縮部354分別設置於物側外周面341及像側外周面342且朝光學有效部330的中心漸縮，設置於物側外周面341的漸縮部354漸縮於物側光學有效面331及物側外周面341的交界處345附近，設置於像側外周面342的漸縮部354漸縮於像側光學有效面332及像側外周面342的交界處345附近。
第二透鏡300的奈米結構層370設置於光學有效部330及遮光塗層350的漸縮部354上，奈米結構層370具有複數不規則脊狀凸起376，遮光塗層350的漸縮部354於交界處345附近沿環繞光軸z方向形成通光孔357。具體而言，二個奈米結構層370中一個設置於物側光學有效面331及物側外周面341的遮光塗層350的漸縮部354上，所述漸縮部354於對應的交界處345附近沿環繞光軸z方向形成一通光孔357。二個奈米結構層370中另一個設置於像側光學有效面332及像側外周面342的遮光塗層350的漸縮部354上，所述漸縮部354於對應的交界處345附近沿環繞光軸z方向形成另一通光孔357(如第1L圖中右上方放大圖所示，通光孔357的位置及對應的交界處345的位置非常相近)。
詳細而言，請參照第1L圖，通光孔357的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。此外，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。再者，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。如第1L圖中右上方放大圖所示，通光孔357為實際通光孔形狀並不為真圓的理想通光孔形狀357b，且通光孔357的真圓度公差值t依據真圓度上限值t1及真圓度下限值t2的差值而定義。
第二透鏡300可為玻璃透鏡，光學有效部330的物側光學有效面331及像側光學有效面332可皆為光滑表面，物側外周面341及像側外周面342皆設置遮光塗層350且可皆為光滑表面。
請參照第1L圖，第1L圖中最左側圖的遮光塗層範圍350a表示遮光塗層350的範圍且不表示遮光塗層350的高度，遮光塗層350更設置於外徑面343，即是遮光塗層350設置於物側外周面341、像側外周面342及外徑面343。具體而言，遮光塗層350本質上塗佈整個外周部340的表面。
請參照第1B圖及第1L圖，第二透鏡300更包含軸向連接結構380，其設置於物側外周面341上，軸向連接結構380用以連接相鄰的第一透鏡200的軸向連接結構280，軸向連接結構380具體上透過遮光塗層350、連接結構層360、奈米結構層370、270、遮光塗層250間接連接軸向連接結構280，軸向連接結構380並與相鄰的第一透鏡200的軸向連接結構280對正光軸z，相鄰的第一透鏡200及第二透鏡300互相嵌合組裝。再者，第二透鏡300的遮光塗層350由外徑面343延伸至軸向連接結構380。
請參照第1D圖、第1E圖及第1M圖，第二透鏡300更包含連接結構層360，連接結構層360設置於奈米結構層370及光學有效部330之間，連接結構層360並設置於奈米結構層370及外周部340之間。具體而言，第二透鏡300更包含二個連接結構層360。二個連接結構層360中一個設置於對應的奈米結構層370及物側光學有效面331之間，並設置於對應的奈米結構層370及物側外周面341之間。二個連接結構層360中另一個設置於對應的奈米結構層370及像側光學有效面332之間，並設置於對應的奈米結構層370及像側外周面342之間。此外，也可說是二個奈米結構層370分別設置於對應的連接結構層360的最頂層。再者，連接結構層360的材質可包含非金屬氧化物，例如連接結構層360包含二氧化矽膜層。
第1L圖中最左側圖的奈米結構層範圍370a表示奈米結構層370的範圍且不表示奈米結構層370的高度，奈米結構層370的平均高度可介於90 nm至350 nm。再者，奈米結構層370的平均高度可介於125 nm至300 nm。此外，奈米結構層370的平均高度可介於195 nm至255 nm。再者，奈米結構層370的材質可包含金屬氧化物。
