CN1894632A - 有高孔径与平端面的投影物镜 - Google Patents

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CN1894632A CN 200480037372 CN200480037372A CN1894632A CN 1894632 A CN1894632 A CN 1894632A CN 200480037372 CN200480037372 CN 200480037372 CN 200480037372 A CN200480037372 A CN 200480037372A CN 1894632 A CN1894632 A CN 1894632A
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S·贝德尔
W·辛格尔
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Abstract

一种用于把在投影物镜的物面上提供的图案成像到适合微光刻投影曝光机的投影物镜的图像面的投影物镜，具有多个对于投影物镜的工作波长的辐射是透明的光学单元。至少一个光学单元是由具有在工作波长上折射率n≥1.6的高折射率材料制成的高折射率光学单元。

Description

有高孔径与平端面的投影物镜
发明的背景
发明领域
本发明涉及用于把在投影物镜的物面上提供的图案成像到投影物镜的图像面上的投影物镜。投影物镜可被使用于微光刻投影曝光机。本发明特别涉及用于那些被设计用于浸没操作的半导体结构的曝光机，也就是说，在一个其图像侧数值孔径NA大于1.0的孔径范围之中。
相关技术描述
在特别是投影光刻的缩小光学成像的情形下，图像侧数值孔径NA受到图像空间中周围的媒体的折射率限制。在浸没光刻中，理论上可能的数值孔径NA受浸没媒体的折射率限制。浸没媒体可以是液体或固体。在后者的情形下也称为固体浸没。
然而，由于实际原因，孔径不应当任意接近最后的媒体(即，最接近于图像的媒体)的折射率。因为这时传播角相对于光轴变为非常大。已经证明，不要明显地超过图像侧最后的媒体的折射率的约95％的孔径是切合实际的。这相应于相对于光轴约72°的传播角。对于193nm，这在以水(nH2O＝1.43)作为浸没媒体的情形下相应于NA＝1.35。
对于折射率高于最后透镜材料的折射率的液体，或在固体浸没的情形下，如果最后端面(投影物镜的出口面)的设计是平面的或仅仅稍微弯曲的，则最后透镜单元(即，邻近图像的投影物镜的最后的光学单元)的材料起到限制的作用。平面设计例如在下列情况下是有利的：对于在要被曝光的晶片与最后的物镜面之间的浸没媒体的流体的特性和对于它们的清洗而测量在晶片与物镜之间的距离。对于固体浸没，特别是为了曝光同样是平面的晶片，最后的端面必须是平面设计，
对于DUV(248nm或193nm的工作波长)，通常用于最后的透镜的材料是具有折射率nSiO2＝1.56的熔融石英(合成石英玻璃，SiO2)或具有折射率nCaF2＝1.50的CaF2。合成石英玻璃材料在下面也被简称为“石英”。因为在最后的透镜单元中的高辐射负荷，特别是在193nm最好使用氟化钙作为最后的透镜，因为合成石英玻璃在长期将由于辐射负荷而损坏。这导致可以达到的约1.425(n＝1.5的95％)的数值孔径。如果接受辐射损坏的缺点，则石英玻璃仍允许1.48(在193nm相应于石英的折射率的约95％)的数值孔径。这个关系在248nm时是类似的。
发明概要
本发明的一个目的是提供高孔径投影物镜，它防止具有诸如水的浸没媒体或具有诸如熔融石英和CaF2的透镜材料的传统设计的缺点。本发明的另一个目的是提供具有适度的尺寸和材料消耗的、适合于在图像侧浸没光刻的、数值孔径至少为NA＝1.35的投影物镜。
作为这个和其它的目的的解决方案，按照一个公式，本发明提供一种用于把在投影物镜的物面上提供的图案成像到适合于微光刻投影曝光机的投影物镜的图像面上的投影物镜，包括：对在投影物镜工作波长的辐射是透明的多个光学单元；其中至少一个光学单元是由具有在工作波长上折射率n≥1.6的高折射率材料制成的高折射率光学单元。
一个实施例包含具有优选地大于或等于NA＝1.35的图像侧数值孔径的防辐射光刻物镜，以及对于它，至少最后透镜单元包括高折射率材料(折射率n＞1.6，特别是n＞1.8)。因而在光刻的惯例的(绝对值)4∶1(|β|＝0.25)的缩小率的情形下，物体侧(掩膜侧)数值孔径是NAobj≥0.33，优选地NAobj≥0.36。
下面通过使用对于193nm的示例性实施例，更详细地说明本发明的各种方面。在例子中，用于最后的透镜单元或它的部件的材料是蓝宝石(Al2O3)，而其余透镜由熔融石英制成。然而，这些例子可被转移到其它高折射率透镜材料和其它波长。例如，对于248nm，有可能使用二氧化锗(GeO2)作为用于最后的透镜或它的部件的材料。与蓝宝石相比，这个材料具有优点：它不是双折射的。然而，该材料在193nm不再是透明的。
在液体浸没的情形下，如果使用具有比水更高的折射率的浸没液体，则可以达到NA＞1.35。在某些应用例子中使用环己烷(折射率n＝1.556)。
具有n＞1.6的浸没媒体当前被认为是现实的。
如果使用浸没液体，则高折射率液体--也就是说浸没液体--的厚度优选地可以是在0.1与10mm之间。在这个范围内的较小的厚度可以是有利的，因为高折射率浸没媒体通常也呈现更高的吸收。
以上的和其它的特性不单可以在权利要求中而且也可以在说明和附图中看到，其中各个特性可以单独地或分组合地被用作为本发明的实施例，以及在其它领域中可以单独地表示出有利的和可以专利的实施例。
附图简述
图1是按照本发明的反射折射投影物镜的第一实施例的纵向截面图；
图2是按照本发明的反射折射投影物镜的第二实施例的纵向截面图；
图3是按照本发明的反射折射投影物镜的第三实施例的纵向截面图；
图4是按照本发明的反射折射投影物镜的第四实施例的纵向截面图；
图5是按照本发明的反射折射投影物镜的第五实施例的纵向截面图。
优选实施例详细说明
在以下的本发明的优选实施例的说明中，术语“光轴”是指穿过所涉及到的光学单元曲面中心的直线或一系列直线段。光轴可以由折叠反射镜(偏转反射镜)折叠。在这里给出的这些例子的情形下，所涉及的物体是载有集成电路的图案的掩膜(掩膜原版)，或某个其它图案，例如光栅图案。在这里给出的这些例子中，物体的图像被投影到用作为基片的晶片，其上涂覆着一层感光胶，虽然其它类型的基片，诸如液晶显示器的元件或用于光栅的基片，也是可行的。
在表格被提供来公开如图所示的设计的技术规范的场合下，表格由与各个附图相同的数字来表示。
图1显示被设计用于大约193nm UV工作波长的、按照本发明的反射折射投影物镜100的第一实施例的纵向截面图。它被设计成把被安排在物面OP的原版(或掩膜)上的图案的图像以缩小的比例，例如4∶1投影到图像面IP，而同时精确地创建两真实的中间图像IMI1和IMI2。第一折射物镜部分ROP1被设计成用于把物面上的图案成像为第一中间图像IMI1，第二反光(纯反射)物镜部分COP2把第一中间图像IMI1以接近于1∶1的放大率成像为第二中间图像IMI2，以及第三折射物镜部分ROP3把第二中间图像IMI2以很高的缩小率成像到图像面。第二反光物镜部分COP2包括具有面对物体侧的凹面反射镜面的第一凹面反射镜CM1，以及具有面对图像侧的凹面反射镜面的第二凹面反射镜CM2。反射镜面是连续的或不断裂的，即它们没有孔或洞。互相面对的反射镜面规定了一个镜间空间，即由凹面反射镜面规定的曲面所包围的空间。两个中间图像IMI1，IMI2都在几何上位于镜间空间内，至少近轴中间图像几乎是在远离反射镜面的该空间的中间。
凹面反射镜的每个反射镜面规定一个“曲面”或“弯曲面”，它是延伸到物理反射镜面的边缘以外和包含反射镜面的数学表面。第一和第二凹面反射镜是具有公共的旋转对称轴的旋转对称曲面的一部分。
***100是旋转对称的，以及具有一个对于所有折射和反射光学单元共同的直光轴AX。没有折叠反射镜。凹面反射镜具有小的直径，允许它们靠近在一起以及与位于它们之间的中间图像相当接近。凹面反射镜是作为轴对称面的离轴分段而建造和被照射的。光束传送通过面向光轴的凹面反射镜的边缘而不变模糊。
具有这种一般结构的反射折射投影物镜例如在2004年1月14日提交的、序列号60/536,248；在2004年7月14日提交的、序列号60/587,504的美国临时专利申请；以及在2004年10月13日提交的以后的扩展的申请中被公开。这些申请的内容被合并到本申请，以供参考。这种类型的反射折射投影物镜的一个特征化的特性是：在物面与第一中间图像之间、在第一与第二中间图像之间、和在第二中间图像与图像面之间形成各出射孔表面(在主射线与光轴交叉轴线位置上)，以及所有的凹面反射镜被安排成在光学上远离出射孔表面，尤其是在成像处理过程的主射线高度超过成像处理过程的边缘射线高度的位置上。而且，最好是至少第一中间图像在几何上位于在第一凹面反射镜和第二凹面反射镜之间的镜间空间。优选地，第一中间图像和第二中间图像在几何上位于在凹面反射镜之间的镜间空间内。
下面描述的示例性例子共享这些特性，它们允许用相对少量的光学材料构建的光学***进行数值孔径NA＞1的浸没光刻。
图1显示作为第一示例性实施例的193nm光刻物镜，具有蓝宝石透镜和环己烷作为浸没媒体并与NA＝1.45的图像侧数值孔径相结合。蓝宝石透镜是最接近于图像面的最后的光学单元LOE。图像侧工作距离是1mm。反射折射设计具有两个凹面反射镜，主要用于色度校正和Petzval校正，以及一个中间图像，分别处在这对反射镜的上游和下游。然而，这些中间图像没有完全被校正，以及主要用于设计的几何限制和用于分离出向反射镜行进和在被反射镜反射后背离反射镜行进的两条光束路径。图像场(在晶片上)是矩形。外场半径(在晶片边)是15.5mm，内场半径是4.65mm。这样的结果是26×3.8mm的矩形场。
在第一示例性实施例中，孔径膜片(孔径光阑AS，***孔径)被安排在第一折射物镜部分ROP1。这是有利的，一方面为了制成较小的可变的孔径膜片，以及另一方面，当缩小孔径膜片时，主要地保护以后的物镜部分(从物面(掩膜面)看到的)免受无用的和干扰的辐射负荷。在图像侧物镜部分ROP3中的后膜片面，即可在其中放置孔径光阑的位置，被定位在最大直径的透镜LMD与在收敛光束路径上的图像面IP之间的区域内。
