CN101107570B - 投影光学*** - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种投影光学***。该投影光学***包括沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为四个不重叠的透镜组，使得各个透镜组的总折射力是负折射力或正折射力；并且其中，第四透镜组中的各个透镜的折射力均等于或大于0。第三透镜组中的紧邻第四透镜组中的一透镜布置的透镜可具有面向所述第二物体的凹形表面。

Description

投影光学***
技术领域
本发明涉及一种投影光学***。
背景技术
平版印刷处理通常用于制造例如集成电路(IC)、大规模集成电路(LSI)的半导体元件、液晶元件、微图案构件以及微机械元件。
用于光刻技术的投影曝光设备通常包括具有光源和投影光学***的照明光学***。来自照明光学***的光照亮具有给定图案的刻线片(第一物体)，投影光学***将刻线片图案的图像转印到感光基片(第二物体)的区域上。还可通过投影光学***使刻线片图案的图像尺寸缩小，以便在基片上形成较小的刻线片图案图像。
微型装置更小更复杂的趋势对投影曝光***并因而对用于制造这些装置的投影光学***的要求越来越高。为了在基片曝光过程中获得更高的分辨率，刻线片在基片上的成像必须以在基片侧上的足够大的数值孔径(NA)进行。因此，增大数值孔径是研制改进的投影曝光***的决定性因素。
大数值孔径为投影光学***的设计带来了全方位的挑战。在用于投影曝光的纯折射光学***中，对诸如像差之类的图像误差进行校准的需求随数值孔径的增大而增大。投影光学***的重量和尺寸往往会随这些***的数值孔径的增大而增大。具体地说，透镜的直径增大到使透镜的制造非常昂贵而且困难的程度，制造具有足够精度的非球面透镜就成为了具体问题。
发明内容
鉴于以上所述，本发明的一目的在于提供一种具有高成像性能的投影光学***。
本发明的另一目的在于提供一种投影光学***，其中在该投影光学***中所用透镜的直径可保持在可容许范围内。
为了实现上述目的，根据一个方面，本发明提供了一种用于将第一物体成像到第二物体区域中的投影光学***，该投影光学***包括：沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为多个不重叠的透镜组，使得各个透镜组的总折射力(refractive power)是负折射力或正折射力，其中第一透镜组具有负折射力，其中紧邻所述第一组布置的第二组具有正折射力，其中紧邻所述第二组布置的第三组具有负折射力，其中紧邻所述第三组布置的第四组具有正折射力，其中所述第四透镜组是在所有透镜组当中最靠近所述第二物体布置的组，并且其中所述第四透镜组中的各个透镜的折射力均等于或大于0。
优选的是，选择将所述透镜分成为所述第一、第二、第三和第四组使得各个所述第一、第二、第三和第四组的总折射力为最大值。在这里的具体实施方式中，所述组选择成使得所述组的总折射力的绝对值之和为最大值。
发明人已经发现主要在所述投影光学***的最前部和腰部使用负透镜是有利的。紧邻所述第三透镜组且因此紧邻腰部的所述第四透镜组不包含任何具有负折射力的透镜。该布置使得具有负折射力的透镜出现在所述投影光学***的这样的区域中，即在成像光束外周与光轴之间的距离相对较小的区域中，这又使得能使用有效直径相对较小的透镜。该布置还使得能在所述第二物体的区域中形成所述第一物体的足够平的图像。
根据本发明的实施方式，所述投影光学***构造成使得所述第三透镜组的紧邻所述第四透镜的透镜布置的透镜具有面向所述第二物体的凹形表面。
根据本发明的实施方式，所述投影光学***构造成：将所述光轴上的布置在所述第一物体的区域中的第一位置成像到所述光轴上的布置在所述第二物体的区域中的第二位置上的一束成像射线(或相应称为成像光束)的直径在所述光轴上的布置在所述第三透镜组内的第三位置处具有最小截面，并且其中仅布置在所述第三位置和第二位置之间的一对两个相邻透镜具有这样的折射力，即，所述折射力被选择成使得这两个相邻透镜的折射力的乘积为负值。
根据这里的实施方式，所述投影光学***包括布置在所述光轴上的第四位置处的孔径光阑，并且所述一对透镜布置在所述第三位置和所述第四位置之间。
在折射力等于或大于0的透镜中，一个透镜具有比任何其它折射力等于或大于0的透镜的有效直径都大的有效直径，即具有最大有效直径。优选的是，所述最大有效直径比具有负折射力的任何透镜的任何有效直径大的因数在1.1到2.5之间。在示例性实施方式中，该因数可以在从1.1到2.0的范围中，或者例如大于1.3或1.5。
根据本发明的一实施方式，所述投影光学***中的任何具有负折射力的透镜的有效直径均小于L/5。
在本申请中所用的术语L代表所述投影光学***的长度，特别是在操作或曝光模式中，该长度表示为所述第一物体和所述第二物体之间的距离，即通过所述投影光学***的设计预知的所述第一和第二物体都聚焦时的距离。
在示例性实施方式中，具有总的负折射力的透镜组中的任何透镜的有效直径等于或小于具有总的正折射力并布置成紧邻具有总的负折射力的相应透镜组的透镜组中的任何透镜的有效直径。
根据具体实施方式，所述第一和第三透镜组的所有透镜都具有比所述第二透镜组中的各个透镜小的直径。
这里所用的透镜是指单个透镜元件而不是包括多个透镜元件的光学***。
这里所用的透镜组可仅由单个透镜构成或者由一个以上的透镜构成。
透镜的折射力是指透镜在光轴上的折射力。
在本发明的语境中，例如平面平行板的折射力为0。
因此，所述投影光学***中的透镜组的上述布置通常形成一般被称为具有单个腰部的***。所述腰部表示透镜直径收缩，因此穿过相应透镜的成像射线距所述投影光学***内的光轴的距离减小。在透镜组的上述布置中，所述腰部通常形成在所述第三透镜组的区域内。
优选的是，所述投影光学***包括孔径光阑。在本发明的示例性实施方式中，所述孔径光阑布置在所述第四透镜组内。在这些实施方式中，所述第四透镜组可分成为：第一子透镜组，其布置在所述第一物体(或者更确切地说，所述第三透镜组)与所述孔径光阑直径之间；以及第二子透镜组，其布置在所述孔径光阑与所述第二物体之间。
本发明实施方式中所用的孔径光阑可以调节。在2000年10月4日提交并转让给同一受让人的US 6,445，510中描述了这种孔径的实施例，通过引用将其全部内容合并于此。
在本发明的示例性实施方式中，所述第四透镜组中的各个透镜的折射力大于0，即为正折射力。
在优选实施方式中，所述第一透镜组中的各个透镜的折射力为负折射力。所述第一透镜组可包括至少两个透镜。
在示例性实施方式中，所述第二透镜组中的各个透镜的折射力大于或等于0，即，该第二透镜组不包含任何具有负折射力的透镜。
根据本发明的投影光学***包括其中所述第三透镜组中的各个透镜的折射力为负折射力的实施方式。所述第三透镜组可包括至少两个透镜。例如，所述第三透镜组可由具有负折射力的三个透镜构成。