第1N圖繪示第1A圖中相機模組100的第三透鏡400的示意圖(亦為剖面圖與像側視圖的關係圖)，第1O圖繪示第1A圖中相機模組100的第三透鏡400的立體剖面圖。請參照第1F圖至第1I圖、第1N圖及第1O圖，相機模組100的成像鏡頭110的第三透鏡400包含光學有效部430、外周部440、遮光塗層450及奈米結構層470。
請參照第1A圖，光軸z通過第三透鏡400的光學有效部430，光學有效部430包含物側光學有效面431及像側光學有效面432。物側光學有效面431面向成像鏡頭110的物側，像側光學有效面432面向成像鏡頭110的像側並與物側光學有效面431相對設置。第三透鏡400的外周部440環繞光學有效部430並包含物側外周面441、像側外周面442及外徑面443。物側外周面441面向成像鏡頭110的物側，像側外周面442面向成像鏡頭110的像側並與物側外周面441相對設置，外徑面443連接物側外周面441及像側外周面442。
請參照第1F圖至第1I圖、第1N圖及第1O圖，第三透鏡400的遮光塗層450設置於物側外周面441及像側外周面442中至少一面並包含漸縮部454。漸縮部454朝光學有效部430的中心漸縮，且漸縮部454漸縮於光學有效部430及外周部440的交界處445附近。具體而言，遮光塗層450設置於物側外周面441及像側外周面442，二個漸縮部454分別設置於物側外周面441及像側外周面442且朝光學有效部430的中心漸縮，設置於物側外周面441的漸縮部454漸縮於物側光學有效面431及物側外周面441的交界處445附近，設置於像側外周面442的漸縮部454漸縮於像側光學有效面432及像側外周面442的交界處445附近。
第三透鏡400的奈米結構層470設置於光學有效部430及遮光塗層450的漸縮部454上，奈米結構層470具有複數不規則脊狀凸起476，遮光塗層450的漸縮部454於交界處445附近沿環繞光軸z方向形成通光孔457。具體而言，二個奈米結構層470中一個設置於物側光學有效面431及物側外周面441的遮光塗層450的漸縮部454上，所述漸縮部454於對應的交界處445附近沿環繞光軸z方向形成一通光孔457。二個奈米結構層470中另一個設置於像側光學有效面432及像側外周面442的遮光塗層450的漸縮部454上，所述漸縮部454於對應的交界處445附近沿環繞光軸z方向形成另一通光孔457(如第1N圖中右上方放大圖所示，通光孔457的位置及對應的交界處445的位置相同或是非常相近)。
詳細而言，請參照第1N圖，通光孔457的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。此外，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。再者，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。如第1N圖中右上方放大圖所示，通光孔457為實際通光孔形狀並不為真圓的理想通光孔形狀457b，且通光孔457的真圓度公差值t依據真圓度上限值t1及真圓度下限值t2的差值而定義。
第三透鏡400可為玻璃透鏡，光學有效部430的物側光學有效面431及像側光學有效面432可皆為光滑表面，物側外周面441及像側外周面442皆設置遮光塗層450且可皆為光滑表面。
請參照第1N圖，第1N圖中最左側圖的遮光塗層範圍450a表示遮光塗層450的範圍且不表示遮光塗層450的高度，遮光塗層450更設置於外徑面443，即是遮光塗層450設置於物側外周面441、像側外周面442及外徑面443。具體而言，遮光塗層450本質上塗佈整個外周部440的表面。
