CN216550579U - 一种用于真空热处理的冷却*** - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种用于真空热处理的冷却***，属于热处理技术领域，其包括位于真空热处理炉内的放置台，所述放置台的内部设置有第一冷却腔和若干第二冷却腔，若干所述第二冷却腔位于第一冷却腔的周边，所述放置台的侧壁设置有与第一冷却腔相连通的进水管和出水管，所述进水管和出水管上均设置有电磁阀，所述进水管和出水管的另一端连通有水源，所述放置台的上表面开设有与对应第二冷却腔连通的出气口，所述第二冷却腔内连通有冷气源。本申请具有工件能够均匀进行热处理的效果。

Description

一种用于真空热处理的冷却***

技术领域

本申请属于热处理技术领域，尤其是涉及一种用于真空热处理的冷却***。

背景技术

真空热处理是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术，真空热处理所处的真空环境指的是低于一个大气压的气氛环境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空热处理实际也属于气氛控制热处理。真空热处理是指热处理工艺的全部和部分在真空状态下进行的，热处理质量大大提高。与常规热处理相比，真空热处理的同时，可实现无氧化、无脱碳、无渗碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脱脂除气等作用，从而达到表面光亮净化的效果。

对工件进行真空热处理后需要对其进行冷却处理，现有的技术是对真空热处理炉内填充冷空气实现冷却。但是，由于工件是放置在真空热处理炉内，由于工件与真空热处理炉之间存在一定的接触面积，接触面无法接触到冷空气，导致工件热处理效果不均。

实用新型内容

为了使得工件能够均匀的进行热处理，本申请提供一种用于真空热处理的冷却***。

本申请提供的一种用于真空热处理的冷却***，采用如下的技术方案：

一种用于真空热处理的冷却***，包括位于真空热处理炉内的放置台，所述放置台的内部设置有第一冷却腔和若干第二冷却腔，若干所述第二冷却腔位于第一冷却腔的周边，所述放置台的侧壁设置有与第一冷却腔相连通的进水管和出水管，所述进水管和出水管上均设置有电磁阀，所述进水管和出水管的另一端连通有水源，所述放置台的上表面开设有与对应第二冷却腔连通的出气口，所述第二冷却腔内连通有冷气源。

通过采用上述技术方案，将工件放置在放置台的上表面，在工件完成加工后，水源通过进水管将冷水加入第一冷却腔内，以使得冷水与工件进行热交换，达到降低水温的功能，然后冷气源将冷气通过出气口对工件其他位置进行降温，从而使得工件表面能够均匀的进行热处理。

可选的，所述第一冷却腔内间隔设置有若干阻隔板，多个阻隔板在第一冷却腔内形成冷却通道，所述冷却通道的一端与进水管相连通，冷却通道的另一端与出水管相连通。

通过采用上述技术方案，阻隔板的设置，能够对第一冷却腔起到支撑的作用，以此避免工件将放置台上表面压弯，同时阻隔板能够提高冷水停留在第一冷却腔内的时间，以此保证工件与冷水能够充分进行热交换，从而达到降低工件温度的效果。

可选的，所述冷却通道呈波浪形设置。

通过采用上述技术方案，冷却通道设置呈波浪形，能够提高冷水在第一冷却腔内的停留时间，保证冷水与工件充分进行热交换，从而达到降低工件温度的目的。

可选的，所述水源包括保温箱体，所述箱体内设置有与所述进水管相连通的水泵，所述出水管与箱体相连通，所述保温箱体的外侧壁设置有若干半导体制冷片，所述半导体制冷片的冷面朝向保温箱体的内侧壁。

通过采用上述技术方案，半导体制冷片对保温箱体内的水进行制冷，冷水在水泵的带动下输送至进水管内，并通过进水管进入第一冷却腔内，冷水与放置在放置台上的工件进行热交换，保证工件与放置台接触面得到有效的冷却。

可选的，所述半导体制冷片的热面设置有辅助散热片。

通过采用上述技术方案，辅助散热片的设置，能够加快半导体制冷片热面的散热效果，从而避免热量淤积在半导体制冷片附近，防止半导体制冷片温度过高。

可选的，所述进水管的外周壁均套设有保温层。

通过采用上述技术方案，保温层的设置，能够降低进水管、外水管和外界进行热交换，从而避免经过进水管内的冷水温度升高，从而保证冷水对放置台上工件的降温效果。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.将工件放置在放置台的上表面，在工件完成加工后，水源通过进水管将冷水加入第一冷却腔内，以使得冷水与工件进行热交换，达到降低水温的功能，然后冷气源将冷气通过出气口对工件其他位置进行降温，从而使得工件表面能够均匀的进行热处理；

2.通过阻隔板的设置，能够对第一冷却腔起到支撑的作用，以此避免工件将放置台上表面压弯，同时阻隔板能够提高冷水停留在第一冷却腔内的时间，以此保证工件与冷水能够充分进行热交换，从而达到降低工件温度的效果；

3.半导体制冷片对保温箱体内的水进行制冷，冷水在水泵的带动下输送至进水管内，并通过进水管进入第一冷却腔内，冷水与放置在放置台上的工件进行热交换，保证工件与放置台接触面得到有效的冷却。