根据本发明的示例性实施方式，所述投影光学***包括一个以上的具有一个或两个非球面表面的透镜。
这里所用的术语“非球面表面”应理解为是指其中非球面表面与最佳拟合球面(best fitting sphere)之间的最大轴向距离为2μm以上的非球面表面。该定义用于排除具有非期望变形的球形表面以及通常在透镜/投影光学***的制造之后为了对像差进行校正而引入的非球面表面部分，这些像差通常是由于制造过程引起的而不是投影光学***的具体设计所固有的。
根据本发明的实施方式，所述第四透镜组中的至少一个透镜为高度非球面的，并使得所述非球面表面与最佳拟合球面之间的轴向距离大于约1.0mm。根据这里的具体实施方式，所述非球面表面与最佳拟合球面之间的轴向距离大于约1.5mm或2.0mm。在上述位置中的所述高度非球面表面使得可实施这样的实施方式，即，通过所述具体透镜可实现该投影光学***对像差的大部分校正。
根据本发明的实施方式，所述第三和第四透镜组的透镜中的至少两个透镜，具体为三个透镜具有至少一个非球面表面，其中相应的非球面表面与其最佳拟合球面之间的轴向距离大于约1.0mm。
在本发明的其中在所述第四透镜组内布置有孔径光阑的那些实施方式中，所述至少一个非球面透镜可有利地布置在该孔径光阑与所述第二物体之间。
在示例性实施方式中，所述投影光学***具有沿着所述光轴从所述第一物体向着所述第二物体延伸的区域，该区域中满足以下条件：
|hau/hfc|<1.2，
其中
hau是所述光轴与从所述第一物体的距该光轴距离最大的点发出的场射线之间的距离，其中所述场射线沿与所述光轴平行的方向从该点发出，并且
hfc是所述光轴与从所述第一物体的轴向点发出的角射线之间的距离，其中所述角射线与所述光轴形成最大可能角度，使得该射线有助于将所述第一物体成像到所述第二物体的所述区域中，
并且其中，hau和hfc是在所述光轴上的同一位置测量的。所述场射线的最大距离是指其中该场射线仍有助于将所述第一物体成像到所述第二物体的区域中的最大距离。
在本发明的示例性实施方式中，所述区域延伸越过所述第一物体和所述第二物体之间的整个距离的至少三分之一的距离。距所述光轴的距离是指垂直测量的距光轴的距离。
根据本发明的另一方面，如上定义的区域包括至少两个非球面表面。
根据本发明的投影光学***包括这样的实施方式，即：其中在所述光轴上测量的所述第二透镜组的任何两个紧邻的透镜之间的距离小于L/100，其中L是该投影光学***的上述长度。在这些实施方式中，所述透镜布置成彼此非常接近，在这些透镜之间在光轴上仅留有很小的气隙
(如果有的话)。
根据本发明的投影光学***还可包括这样的实施方式，即：其中在所述光轴上测量的所述第二透镜组中的两个紧邻的透镜之间的距离至少有一个大于L/50，其中L是该投影光学***的上述长度。因此，与上述实施方式相比，至少两个透镜之间形成在光轴上测量的相当大的(空气)间隙。这里所用的紧邻是指在两个相应透镜之间未插设有其他透镜。
根据本发明的实施方式，所述第四透镜组的总长度与所述第二透镜组和/或该第四透镜组的所有透镜的厚度和之差与该第四透镜组的总长度之比大于0.3。根据这里的实施方式，该比率大于0.5。
在根据本发明的投影光学***的示例性实施方式中，所述第四透镜组包括至少五个透镜。
例如，所述第四透镜组在所述孔径光阑和所述第二物体之间可包括至少三个透镜。可选的或者另外的，所述第四透镜组在所述第一物体和所述孔径光阑之间可包括至少两个透镜。
具体与本发明的实施方式有关的是，其中在所述第二透镜组内形成相对较大的气隙，在所述第四透镜组的两个紧邻的透镜之间的至少一个距离可大于L/30。
所述投影光学***可构造成使得所述第二物体布置成在聚焦时在距该投影光学***中最靠近所述第二物体布置的透镜2mm至6mm的工作距离处。该距离通常称为工作距离。
所述投影光学***可具有在所述第二物体侧的0.7以上(例如0.9以上)的数值孔径。
在根据本发明的投影光学***的示例性实施方式中，成像光束的波长小于365nm，优选小于350nmn。
根据另一方面，本发明提供了一种用于将第一物体成像到第二物体区域中的投影光学***，该投影光学***包括：沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为两个不重叠的透镜组，其中所述两个不重叠的透镜组中的第一主透镜组包括最靠近所述第一物体的透镜；其中所述两个不重叠的透镜组中的第二主透镜组包括最靠近所述第二物体的透镜；其中所述多个透镜被分成为所述第一主透镜组和所述第二主透镜组，使得所述第一主透镜组的折射力具有最大负值；其中所述第一和第二主透镜组的透镜表面包括多个非球面透镜表面，并且其中所述多个非球面透镜表面的第一非球面透镜表面构造成使得所述非球面透镜表面与其最佳拟合球面之间的轴向距离大于约1.0mm。
在本发明的语境中，将所述第一和第二主透镜组称为“主”透镜组而不是简单地称为透镜组，以避免与以上关于本发明的其他方面所述的第一至第四透镜组混淆。该表述并不意在表示任何其他透镜组的存在。
根据又一方面，本发明提供了一种用于将第一物体成像到第二物体区域中的投影光学***，该投影光学***包括：沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为两个不重叠的透镜组，其中所述两个不重叠的透镜组中的第一主透镜组包括最靠近所述第一物体的透镜；其中所述两个不重叠的透镜组的第二主透镜组包括最靠近所述第二物体的透镜；其中所述多个透镜被分成为所述第一主透镜组和所述第二主透镜组，使得所述第一主透镜组的折射力具有最大负值；并且其中，所述第二主透镜组中的各个透镜的折射力等于或大于0。
根据又一方面，本发明提供了一种用于将第一物体成像到第二物体区域中的投影光学***，该投影光学***包括：沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为两个不重叠的透镜组，其中所述两个不重叠的透镜组中的第一主透镜组包括最靠近所述第一物体的透镜；其中所述两个不重叠的透镜组中的第二主透镜组包括最靠近所述第二物体的透镜；其中所述多个透镜被分成为所述第一主透镜组和所述第二主透镜组，使得所述第一主透镜组的折射力具有最大负值；并且其中所述第一和第二主透镜组的透镜表面包括多个非球面透镜表面，并且其中所述多个非球面透镜表面的第一非球面透镜表面具有由该投影光学***的光轴穿过的中央部分以及布置在该中央部分外侧的环形部分，并且其中穿过所述中央部分的光束所受到的透镜局部折射力(localrefractive power)与穿过所述环形部分的光束所受到的透镜局部折射力符号相反。
