CN1811988B - 存储单元阵列偏置方法以及半导体存储器件 - Google Patents
存储单元阵列偏置方法以及半导体存储器件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1811988B CN1811988B CN2006100050294A CN200610005029A CN1811988B CN 1811988 B CN1811988 B CN 1811988B CN 2006100050294 A CN2006100050294 A CN 2006100050294A CN 200610005029 A CN200610005029 A CN 200610005029A CN 1811988 B CN1811988 B CN 1811988B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- storage unit
- voltage
- lines
- line
- word line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E04—BUILDING
- E04B—GENERAL BUILDING CONSTRUCTIONS; WALLS, e.g. PARTITIONS; ROOFS; FLOORS; CEILINGS; INSULATION OR OTHER PROTECTION OF BUILDINGS
- E04B1/00—Constructions in general; Structures which are not restricted either to walls, e.g. partitions, or floors or ceilings or roofs
- E04B1/18—Structures comprising elongated load-supporting parts, e.g. columns, girders, skeletons
- E04B1/24—Structures comprising elongated load-supporting parts, e.g. columns, girders, skeletons the supporting parts consisting of metal
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E04—BUILDING
- E04C—STRUCTURAL ELEMENTS; BUILDING MATERIALS
- E04C3/00—Structural elongated elements designed for load-supporting
- E04C3/02—Joists; Girders, trusses, or trusslike structures, e.g. prefabricated; Lintels; Transoms; Braces
- E04C3/04—Joists; Girders, trusses, or trusslike structures, e.g. prefabricated; Lintels; Transoms; Braces of metal
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
- G11C11/5678—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using amorphous/crystalline phase transition storage elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E04—BUILDING
- E04C—STRUCTURAL ELEMENTS; BUILDING MATERIALS
- E04C3/00—Structural elongated elements designed for load-supporting
- E04C3/02—Joists; Girders, trusses, or trusslike structures, e.g. prefabricated; Lintels; Transoms; Braces
- E04C3/04—Joists; Girders, trusses, or trusslike structures, e.g. prefabricated; Lintels; Transoms; Braces of metal
- E04C2003/0404—Joists; Girders, trusses, or trusslike structures, e.g. prefabricated; Lintels; Transoms; Braces of metal beams, girders, or joists characterised by cross-sectional aspects
- E04C2003/0443—Joists; Girders, trusses, or trusslike structures, e.g. prefabricated; Lintels; Transoms; Braces of metal beams, girders, or joists characterised by cross-sectional aspects characterised by substantial shape of the cross-section