請參照第1G圖、第1I圖及第1O圖，第三透鏡400更包含連接結構層460，連接結構層460設置於奈米結構層470及光學有效部430之間，連接結構層460並設置於奈米結構層470及外周部440之間。具體而言，第三透鏡400更包含二個連接結構層460。二個連接結構層460中一個設置於對應的奈米結構層470及物側光學有效面431之間，並設置於對應的奈米結構層470及物側外周面441之間。二個連接結構層460中另一個設置於對應的奈米結構層470及像側光學有效面432之間，並設置於對應的奈米結構層470及像側外周面442之間。此外，也可說是二個奈米結構層470分別設置於對應的連接結構層460的最頂層。再者，連接結構層460的材質可包含非金屬氧化物，連接結構層460也可以是由複數個或具體上為三個折射率相異且交替堆疊的膜層組成，且連接結構層460包含至少一個二氧化矽膜層。
第1P圖繪示第1A圖中相機模組100的奈米結構層470以電子顯微鏡觀察的影像，第1Q圖繪示第1A圖中相機模組100的奈米結構層470以電子顯微鏡觀察的另一影像。請參照第1P圖及第1Q圖，第三透鏡400的奈米結構層470的表面具有複數個孔洞結構，而孔洞結構露出部分的連接結構層460，被露出的連接結構層460與空氣接觸。
第1R圖繪示第1A圖中相機模組100的奈米結構層470、連接結構層460、第三透鏡400的光學有效部430的剖面以電子顯微鏡觀察的影像，第1S圖繪示第1A圖中相機模組100的奈米結構層470、連接結構層460、光學有效部430的剖面以電子顯微鏡觀察的另一影像，第1T圖繪示第1A圖中相機模組100的奈米結構層470、連接結構層460、光學有效部430的剖面以電子顯微鏡觀察的更一影像。請參照第1N圖、第1R圖至第1T圖，第1N圖中最左側圖的奈米結構層範圍470a表示奈米結構層470的範圍且不表示奈米結構層470的高度，奈米結構層470的平均高度可介於90 nm至350 nm。再者，奈米結構層470的平均高度可介於125 nm至300 nm。此外，奈米結構層470的平均高度可介於195 nm至255 nm。再者，奈米結構層470的材質可包含金屬氧化物。第1R圖至第1T圖所示的以電子顯微鏡觀察第三透鏡400的剖面(即橫截面)，由上至下依序為奈米結構層470、連接結構層460、光學有效部430。具體而言，在第1R圖中，連接結構層460的高度(即厚度)No.1為73.68 nm，奈米結構層470的最大高度(即最大厚度)No.2為200.3 nm；在第1S圖中，連接結構層460的高度No.1為76.62 nm，奈米結構層470的最大高度No.2為232.7 nm；在第1T圖中，連接結構層460的高度No.1為75.15 nm，奈米結構層470的最大高度No.2為247.4 nm。
＜第二實施例＞
第2A圖繪示依照本揭示內容第二實施例的相機模組500的示意圖(亦為剖面圖)，請參照第2A圖，相機模組500包含成像鏡頭510、濾光元件548及電子感光元件560，且濾光元件548設置於成像鏡頭510與相機模組500的成像面550(即成像鏡頭510的成像面550)之間，電子感光元件560設置於相機模組500的成像面550。成像鏡頭510包含複數光學元件(例如第一透鏡600、第二透鏡537、遮光片、間隔環、固定環等)及鏡筒520，且第2A圖中未繪示部分光學元件的完整結構。鏡筒520容置光學元件，光軸z通過光學元件，光學元件中一個光學元件為第一透鏡600。
第2B圖繪示第2A圖中相機模組500的局部2B放大圖，第2C圖繪示第2B圖中相機模組500的局部2C放大圖，第2D圖繪示第2B圖中相機模組500的局部2D放大圖，第2E圖繪示第2B圖中相機模組500的局部2E放大圖，第2F圖繪示第2A圖中相機模組500的第一透鏡600的示意圖(亦為剖面圖與像側視圖的關係圖)，第2G圖繪示第2A圖中相機模組500的第一透鏡600的立體剖面圖。請參照第2A圖至第2G圖，相機模組500的成像鏡頭510的第一透鏡600包含光學有效部630、外周部640、遮光塗層650及奈米結構層670。
請參照第2A圖，光軸z通過第一透鏡600的光學有效部630，光學有效部630包含物側光學有效面631及像側光學有效面632。物側光學有效面631面向成像鏡頭510的物側(即第2A圖中的左側)，像側光學有效面632面向成像鏡頭510的像側(即第2A圖中的右側)並與物側光學有效面631相對設置。第一透鏡600的外周部640環繞光學有效部630並包含物側外周面641、像側外周面642及外徑面643。物側外周面641面向成像鏡頭510的物側，像側外周面642面向成像鏡頭510的像側並與物側外周面641相對設置，外徑面643連接物側外周面641及像側外周面642。