根据再一方面，本发明提供了一种用于将第一物体成像到第二物体区域中的投影光学***，该投影光学***包括沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为两个不重叠的透镜组，其中所述两个不重叠的透镜组的第一主透镜组包括最靠近所述第一物体的透镜，其中所述两个不重叠的透镜组的第二主透镜组包括最靠近所述第二物体的透镜，其中所述多个透镜被分成为所述第一主透镜组和所述第二主透镜组，使得所述第一透镜组的折射力具有最大负值，其中所述多个透镜包括一个最大透镜，该透镜具有在所述多个透镜中的透镜的所有表面中有效直径最大的表面，所述一个最大透镜被包含在所述第一透镜组或所述第二透镜组中，其中表面的有效直径为所述最大有效直径的至少50％并且被包含在含有所述最大透镜的所述第一透镜组或所述第二透镜组中的各个弯月形透镜满足以下要求：
|r1|≥140mm和|r2|≥140mm
其中r1是所述弯月形透镜的第一光学表面的曲率半径，且r2是所述弯月形透镜的第二光学表面的曲率半径。
在示例性实施方式中，表面的有效直径为所述最大有效直径的至少60％(或者在另一实施方式中为至少70％)并且包含在含有所述最大透镜的所述第一透镜组或所述第二透镜组中的各个弯月形透镜满足所述要求。
在另一示例性实施方式中，包含在所述第一透镜组或所述第二透镜组中的各个弯月形透镜还满足以下要求中的至少一个要求：|r1|≥220mm和[|r2|≥220mm，或者在另一实施方式中|r1|≥300mm和|r2|≥300mm。
在另一示例性实施方式中，包含在所述第一透镜组或所述第二透镜组中的各个弯月形透镜还满足以下要求：
|r1/r2|>1.5
其中，在该公式中，r1表示所述弯月形透镜的凹形表面的曲率半径。在另一示例性实施方式中，可以满足|r1/r2|>1.8，或|r1/r2|>2.5，或|r1/r2|>5。
在再一实施方式中，包含在所述第一透镜组或所述第二透镜组中的各个弯月形透镜还具有小于所述最大有效直径的90％、或者在另一实施例中小于所述最大有效直径的85％的有效直径。
如公知的那样，弯月形透镜是指具有一个凸光学表面和一个凹光学表面的透镜。凸形表面的曲率(即，光学表面半径的倒数)可以与凹形表面的曲率相同或不同。这两个曲率之差会影响弯月形透镜的屈光力。在表1和表2中示出的弯月形透镜的所述两个光学表面的半径符号相同。
如公知的那样，双凸透镜或双凹透镜分别具有两个都凸或都凹的表面。因此，在这里所给出的示出了光学表面半径的表中，双凸透镜具有两个半径符号相反(+/一)的光学表面。这同样适用于双凹透镜。
如公知的那样，平面平行板具有两个平面的(即，基本不弯曲的)平行光学表面。
根据本发明的示例性实施方式，所述第一主透镜组可被分成为多个不重叠的子透镜组，使得各个子透镜组的总折射力是负折射力或正折射力。
根据本发明的示例性实施方式，所述第一主透镜组可被分成为三个不重叠的子透镜组，其中这三个不重叠子透镜组中的第一子透镜组具有负折射力并布置成最靠近所述第一物体，其中这三个不重叠子透镜组的第二子透镜组具有正折射力，并且其中这三个不重叠子透镜组的第三子透镜组具有负折射力。
也就是说，以上阐述的第一和第二主透镜组可分成为使得所述第一主透镜组被分成为三个子透镜组，使得划分为主透镜组及其子组与关于本发明的以上方面所述的第一至第四透镜组的划分相对应。换言之，所述第一主透镜组的第一至第三子组将对应于之前所述的第一、第二和第三透镜组，而第一主透镜组将对应于所述第四透镜组。
在根据上述方面的投影光学***的示例性实施方式中，通常，还尽可能可利用对关于同一方面或另一方面所述的一个或多个实施方式的一个或多个特征而言是附加或可选的其它方面的一个或多个特征。也就是，例如在本发明其他方面的实施方式中也可实现上述应用于弯月形透镜的标准，反之亦然。
在示例性实施方式中，根据本发明的投影光学***是纯折射投影光学***。在本发明的可选示例性实施方式中，所述投影光学***是反折射投影光学***。
纯折射***是这样的光学***，即其仅包括光学透镜或透镜布置。反折射***包括透镜和反射镜。
待成像的第一物体通常为图案结构，而第二物体通常是感光基片。概括而言，这里所用的术语图案结构是指适于使照射光束具有带图案的截面的任何构件，其(被照亮的图案结构的)图案的图像被投影到基片上。所述图案结构可以是例如掩模或刻线片。术语刻线片更通常与其图像被缩小地投影到基片上的掩模有关，而术语掩模通常是指不缩小即1∶1的投影曝光。掩模或刻线片的类型包括二进位、衰减和交替相移类型以及各种混合类型。掩模/刻线片可以传播或反射照射光束，同时使其上带有图案截面。可编程的反射镜阵列是适用于本发明的又一图案结构实施例。例如在US 5,296,891中描述了这样的阵列的实施例，通过引用将其全部内容合并于此。在US 5,523,193中公开了可编程的反射镜阵列的另一实施例，通过引用将其全部内容合并于此。可编程的LCD阵列是适用于本发明的另一图案结构实施例。例如在US 5,229,872中公开了这样的阵列，通过引起将其全部内容合并于此。通常，光阀或照明模板是与图案结构相关使用的另一术语。
附图说明
以下将参照附图对本发明的两个示例性实施方式进行更详细的说明，其中：
图1是根据本发明的投影光学***的第一示例性实施方式的光路图；
图2是根据本发明的投影光学***的第二示例性实施方式的光路图；以及
图3是根据本发明的投影光学***的反射折射实施方式的简化光路图。
具体实施方式
在图1中，示出了根据本发明的投影光学***的第一示例性实施方式的光路图。该第一示例性实施方式总共具有18个透镜，并且在第二物体侧上的数值孔径为0.93。
所述投影光学***的透镜分成为多个不重叠的透镜组和子透镜组。在图1中，用投影光学***下方的括号示出了这些组的一个可能布置。参照图1中的光学***下方示出的括号，第一透镜组LG1包括透镜1和2，并具有总的负折射力；第二透镜组LG2由透镜3至7构成并具有总的正屈光力；第三透镜组LG3包括三个透镜8、9和10并具有总的负折射力；第四透镜组LG4包括八个透镜11至18并具有总的正折射力。第四透镜组LG4包括：孔径光阑AS；第四透镜组LG4的第一子组SG41布置在第三透镜组LG3和孔径光阑AS之间，并包括三个透镜11、12、13，且第四透镜组LG4的第二子组SG42布置在孔径光阑AS和第二物体之间，并包括五个透镜14至18。
具体地说，沿从第一物体至第二物体的方向，第一透镜组LG1包括两个均具有负折射力的弯月形透镜1、2；第二透镜组包括五个均具有正折射力的透镜，具体地说是弯月形透镜3和4、***凸透镜5以及两个弯月形透镜6和7；第三透镜组LG3包括三个具有负折射力的双凹透镜8、9和10；第四透镜组LG4包括弯月形透镜11、两个双凸透镜12和13、孔径光阑AS、面向第二物体的方向具有高度非球面的双凸透镜14、另一双凸透镜15、两个弯月形透镜16和17以及平凸透镜18。因而，第四透镜组LG4仅包含具有正折射力的透镜。具有高度非球面的透镜在第二物体一侧上紧邻孔径光阑布置，即在它们之间没有布置任何其他透镜。
此外，孔径光阑AS前方的正透镜13的有效透镜直径大于孔径光阑后方(沿成像光穿过投影光学***的方向)的透镜14的有效直径，这导致成像射线以会聚方式穿过孔径光阑AS。
在表1中列出了透镜参数的详细信息，例如透镜厚度、透镜材料、光学表面的半径以及透镜的有效直径(半径、厚度和直径以毫米为单位给出)。透镜材料为熔融二氧化硅材料(SiO2)，表示为“SIO2V”，其适用于短波长。“厚度”栏列出了相邻光学表面之间的距离。因此，表示与各个透镜的第一表面邻近的“厚度”是指距该透镜的第二表面的距离，因此是透镜厚度。此外，给出的各个厚度是指轴向厚度，即沿***的光轴测量的厚度。此外，在表1中给出了投影光学***中的非球面表面的位置表示方法及其参数。
表1
Figure S05845519020070703D000121
Figure S05845519020070703D000131
非球面表面
表面2
K：0.000000           A：0.276163E-06      B：-.536885E-10
C：0.644764E-14       D：-.889292E-18      E：0.125618E-21
F：-.834768E-26       G：0.000000E+00      H：0.000000E+00
表面4
K：0.000000        A：0.902347E-07    B：0.318525E-10
C：-.373980E-14    D：0.303698E-18    E：-.453652E-22
F：0.332928E-26    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面8
K：0.000000        A：-.331448E-07    B：0.339030E-12
C：0.211595E-16    D：-.379929E-21    E：0.454184E-26
F：-.295402E-31    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面15
K：0.000000        A：-.129984E-06    B：0.108745E-11
C：0.415648E-15    D：-.786147E-19    E：0.563206E-23
F：-.133015E-27    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面16
K：0.000000        A：0.124853E-08    B：-.405221E-11
C：0.291400E-15    D：0.423269E-20    E：-.165418E-23
F：0.890588E-28    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面19
K：0.000000        A：0.718198E-07    B：0.449275E-11
C：-.135766E-14    D：0.428769E-18    E：-.998296E-22
F：0.213671E-25    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面21
K：0.000000        A：0.724641E-07    B：-.190535E-10
C：0.167369E-14    D：-.886328E-19    E：0.619650E-24
F：0.115799E-27    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面22
K：0.000000        A：-.528703E-07    B：0.107062E-11
C：0.383478E-15    D：-.547368E-19    E：0.790212E-23
F：-.535185E-27    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面24
K：0.000000        A：0.276983E-07    B：0.250421E-13
C：-.516347E-16    D：0.279865E-20    E：-.725819E-25
F：0.714551E-30    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面31
K：0.000000        A：0.991152E-08    B：0.745821E-12
C：0.682986E-17    D：-.411366E-21    E：0.209636E-25
F：-.109576E-30    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面35
K：0.000000        A：0.485642E-07    B：-.159738E-11
C：0.992089E-16    D：-.135284E-20    E：-.261255E-24
F：0.898748E-29    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面37
K：0.000000        A：-.316359E-06    B：0.130364E-10
C：0.286802E-14    D：-.501979E-18    E：0.352305E-22
F：-.849678E-27    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
表面38
K：0.000000        A：-.247204E-06    B：-.885487E-11
C：0.225865E-14    D：0.514684E-18    E：-.136549E-21
F：0.113242E-25    G：0.000000E+00    H：0.000000E+00
折射指数
玻璃代码      193.37      193.37      193.37
“SIO2V”      1.560785    1.560786    1.560786
可以用以下方程表示非球面表面：
p ( h ) = h 2 r 1 + 1 - ( 1 + K ) h 2 r 2 + C 1 &CenterDot; h 4 + C 2 &CenterDot; h 6 + &Lambda;
其中：
r是非球面表面的顶点的曲率半径(近轴曲率)，
h是非球面表面上的一点距光轴的距离(或者非球面表面距光轴的高度)，
p(h)是表面沿轴向的垂度，即沿光轴方向距非球面表面顶点的切平面的距离，
K是圆锥系数且
C1……C6是非球面系数。
如从表1中清楚可见的，投影光学***的第一示例性实施方式包含13个非球面表面。