- E04C2003/0447—Joists; Girders, trusses, or trusslike structures, e.g. prefabricated; Lintels; Transoms; Braces of metal beams, girders, or joists characterised by cross-sectional aspects characterised by substantial shape of the cross-section circular- or oval-shaped
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
- G11C2013/009—Write using potential difference applied between cell electrodes
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
- G11C2213/72—Array wherein the access device being a diode
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
提供了一种在数据写入操作期间偏置存储单元阵列的方法和一种半导体存储器件。该半导体存储器件包括:存储单元阵列,其包括多个存储单元,其中,存储单元的第一端连接到多条第一线中的对应第一线,且存储单元的第二端连接到多条第二线中的对应第二线;以及偏置电路,用于将选择的第二线偏置到第一电压,并且将未被选择的第二线偏置到第二电压。
Description
本申请要求2005年1月25日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2005-0006581号的优先权,该申请通过引用全部在此并入。
技术领域
本发明涉及半导体存储器件,尤其涉及半导体存储器件和用于控制存储单元阵列的偏置电平的数据写入方法。
背景技术
相变随机存取存储器(PRAM)是非易失性存储器件,其使用例如Ge-Sb-Te(GST)的相变材料来存储数据,该相变材料的阻抗根据由于温度变化引起的相位转变而改变。
图1说明了PRAM的单位单元(unit cell)C等效电路。参考图1,单位单元C包括P-N二极管D和相变材料GST。相变材料GST连接到位线BL和二极管D的P结。字线WL连接到二极管D的N结。
PRAM单位单元C的相变材料GST取决于施加到其的温度和加热时间而进入到晶态(crystalline state)或者非晶态(amorphous state)。这使数据能够被存储在PRAM单元中。通常,相变材料GST的相位转变需要高于900℃的温度。这样的温度通过焦耳加热获得,其使用流过PRAM单元的电流来增加或者降低其温度。
现在描述相变材料GST的写入操作。首先,通过电流将相变材料GST加热到其熔化温度之上,然后使其迅速冷却。然后,该相变材料GST进入非晶态并存储数据“1”。这个状态被称为复位状态。然后,将相变材料GST加热到其结晶温度之上预定的时间段并冷却。接下来,相变材料GST进入到晶态并存储数据“0”。这个状态被称为置位状态。
现在将描述相变材料GST的读取操作。在使用用位线和字线选择存储单元之后,将外部电流提供到所选择的存储单元。然后,基于根据选定存储单元的相变材料GST的阻抗值而导致的电压改变来确定存储在选定存储单 元中的数据是“1”还是“0”。
图2说明了包括存储单元阵列MAY的半导体存储器件200,该MAY包括多个图1所示的PRAM单元单元C。在美国专利第6,667,900和6,567,296号中公开了该存储单元阵列MAY的示例结构。
参考图2,半导体存储器件200包括存储单元阵列MAY和字线驱动器210。该存储单元阵列MAY包括连接到对应的位线BL0~BLk-1以及字线WL0、WL1、和WL2的多个单位单元C。尽管图2中仅示出k条位线BL0~BLk-1和三条字线WL0、WL1、和WL2,但是位线和字线的数量不限于此。
对于数据写入操作,如果首先选择了位线BL0~BLk-1之一,则字线驱动器210选择字线WL0、WL1、和WL2之一。然后,将选定字线设置为低电平。如果连续地选择第一位线BL0和第一字线WL0,则施加到第一位线BL0的写入电流流经连接在第一位线BL0和第一字线WL0之间的单位单元。然后,单位单元的相变材料的状态改变以存储数据。
字线WL0、WL1、和WL2中的每一条具有它自己的阻抗R_WL。由于当写入数据时字线WL0、WL1、和WL2通过电流,所以应该使阻抗R_WL最小化。然而,由于字线WL0、WL1、和WL2具有高阻抗,所以连接到字线WL0、WL1、和WL2的单位单元的数量受限。此外,字线驱动器210应该有足够大的功率来驱动字线WL0、WL1、和WL2。
当将数据写入到连接在第一位线BL0和第一字线WL0之间的单位单元时,将写入电流施加到第一位线BL0,并且通过字线驱动器210将第一字线WL0设置到低电平。然后,第二和第三字线WL1和WL2处于浮动状态。第一位线BL0由于被施加了写入电流而保持相对高的电压,而第二和第三字线WL1和WL2在浮动状态保持相对低的电平。因此,电流流经连接在第一字线WL0以及第二和第三字线WL1和WL2之间的单位单元,其可以改变在那些单位单元中的相变材料的状态。