一个收敛部分(光束和透镜直径的收缩)被形成在物体侧前折射的局部物镜ROP1中，该收敛部分主要用于校正图像场曲面(Petzval总和)。孔径光阑AS被安排在收敛部分。
把CaF2用于最后透镜不是优选的，因为这需要尽可能不大于1.425(CaF2的折射率的约95％)的数值孔径。在本例中，蓝宝石(Al2O3)在193mm被用作为最后的透镜单元LOE中的高折射率材料。在如图所示的所有的实施例中，由蓝宝石制成的光学单元画上阴影线成为灰色，以便于参考。
当使用蓝宝石时发生的双折射通过把最后透镜分离成两个透镜单元LOE1和LOE2以及围绕光轴互相相对地旋转两个透镜单元而在很大程度上被补偿。在这种情形下，分离交界面S1(两个透镜单元LOE1和LOE2的接触面)优选地被弯曲，以使得两个透镜单元具有类似的折射能力。替换地，有可能为了补偿而使用由蓝宝石制成的位于物镜中一个位置(例如在中间图像附近或在物面附近)的第二单元，它在光学方面起类似的作用。在本例中，最后的蓝宝石透镜LOE被分离成实际上起相同作用的两个透镜单元LOE1和LOE2。蓝宝石透镜LOE的前面半径(即，光进入侧的半径)被设计成使得孔径光束，即以聚集光束的周界(parimeter)向图像行进的光束趋向图像场的中心穿过交界面而实际上是不折射的，也就是说，实际上垂直地投射到交界面(透镜半径实际上与图像面和光轴的交叉点是同心的)。在该蓝宝石剖开透镜(split lens)的两个透镜单元之间的分割交界面SI的半径是更平坦的(半径＞1.3乘以与其上可以放置晶片的图像面之间的距离)。
通过由双折射材料制成的单元的相对旋转而对双折射效应起补偿作用的例如在由本申请人的专利申请DE 101 23 725 A1(例如相应于US 2004/0190151 A1)或WO 03/077007 A2中更详细地描述。具有设计成为由双折射材料(氟化钙)制成的剖开的最后透镜的、与图像面最靠近的最后透镜单元的反射折射投影物镜是从US 6,717,722B获知的。
图1的设计的技术规范在表1中概述。最左面的列列出折射面、反射面或另外指定的面的号码，第二列列出该面的半径r[mm]，第三列列出在该面与下一个面之间的距离d[mm]，它被称为光学单元的“厚度”的参数，第四列列出用于制造光学单元所采用的材料，以及第五列列出用于它的制造所采用的材料的折射率。第六列列出光学部件的光学上可利用的、清楚的半直径[mm]。在这个表上，对于具有无穷大半径的平面给出的半径值r＝0。
在这个特定的实施例的情形下，15个面是非球面的面。表1A列出对于这些非球面的相关的数据，由此，它们的表面数字的弯矢作为高度h的函数可以利用以下公式进行计算：
p(h)＝[((1/r)h2)/(1+SQRT(1-(1+K)(1/r)2h2)]+C1·h4+C2·h6+....，其中半径的倒数值(1/r)是所讨论的表面在表面顶部的曲率，以及h是在其上的一个点离光轴的距离。因此弯矢p(h)代表沿z方向--即沿光轴--测量的、该点离所讨论的表面的顶部的距离。常数K，C1，C2等等在表1A上列出。
同样地，以下的实施例的技术规范对于图2的表2，2A；对于图3的表3，3A；对于图4的表4，4A；和对于图5的表5，5A中是以类似的方式表示的。
按照图2上的投影物镜200，在图像面上的最后的光学单元LOE具有平面凸透镜的总的形状。透镜被再划分成两个光学单元LOE1和LOE2，它们沿平面分割交界面S1互相接触。特别地，具有进入面的正曲率半径和其后是平面的石英玻璃透镜LOE1被粘合在由蓝宝石制成的一个(或两个)平行平面板LOE2上。这产生不高于石英玻璃中可能的NA的数值，但它具有这样的优点，即光束的传播角在最后的物镜部分处被减小，而在那里孔径由于高折射率的媒体而是最大的。当考虑在交界面和在最后的端面上可能的保护层上的反射损耗和散射光效应时这是有利的，这些散射光效应对于那些否则将是非常大的传播角度将构成问题。这样，最大的角度只在石英透镜LOE1与第一高折射率平行平面板LOE2之间的粘合的表面发生。这个粘合的表面(其中相邻的光学单元通过粘合而互相粘结的接触面)被保护免受污染和损坏，以及可用具有对环境影响也敏感的涂层来设计。如果两个平行平面板用来形成平行平面高折射率元件LOE2，则由蓝宝石制成的两个平行平面板可以绕光轴相对旋转，而在实际上理想地补偿在x和y方向上的S和P极化的双折射效应，这是对于使半导体结构成像是首先需要的。
然而，因为它的较低的折射率，石英透镜LOE1在这里具有下述效应，--因为它的较小的集中效应--即使对于有限总长度的投影物镜的图像侧数值孔径，也需要非常大的透镜直径，而实际上这些直径不是那么大的。在第二示例性实施例中(图2)，孔径是NA＝1.35，但透镜直径比起第一实施例中的更大。这里，透镜直径已经超过143mm，因此实际上是数值孔径的212倍，而在第一实施例中只达到200倍的数值孔径。具体地，在图2的示例性实施例中，在143mm下的最大半透镜直径甚至大于在约136mm下的反射镜半直径。
为了最小化投影物镜的最大透镜单元的直径，并且同时最小化双折射的效应，在具有NA＝1.45的设计例的替换实施例(投影物镜300)中，最后的透镜单元LOE包括具有正的折射能力的薄的蓝宝石透镜LOE1、球面弯曲的进入面、和被粘合在薄的石英玻璃板LOE2上的平面外出面(图3的示例性实施例3)。提供物镜的外出面的平行平面石英玻璃板然后可以在发生由于辐射负荷造成的损坏后被交换。因此粘合的石英板也用作为可交换的保护层，保护蓝宝石透镜LOE1免受污染和/或刮伤或破坏。实施例3适配于环己烷作为浸没流体，它具有与用于与浸没流体相接触的板的熔融石英的折射率(n＝1.560)类似的折射率(n＝1.566)。
在这些情形下，NA受石英玻璃的折射率限制。然而，与具有由纯石英玻璃制成的最后透镜的设计相比较，在最后透镜的上游的结果是较小的光束角，所以也是总的物镜的较小的直径和最后透镜单元的较低的灵敏度(对制造容差的干扰敏感性)。在实施例3中，在135mm下最大透镜直径现在约为数值孔径的186倍。
当然，本发明也可以用于低数值孔径的物镜，以便显著地减小以前的投影物镜的直径。这有利地影响投影物镜的价格，因为材料量可被显著地减少。
第四示例性实施例(图4)显示用于193nm的光刻物镜400，它具有由蓝宝石制成的但单片的最后透镜和以水(nH2O＝1.43)作为浸没媒体，NA＝1.35和工作距离为1mm。单片(一个部件，不分割的)蓝宝石透镜LOE的顶部面(进入面)是非球面的，以及孔径光阑AS位于处在具有最大直径的双凸面透镜LMD的第三物镜部分ROP3中的最大光束直径的区域与图像面IP之间的会聚辐射的区域中图像面折射物镜部分ROP3的后面部分中。最大透镜直径被限于小于数值孔径的190倍。
藉助于至少最后透镜单元的高折射率材料，即使是比NA＝1.45更高的数值孔径也是可能的。
第五示例性实施例500(图5)是设计成用于NA＝1.6的具有平面凸面蓝宝石透镜(nsapphire＝1.92)的固体浸没(接触物镜光刻的)。因此，即使高达NA＞1.8的数值孔径在原理上也是可行的。在本例中，在晶片侧的外部场半径是15.53mm，以及内部场半径是5.5mm，也就是说，矩形场的尺寸是26×3mm。
由于具有NA＞0.52的的孔径的高孔径光束在平面出口面处当从蓝宝石转移到空气时会经受全反射，所以对于固体浸没必须实现小于波长的工作距离，以便有效地使用损耗波来使晶片曝光。这可以这样来实现：在真空中把晶片放在在最后透镜表面附近对例如100nm(≈λ/2)恒定地曝光。
然而，由于通过消失场(evanescent field)的传输功率随距离按指数下降，距离的微小改变也将导致均匀性的强烈波动，所以把晶片与投影物镜的最后的端面(出口面)直接机械接触是有利的。为了曝光，晶片可被粘合到最后的平面透镜面(接触面CS)上，以便达到在投影物镜的出口面和与基片相关联的内耦合面之间的机械接触。分步扫描模式或拼接的曝光方法在这种情形下是优选的，也就是说，比图像场更大的区域分别在各个步骤中被曝光，掩膜原版也相应地被调整以便对准，而不是像以前的惯例那样对晶片调整。由于缩小了的成像，调整原版可以用比调整晶片较低的精度，这也是有利的。互相邻接的曝光区域(目标区域)或随后的曝光步骤的半导体结构的后续层次由此通过掩膜原版的横向和轴向运动以及旋转而得到良好的重叠，由此以优于几纳米的重叠精度把半导体结构曝光到可能也有缺陷的贴合的晶片上。例如原版的对准标记为此也与已在晶片上曝光的对准标记相对准
晶片从最后表面上取出优选地在真空中进行。如果需要，在晶片与最后的平面透镜面之间放置一个薄层(薄膜/膜片)，它可以例如在每次曝光步骤后被交换。这个膜片例如也可以保持被接合在晶片上以及有助于分离，并且特别地用作为对于最后的平面透镜面的保护层。后者可任选地另外由薄保护层来保护。
在固体浸没的情形下，由于成像干扰的情形，在曝光期间在最后的透镜面的边缘区域可以产生高强度的驻波。所以，当晶片由于粘合偶尔不精确地放置在几微米的某个范围时，对于把一个结构在晶片上重复曝光，通过使用原版而调整使它多少能被补偿，以便防止***性的结构被烧到最后的透镜上，是更为有利的。
以上讨论的所有的示例性实施例是具有正好两个凹面反射镜和正好两个中间图像的反射折射投影物镜，其中所有的光学单元是沿一个未折叠的直线光轴而对准的。被选择来说明本发明的优选变例的统一的基本类型的投影物镜打算帮助说明某些基本变例以及与本发明的不同的变例有关的技术效果和优点。然而，在具体地用于深紫外线(DUV)范围中的工作波长的投影物镜中由高折射率材料(例如n≥1.6或甚至n≥1.8)制成的透镜单元的说明性使用并不限于这种投影物镜。本发明也可以被引入到纯折射投影物镜。在这些类型中，最接近于图像面的最后的透镜单元常常是平凸透镜，它例如可以按上述的、用于第一到第五实施例中的每一个的最后的光学单元LOE的法则被设计。一些例子例如在申请人的具有序列号10/931,051(也见WO 03/075049 A)、10/931,062(也见US 2004/0004757 A1)、10/379,809(也见US 2004/0004757A1)的、美国专利申请中或在WO 03/077036A中给出。这些文献的公开内容在此引用以供参考。