根据本发明的具体实施方式，第四透镜组包括至少一个非球面透镜，该透镜具有非球面形状的表面，从而当在径向剖面中观看时，该表面具有至少一个凹部和至少一个凸部。这可使得透镜的局部折射力会随着距光轴距离的增大而变号。在图1和表1所示实施方式的具体实施例中，31号表面是非球面形状，从而该表面在包括光轴的部分内为凸形，并且当在径向剖面中观看时该表面在中央凸部外的环形部分内为凹形。透镜14在光轴周围的区域内具有正折射力，而在距光轴某一距离处的环形凹部内具有负折射力。
这样的具有至少一个不同曲率的表面的非球面透镜会有利于校正或减少第一物体在第二物体上成像的球面像差。
图1通过光学***上方示出的括号示出了将该光学***的透镜分成为主组和子组的另一可能。根据这样的分组，透镜光学***包括两个主透镜组LG1’和LG2’，其中主组LG2’对应于根据上述分组的组LG4，而主组LG1’包括根据上述分组的透镜组LG1、LG2和LG3。图1中在光学***上方所示的组LG1’包括子组SG11、SG12、SG13，它们分别对应于根据上述分组的组LG1、LG2、LG3。
如图1中的光学***上方的括号所示的主组LG1’包括最接近第一物体的透镜和透镜10，从而主透镜组LG1的负折射力绝对值最大。这意味着，若透镜10不包含在主组LG1’中，则该组的负折射力的绝对值就会减小，若透镜11也包含在该组中，则负折射力的绝对值也会减小。
通过这样对投影光学***的透镜进行分组，第二主透镜组LG2’包括高度非球面透镜14。而且，主透镜组LG2’中的各个透镜在光轴上均具有正折射力。
图2示出根据本发明的投影光学***的第二示例性实施方式的光路图。该实施方式的数值孔径为0.7。括号表示哪一透镜或哪些透镜属于哪个透镜组。第一透镜组LG1包括两个具有负折射力的透镜1、2从而具有总的负折射力，第二透镜组LG2包括五个透镜3、4、5、6和7并具有总的正折射力，第三透镜组LG3包括三个透镜8、9和10并具有总的负折射力，第四透镜组LG4包括八个透镜11至18并具有总的正折射力。第四透镜组LG4可再分成为两个子组，即：第一子组SG41，其包含第四组中布置在第一物体和孔径光阑AS之间的透镜(透镜11、12、13)；以及第二子组SG42，其包含第四组中在孔径光阑AS和第二物体之间的透镜(透镜14至18)。
具体地说，沿从第一物体至第二物体的方向，第一透镜组LG1包括双凹透镜2和具有负折射力的弯月形透镜1；第二透镜组LG2包括：***凸透镜3、4和5，它们的***面表面均面向第一物体的方向；双凸透镜6，透镜6与透镜5分开相对较大的气隙；以及***凸透镜7，其***面表面面向第二物体的方向；第三透镜组LG3包括三个双凹透镜8、9和10；第四透镜组LG4包括：两个***凸透镜11、12，它们的***面表面面向第一物体的方向；以及在孔径光阑AS前方的双凸透镜13，这三个透镜从而形成第一子组SG41；第四透镜组LG4还包括布置在孔径光阑AS和第二物体之间的第二子透镜组SG42，该第二子透镜组SG42包括：两个***凸透镜14和15，它们的***面表面面向第二物体的方向；厚度相当大的弯月形透镜16；弯月形透镜17和平面平行板18。因而，第四透镜组LG4不包含任何具有负折射力的透镜。第四透镜组LG4中的透镜13和14以相对较大的气隙分开。
在图2中，示出了场射线(field ray)FR和角射线(angular ray)AR。
在表2中列出了第二示例性实施方式的透镜参数的详细信息，例如透镜厚度、透镜材料、光学表面的半径以及透镜的有效直径一半的值(半径、厚度和直径以毫米为单位给出；折射指数针对193纳米的波长给出)。表示成“SIO2HL”的透镜材料是适用于短波长的熔融二氧化硅材料(SiO2)，表示成“CAF2HL”的透镜材料是适用于短波长的氟化钙材料。“厚度”栏见与表1有关的说明。此外，在表2中给出了投影光学***中的非球面表面的位置表示方法及其参数。
表2
Figure S05845519020070703D000191
非球面表面
表面2
K：0.0000
C1：1.89567103e-007      C2：-6.14954159e-012
C3：5.99696092e-016      C4：-1.70049965e-019
C5：3.40804937e-023      C6：-2.46308378e-027
C7：0.00000000e+000      C8：0.00000000e+000
C9：0.00000000e+000
表面6
K：0.0000
C1：5.10156924e-009       C2：1.69855235e-012
C3：-1.06288680e-016      C4：4.97146455e-021
C5：-4.15785888e-025      C6：1.75008366e-029
C7：0.00000000e+000       C8：0.00000000e+000
C9：0.00000000e+000
表面13
K：0.0000
C1：-8.90443356e-009      C2：1.68794796e-013
C3：-5.52889921e-018      C4：2.53152609e-022
C5：-1.32794410e-026      C6：6.89511513e-031
C7：0.00000000e+000       C8：0.00000000e+000
C9：0.00000000e+000
表面26
K：0.0000
C1：-7.14236794e-009       C2：4.66880907e-014
C3：1.84149146e-019        C4：1.30780764e-022
C5：-1.32931107e-027       C6：1.29777704e-031
C7：0.00000000e+000        C8：0.00000000e+000
C9：0.00000000e+000
表面30
K：0.0000
C1：-2.73011692e-009        C2：-5.36841078e-013
C3：-7.87215774e-018        C4：-3.92093559e-022
C5：2.11192637e-026         C6：-1.94208025e-030
C7：0.00000000e+000         C8：0.00000000e+000
C9：0.00000000e+000
表面35
K：0.0000
C1：-3.40706173e-008       C2：-1.34186182e-011
C3：-5.33579678e-015      C4：1.06622971e-018
C5：-5.16132064e-023      C6：0.00000000e+000
C7：0.00000000e+000       C8：0.00000000e+000
C9：0.00000000e+000