由于电流可能流过浮动的未被选择的字线,所以难以增加半导体存储器件的操作速度和执行稳定读出(stable sensing)。因而,存在对能够在增加其操作速度的同时执行稳定读出操作的半导体存储器件的需要。
发明内容
提供了一种半导体存储器件和数据写入方法,其通过保持未被选择字线 中的常量电压而防止电流从所选择的位线流入到该未被选择的字线,从而使得能够稳定读出和增加半导体存储器件的操作速度。
根据本发明的一个方面,提供了一种半导体存储器件,其包括:存储单元阵列,包括多个存储单元,其中存储单元的第一端连接到多条第一线中的对应第一线,且存储单元的第二端连接到多条第二线中的对应第二线;以及偏置电路,用于将所述多条第二线中已选择了的第二线偏置到第一固定电压,并且将未被选择的第二线偏置到第二电压,其中该第二电压是通过从电源电压中减去预定电压而获得的,并且其中该偏置电路包括二极晶体管,并且该预定电压是所述二极晶体管的阈值电压。
第一固定电压可为地电压。所述偏置电路还可包括:NMOS晶体管,其连接在所述多条第二线和地电压之间;以及PMOS晶体管,其连接在所述多条第二线和电源电压之间。
NMOS晶体管的漏极可连接到所述多条第二线,源极连接到地电压,而且主字线信号施加到NMOS晶体管的栅极;以及PMOS晶体管的漏极连接到第二线,源极连接到电源电压,而且主字线信号施加到PMOS晶体管的栅极。
半导体存储器件还可包括:字线驱动器,其响应于字线使能信号和块地址而生成主字线信号。
半导体存储器件的二极晶体管连接在电源电压和PMOS晶体管之间。可以通过从电源电压中减去该二极晶体管的阈值电压而获得该第二电压。
该偏置电路可包括反相器,其用于响应主字线信号而将选定第二线偏置到第一电压。该半导体存储器件还可包括:字线驱动器,其响应于字线使能信号和块地址而生成主字线信号。每一个存储单元可包括:相变材料,其连接到所述多条第一线之一;以及二极管,其连接在相变材料和所述多条第二线之一之间。
根据本发明的又一个方面,提供了一种将数据写入到选定存储单元的方法,该选定存储单元连接到包括多个存储单元的半导体存储器件的选择的第一线和选择的第二线,在所述多个存储单元中,存储单元的第一端连接到多条第一线的对应第一线,且存储单元的第二端连接到多条第二线的对应第二线,该方法包括:将选择的第二线偏置到第一电压;使用二极晶体管将未被选择的第二线偏置到第二电压,该第二电压是通过从电源电压中减去预定电 压而获得的,其中该预定电压是所述二极晶体管的阈值电压。
根据本发明的又一个方面,提供了一种半导体存储器件,其包括:多条第一线和多条第二线;以及存储单元阵列,其包括多个存储单元,其中,存储单元的第一端连接到所述多条第一线中的对应一条,且存储单元的第二端连接到所述多条第二线中的对应一条;其中,选择的第二线被偏置到第一固定电压,以及所述多条第二线中的未被选择的第二线被使用二极晶体管偏置到第二电压,其中该第二电压是通过从电源电压中减去预定电压而获得的,并且其中该预定电压是所述二极晶体管的阈值电压。
该半导体存储器件还可包括:控制第二线的电压的偏置电路,其中该偏置电路包括:NMOS晶体管,其将所选择的第二线偏置到第一固定电压;以及PMOS晶体管,其将所述多条第二线中的未被选择的第二线偏置到第二电压。
根据本发明的又一个方面,提供了一种半导体存储器件,其包括:存储单元阵列,其包括多个相变存储单元,其中,相变存储单元的第一端连接到多条第一线中的对应第一线,且相变存储单元的第二端连接到多条第二线中的对应第二线;以及为所述多条第二线中的每一条而提供的多个反相器,用于响应于主字线信号而将选择的第二线偏置到第一固定电压,并且将未被选择的第二线偏置到第二电压。
附图说明
通过参考附图详细描述本发明的示范实施例,本发明的上面和其它特征将变得更为明显,其中:
图1说明了PRAM的单位单元的等效电路;
图2说明了包括存储单元阵列的半导体存储器件,其中该存储单元阵列包括多个图1所示的单位单元;
图3说明了根据本发明的示范实施例的半导体存储器件;
图4说明了根据本发明的示范实施例的又一个半导体存储器件;以及
图5说明了根据本发明的示范实施例的又一个半导体存储器件。
具体实施方式
现在将参考附图更完整地描述本发明,附图中示出了本发明的示范实施 例。在图中相同的参考符号始终表示相同的元件。
图3说明了根据本发明实施例的半导体存储器件300。参考图3,半导体存储器件300包括:存储单元阵列MAY;偏置电路BS0、BS1、和BS2;以及字线驱动器310。该半导体存储器件300是PRAM,其包括存储单元,该存储单元具有:例如GST的相变材料,其连接到第一线;以及二极管,连接在相变材料和第二线之间。该PRAM可类似于或者相同于图1所示的PRAM。
如图3所示,半导体存储器件300连接到***电路330和列解码器320。***电路330可包括写入驱动器(没有示出)和读出放大电路(没有示出)。列解码器320包括晶体管TR0、TR1、~TRn-1,其响应于列选择信号Y0~Yn-1而接通或关断。
存储单元阵列MAY包括多个存储单元,其中,存储单元的第一端连接到多为n条的第一线BL0~BLn-1中的对应第一线,其中n为自然数,并且存储单元的第二端连接到多条第二线LWL0、LWL1、和LWL2中的对应第二线。多条第一线BL0~BLn-1是位线,而多条第二线LWL0、LWL1、和LWL2是字线。