附图说明

图1是本实施例的整体示意图；

图2是本实施例中放置台的剖视结构示意图；

图3是本实施例中水源的结构示意图。

附图标记：1、放置台；2、第一冷却腔；3、进水管；4、出水管；5、水源；51、保温箱体；52、半导体制冷片；53、辅助散热片；6、电磁阀；7、第二冷却腔；8、出气口；9、冷气源；10、阻隔板；11、冷却通道。

具体实施方式

以下结合附图1-3对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种用于真空热处理的冷却***。参照图1及图2，包括放置台1，放置台1固定在真空热处理炉的内底面。放置台1内部开设有第一冷却腔2，第一冷却腔2的横截面呈矩形设置。放置台1的侧壁安装有进水管3和出水管4，进水管3和出水管4均与第一冷却腔2相连通，且进水管3和出水管4的另一端均与位于真空热处理炉外的水源5相连通。进水管3和出水管4上均安装有电磁阀6。在进水管3的外周壁套设有保温层。保温层为玻璃棉制品。

在上述实施例的基础上，在放置台1内且位于第一冷却腔2的两侧开设有第二冷却腔7。放置台1上表面开设有与对应第二冷却腔7连通的出气口8。第二冷却腔7与位于放置台1外的冷气源9相连通。

当工件完成加工后，水源5内的冷水通过进水管3进行第一冷却腔2内，以此对工件与放置台1相抵接的位置进行冷却；冷气源9的气体进入第二冷却腔7内，以此对工件剩余位置进行冷却，以保证工件能够均匀进行热处理。

参照图2，第一冷却腔2的相对侧壁均焊接有阻隔板10，阻隔板10在第一冷却腔2内形成冷却通道11，且相对侧壁的阻隔板10间隔设置，以使得冷却通道11呈波浪形设置。阻隔板10能够起到支撑作用，避免第一冷却腔2被压垮。同时，冷却通道11设置呈波浪形，以此提高冷水在第一冷却腔2内的停留时间，保证冷水与工件充分进行热交换，从而达到降低工件温度的目的。

参照图3，水源5包括保温箱体51，保温箱体51内装有水。保温箱体51的侧壁安装有半导体制冷片52，半导体制冷片52的冷面朝向保温箱体51，保温箱体51的热面装有辅助散热片53。在保温箱体51内放置有水泵，水泵与进水管3相连通。出水管4与保温箱体51相连通。

当需要对工件进行降温时，启动水泵，水泵将保温箱体51内的冷水输送至第一冷却腔2内，冷水进行热交换后变成温水，并通过出水管4回到保温箱体51内，在半导体制冷片52的作用下，使得温水温度降低，由此向第一冷却腔2内提供冰水，使得工件稳定降温。

本申请实施例一种用于真空热处理的冷却***的实施原理为：将工件放置在放置台1的上表面，在工件完成加工后，水源5通过进水管3将冷水加入第一冷却腔2内，以使得冷水与工件进行热交换，达到降低水温的功能，然后冷气源9将冷气通过出气口8对工件其他位置进行降温，从而使得工件表面能够均匀的进行热处理。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种用于真空热处理的冷却***，其特征在于：包括位于真空热处理炉内的放置台(1)，所述放置台(1)的内部设置有第一冷却腔(2)和若干第二冷却腔(7)，若干所述第二冷却腔(7)位于第一冷却腔(2)的周边，所述放置台(1)的侧壁设置有与第一冷却腔(2)相连通的进水管(3)和出水管(4)，所述进水管(3)和出水管(4)上均设置有电磁阀(6)，所述进水管(3)和出水管(4)的另一端连通有水源(5)，所述放置台(1)的上表面开设有与对应第二冷却腔(7)连通的出气口(8)，所述第二冷却腔(7)内连通有冷气源(9)。

2.根据权利要求1所述的一种用于真空热处理的冷却***，其特征在于：所述第一冷却腔(2)内间隔设置有若干阻隔板(10)，多个阻隔板(10)在第一冷却腔(2)内形成冷却通道(11)，所述冷却通道(11)的一端与进水管(3)相连通，冷却通道(11)的另一端与出水管(4)相连通。

3.根据权利要求2所述的一种用于真空热处理的冷却***，其特征在于：所述冷却通道(11)呈波浪形设置。

4.根据权利要求1所述的一种用于真空热处理的冷却***，其特征在于：所述水源(5)包括保温箱体(51)，所述箱体内设置有与所述进水管(3)相连通的水泵，所述出水管(4)与箱体相连通，所述保温箱体(51)的外侧壁设置有若干半导体制冷片(52)，所述半导体制冷片(52)的冷面朝向保温箱体(51)的内侧壁。

5.根据权利要求4所述的一种用于真空热处理的冷却***，其特征在于：所述半导体制冷片(52)的热面设置有辅助散热片(53)。

6.根据权利要求1所述的一种用于真空热处理的冷却***，其特征在于：所述进水管(3)的外周壁均套设有保温层。

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