应注意，图2和表2中所示的实施方式的透镜17和18由结晶体材料制成，在本实施例中为氟化钙。氟化钙具有特性双折射，其优点在于可调整相应透镜的晶体的相对取向，使得两个透镜的组合双折射效果至少得到一定程度的补偿。从例如US 2003/0137733A1可得到结晶体透镜的相对取向的背景信息。通过参考将该文献的全部内容合并于此。
结晶体材料会有利于由投影光学***提供的光学特性的长期稳定性。具体地说，这些材料在辐射诱导效应(例如压缩等)方面具有优势。
在图2所示的实施方式中，第一主透镜组LG1’或者说分别为LG1至LG3第一至第三透镜组包括作为所述投影光学***的最大透镜的透镜5，即多个透镜中的具有最大有效直径的表面的透镜(还参见表2)。弯月形透镜3具有半径大于140mm的光学表面。从表2可得到该半径的确切值。一个半径甚至超过3990mm。第一表面的半径与第二表面的半径之比约为27。透镜3的有效直径约是最大透镜的最大有效直径的约84％。
在图3中，示出了本发明的反折射实施方式的示意性和非常简化的图。
第一物体O1通过两个不重叠的主透镜组LG1’和LG2’成像到第二物体O2上。LG1’表示第一主透镜组，其包含在投影光学***的多个透镜的所有透镜中布置成最靠近第一物体O1的透镜。另一方面，第二主透镜组.LG2’包含在投影光学***的多个透镜的所有透镜中布置成最靠近第二物体O2的透镜。第一主透镜组LG1’包括若干透镜，其中仅示意性示出了作为第一主透镜组LG1’的透镜***B 1的一部分的两个透镜1和2。第一主透镜组LG1’还包括两个反射镜M1和M2。第二主透镜组LG2’包括透镜***B2中的多个透镜，其中仅示出了两个透镜3和4。在其他示例性实施方式中，可不同地布置所述反射镜，并且/或者可在两个反射镜M1和M2之间的光路中布置一个或多个透镜。本领域的技术人员容易明了其他适合的实施方式。
总而言之，投影光学***包括沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；其中所述多个透镜被分成为四个不重叠的透镜组，使得各个透镜组的总折射力是负折射力或正折射力；并且其中第四透镜组中的各个透镜的折射力均大于或等于0。第三透镜组的紧邻第四透镜组的一透镜布置的透镜可具有面向第二物体的凹表面。
已经借助示例性实施方式描述了本发明，但是本发明不局限于这些实施方式。在不背离所附权利要求所述的本发明范围的情况下，本领域的技术人员可想到多种变型和修改。

Claims (35)

1.一种用于将第一物体成像到第二物体区域中的投影光学***，该投影光学***包括：
沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；
其中，所述多个透镜可被分成为多个不重叠的透镜组，使得各个透镜组的总折射力是负折射力或正折射力；
其中，所述组选择成使得所述组的总折射力的绝对值之和为最大值；
其中，第一透镜组具有负折射力；
其中，紧邻所述第一组布置的第二组具有正折射力；
其中，紧邻所述第二组布置的第三组具有负折射力；
其中，紧邻所述第三组布置的第四组具有正折射力；
其中，所述第四透镜组是在所有透镜组中最靠近所述第二物体布置的透镜组；
其中，所述第四透镜组中的各个透镜的折射力均等于或大于0，
其中，所述第三透镜组中紧邻所述第四透镜组的一透镜布置的透镜具有面向所述第二物体的凹形表面，并且
其中，所述第一透镜组中的各个透镜的折射力均为负折射力。
2.一种用于将第一物体成像到第二物体区域中的投影光学***，该投影光学***包括：
沿该投影光学***的光轴布置的多个透镜；
其中，所述多个透镜可被分成为多个不重叠的透镜组，使得各个透镜组的总折射力是负折射力或正折射力；
其中，第一透镜组具有负折射力；
其中，紧邻所述第一组布置的第二组具有正折射力；
其中，紧邻所述第二组布置的第三组具有负折射力；
其中，紧邻所述第三组布置的第四组具有正折射力；
其中，所述第四透镜组是在所有透镜组中最靠近所述第二物体布置的
组；
其中，所述第四透镜组的各个透镜的折射力均等于或大于0，
其中，将所述光轴上的布置在所述第一物体的区域中的第一位置成像到所述光轴上的布置在所述第二物体的区域中的第二位置上的一束成像射线的直径在所述光轴上的布置在所述第三透镜组内的第三位置上具有最小截面，并且其中仅有布置在所述第三位置和所述第二位置之间的一对透镜具有相反的折射力，使得该对透镜中的第一透镜的折射力和该对透镜中的第二透镜的折射力符号相反，并且
其中，所述第一透镜组中的各个透镜的折射力均为负折射力。
3.根据权利要求2所述的投影光学***，其中，在所述光轴上的第四位置处布置有孔径光阑，并且其中，所述一对透镜布置在所述第三位置和所述第四位置之间。
4.根据权利要求2所述的投影光学***，其中，所述第三透镜组的紧邻所述第四透镜组的一透镜布置的透镜具有面向所述第二物体的凹形表面。
5.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组还包括孔径光阑。
6.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组的各个透镜的折射力均大于0。
7.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，折射力等于或大于0的透镜的有效直径中的最大有效直径比具有负折射力的任何透镜的有效直径大的因数在1.1到2.5之间。
8.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，具有负折射力的任何透镜的有效直径小于L/5，其中L是所述第一物体和所述第二物体之间的距离。
9.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第一和第三透镜组中的各个透镜的直径均小于所述第二透镜组中任一透镜的直径。
10.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第二透镜组中的各个透镜的折射力均大于或等于0。
11.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第三组透镜中的各个透镜的折射力均为负折射力。
12.根据权利要求11所述的投影光学***，其中，所述第三组透镜包括至少两个透镜。
13.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组中的至少一个透镜具有至少一个非球面表面，其中，所述非球面表面与该非球面表面的最佳拟合球面之间的轴向距离大于1.0mm。
14.根据权利要求13所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组还包括孔径光阑，并且其中所述至少一个非球面透镜布置在所述孔径光阑和所述第二物体之间。
15.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第三和第四透镜组中的至少两个透镜具有至少一个非球面表面，其中，所述各非球面表面与该非球面表面的最佳拟合球面之间的轴向距离大于1.0mm。