尽管图3中仅示出三条第二线LWL0、LWL1、和LWL2,但是第二线的数量不限于此。
偏置电路BS0、BS1、以及BS2将所选择的第二线偏置到第一电压,并将未被选择的第二线偏置到第二电压。该第一电压是地电压,而该第二电压是电源电压VDD。术语“选择的”意指通过字线驱动器310激活对应的第二线,以将数据写入到连接至第二线的存储单元中。
半导体存储器件300将选定字线的电压保持在地电压,并防止未被选择的字线浮动,从而防止电流从选定位线流到未被选择的字线。以这种方式,半导体存储器件300可以执行稳定读出,并增加其操作速度。
如图3进一步所示,偏置电路BS0、BS1、和BS2包括:NMOS晶体管NTR01~NTR23,其连接在第二线LWL0、LWL1、和LWL2中的每一条和地电压VSS之间;以及PMOS晶体管PTR0、PTR1、PTR2,其连接在第二线LWL0、LWL1、和LWL2中的每一条和电源电压VDD之间。
即使仅有三个NMOS晶体管连接到第二线LWL0、LWL1、和LWL2中的每一条,NMOS晶体管的数目也不限于此。此外,NMOS晶体管的数目可以根据连接到第二线LWL0、LWL1、和LWL2的存储单元数量以及第二线LWL0、LWL1、和LWL2的长度而变化。
现在将更详细地描述偏置电路BS0、BS1、和BS2的结构和操作。NMOS晶体管NTR01~NTR23的漏极连接到第二线LWL0、LWL1、和LWL2,而源极连接到地电压VSS,而且主字线信号SWL0、SWL1、和SWL2施加到NMOS晶体管NTR01~NTR23的栅极。
字线驱动器310响应于字线使能信号X0、X1和X2以及块地址BLK0、 BLK1、和BLK2而生成主字线信号SWL0、SWL1、和SWL2。对应于选定第二线的主字线信号具有高电平,而且对应于未被选择的第二线的主字线信号具有低电平。
例如,当激活列解码器320的第一列选择信号Y0以接通第一晶体管TR0时,将写入电流施加到第一位线BL0。然后,将数据写入到连接在第一位线BL0和第一字线LWL0(其可为本地字线)之间的存储单元。
如果以高电平输入字线使能信号X0和第一块地址BLK0,则″与非″(NAND)门N0和反相器I0生成高电平的第一主字线信号SWL0。然后,以高电平生成第一主字线信号SWL0,并且以低电平生成其它主字线信号SWL1和SWL2,以选择第一字线LWL0。
第一偏置电路BS0的NMOS晶体管NTR01~NTR23响应于第一主字线信号SWL0的高电平而接通,而且第一字线LWL0变为低电平。
第一偏置电路BS0的PMOS晶体管PTR0关断。施加到第一位线BL0的写入电流通过存储单元和第一字线LWL0而流到地,以便将数据存储在存储单元中。
由低电平的第二和第三主字线信号SWL1和SWL2接通第二和第三偏置电路BS1和BS2的PMOS晶体管PTR1和PTR2,而且第二和第三字线LWL1和LWL2的电压变为电源电压VDD。
由于第二和第三字线LWL1和LWL2处于电源电压VDD处,所以施加到第一位线BL0的写入电流不流向第二和第三字线LWL1和LWL2。这样,由于与连接到第一位线BL0和第一字线LWL0的存储单元不同的存储单元没有受到第一位线BL0的写入电流的影响,所以其可以稳定地保持数据。
图4说明了根据本发明的又一个实施例的半导体存储器件400。半导体存储器件400具有与图3所示的半导体存储器件300相同或相似的结构和操作。然而,半导体存储器件400的偏置电路BS0、BS1和BS2的结构不同于半导体存储器件300的偏置电路BS0、BS1和BS2的结构。
例如,半导体存储器件400的偏置电路BS0、BS1和BS2包括连接在电源电压VDD以及PMOS晶体管PTR0、PTR1和PTR2的源极之间的二极晶体管DTR0、DTR1和DTR2。未由二极晶体管DTR0、DTR1和DTR2选择的字线(例如,第二和第三字线LWL1和LWL2)处于通过从电源电压VDD中减去该二极晶体管DTR0、DTR1和DTR2的阈值电压而获得的电压处。
在图4中,施加到位线以产生写入电流的电压低于电源电压VDD,并且未被选择的字线保持在低于电源电压VDD的电压上。
图5说明了根据本发明的实施例的又一个半导体存储器件500。半导体存储器件500具有与图3所示的半导体存储器件300相同或相似的结构。然而,半导体存储器件500的偏置电路BS0、BS1和BS2的结构不同于半导体存储器件300的偏置电路BS0、BS1和BS2的结构。
如图5所示,半导体存储器件500的偏置电路BS0、BS1和BS2包括反相器101~123,其用于响应主字线信号SWL0、SWL1、和SWL2而将选定第二线偏置到第一电压。反相器101~123执行包括在图3所示的偏置电路BS0、BS1和BS2中的NMOS晶体管NTR01~NTR23和PMOS晶体管PTR0、PTR1、PTR2的功能。例如,以高电平生成主字线信号SWL0,而以低电平生成其它主字线信号SWL1和SWL2。
第一偏置电路BS0的反相器101、102和103将第一字线LWL0的电压反相到低电平。第二和第三偏置电路BS1和BS2的反相器111~123将第二和第三字线LWL2和LWL3的电压反相到高电平。半导体存储器件500的偏置电路BS0、BS1和BS2执行与半导体存储器件300的偏置电路BS0、BS1和BS2相同或相似的功能。