同样地，本发明可以实施为仅具有一个凹面反射镜的反射折射投影物镜，或实施为在一个不同于具有两个以上凹面反射镜的附图或实施例的装置中的、具有两个凹面反射镜的反射折射投影物镜。另外，本发明的使用可以与在光学设计中是否存在折叠反射镜无关地被实施。反射折射***的例子在具有序列号60/511,673、10/743,623、60/530,622、60/560,267的申请人的美国专利申请中或在US2002/0012100中描述。这些文献的公开内容在此引用以供参考。其它例子在US 2003/0011755 A1和相关的申请中显示。
同样地，本发明可以被实施为不具有中间图像的、或按要求具有任何适当数目的中间图像的投影物镜。
表1
实施例1：NA＝1.45，β＝-0.25，λ＝193.4nm
    表面     半径     厚度   材料  折射率     半直径
    0     0.000000     37.647680     62.000
    1     200.438805     20.912608   SIO2HL  1.56018811     83.110
    2     747.538013     7.881173     83.845
    3     317.250503     20.945704   SIO2HL  1.56018811     86.831
    4     22587.222465     11.951766     86.988
    5     -354.957551     49.505975   SIO2HL  1.56018811     87.016
    6     -278.404969     31.885410     92.050
    7     133.981210     32.856595   SIO2HL  1.56018811     92.150
    8     186.155059     11.833855     85.480
    9     260.034334     38.111988   SIO2HL  1.56018811     85.440
    10     -248.127931     0.945803     84.087
    11     97.319012     29.863172   SIO2HL  1.56018811     63.308
    12     247.011352     15.182258     54.518
    13     0.000000     13.667911     46.858
    14     -118.535589     9.039902   SIO2HL  1.56018811     47.472
    15     -136.528381     10.289540     49.929
    16     -117.640924     9.240335   SIO2HL  1.56018811     50.901
    17     -267.170322     7.604882     57.478
    18     -147.424814     27.658175   SIO2HL   1.56018811     58.338
    19     -83.904407     29.670597     63.295
    20     -79.022234     16.329258   SIO2HL  1.56018811     66.670
    21     -99.429984     38.001255     76.192
    22     -111.093244     49.234984   SIO2HL  1.56018811     86.007
    23     -144.921986     0.952550     108.817
    24     -6366.151454     44.409555   SIO2HL  1.56018811     119.243
    25     -217.880653     270.750636     120.802
    26     -219.739583     -239.183412  REFL     145.235
    27     184.636114     269.507816  REFL     128.436
    28     197.874974     37.626342   SIO2HL  1.56018811     86.078
    29     524.125561     15.614096     81.840
    30     -406.239674     8.985971   SIO2HL  1.56018811     81.383
    31     106.800601     32.709694     77.510
    32     -1162.346319     30.365146   SIO2HL  1.56018811     78.287
    33     -161.881438     8.348534     81.54
    34     -166.445156     11.418724   SIO2HL  1.56018811     81.127
    35     -1076.211334     42.927908     95.134
    36     -546.503260     41.443273   SIO2HL  1.56018811     113.022
    37     -173.835591     0.952741     119.110
    38     -372.875307     32.537548   SIO2HL  1.56018811     128.490
    39     -210.380863     1.042699     131.802
    40     303.213120     50.564746   SIO2HL  1.56018811     145.286
    41     5346.623071     0.921057     144.413
    42     262.055999     33.924688   SIO2HL  1.56018811     133.743
    43     733.81 3747     0.928913     130.461
    44     163.353186     39.409378   SIO2HL  1.56018811     116.482
    45     349.938998     0.920003     111.971
    46     279.917107     28.062402   SIO2HL  1.56018811     109.138
    47     11299.235097     0.896338     104.077
    48     88.608734     39.730068   SIO2HL  1.56018811     73.896
    49     114.264419     0.751321     56.000
    50     65.720894     25.021454   SAPHIR   1.92674849     49.523
    51     131.441788     25.021469   SAPHIR   1.92674849     39.659
    52     0.000000     1.000000   HKIINDEX   1.55600000     18.066
    53     0.000000     0.000000   空气   0.00000000     15.503
表1A
非球面常数
 SRF  1  6  8  12  16
 K  0  0  0  0  0
 C1  -2.263569e-08  5.432610e-08  -7.143508e-09  2.619298e-07  -3.184960e-07
 C2  -9.879901e-13  -7.797101e-12  1.564097e-11  -3.814641e-11  -3.142211e-11
 C3  3.070713e-17  8.455873e-16  -1.599946e-15  1.148617e-14  -1.728296e-15
 C4  -6.018627e-21  -6.875038e-20  3.060476e-19  -4.506119e-18  -1.249207e-18
 C5  4.073174e-26  3.863488e-24  -2.788321e-23  -5.794434e-23  -9.678014e-24
 C6  1.391778e-29  -1.112310e-28  1.126553e-27  4.244063e-26  -4.921692e-26
 C7  0.000000e+00  0.000000e+00  0.000000e+00  0.000000e+00  0.000000e+00
 SRF  22   26   27   28   31
 K  0   0   0   0   0
 C1  2.863527e-08   8.694636e-09   -6.654566e-09   5.614883e-08   -1.288689e-07
 C2  1.884154e-12   1.385871e-13   -1.686449e-13   1.450774e-12   -4.820574e-12