請參照第2B圖至第2G圖，第一透鏡600的遮光塗層650設置於物側外周面641及像側外周面642中至少一面並包含漸縮部654。漸縮部654朝光學有效部630的中心漸縮，且漸縮部654漸縮於光學有效部630及外周部640的交界處645附近。具體而言，遮光塗層650設置於物側外周面641及像側外周面642，二個漸縮部654分別設置於物側外周面641及像側外周面642且朝光學有效部630的中心漸縮，設置於物側外周面641的漸縮部654漸縮於物側光學有效面631及物側外周面641的交界處645附近，設置於像側外周面642的漸縮部654漸縮於像側光學有效面632及像側外周面642的交界處645附近。
第一透鏡600的奈米結構層670設置於光學有效部630及遮光塗層650的漸縮部654上，奈米結構層670具有複數不規則脊狀凸起676，遮光塗層650的漸縮部654於交界處645附近沿環繞光軸z方向形成通光孔657。具體而言，二個奈米結構層670中一個設置於物側光學有效面631及物側外周面641的遮光塗層650的漸縮部654上，所述漸縮部654於對應的交界處645附近沿環繞光軸z方向形成一通光孔657。二個奈米結構層670中另一個設置於像側光學有效面632及像側外周面642的遮光塗層650的漸縮部654上，所述漸縮部654於對應的交界處645附近沿環繞光軸z方向形成另一通光孔657(如第2F圖中右上方放大圖所示，通光孔657的位置及對應的交界處645的位置非常相近)。
詳細而言，請參照第2F圖，通光孔657的真圓度公差值為t，其可滿足下列條件：t ＜ 0.02 mm。此外，其可滿足下列條件：t ＜ 0.01 mm。再者，其可滿足下列條件：t ＜ 0.005 mm。如第2F圖中右上方放大圖所示，通光孔657為實際通光孔形狀並不為真圓的理想通光孔形狀657b，且通光孔657的真圓度公差值t依據真圓度上限值t1及真圓度下限值t2的差值而定義。
第一透鏡600可為玻璃透鏡，光學有效部630的物側光學有效面631及像側光學有效面632可皆為光滑表面，物側外周面641及像側外周面642皆設置遮光塗層650且可皆為光滑表面。
請參照第2F圖，第2F圖中最左側圖的遮光塗層範圍650a表示遮光塗層650的範圍且不表示遮光塗層650的高度，遮光塗層650更設置於外徑面643，即是遮光塗層650設置於物側外周面641、像側外周面642及外徑面643。具體而言，遮光塗層650本質上塗佈整個外周部640的表面。
請參照第2C圖至第2E圖及第2G圖，第一透鏡600更包含連接結構層660，連接結構層660設置於奈米結構層670及光學有效部630之間，連接結構層660並設置於奈米結構層670及外周部640之間。具體而言，第一透鏡600更包含二個連接結構層660。二個連接結構層660中一個設置於對應的奈米結構層670及物側光學有效面631之間，並設置於對應的奈米結構層670及物側外周面641之間。二個連接結構層660中另一個設置於對應的奈米結構層670及像側光學有效面632之間，並設置於對應的奈米結構層670及像側外周面642之間。此外，也可說是二個奈米結構層670分別設置於對應的連接結構層660的最頂層。再者，連接結構層660的材質可包含非金屬氧化物，連接結構層660也可以是由複數個或具體上為二個折射率相異且交替堆疊的膜層組成，且連接結構層660包含至少一個二氧化矽膜層。
請參照第2C圖至第2G圖，其中第2F圖中最左側圖的奈米結構層範圍670a表示奈米結構層670的範圍且不表示奈米結構層670的高度，奈米結構層670的平均高度可介於90 nm至350 nm。再者，奈米結構層670的平均高度可介於125 nm至300 nm。此外，奈米結構層670的平均高度可介於195 nm至255 nm。再者，奈米結構層670的材質可包含金屬氧化物。