现在将描述根据本发明实施例的数据写入方法。半导体存储器件300、400或500之一可以使用该数据写入方法。此外,该数据写入方法可以由与半导体存储器件300、400或500不同的、包括多个存储单元的半导体存储器件使用,其中,存储单元的第一端连接到多条第一线中的对应第一线,并且第二端连接到多条第二线中的对应第二线。
在数据写入方法中,将数据写入到连接至半导体存储器件的选定第一线和选定第二线的选定存储单元。更具体地,将选定第一线偏置到预定电压且第一线是位线,并且所选定的第一线是连接到用于施加数据的存储单元的位线。
然后,将用于写入数据的写入电流施加到位线,并且将所选择的第二线偏置到第一电压。所选择的第二线是连接到用于写入数据的存储单元的字线。第一电压降低连接到用于写入数据的存储单元的字线的电压。
将未被选择的第二线偏置到第二电压,且该未被选择的第二线是与连接到用于写入数据的存储单元的字线不同的字线。第二电压降低与连接到用于 写入数据的存储单元的字线不同的未被选择的第二线的电压。以这个方式,防止电流从选定位线流到未被选择的字线。
尽管已经参考本发明的示范实施例具体示出和描述本发明,但是本领域的普通技术人员将理解,可不背离由权利要求所限定的本发明的精神和范围在其中进行形式和细节上的各种改变。
Claims (23)
1.一种半导体存储器件,其包括:
存储单元阵列,包括多个存储单元,其中,存储单元的第一端连接到多条第一线中的对应第一线,且存储单元的第二端连接到多条第二线中的对应第二线;以及
偏置电路,用于将所述多条第二线中已选择了的第二线偏置到第一固定电压,并且将未被选择的第二线偏置到第二电压,其中该第二电压是通过从电源电压中减去预定电压而获得的,并且
其中该偏置电路包括二极晶体管,并且该预定电压是所述二极晶体管的阈值电压。
2.根据权利要求1的半导体存储器件,其中该第一固定电压是地电压。
3.根据权利要求2的半导体存储器件,其中所述偏置电路还包括:
NMOS晶体管,连接在所述多条第二线和地电压之间;以及
PMOS晶体管,连接在所述多条第二线和电源电压之间。
4.根据权利要求3的半导体存储器件,其中,NMOS晶体管的漏极连接到所述多条第二线,源极连接到地电压,而且主字线信号施加到NMOS晶体管的栅极;以及
PMOS晶体管的漏极连接到所述多条第二线,源极连接到电源电压,而且主字线信号施加到PMOS晶体管的栅极。
5.根据权利要求4的半导体存储器件,还包括:
字线驱动器,其响应于字线使能信号和块地址而生成主字线信号。
6.根据权利要求3的半导体存储器件,
其中该二极晶体管连接在电源电压和PMOS晶体管之间。
7.根据权利要求6的半导体存储器件,其中所述第二电压通过从电源电压中减去所述二极晶体管的阈值电压而获得。
8.根据权利要求1的半导体存储器件,其中该偏置电路包括:
反相器,其用于响应于主字线信号而将所选择的第二线偏置到第一电压。
9.根据权利要求8的半导体存储器件,还包括:
字线驱动器,其响应于字线使能信号和块地址而生成主字线信号。
10.根据权利要求1的半导体存储器件,其中每一个存储单元包括:
相变材料,其连接到所述多条第一线之一;以及
二极管,其连接在相变材料和所述多条第二线之一之间。
11.根据权利要求1的半导体存储器件,其中,所述多条第一线是位线,而所述多条第二线是字线。
12.一种将数据写入到选定存储单元的方法,该选定存储单元连接到包括多个存储单元的半导体存储器件的选择的第一线和选择的第二线,在所述多个存储单元中,存储单元的第一端连接到多条第一线的对应第一线,且存储单元的第二端连接到多条第二线的对应第二线,该方法包括:
将选择的第二线偏置到第一电压;
使用二极晶体管将未被选择的第二线偏置到第二电压,该第二电压是通过从电源电压中减去预定电压而获得的,
其中该预定电压是所述二极晶体管的阈值电压。
13.根据权利要求12的方法,其中该第一电压是地电压。
14.一种半导体存储器件,其包括:
多条第一线和多条第二线;以及
存储单元阵列,其包括多个存储单元,其中,存储单元的第一端连接到所述多条第一线中的对应一条,且存储单元的第二端连接到所述多条第二线中的对应一条;
其中,选择的第二线被偏置到第一固定电压,以及
所述多条第二线中的未被选择的第二线被使用二极晶体管偏置到第二电压,
其中该第二电压是通过从电源电压中减去预定电压而获得的,并且
其中该预定电压是所述二极晶体管的阈值电压。
15.根据权利要求14的半导体存储器件,其中该第一固定电压是地电压。
16.根据权利要求14的半导体存储器件,还包括:
偏置电路,其控制第二线的电压,
其中该偏置电路包括:
NMOS晶体管,其将选择的第二线偏置到第一固定电压;以及
PMOS晶体管,其将所述多条第二线中的未被选择的第二线偏置到第二电压。
17.根据权利要求16的半导体存储器件,其中NMOS晶体管的漏极连接到所述多条第二线,源极连接到地电压,而且主字线信号施加到NMOS晶体管的栅极;以及
PMOS晶体管的漏极连接到所述多条第二线,源极连接到电源电压,而且主字线信号施加到PMOS晶体管的栅极。
18.根据权利要求16的半导体存储器件,
其中该二极晶体管连接在电源电压和PMOS晶体管之间。
19.根据权利要求18的半导体存储器件,其中所述第二电压通过从电源电压中减去所述二极晶体管的阈值电压而获得。
20.根据权利要求16的半导体存储器件,还包括:
字线驱动器,其响应于字线使能信号和块地址而生成主字线信号。
21.一种半导体存储器件,其包括:
存储单元阵列,其包括多个相变存储单元,其中,相变存储单元的第一端连接到多条第一线中的对应第一线,且相变存储单元的第二端连接到多条第二线中的对应第二线;以及