16.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第三和第四透镜组中的至少三个透镜具有至少一个非球面表面，其中，所述各非球面表面与该非球面表面的最佳拟合球面之间的轴向距离大于1.0mm。
17.根据权利要求1或2所述的投影光学***，该投影光学***具有沿着所述光轴从所述第一物体向着所述第二物体延伸的区域，该区域中满足以下条件：
|hau/hfc|＜1.2，
其中：
hau是所述光轴与从所述第一物体的距该光轴距离最大的点发出的场射线之间的距离，其中所述场射线沿与所述光轴平行的方向从该点发出，并且
hfc是所述光轴与从所述第一物体的轴向点发出的角射线之间的距离，其中所述角射线与所述光轴形成最大可能角度，使得该射线有助于将所述第一物体成像到所述第二物体的所述区域中，
其中，hau和hfc是在所述光轴上的同一位置测量的；并且
其中，所述区域延伸越过所述第一物体和所述第二物体之间的整个距离的至少三分之一的距离。
18.根据权利要求17所述的投影光学***，其中，在所述区域中布置有至少两个非球面表面。
19.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第二透镜组中的任何两个紧邻的透镜之间在所述光轴上的距离都小于L/100，其中L是所述第一物体和所述第二物体之间的距离。
20.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第二透镜组中的任何两个紧邻的透镜之间在所述光轴上的距离至少有一个大于L/50，其中L是所述第一物体和所述第二物体之间的距离。
21.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组的总长度与该第四透镜组的所有透镜的厚度总和之差与该第四透镜组的总长度之比大于0.3。
22.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第一透镜组包括至少两个透镜。
23.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组包括至少五个透镜。
24.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组包括孔径光阑，并且其中，在所述孔径光阑与所述第二物体之间布置有至少三个透镜。
25.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组包括孔径光阑，并且其中，在所述孔径光阑与所述第二物体之间布置有至少两个透镜。
26.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组的至少两个透镜由具有特性双折射的结晶体材料制成。
27.根据权利要求26所述的投影光学***，其中，由结晶体材料制成的所述至少两个透镜的晶体取向相对于彼此定向，使得由结晶体材料制成的这两个透镜中的第一透镜的至少一部分双折射被由结晶体材料制成的这两个透镜中的第二透镜补偿。
28.根据权利要求26所述的投影光学***，其中，所述结晶体材料包括CaF2。
29.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组的至少一个透镜为非球面透镜，该非球面透镜具有非球面形状的表面，从而当沿径向看时，该表面具有至少一个凹部和至少一个凸部。
30.根据权利要求29所述的投影光学***，其中，当沿径向看时，所述至少一个非球面透镜的所述表面具有两个凹部和在这两个凹部之间的一个凸部。
31.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，所述第四透镜组中的两个紧邻的透镜之间在所述光轴上的距离至少有一个大于L/50，其中L是所述第一物体和所述第二物体之间的距离。
32.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，该投影光学***构造成使得所述第二物体布置成在聚焦时在距该投影光学***中最靠近所述第二物体布置的透镜2mm至10mm的工作距离处。
33.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，该投影光学***在所述第二物体侧的数值孔径为0.7以上。
34.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，该投影光学***在所述第二物体侧的数值孔径为0.9以上。
35.根据权利要求1或2所述的投影光学***，其中，该投影光学***为反折射投影光学***。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151364A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR101376931B1 (ko) 2004-05-17 2014-03-25 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
CN102540419B (zh) * 2010-12-31 2014-01-22 上海微电子装备有限公司 一种大视场投影光刻物镜
CN105759543A (zh) * 2014-12-17 2016-07-13 深圳市亿思达科技集团有限公司 投影光学***及投影装置
WO2017026945A1 (en) 2015-08-13 2017-02-16 Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. Illumination assembly for 3d data acquisition
DE102017207582A1 (de) * 2017-05-05 2018-11-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102018106236B3 (de) * 2018-03-16 2019-09-12 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh Objektiv mit fester Brennweite
CN111381346B (zh) * 2018-12-30 2021-05-11 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种光刻投影物镜