請參照第2A圖、第2B圖及第2D圖，第一透鏡600更包含軸向連接結構680，其設置於物側外周面641上。鏡筒520包含軸向校準結構521，軸向校準結構521連接軸向連接結構680，使第一透鏡600對正光軸z，鏡筒520及第一透鏡600互相嵌合組裝。再者，第一透鏡600的遮光塗層650由外徑面643延伸至軸向連接結構680。
＜第三實施例＞
第3A圖繪示依照本揭示內容第三實施例的電子裝置70的示意圖，第3B圖繪示第3A圖中電子裝置70的方塊圖。請參照第3A圖及第3B圖，電子裝置70包含相機模組700，相機模組700包含成像鏡頭710及電子感光元件760，且電子感光元件760設置於相機模組700的成像面(即成像鏡頭710的成像面)，且相機模組700可為前述第一實施例的相機模組100、第二實施例的相機模組500，或是其他依據本揭示內容的相機模組。
具體而言，電子裝置70係一智慧型手機且包含四個相機模組700，四個相機模組700由第3A圖的左側至右側依序可為超廣角鏡頭(例如最大視角為93度至175度)、廣角主鏡頭(例如最大視角為65度至90度)、長焦望遠鏡頭(例如最大視角為20度至50度)及超長焦望遠鏡頭(例如最大視角為5度至20度)，且各相機模組700的最大視角不以此為限。四個相機模組700設置於電子裝置70的內部空間73，且光線透過電子裝置70的外殼71上的鏡頭蓋板72的四個入光孔分別進入四個相機模組700，且應可理解第3A圖僅作為鏡頭蓋板72與內部空間73的***示意圖，並不表示鏡頭蓋板72與電子裝置70的其他部分於正常使用時為分離狀態。
此外，電子裝置70可更包含但不限於控制單元(Control Unit)、儲存單元(Storage Unit)、暫儲存單元(RAM)、唯讀儲存單元(ROM)或其組合。
進一步來說，使用者透過電子裝置70的使用者介面75進入拍攝模式。此時成像鏡頭710匯集成像光線在電子感光元件760上，並輸出有關影像的電子訊號至成像訊號處理元件(Image Signal Processor，ISP)74。
因應電子裝置70的相機規格，各相機模組700可更包含光學防手震組件790，係可為OIS防抖回饋裝置，進一步地，電子裝置70可更包含至少一個輔助光學元件(未另標號)及至少一個感測元件76。第三實施例中，輔助光學元件為閃光燈模組77與對焦輔助模組78，閃光燈模組77可用以補償色溫，對焦輔助模組78可為紅外線測距元件、雷射對焦模組等。感測元件76可具有感測物理動量與作動能量的功能，如加速計、陀螺儀、霍爾元件(Hall Effect Element)，以感知使用者的手部或外在環境施加的晃動及抖動，進而有利於電子裝置70中各相機模組700配置的自動對焦功能及光學防手震組件790的發揮，以獲得良好的成像品質，有助於依據本揭示內容的電子裝置70具備多種模式的拍攝功能，如優化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高動態範圍成像)、高解析4K(4K Resolution)錄影等。此外，使用者可由使用者介面(即顯示屏幕、觸控屏幕)75直接目視到拍攝影像，並在使用者介面75上手動操作取景範圍，以達成所見即所得的自動對焦功能。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100,500,700:相機模組 110,510,710:成像鏡頭 120,520:鏡筒 137,138:遮光片 148,548:濾光元件 150,550:成像面 160,560,760:電子感光元件 200,600:第一透鏡 230,330,430,630:光學有效部 231,331,431,631:物側光學有效面 232,332,432,632:像側光學有效面 240,340,440,640:外周部 241,341,441,641:物側外周面 242,342,442,642:像側外周面 243,343,443,643:外徑面 245,345,445,645:交界處 250,350,450,650:遮光塗層 250a,350a,450a,650a:遮光塗層範圍 254,354,454,654:漸縮部 257,357,457,657:通光孔 257b,357b,457b,657b:理想通光孔形狀 