为所述多条第二线中的每一条而提供的多个反相器,用于响应于主字线信号而将选择的第二线偏置到第一固定电压,并且将未被选择的第二线偏置到第二电压。
22.根据权利要求21的半导体存储器件,其中,所述多个反相器的输入端接收主字线信号,并且反相器的输出端连接到第二线,
对应于选择的第二线的主字线信号处于高电平;以及
对应于未被选择的第二线的主字线信号处于低电平。
23.根据权利要求22的半导体存储器件,还包括:
字线驱动器,其响应于字线使能信号和块地址而生成主字线信号。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050006581A KR100688524B1 (ko) | 2005-01-25 | 2005-01-25 | 메모리 셀 어레이의 바이어싱 방법 및 반도체 메모리 장치 |
KR6581/05 | 2005-01-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1811988A CN1811988A (zh) | 2006-08-02 |
CN1811988B true CN1811988B (zh) | 2012-05-30 |
Family
ID=36218411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2006100050294A Active CN1811988B (zh) | 2005-01-25 | 2006-01-18 | 存储单元阵列偏置方法以及半导体存储器件 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7317655B2 (zh) |
EP (1) | EP1684306B1 (zh) |
JP (1) | JP5101017B2 (zh) |
KR (1) | KR100688524B1 (zh) |
CN (1) | CN1811988B (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7710767B2 (en) * | 2005-01-25 | 2010-05-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory cell array biasing method and a semiconductor memory device |
US8248842B2 (en) * | 2005-01-25 | 2012-08-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory cell array biasing method and a semiconductor memory device |
US8432729B2 (en) | 2010-04-13 | 2013-04-30 | Mosaid Technologies Incorporated | Phase-change memory with multiple polarity bits having enhanced endurance and error tolerance |
US8462577B2 (en) * | 2011-03-18 | 2013-06-11 | Intel Corporation | Single transistor driver for address lines in a phase change memory and switch (PCMS) array |
KR102656527B1 (ko) * | 2019-04-05 | 2024-04-15 | 삼성전자주식회사 | 메모리 장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4884238A (en) * | 1988-03-09 | 1989-11-28 | Honeywell Inc. | Read-only memory |
CN1271945A (zh) * | 1999-04-26 | 2000-11-01 | 日本电气株式会社 | 非易失性半导体存储器 |
WO2003085675A2 (en) * | 2002-04-04 | 2003-10-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Phase-change memory device |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6042554B2 (ja) * | 1980-12-24 | 1985-09-24 | 富士通株式会社 | Cmosメモリデコ−ダ回路 |
US4598386A (en) * | 1984-04-18 | 1986-07-01 | Roesner Bruce B | Reduced-area, read-only memory |
US5818749A (en) * | 1993-08-20 | 1998-10-06 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit memory device |
JP3561012B2 (ja) | 1994-11-07 | 2004-09-02 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路装置 |