 C3  1.636375e-17   1.727286e-18   -2.470942e-18   1.892047e-16   5.082977e-16
 C4  1.888300e-20   4.461465e-23   -2.362157e-22   6.954696e-21   -1.375138e-19
 C5  -2.021635e-24   -7.172318e-28   7.757389e-7   -1.108417e-24   1.555422e-23
 C6  1.591959e-28   3.081240e-32   -3.330142e-31   2.459404e-28   -2.481857e-28
 C7  0.000000e+00   0.000000e+00   0.000000e+00   0.000000e+00   0.000000e+00
 SRF   34   36   41   47   49
 K   0   0   0   0   0
 C1   -1.177998e-07   -2.187776e-08   -1.577571e-08   -8.244653e-09   2.024084e-07
 C2   -5.683441e-12   -8.068584e-14   3.706857e-13   4.957466e-12   1.422789e-11
 C3   -5.647064e-16   8.600815e-17   -1.492063e-17   -2.442972e-16   3.923209e-15
 C4   -7.031797e-21   -2.071494e-20   -9.742126eI   6.741381e-21   4.845684e-19
 C5   -1.902336e-24   1.290940e-24   6.498365e-26   2.034640e-25   -2.134986e-22
 C6   2.891112e-29   -3.884318e-29   -9.630077e-31   -2.570056e-29   5.591977e-26
 C7   0.000000e+00   0.000000e+00   0.000000e+00   9.579172e-34   0.000000e+00
表2
实施例2(b037b)：NA＝1.35，β＝-0.25，λ＝193.4nm
    表面     半径     厚度   材料   折射率     半直径
    0     0.000000     37.647680     62.000
    1     526.196808     49.977602   SIO2HL   1.56018811     75.944
    2     -256.668548     1.120100     85.473
    3     696.160336     28.649736   SIO2HL   1.56018811     90.668
    4     -2056.955285     22.244610     92.750
    5     -195.811665     49.974335   SIO2HL   1.56018811     92.870
    6     -158.185918     9.821764     101.539
    7     138.796255     49.218181   SIO2HL   1.56018811     90.394
    8     301.060143     1.660319     80.597
    9     161.646552     42.095627   SIO2HL   1.56018811     78.153
    10     -406.812049     0.979493     70.852
    11     100.020556     24.469422   SIO2HL   1.56018811     52.354
    12     102.330592     10.088496     38.573
    13     0.000000     10.406389     37.226
    14     -157.109979     8.950512   SIO2HL   1.56018811     38.841
    15     618.822068     8.847956     46.776
    16     -561.300665     33.147649   SIO2HL   1.56018811     51.388
    17     -73.150544     9.448760     56.377
    18     -699.300574     8.926672   SIO2HL   1.56018811     57.781
    19     -86.551998     8.003693     64.608
    20     -78.306541     10.360105   SIO2HL   1.56018811     66.592
    21     -117.142798     2.915635     75.827
    22     -356.673528     46.693825   SIO2HL   1.56018811     86.465
    23     -108.386760     266.538313     90.245
    24     -177.092218     -236.552196   REFL     129.567
    25     200.462621     288.213928   REFL     136.687
    26     604.677438     50.022575   SIO2HL   1.56018811     82.440
    27     125.234518     13.901039     73.274
    28     257.421526     34.367199   SIO2HL   1.56018811     73.449
    29     111.03495     29.307766     73.890
    30     -848.480773     29.119950   SIO2HL   1.56018811     74.404
    31     -194.073508     7.840952     80.032
    32    -225.307336     46.053997   SIO2HL   1.56018811     81.668
    33    -535.709449     0.941640     105.651
    34    -1622.810467     46.410355   SIO2HL   1.56018811     108.373
    35    -173.207717     0.932943     113.398
    36    -236.921577     22.327373   SIO2HL   1.56018811     116.764
    37     -261.220038     0.938270     124.709
    38     364.988031     40.936258   SIO2HL   1.56018811     142.520
    39     11406.698081     0.943482     142.679
    40     379.203162     36.840265   SIO2HL   1.56018811     142.867
    41     -33782.42006     0.921857     141.929
    42     245.879991     49.886843   SIO2HL   1.56018811     134.831
    43     -10061.581161     0.883850     132.020
    44     145.995266     39.892414   SIO2HL   1.56018811     105.854
    45     375.256079     0.817132     99.565
    46     86.107554     37.429431   SIO2HL   1.56018811     73.276
    47     215.234027     0.667291     63.094
    48     52.718236     26.546970   SIO2HL   1.56018811     42.800
    49     0.000000     16.594510   SAPHIR   1.92674849     42.800
    50     0.000000     0.999826   H2O   1.43612686     42.800
    51     0.000000     0.000000   空气   0.00000000     15.501
表2A
非球面常数
 SRF 1 6 9  12 14
 K 0 0 0  0 0
 C1 -8.448852e-08 -4.108258e-09 -6.153759e-08  4.456016e-07 -6.305745e-07
 C2 -4.761055e-12 -9.598657e-12 -1.480269e-11  1.857407e-11 -7.903687e-11