270,370,470,670:奈米結構層 270a,370a,470a,670a:奈米結構層範圍 276,376,476,676:不規則脊狀凸起 280,380,680:軸向連接結構 300,537:第二透鏡 360,460,660:連接結構層 400:第三透鏡 521:軸向校準結構 70:電子裝置 71:外殼 72:鏡頭蓋板 73:內部空間 74:成像訊號處理元件 75:使用者介面 76:感測元件 77:閃光燈模組 78:對焦輔助模組 790:光學防手震組件 No.1:連接結構層的高度 No.2:奈米結構層的最大高度 t:真圓度公差值 t1:真圓度上限值 t2:真圓度下限值 z:光軸
第1A圖繪示依照本揭示內容第一實施例的相機模組的示意圖； 第1B圖繪示第1A圖中相機模組的局部1B放大圖； 第1C圖繪示第1B圖中相機模組的局部1C放大圖； 第1D圖繪示第1B圖中相機模組的局部1D放大圖； 第1E圖繪示第1B圖中相機模組的局部1E放大圖； 第1F圖繪示第1A圖中相機模組的局部1F放大圖； 第1G圖繪示第1F圖中相機模組的局部1G放大圖； 第1H圖繪示第1F圖中相機模組的局部1H放大圖； 第1I圖繪示第1F圖中相機模組的局部1I放大圖； 第1J圖繪示第1A圖中相機模組的第一透鏡的示意圖； 第1K圖繪示第1A圖中相機模組的第一透鏡的立體剖面圖； 第1L圖繪示第1A圖中相機模組的第二透鏡的示意圖； 第1M圖繪示第1A圖中相機模組的第二透鏡的立體剖面圖； 第1N圖繪示第1A圖中相機模組的第三透鏡的示意圖； 第1O圖繪示第1A圖中相機模組的第三透鏡的立體剖面圖； 第1P圖繪示第1A圖中相機模組的奈米結構層以電子顯微鏡觀察的影像； 第1Q圖繪示第1A圖中相機模組的奈米結構層以電子顯微鏡觀察的另一影像； 第1R圖繪示第1A圖中相機模組的奈米結構層、連接結構層、光學有效部的剖面以電子顯微鏡觀察的影像； 第1S圖繪示第1A圖中相機模組的奈米結構層、連接結構層、光學有效部的剖面以電子顯微鏡觀察的另一影像； 第1T圖繪示第1A圖中相機模組的奈米結構層、連接結構層、光學有效部的剖面以電子顯微鏡觀察的更一影像； 第2A圖繪示依照本揭示內容第二實施例的相機模組的示意圖； 第2B圖繪示第2A圖中相機模組的局部2B放大圖； 第2C圖繪示第2B圖中相機模組的局部2C放大圖； 第2D圖繪示第2B圖中相機模組的局部2D放大圖； 第2E圖繪示第2B圖中相機模組的局部2E放大圖； 第2F圖繪示第2A圖中相機模組的第一透鏡的示意圖； 第2G圖繪示第2A圖中相機模組的第一透鏡的立體剖面圖； 第3A圖繪示依照本揭示內容第三實施例的電子裝置的示意圖；以及 第3B圖繪示第3A圖中電子裝置的方塊圖。
120:鏡筒
200:第一透鏡
230,330:光學有效部
231:物側光學有效面
240,340:外周部
241,341:物側外周面
242,342:像側外周面
245,345:交界處
250,350:遮光塗層
254,354:漸縮部
270,370:奈米結構層
280,380:軸向連接結構
300:第二透鏡
332:像側光學有效面
360:連接結構層

Claims (37)

  1. 一種成像鏡頭，包含： 複數光學元件，其中一光軸通過該些光學元件，該些光學元件中至少一該光學元件為一透鏡；以及 一鏡筒，容置該些光學元件； 其中，該透鏡包含： 一光學有效部，其中該光軸通過該光學有效部，該光學有效部包含： 一物側光學有效面，面向該成像鏡頭的一物側；及 一像側光學有效面，面向該成像鏡頭的一像側並與該物側光學有效面相對設置； 一外周部，環繞該光學有效部並包含： 一物側外周面，面向該成像鏡頭的該物側； 一像側外周面，面向該成像鏡頭的該像側並與該物側外周面相對設置；及 一外徑面，連接該物側外周面及該像側外周面； 一遮光塗層，設置於該物側外周面及該像側外周面中至少一面並包含： 一漸縮部，朝該光學有效部的中心漸縮，且該漸縮部漸縮於該光學有效部及該外周部的一交界處附近；以及 一奈米結構層，設置於該光學有效部及該遮光塗層的該漸縮部上，該奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起； 其中，該遮光塗層的該漸縮部於該交界處附近沿環繞該光軸方向形成一通光孔，該通光孔的一真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.02 mm。
  2. 如請求項1所述的成像鏡頭，其中該光學有效部的各該面皆為光滑表面，該外周部中設置該遮光塗層的該面為光滑表面。
  3. 如請求項1所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於90 nm至350 nm。
  4. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於125 nm至300 nm。
  5. 如請求項4所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於195 nm至255 nm。
  6. 如請求項1所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.01 mm。
  7. 如請求項6所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.005 mm。
  8. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中該透鏡更包含： 一連接結構層，設置於該奈米結構層及該光學有效部之間，並設置於該奈米結構層及該外周部之間。
  9. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中該遮光塗層更設置於該外徑面。
  10. 如請求項9所述的成像鏡頭，其中該遮光塗層設置於該物側外周面、該像側外周面及該外徑面。
  11. 如請求項9所述的成像鏡頭，其中該透鏡更包含： 至少一軸向連接結構，用以連接相鄰的另一該光學元件，並與相鄰的該另一光學元件對正該光軸。
  12. 如請求項11所述的成像鏡頭，其中該遮光塗層由該外徑面延伸至該至少一軸向連接結構。
  13. 一種相機模組，包含： 如請求項1所述的成像鏡頭。
  14. 一種電子裝置，包含： 如請求項13所述的相機模組，其中該相機模組更包含一電子感光元件，且該電子感光元件設置於該相機模組的一成像面。
  15. 一種成像鏡頭，包含： 複數光學元件，其中一光軸通過該些光學元件，該些光學元件中至少一該光學元件為一透鏡；以及 一鏡筒，容置該些光學元件； 其中，該透鏡包含： 一光學有效部，其中該光軸通過該光學有效部，該光學有效部包含： 一物側光學有效面，面向該成像鏡頭的一物側；及 一像側光學有效面，面向該成像鏡頭的一像側並與該物側光學有效面相對設置； 一外周部，環繞該光學有效部並包含： 一物側外周面，面向該成像鏡頭的該物側； 一像側外周面，面向該成像鏡頭的該像側並與該物側外周面相對設置；及 一外徑面，連接該物側外周面及該像側外周面； 一遮光塗層，設置於該物側外周面及該像側外周面中至少一面並包含： 一漸縮部，朝該光學有效部的中心漸縮，且該漸縮部漸縮於該光學有效部及該外周部的一交界處附近； 一奈米結構層，設置於該光學有效部及該遮光塗層的該漸縮部上，該奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起；以及 至少一軸向連接結構； 其中，該鏡筒包含： 一軸向校準結構，連接該至少一軸向連接結構，使該透鏡對正該光軸； 其中，該遮光塗層的該漸縮部於該交界處附近沿環繞該光軸方向形成一通光孔，該通光孔的一真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.02 mm。
  16. 如請求項15所述的成像鏡頭，其中該光學有效部的各該面皆為光滑表面，該外周部中設置該遮光塗層的該面為光滑表面。
  17. 如請求項15所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於90 nm至350 nm。
  18. 如請求項17所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於125 nm至300 nm。
  19. 如請求項18所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於195 nm至255 nm。
  20. 如請求項15所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.01 mm。
  21. 如請求項20所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.005 mm。
  22. 如請求項15所述的成像鏡頭，其中該透鏡為一玻璃透鏡。
  23. 如請求項17所述的成像鏡頭，其中該透鏡更包含： 一連接結構層，設置於該奈米結構層及該光學有效部之間，並設置於該奈米結構層及該外周部之間。
  24. 如請求項17所述的成像鏡頭，其中該遮光塗層更設置於該外徑面。
  25. 如請求項24所述的成像鏡頭，其中該遮光塗層設置於該物側外周面、該像側外周面及該外徑面。
  26. 如請求項24所述的成像鏡頭，其中該遮光塗層由該外徑面延伸至該至少一軸向連接結構。
  27. 一種成像鏡頭，包含： 複數光學元件，其中一光軸通過該些光學元件，該些光學元件中至少一該光學元件為一透鏡；以及 一鏡筒，容置該些光學元件； 其中，該透鏡包含： 一光學有效部，其中該光軸通過該光學有效部，該光學有效部包含： 一物側光學有效面，面向該成像鏡頭的一物側；及 一像側光學有效面，面向該成像鏡頭的一像側並與該物側光學有效面相對設置； 一外周部，環繞該光學有效部並包含： 一物側外周面，面向該成像鏡頭的該物側； 一像側外周面，面向該成像鏡頭的該像側並與該物側外周面相對設置；及 一外徑面，連接該物側外周面及該像側外周面； 一遮光塗層，設置於該物側外周面及該像側外周面中至少一面並包含： 一漸縮部，朝該光學有效部的中心漸縮，且該漸縮部漸縮於該光學有效部及該外周部的一交界處附近；以及 一奈米結構層，設置於該光學有效部及該遮光塗層的該漸縮部上，該奈米結構層具有複數不規則脊狀凸起； 其中，該遮光塗層的該漸縮部於該交界處附近沿環繞該光軸方向形成一通光孔。
  28. 如請求項27所述的成像鏡頭，其中該光學有效部的各該面皆為光滑表面，該外周部中設置該遮光塗層的該面為光滑表面。
  29. 如請求項28所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於90 nm至350 nm。
  30. 如請求項29所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於125 nm至300 nm。
  31. 如請求項30所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的平均高度介於195 nm至255 nm。
  32. 如請求項29所述的成像鏡頭，其中該通光孔的一真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.02 mm。
  33. 如請求項32所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.01 mm。
  34. 如請求項33所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該真圓度公差值為t，其滿足下列條件： t ＜ 0.005 mm。
  35. 如請求項29所述的成像鏡頭，其中該透鏡更包含： 一連接結構層，設置於該奈米結構層及該光學有效部之間，並設置於該奈米結構層及該外周部之間。
  36. 如請求項29所述的成像鏡頭，其中該奈米結構層的材質包含金屬氧化物。
  37. 如請求項35所述的成像鏡頭，其中該連接結構層的材質包含非金屬氧化物。
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