KR100248868B1 (ko) * | 1996-12-14 | 2000-03-15 | 윤종용 | 플래시 불휘발성 반도체 메모리 장치 및 그 장치의 동작 모드 제어 방법 |
JP3198998B2 (ja) * | 1997-09-11 | 2001-08-13 | 日本電気株式会社 | 半導体不揮発性メモリ |
JP2000276882A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-10-06 | Nec Corp | 不揮発性半導体記憶装置とその記憶データの消去方法 |
US6144610A (en) | 1999-04-20 | 2000-11-07 | Winbond Electronics Corporation | Distributed circuits to turn off word lines in a memory array |
US6084804A (en) * | 1999-05-04 | 2000-07-04 | Lucent Technologies Inc. | Memory row driver with parasitic diode pull-down function |
KR100301930B1 (ko) * | 1999-06-10 | 2001-11-01 | 윤종용 | 세그먼트 플레이트 라인 스킴을 갖는 불휘발성 강유전체 랜덤액세스 메모리 장치 및 플레이트 라인 세그먼트 구동 방법 |
US6452858B1 (en) * | 1999-11-05 | 2002-09-17 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
KR100313787B1 (ko) * | 1999-12-30 | 2001-11-26 | 박종섭 | 반도체 메모리 장치의 워드라인 구동 회로 |
KR100390145B1 (ko) * | 2000-12-12 | 2003-07-04 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 반도체 메모리 장치의 프로그램 방법 |
US6618295B2 (en) | 2001-03-21 | 2003-09-09 | Matrix Semiconductor, Inc. | Method and apparatus for biasing selected and unselected array lines when writing a memory array |
US6462984B1 (en) | 2001-06-29 | 2002-10-08 | Intel Corporation | Biasing scheme of floating unselected wordlines and bitlines of a diode-based memory array |
KR100449070B1 (ko) * | 2001-11-23 | 2004-09-18 | 한국전자통신연구원 | 강유전체 메모리 셀 어레이 및 그를 이용한 데이터 저장방법 |
US6667900B2 (en) * | 2001-12-28 | 2003-12-23 | Ovonyx, Inc. | Method and apparatus to operate a memory cell |
KR100827518B1 (ko) | 2001-12-29 | 2008-05-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | 전압 팔로워를 이용한 상변환 메모리 장치 |
US6678190B2 (en) | 2002-01-25 | 2004-01-13 | Ememory Technology Inc. | Single poly embedded eprom |
US6678189B2 (en) | 2002-02-25 | 2004-01-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method and system for performing equipotential sensing across a memory array to eliminate leakage currents |
JP4541651B2 (ja) * | 2003-03-13 | 2010-09-08 | シャープ株式会社 | 抵抗変化機能体、メモリおよびその製造方法並びに半導体装置および電子機器 |
WO2004084228A1 (en) * | 2003-03-18 | 2004-09-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Phase change memory device |
KR100535651B1 (ko) * | 2003-06-30 | 2005-12-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | 플래시 메모리 셀과, 낸드 및 노아 타입의 플래시 메모리장치의 독출방법 |
-
2005