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1245984A2 (en) * 2001-03-27 2002-10-02 Nikon Corporation A projection optical system, a projection exposure apparatus, and a projection exposure method

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5523193A (en) 1988-05-31 1996-06-04 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for patterning and imaging member
DE59105735D1 (de) 1990-05-02 1995-07-20 Fraunhofer Ges Forschung Belichtungsvorrichtung.
JP3235077B2 (ja) 1991-09-28 2001-12-04 株式会社ニコン 露光装置、該装置を用いた露光方法、及び該装置を用いた半導体素子製造方法
US5229872A (en) 1992-01-21 1993-07-20 Hughes Aircraft Company Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning
JP3360387B2 (ja) 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
US5808814A (en) 1996-07-18 1998-09-15 Nikon Corporation Short wavelength projection optical system
JP2000356741A (ja) * 1999-06-14 2000-12-26 Canon Inc 投影光学系
WO2001023933A1 (fr) 1999-09-29 2001-04-05 Nikon Corporation Systeme optique de projection
DE19955984A1 (de) 1999-11-20 2001-05-23 Zeiss Carl Optische Abbildungsvorrichtung, insbesondere Objektiv mit wenigstens einer Systemblende
TW538256B (en) * 2000-01-14 2003-06-21 Zeiss Stiftung Microlithographic reduction projection catadioptric objective
KR100866818B1 (ko) 2000-12-11 2008-11-04 가부시키가이샤 니콘 투영광학계 및 이 투영광학계를 구비한 노광장치
DE10064685A1 (de) 2000-12-22 2002-07-04 Zeiss Carl Lithographieobjektiv mit einer ersten Linsengruppe, bestehend ausschließlich aus Linsen positiver Brechkraft
JP2002323653A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系，投影露光装置および投影露光方法
JP2002323652A (ja) * 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系，該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
DE10133841A1 (de) 2001-07-18 2003-02-06 Zeiss Carl Objektiv mit Kristall-Linsen
US7190527B2 (en) 2002-03-01 2007-03-13 Carl Zeiss Smt Ag Refractive projection objective
AU2003210214A1 (en) 2002-03-01 2003-09-16 Carl Zeiss Smt Ag Refractive projection lens
DE10210899A1 (de) * 2002-03-08 2003-09-18 Zeiss Carl Smt Ag Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie
WO2003093904A1 (de) * 2002-05-03 2003-11-13 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv höchster apertur
TWI237307B (en) 2003-05-01 2005-08-01 Nikon Corp Optical projection system, light exposing apparatus and light exposing method
DE10394297D2 (de) 2003-10-22 2006-07-06 Zeiss Carl Smt Ag Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie
KR101109844B1 (ko) 2003-12-02 2012-04-06 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 프로젝션 광학 시스템

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1245984A2 (en) * 2001-03-27 2002-10-02 Nikon Corporation A projection optical system, a projection exposure apparatus, and a projection exposure method

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Publication number Publication date
WO2006069795A2 (en) 2006-07-06
KR20070097083A (ko) 2007-10-02
US20070268594A1 (en) 2007-11-22
US7957069B2 (en) 2011-06-07
JP2008527403A (ja) 2008-07-24
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