 C3 -1.420861e-16 1.072661e-15 1.473191e-15  1.064538e-14 -2.534563e-14
 C4 -8.023974e-20 -6.889975e-0 -3.255374e-19  -5.079476e-18 -3.735078e-18
 C5 1.173437e-23 2.314066e-24 3.131675e-23  1.056992e-22 1.905659e-22
 C6 -1.454073e-27 -3.793935e-29 -6.955428e-28  7.981996e-26 -3.500146e-26
 C7 0.000000e+00 0.000000e+00 0.000000e+00  0.000000e+00  0.000000e+00
 SRF  20   24 25   26 29
 K  0   0 0   0 0
 C1  1.209336e-07   1.259532e-08 -4.077497e-09   1.111414e-07 -8.942189e-08
 C2  1.869926e-11   3.424346e-13 -8.690596e-14   3.172584e-13 -1.116520e-13
 C3  1.314270e-15   6.952906e-18 -1.505812e-18   3.429058e-19 4.168290e-16
 C4  3.650689e-19   3.744203e-22 -8.583957e-23   -1.068048e-20 -2.231424e-19
 C5  -5.603440e-23   -1.203108e-26 2.784182e-27   1.935865e-24 2.267328e-23
 C6  9.844086e-27   6.714766e-31 -1.06660e-31   -5.318242e-29 -1.588914e-27
 C7  0.000000e+00   0.00000e+00  0.000000e+00   0.000000e+00 0.000000e+00
 SRF   32 34 39  45  47
 K   0 0 0  0  0
 C1   -9.549663e-08 -5.673614e-09 -1.220571e-08  -2.613273e-08  1.649072e-07
 C2   -3.034519e-12 -5.774683e-14 4.574492e-13  4.882999e-12  -4.982295e-13
 C3   1.985443e-16 -1.715933e-16 -3.026161e-17  -2.171852e-16  -2.462341e-16
 C4   -1.403621e-20 5.949307e-21 8.480395e-22  8.220913e-21  6.329880e-19
 C5   2.496197e-24 1.220843e-25 -5.629908e-27  2.183741e-25  -1.498580e-22
 C6   -1.598958e-28 -2.178077e-29 -3.377722e-32  -2.816869e-29  1.552461e-26
 C7   0.000000e+00 0.000000e+00 0.000000e+00  1.520501e-33  0.000000e+00
表3
实施例3(b037a)：NA＝1.45，β＝-0.25，λ＝193.4nm
    表面      半径     厚度   材料   折射率     半直径
    0      0.000000     37.647680     62.000
    1      178.098560     47.089109   SIO2HL   1.56018811     83.684
    2      508.791874     0.982161     86.920
    3      260.152118     29.610169   SIO2HL   1.56018811     89.203
    4      -897.680969     14.988854     89.348
    5      -224.555888     50.010854   SIO2HL   1.56018811     89.318
    6      -167.290149     6.943751     94.603
    7      185.350898     29.083481   SIO2HL   1.56018811     84.200
    8      161.696842     4.567325     74.817
    9      156.295087     29.687097   SIO2HL   1.56018811     74.801
    10      -1628.579737     27.610587     72.999
    11      116.709207     25.652669   SIO2HL   1.56018811     57.349
    12      3359.816893     2.336800     52.702
    13      0.000000     42.058143     50.890
    14      -114.711496     34.899486   SIO2HL   1.56018811     53.065
    15      -73.282662     4.817213     60.856
    16      -72.166685     17.818288   SIO2HL   1.56018811     60.190
    17      -80.823907     4.905081     66.269
    18      -78.170209     34.642475   SIO2HL   1.56018811     65.802
    19      -161.353349     3.907912     83.613
    20      -250.115507     50.004289   SIO2HL   1.56018811     87.033
    21      -130.504962     244.427626     94.956
    22      -180.721067     -214.432541   REFL     135.011
    23      179.125663     274.568868   REFL     126.490
    24      337.886373     47.239794   SIO2HL   1.56018811     107.066
    25      -899.516467     5.847365     104.221
    26      -2346.009271     43.828445   SIO2HL   1.56018811     101.016
    27      101.771490     35.484160     86.055
    28      -4439.596410     23.703533   SIO2HL   1.56018811     86.263
    29      -254.324560     5.801976     87.609
    30      -445.540133     48.164461   SIO2HL   1.56018811     87.772
    31      -735.213902     16.951226     100.097
    32      -650.817086     49.961292   SIO2HL   1.56018811     102.416
    33      -281.005458     31.479288     116.698
    34      -649.019441     49.768062   SIO2HL   1.56018811     130.316
    35      -215.856617     0.928162     134.641
    36      312.849138     39.828764   SIO2HL   1.56018811     135.256
    37      -1022.199791     0.857904     133.831
    38      278.748013     42.635737   SIO2HL   1.56018811     128.369
    39      -3295.326556     0.914469     126.650
    40      128.656616     61.387113   SIO2HL   1.56018811     106.520
    41      -2188.188515     0.730038     100.722
    42      90.065507     18.596750   SIO2HL   1.56018811     69.706
    43      93.775489     1.000000     60.097
    44      73.203900     33.227474   SAPHIR   1.92674849     55.900
    45      0.000000     11.657723   SIO2HL   1.56018811     55.900
    46      0.000000     0.999913   HIINDEX   1.55600000     55.900
    47      0.000000     0.000000   空气   0.00000000     15.520
表3A
非球面常数
 SRF 1 6  8  12  14
 K 0 0  0  0  0
 C1 -3.797021e-08 4.091151e-08  9.284044e-09  1.793476e-07  -3.526789e-07
 C2 -1.858357e-12 -7.880362e-12  2.927990e-11  -4.710051e-11  -5.029864e-11
 C3 6.026920e-17 9.074630e-16  -2.187906e-15  2.197728e-15  -6.353989e-15
 C4 -3.792813e-20 -7.153651e-20  3.131133e-19  -3.553387e-18  -2.243484e-18
 C5 3.121506e-24 2.884237e-24  -3.422295e-23  -7.638265e-23  1.422334e-23
 C6 -1.940311e-28 -4.358943e-29  2.472280e-27  2.576563e-26  -7.652798e-26
 C7 0.000000e+00 0.000000e+00  0.000000e+00  0.000000e+00  0.000000e+00
 SRF   18  22   23 24   27
 K   0  0   0 0   0
 C1   4.805447e-08  1.366493e-08   -7.247654e-09 2.039086e-09   -2.335210e-07
 C2   6.053101e-12  3.157722e-13   -1.844324e-13 4.079171e-12   -3.581428e-12
 C3   1.864225e-16  4.418704e-18   -3.130608e-18 3.415807e-19   8.204976e-16
 C4   1.774391e-19  3.842541e-22   -2.876782e-22 -3.143532e-21   -1.472132e-19
 C5   -1.538124e-23  -1.422352e-26   1.047999e-26 -6.009771e-26   1.193755e-23
 C6   1.486597e-27  5.625242e-31   -4.798652e-31 5.373759e-30   -5.012293e-28
 C7   0.000000e+00  0.000000e+00   0.000000e+00 0.000000e+00   0.000000e+00
  SRF   30  32   37  41   43
 K   0  0   0  0   0
 C1   -9.015949e-08  -4.710517e-08   2.981775e-08  7.825942e-08   -1.254855e-07
 C2   -5.963683e-12  1.502154e-12   -1.562632e-15  -5.678508e-12   4.044789e-11
 C3   -2.709599e-17  -1.008729e-16   -1.924785e-17  9.897699e-16   5.935178e-15
 C4   1.782520e-20  -2.037099e-20   1.470777e-21  -1.257950e-19   -7.518165e-19
 C5   -1.313151e-25  1.244695e-24   -9.287054e-26  1.131690e-23   5.626054e-23
 C6   1.114296e-28  -7.926554e-29   2.454712e-30  -6.106697e-28   5.101190e-26
 C7   0.000000e+00  0.000000e+00   0.000000e+00  1.494562e-32   0.000000e+00
表4
实施例4：NA＝1.35，β＝-0.25，λ＝193.4nm
    表面     半径     厚度   材料   折射率     半直径
    0     0.000000     37.647680     62.000
    1     213.097095     21.139875   SIO2HL   1.56018811     81.073
    2     980.962863     0.933467     81.638
    3     312.309311     19.869666   SIO2HL   1.56018811     82.923
    4     7050.227976     14.977212     82.853
    5     -284.845054     46.899913   SIO2HL   1.56018811     82.842
    6     -316.674517     31.820687     87.867
    7     127.504953     32.199127   SIO2HL   1.56018811     90.842
    8     177.687028     14.069304     84.748
    9     233.816949     49.949045   SIO2HL   1.56018811     84.566
    10     -272.601570     1.802731     81.010
    11     92.974202     24.948435   SIO2HL   1.56018811     61.866
    12     228.036841     31.795297     55.983
    13     -128.436888     15.028089   SIO2HL   1.56018811     45.986
    14     -208.039449     19.686225     50.292
    15     -85.822730     9.039605   SIO2HL   1.56018811     51.590
    16     -124.923386     5.248146     59.096
    17     -134.255203     24.981296   SIO2HL   1.56018811     61.621
    18     -866.028170     70.079618     66.114
    19     -91.784845     49.926992   SIO2HL   1.56018811     78.125
    20     -130.258172     3.354815     102.297
    21     -819.889396     43.461173   SIO2HL   1.56018811     114.993
    22     -193.549016     277.291798     117.690
    23     -220.432400     -231.344649   REFL     147.536
    24     175.171589     261.356424   REFL     120.087
    25     222.618410     49.895981   SIO2HL   1.56018811     93.866
    26     227.634130     10.722465     85.687
    27     469.132386     43.799915   SIO2HL   1.56018811     85.491
    28     112.693662     31.313114     76.622
    29     12293.399547     31.702057   SIO2HL   1.56018811     77.313
    30     -155.449641     4.962336     79.575
    31     -219.506451     26.268152   SIO2HL   1.56018811     79.827
    32     -1377.822971     32.354789     93.063
    33     -519.892544     47.183977   SIO2HL   1.56018811     101.635
    34     -163.140684     1.841108     110.786
    35     -340.920966     26.977392   SIO2HL   1.56018811     116.967
    36     -214.582539     2.006234     120.143
    37     271.181444     53.143321   SIO2HL   1.56018811     127.047
    38     -1118.441818     19.790952     125.887
    39     0.000000     -14.609943     112.489
    40     174.102740     52.205661   SIO2HL   1.56018811     107.954
    41     -663.589997     3.836965     104.404
    42     84.561977     46.625084   SIO2HL   1.56018811     71.481
    43     95.046969     0.694913     51.033
    44     64.492898     46.885676   SAPHIR   1.92674849     46.520
    45     0.000000     1.000000   H2O   1.43612686     18.265
    46     0.000000     0.000000   空气   0.00000000     15.515
表4A
非球面常数
 SRF  1  6  8  12  15
 K  0  0  0  0  0
 C1  -7.766221e-09  3.921777e-08  -1.973978e-08  2.262385e-07  -2.849645e-07
 C2  -1.414298e-12  -746692e-12  1.686856e-11  -3.111178e-11  -3.795087e-11
 C3  2.026799e-16  9.877277e-16  -1.521195e-15  8.999889e-15  -4.195519e-15
 C4  -9.311177e-21  -6.24165e-20  2.838141e-19  -4.631502e-18  -2.684695e-18
 C5  8.98377e-26  3.68366e-24  -2.893390e-23  7.225241e-23  -2.249016e-23
 C6  -5.139250e-30  -1.606542e-28  1.372152e-27  5.035383e-26  -5.606361e-26
 C7  0.000000e+00  0.000000e+00  0.000000e+0  0.000000e+00  0.000000e+00
 SRF  19  23 24  25  28
 K  0  0 0  0  0
 C1  2.306275e-08  9.197905e-09 -7.280789e-09  8.044076e-08  -1.035389e-08
 C2  1.672430e-12  1.297990e-13 -2.062090e-13  6.845761e-13  5.752946e-14
 C3  -3.451288e-18  1.447412e-18 -3.885785e-18  8.440855e-17  3.412577e-16
 C4  3.656429e-20  4.002605e-23 -3.101616e-22  -8.233892e-21  -1.247784e-19
 C5  -5.091821e-24  -7.044663e-28 1.113163e-26  1.115110e-24  5.556509e-24
 C6  5.148418e-28  3.011922e-32 -6.186058e-31  -3.079026e-29  1.295943e-27
 C7  0.000000e+00  0.000000e+00 0.000000e+00  0.000000e+00  0.000000e+00
 SRF   31 33 38  41   44
 K   0 0 0  0   0
 C1   -1.291718e-07 -4.530057e-08 -1.801990e-08  -2.682021e-08   -1.900216e-07
 C2   -4.385607e-12 -2.081953e-13 6.277450e-13  7.361672e-12   -4.832504e-11
 C3   -2.255698e-16 1.680387e-16 -5.256278e-17  -3.951877e-16   -1.233010e-14
 C4   -2.117620e-21 -4.155797e-20 -4.688822e-21   1.434967e-20   7.440284e-19
 C5   -1.322919e-24 3.040355e-24 4.497908e-25   -3.980440e-26   1.430823e-22
 C6   1.074049e-28 -1.238033e-28 -9.348185e-30   -2.642973e-29   -3.924075e-25
 C7   0.000000e+00 0.000000e+00 0.000000e+00   1.163864e-33   0.0000
表5
实施例5：NA＝1.6，β＝-0.25，λ＝193.4nm
    表面     半径     厚度   材料   折射率     半直径
    0     0.000000     37.663108     62.000
    1     192.084227     26.622297   SIO2V   1.56078570     87.833
    2     1075.649716     0.946456     88.233
    3     491.402040     19.101530   SIO2V   1.56078570     88.867
    4     -934.209447     36.905290     88.935
    5     125.340633     9.623977   SIO2V   1.56078570     90.013
    6     122.019859     23.963817     87.312
    7     252.185057     44.239148   SIO2V   1.56078570     87.669
    8     -204.394078     0.923049     87.161
    9     102.471834     52.8522020   SIO2V   1.56078570     67.768
    10     254.533994     9.305878     48.073
    11     0.000000     52.418616     46.820
    12     -75.641562     68.872834   SIO2V   1.56078570     58.068
    13     -124.953275     39.621161     93.864
    14     -835.558655     54.318921   SIO2V   1.56078570     126.993
    15     -178.850083     0.948020     130.230
    16     2111.392648     22.857019   SIO2V   1.56078570     132.098
    17     -901.583067     358.679202     132.071
    18     -225.015829     -231.613549   REFL     160.876
    19     168.185189     261.594819   REFL     120.144
    20     -736.571530     23.114077   SIO2V   1.56078570     81.485
    21     132.965130     36.406211     86.933
    22     -512.908458     28.535664   SIO2V   1.56078570     87.621
    23     -185.099986     6.615931     92.898
    24     -544.628556     33.807132   SIO2V   1.56078570     99.839
    25     -547.431224     19.995820     114.885
    26     -359.224408     99.479683   SIO2V   1.56078570     119.014
    27     -168.873687     12.916761     143.505
    28     313.449462     92.758623   SIO2V   1.56078570     165.026
    29     983.057723     1.167054     158.153
    30     227.152511     48.817493   SIO2V   1.56078570     148.584
    31     684.382976     0.981700     144.866
    32     144.775480     60.829967   SIO2V   1.56078570     121.541
    33     1285.387522     0.899534     116.276
    34     99.002284     39.642869   SIO2V   1.56078570     84.155
    35     243.117451     0.805490     74.674
    36     65.952055     54.681070   SAPHIR   1.92674849     54.379
    37     0.000000     0.000000   空气   0.00000000     15.530
表5A
非球面常数
 SRF   4   5   10   14   18
 K   0   0   0   0   0
 C1   4.332466e-08   5.983847e-08   4.678448e-07   -5.502311e-09   9.581997e-09
 C2   -4.251613e-12   -1.394334e-11   1.214772e-11   6.759433e-14   1.191548e-13
 C3   8.548420e-16   1.246293e-15   1.462858e-14   -2.777895e-18   5.628084e-19
 C4   -7.822847e-20   -2.065935e-19   -5.084805e-18   1.850960e-22   7.255139e-23
 C5   3.463295e-24   1.861321e-23   4.192361e-22   -7.883399e-27   -1.691943e-27
 C6   -7.495559e-29   -7.372680e-28   1.456331e-26   1.533878e-31   3.619858e-32
 C7   0.000000e+00   0.000000e+00   0.000000e+00   0.000000e+00   0.000000e+00
 SRF 19  20   21  24   26
 K 0  0   0  0   0
 C1 -5.661490e-09  8.762490e-08   -3.207763e-08  -6.520443e-08   4.364974e-09
 C2 -1.921628e-13  -1.093121e-11   -5.311243e-12  4.777722e-13   -1.522836e-12
 C3 -7.055884e-19  1.359734e-15   6.816058e-16  -7.895875e-17   -6.656442e-18
 C4 -6.935220e-22  -2.479964e-19   -2.253013e-19  1.733738e-20   -2.640069e-21
 C5 3.152816e-26  2.421781e-23   2.354847e-23  -2.097861e-24   2.889539e-25
 C6 -1.191863e-30  -1.346005e-27   -1.003551e-27  1.235456e-28   -1.101803e-29
 C7 0.000000e+00  0.000000e+00   0.000000e+00  0.000000e+00   0.000000e+00
 SRF   29   33   35
 K   0   0   0
 C1   8.788855e-09   3.258556e-08   1.084860e-07
 C2   -6.462954e-13   1.588293e-12   6.094001e-12
 C3   -1.551858e-17   -1.752790e-16   1.646644e-16
 C4   1.099566e-21   1.227022e-20   -9.287322e-20
 C5   -1.930245e-26   -5.173475e-25   1.657126e-23
 C6   1.160550e-31   1.295964e-29   -1.278529e-27
 C7   0.000000e+00   -1.104258e-34   0.000000e+00

Claims (31)

1.一种用于把在投影物镜的物面上提供的图案成像到适合于微光刻投影曝光机的投影物镜的图像面上的投影物镜，包括：
对于在投影物镜的工作波长上的辐射是透明的多个光学单元；
其中至少一个光学单元是由具有在工作波长上的折射率n≥1.6的高折射率材料制成的高折射率光学单元。
2.按照权利要求1的投影物镜，其中高折射率材料在工作波长上具有折射率n≥1.8。
3.按照权利要求1或2的投影物镜，其中高折射率材料是蓝宝石。
4.按照权利要求1和2的投影物镜，其中高折射率材料是二氧化锗。
5.按照前述权利要求的任一项的投影物镜，其中物体侧数值孔径NAObj大于0.3。
6.按照权利要求5的投影物镜，其中与|β|≤0.25的绝对缩小率相结合的物体侧数值孔径NAObj＞0.36。
7.按照前述权利要求的任一项的投影物镜，具有第一高折射率光学单元和至少一个第二高折射率光学单元。
8.按照权利要求7的投影物镜，其中第一高折射率光学单元和第二高折射率光学单元的每一个由高折射率材料制成，该材料呈现出规定了每个光学单元的双折射取向的双折射，其中第一和第二高折射率单元相对于双折射的取向不同地进行安装，以使得由高折射率光学单元造成的双折射的效应至少部分被补偿。
9.按照前述权利要求的任一项的投影物镜，其中投影物镜具有最接近于图像面的一个最后的光学单元，以及其中最后的光学单元至少部分由具有折射率n＞1.6的高折射率材料制成。
10.按照权利要求9的投影物镜，其中最后的光学单元是由具有折射率n＞1.6的高折射率材料制成的单片平凸透镜。
11.按照权利要求9的投影物镜，其中最后的光学单元由沿分割交界面互相光学接触的至少两个光学单元组成，其中形成最后的光学单元的至少一个光学单元由具有折射率n＞1.6的高折射率材料组成。
12.按照权利要求9的投影物镜，其中最后的光学单元由具有弯曲的进入面和平面的出口面的一个进入面的平凸透镜单元和沿平面分割面与该平凸透镜单元光学接触的一个出口面平行平面板组成。
13.按照权利要求12的投影物镜，其中凸平面透镜单元由具有折射率n＞1.6的高折射率材料组成，以及其中出口面平行平面板由熔融石英组成。
14.按照权利要求12的投影物镜，其中平凸透镜单元由熔融石英组成以及该出口面平行平面板由具有折射率n＞1.6的高折射率材料组成。
15.按照权利要求11的投影物镜，其中最后的光学单元被成形为平凸透镜，以及分割面被弯曲以使得在分割面处接触的两个光学单元是具有类似的折射能力的透镜部分。
16.按照前述权利要求的任一项的投影物镜，其中投影物镜被设计为一个参考像差而修正的浸没物镜，以使得在最后的光学单元与图像面之间的图像侧工作距离由具有折射率显著地大于1的浸没媒体所填充。
17.按照权利要求16的投影物镜，其中投影物镜是适配于浸没流体的，该浸没流体在工作波长时具有大于1.4的折射率。
18.按照权利要求17的投影物镜，其中投影物镜被设计为用于193nm工作波长，以及其中浸没流体是环己烷。
19.按照前述权利要求1到15的任一项的投影物镜，其中投影物镜被设计为具有约为或低于工作波长的有限的图像侧工作距离的固体浸没媒体，以使得从投影物镜的图像侧出口面外出的消失场可被使用于成像。
20.按照前述权利要求1到15的任一项的投影物镜，其中投影物镜被设计用于固体浸没光刻，其中投影物镜的图像侧出口面与要被曝光的基片相关联的耦合面有机械接触。
21.按照前述权利要求的任一项的投影物镜，其中图像侧数值孔径NA大于1.3。
22.按照前述权利要求的任一项的投影物镜，其中最接近于图像面放置的光孔面被放置在最接近于图像面的光束直径局部最大值的区域与图像面之间的收敛光束的区域之间。
23.具有图像面和一个离它最远的透镜的投影物镜，以及从该投影物镜出发，具有一个直达该图像面的收敛光束，其中光孔面或***孔径被安排在所述透镜的图像面处至少10mm的距离。
24.用于把在位于投影物镜的物面中的掩膜上提供的图案成像到设置在投影物镜的图像面中的基片上的微光刻投影曝光方法，其中使用按照前述权利要求中的至少任一项的微光刻投影物镜，以及在微光刻投影物镜的最后的透镜与要被曝光的基片之间引入浸没流体。
25.按照权利要求24的方法，其中使用了在投影物镜的工作波长上具有大于1.4的折射率的浸没流体。
26.按照权利要求25的方法，其中浸没流体在工作波长上具有大于1.5的折射率。
27.用于把在位于投影物镜的物面中的掩膜上提供的图案成像到设置在投影物镜的图像面中的基片上的微光刻投影曝光方法，其中所使用的投影物镜图像侧的最后的光学单元被贴合或压在要被曝光的物体上，包括以下给定序列的步骤：
互相相对地放置投影物镜和要被曝光的基片；
使投影物镜的出口面和基片的耦合面接触；
相对于投影物镜来对准掩膜，以使得掩膜中想要的图案区域被成像在一个与投影物镜的出口面接触的基片的目标区域。
28.按照权利要求27的方法，其中对基片上多个并列的目标区域重复进行所述各步骤。
29.按照权利要求27或28的方法，其中把薄的透明膜片放置在要被曝光的基片与投影物镜的出口面之间。
30.按照权利要求24到29的任一项的方法，其中使用按照权利要求1到23之一的微光刻投影物镜。
31.用于把在位于投影物镜的物面中的掩膜上提供的图案成像到设置在投影物镜的图像面中的基片上的微光刻投影曝光方法，其中使用微光刻投影物镜，以及在微光刻投影物镜的最后的透镜与要被曝光的基片之间引入浸没流体，并且其中用环己烷作为浸没流体。
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CN103376539A (zh) * 2012-04-26 2013-10-30 上海微电子装备有限公司 一种折反射式投影物镜

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103376539A (zh) * 2012-04-26 2013-10-30 上海微电子装备有限公司 一种折反射式投影物镜
CN103376539B (zh) * 2012-04-26 2016-02-03 上海微电子装备有限公司 一种折反射式投影物镜
CN103353669A (zh) * 2013-07-30 2013-10-16 中国科学院光电技术研究所 一种高数值孔径浸没投影物镜
CN103353669B (zh) * 2013-07-30 2015-07-15 中国科学院光电技术研究所 一种高数值孔径浸没投影物镜

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