- 2005-01-25 KR KR1020050006581A patent/KR100688524B1/ko active IP Right Grant
-
2006
- 2006-01-09 US US11/327,967 patent/US7317655B2/en active Active
- 2006-01-18 CN CN2006100050294A patent/CN1811988B/zh active Active
- 2006-01-21 EP EP06001272.1A patent/EP1684306B1/en active Active
- 2006-01-25 JP JP2006016845A patent/JP5101017B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4884238A (en) * | 1988-03-09 | 1989-11-28 | Honeywell Inc. | Read-only memory |
CN1271945A (zh) * | 1999-04-26 | 2000-11-01 | 日本电气株式会社 | 非易失性半导体存储器 |
WO2003085675A2 (en) * | 2002-04-04 | 2003-10-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Phase-change memory device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006209951A (ja) | 2006-08-10 |
KR20060085757A (ko) | 2006-07-28 |
CN1811988A (zh) | 2006-08-02 |
EP1684306B1 (en) | 2013-04-24 |
US20060164896A1 (en) | 2006-07-27 |
EP1684306A3 (en) | 2007-04-04 |
US7317655B2 (en) | 2008-01-08 |
KR100688524B1 (ko) | 2007-03-02 |
EP1684306A2 (en) | 2006-07-26 |
JP5101017B2 (ja) | 2012-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100744114B1 (ko) | 상 변화 메모리 장치 및 그 워드라인 구동방법 | |
KR100674992B1 (ko) | 구동전압 레벨을 변경할 수 있는 상 변화 메모리 장치 | |
KR100597636B1 (ko) | 상 변화 반도체 메모리 장치 | |
KR100674997B1 (ko) | 상 변화 메모리 장치 및 상 변화 메모리 장치의 독출 동작제어방법 | |
KR100630744B1 (ko) | 워드라인 구동회로의 레이아웃 면적을 감소시킨 반도체메모리 장치 | |
JP5622715B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US7957180B2 (en) | Phase change memory device having decentralized driving units | |
US7499344B2 (en) | Integrated circuit memory having a read circuit | |
KR20090016195A (ko) | 상 변화 메모리 장치 | |
CN112289359B (zh) | 存储装置及操作该存储装置的方法 | |
KR20160015992A (ko) | 비휘발성 메모리 장치와 그 센싱 방법 | |
KR20090010603A (ko) | 상 변화 메모리 장치 | |
CN1811988B (zh) | 存储单元阵列偏置方法以及半导体存储器件 | |
KR101201858B1 (ko) | 반도체 메모리 장치 | |
KR101452956B1 (ko) | 저항 가변 메모리 장치 | |
US7710767B2 (en) | Memory cell array biasing method and a semiconductor memory device | |
KR100604935B1 (ko) | 코어 면적을 감소시킨 반도체 메모리 장치 | |
KR20100013125A (ko) | 반도체 장치, 이를 포함하는 반도체 시스템, 및 저항성메모리 셀의 프로그램 방법 | |
KR100905166B1 (ko) | 상 변화 메모리 장치 | |
KR100934853B1 (ko) | 상 변화 메모리 장치 | |
KR100934852B1 (ko) | 상 변화 메모리 장치 | |
US8248842B2 (en) | Memory cell array biasing method and a semiconductor memory device | |
KR20090016198A (ko) | 상 변화 메모리 장치 및 그 동작방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |