CN1802583A - 可变镜 - Google Patents

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Abstract

一种可以精确安装并且能够保持固定光路长度的可变镜(111)，包括：第一基板(201)，具有反射光的反射部(204)；以及第二基板(221)，与第一基板相对并具有用于改变反射部的形状和姿态中的至少一个的部件(222至225)。第二基板还包括形成在其与第一基板相对侧上的用于安装部件的安装区域(240)。

Description

可变镜
技术领域
本发明涉及一种可变镜，具体地，涉及用于例如对图像捕获装置中的图像模糊(摄像机抖动)进行校正的可变镜。
背景技术
日本专利申请特开No.2002-214662提出了具有倾斜角通过静电力而改变的反射面的可变镜，作为对图像捕获装置中的图像模糊进行校正的装置。日本专利申请特开平No.11-258678公开了一种在镜筒(lensbarrel)模块中具有弯曲光学***的图像捕获装置。
将可变镜接合到镜筒的重点在于反射面相对于接合面的位置的精度。然而，构成可变镜的部件具有多种变化因素。因此，常规上难以确保反射面的位置精度。
此外，如果使用可变镜来校正图像模糊，则尽管可变镜发生位移仍保持固定的光路长度是重要的。然而，维持固定的光路长度很困难。
因此，如果将可变镜接合到诸如镜筒的接合部件上，则常规上难以实现精确的接合。常规上也难以在可变镜发生位移时维持固定的光路长度。
本发明的一个目的是提供可以精确接合的可变镜。本发明的另一目的是提供可以保持固定光路长度的可变镜。
发明内容
根据本发明第一方面的可变镜包括：第一基板，具有反射光的反射部；以及第二基板，与第一基板相对设置并具有用于改变反射部的形状和位置中的至少一个的部件，其中，第二基板在其与第一基板相对设置的表面上具有接合区域。
在该可变镜中，优选地，所述接合区域设置在第二基板不与第一基板重叠的区域中。
在该可变镜中，优选地，第二基板比第一基板具有更大的面积。
在该可变镜中，优选地，第一基板具有凹切部，所述接合区域设置在与该凹切部对应的区域中。
在该可变镜中，优选地，所述凹切部是通过刻蚀形成的。
在该可变镜中，优选地，所述可变镜还包括设置在第一基板与第二基板之间以支承第一基板的支承部件。
根据本发明第二方面的可变镜包括：第一基板，具有反射光的反射部；以及与第一基板相对设置的第二基板，该可变镜被构成为使得第一基板和第二基板相互作用，其中，第二基板在其与第一基板相对设置的表面上具有凸部。
在该可变镜中，优选地，所述相互作用是施加在第一基板与第二基板之间的引力。
在该可变镜中，优选地，所述相互作用是施加在第一基板与第二基板之间的斥力。
在该可变镜中，优选地，所述凸部与第二基板的主体集成为一体。
在该可变镜中，优选地，所述凸部粘附于第二基板。
在该可变镜中，优选地，所述凸部在第一基板的大致重心位置邻接第一基板。
在该可变镜中，优选地，所述凸部在第一基板的大致中心位置邻接第一基板。
在该可变镜中，优选地，所述凸部的顶部为球形。
在该可变镜中，优选地，第一基板在所述凸部邻接的位置处具有凹部。
在该可变镜中，优选地，所述凹部形成在第一基板的大致重心位置。
在该可变镜中，优选地，所述凹部形成在第一基板的大致中心位置。
在该可变镜中，优选地，第二基板具有导致所述相互作用的电极，并且该电极与所述凸部间隔开。
在该可变镜中，优选地，第一基板具有导致所述相互作用的电极，并且该电极具有与所述凸部的电位相同的电位。
在该可变镜中，优选地，第一基板具有导致所述相互作用的电极，并且该电极与所述凸部电绝缘。
在该可变镜中，优选地，所述可变镜还包括弹性部件，所述弹性部件一端连接到第一基板，另一端连接到第二基板。
在该可变镜中，优选地，在第一基板与第二基板之间设置有多个所述弹性部件。
在该可变镜中，优选地，所述凸部与弹性部件之间的距离相等。
在该可变镜中，优选地，所述多个弹性部件大致等间隔地排列在以所述凸部为中心的圆上。
在该可变镜中，优选地，所述弹性部件为弹簧(spring)。
在该可变镜中，优选地，所述弹簧使得第一基板和第二基板互相牵拉。
附图说明
图1是示意性示出根据本发明第一和第二实施例的图像捕获装置的外部结构的立体图。
图2是示出根据本发明第一和第二实施例的图像捕获装置的配置的框图。
图3是示出根据本发明第一和第二实施例的图像捕获装置中的图像模糊校正的原理的图。
图4是示出根据本发明第一实施例的可变镜的结构的示例的图。
图5A和5B是示出根据本发明第一实施例的可变镜中的电极的设置的示例的图。
图6是示出根据本发明第一实施例的可变镜如何接合的图。
图7是示出根据本发明第二实施例的可变镜的结构的示例的剖面图。
图8是示出根据本发明第二实施例的可变镜的结构的示例的立体图。
图9A至9E是示出根据本发明第二实施例的可变镜的制造方法的示例的剖视图。
图10是示出根据本发明第二实施例的可变镜如何接合的图。
图11是示出根据本发明第二实施例的可变镜的结构的另一示例的立体图。
图12是示出根据本发明第一实施例的可变镜的下基板的结构的示例的立体图。
图13是根据本发明第一实施例的可变镜的变型例的立体图。
图14是根据本发明第一实施例的可变镜的变型例的立体图。
图15是根据本发明第一实施例的可变镜的变型例的立体图。
图16A和16B是示出根据本发明第一实施例的弹簧设置位置的图。
图17A和17B是示出根据本发明第一实施例的可变镜的变型例的图。
具体实施方式
下面将参照附图来说明本发明的实施例。
[第一实施例]
图1是示意性地示出根据本发明第一实施例的数字摄像机(图像捕获装置)的外部结构的立体图。图2是表示根据第一实施例的数字摄像机的配置的框图。
在数字摄像机100的主体101的顶部设置有快门按钮102。在主体101内部设置有三轴加速度传感器103和角速度传感器104(包括传感器104a和104b)；三轴加速度传感器103检测运动的平动分量，而角速度传感器104检测运动的转动分量。
镜筒模块105配备有第一组透镜106、第二组透镜107、第三组透镜108、第四组透镜109、光圈(diaphragm)110以及可变镜111。用于物体成像的光穿过第一组透镜106和第二组透镜107，然后被可变镜111反射。该光进一步穿过第三组透镜108和第四组透镜109，然后在CCD(成像装置)112上形成为物体的像。CCD 112将所得到的物体像光电转换为电信号。从第一组透镜106到可变镜111的光轴对应于图1所示的Y轴。从可变镜111到CCD 112的光轴对应于Z轴。
控制器113对整个数字摄像机进行控制。控制程序预先存储在存储器114中的ROM中。存储器114还包括在执行控制程序时用作工作存储区的RAM。
变焦控制部115根据来自控制器113的指令来控制第二组透镜107。变焦控制部116根据来自控制器113的指令来控制第三组透镜108和第四组透镜109。这些控制操作调节视角。调焦控制部117根据来自控制器113的指令来驱动第四组透镜109，以进行调焦。光圈控制部118根据来自控制器113的指令来控制光圈110。
镜控制部119根据来自控制器113的指令来改变镜111的反射面的倾斜角。根据来自三轴加速度传感器103和角速度传感器104的输出信号来控制倾斜角。该数字摄像机100还包括对到物体的距离进行检测的测距部120。来自测距部120的距离信息也用于控制倾斜角。通过如此控制镜111的倾斜角来对图像捕获期间的图像模糊进行校正。在下文将对此进行详细描述。
控制电路121根据来自控制器113的指令来控制CCD 112和图像捕获处理部122。图像捕获处理部122包括CDS(相关双采样)电路、AGC(自动增益控制)电路和ADC(模数转换器)。图像捕获处理部122对CCD112输出的模拟信号执行预定的处理，并将经处理的模拟信号转换为数字信号。
信号处理部123对图像捕获处理部122或者压缩/解压缩处理部124输出的图像数据执行诸如白平衡或者γ校正的处理。信号处理电路123还包括AE(自动曝光)检测电路或者AF(自动调焦)检测电路。
压缩/解压缩处理部124对图像数据执行压缩处理和解压缩处理。压缩/解压缩处理部124对信号处理部123输出的图像数据执行压缩处理，并对卡接口(I/F)125输出的图像数据执行解压缩处理。例如使用JPEG(联合图像专家组)***对图像数据执行压缩处理和解压缩处理。卡I/F125使得能够在数字摄像机100与存储卡126之间进行传输。卡I/F 125写入并读取图像数据。存储卡126是用于数据记录的半导体记录介质。存储卡126可以安装在数字摄像机100中并且可以从数字摄像机100移除。
DAC(数模转换器)127将信号处理部123输出的数字信号(图像数据)转换为模拟信号。液晶显示监视器128根据DAC 127输出的模拟信号来显示图像。液晶显示监视器128设置在摄像机主体101的背面。用户可以在观看液晶显示监视器128的同时捕获图像。
接口部(I/F部)129使得能够在控制器113与个人计算机(PC)130之间进行传输。接口部129例如是用于USB(通用串行总线)的接口电路。当制造本数字摄像机时，使用个人计算机130来将校正CCD 112的调焦灵敏度所需要的数据写入存储器114，并向镜控制部1119预先提供各种数据。因此，个人计算机130并不构成本数字摄像机100。
现在参照图3给出对本数字摄像机中的图像模糊校正的原理的说明。
在图3中，假设数字摄像机在预定的曝光时间内围绕基准点S(例如，用户的肩部位置)从摄像机位置A摆动到摄像机位置B。在这种情况下，通过对来自角速度传感器104的输出信号进行积分来确定摆角θ。然而，由于摆动中心(基准点S)远离摄像机，所以角度θ小于实际应校正的角度。因此必须向角度θ加上角度φ以确定角度(θ+φ)。
可以如下所述地确定角度φ。如果θ足够小，则可以通过对三轴加速度传感器103的X轴方向(参见图1)的输出信号进行二次积分来确定摄像机的中心位置在X轴方向的移动量b′(近似于移动量b)。测距部120可以确定从摄像机到物体的距离a。一旦求出了移动量b′和距离a，就可以根据arctan(b′/a)确定角度φ。通过如此求出实际需要的校正角度(θ+φ)，可以确定镜111的校正倾斜角。由此可以对图像模糊进行适当校正。
可以通过在图像捕获开始之前执行的自动调焦操作来确定到物体的距离a。此外，如果例如按2kHz的采样率进行检测，则采样间隔为0.5毫秒。0.5毫秒内的转动量θ非常小。这使得可以足够精确地完成以上校正处理。
图4是示出根据本实施例的可变镜111的结构的示例的图。图5A和5B是示出可变镜111中的电极设置的示例的图。图4、5A和5B所示的可变镜111是使用应用了半导体制造技术的称为MEMS(微电子机械***)技术而制造的。
如图4所示，可变镜111包括：上基板201；下基板221，与上基板201相对设置；以及弹簧(弹性部件)251至254，各自的相对端连接到上基板201和下基板221。下基板221具有邻接上基板201的大致重心位置以支承上基板201的支枢(pivot)(凸部)261。在本示例中，上基板201的重心几乎相当于上基板201的中心位置。
如图12所示，在本示例中，支枢261是与下基板221的主体分开制造的。然后将支枢261接合到下基板221的主体。支枢261的顶部形成为大致球状。此外，在上基板的大致重心(中心位置)形成有凹部250。即，凹部250形成在支枢261的顶部邻接的位置。凹部250的底部比支枢261的顶部具有稍大的曲率。
如图5A所示，上基板201包括上电极202和外部引导电极(leadelectrode)203。上电极202与凹部250间隔开并且电绝缘。在上基板201的与其上形成有上电极202的表面相反的表面上设置有反射部204。反射部204将来自物体的光反射并引导至CCD。上电极202被设置为夹在薄膜205之间地与反射部204的反射面平行。如图5A所示，上电极202形成为大致矩形。外部引导电极203用于将上电极202电连接到外部部件。外部引导电极203的表面暴露。
在下基板221中，半导体基板230设置有四个下电极222至225以及四个外部引导电极226至229。下电极222至225被设置为与上电极202相对，使得下电极222至225相对于支枢261大致对称。下电极222至225夹在薄膜231之间，并且与支枢261间隔开且电绝缘。外部引导电极226至229用于将下电极222至225电连接到外部部件。外部引导电极226至229的表面暴露。
在上基板201与下基板221之间设置有四个弹簧251至254。上基板201和下基板221通过弹簧251至254连接在一起。这四个弹簧251至254按大致相等的间隔(90°的周期)排列在大致相同的圆周上。支枢261设置在与四个弹簧251至254的中心(即，四个下电极222至225的中心(图5B中X轴与Y轴之间的交叉点))对应的位置。图16A是示出弹簧相对于上基板201的设置位置P1至P4的图。图16B是示出弹簧相对于下基板221的设置位置P1至P4的图。上基板201和下基板221通过弹簧251至254彼此牵拉。弹簧的张力使得支枢261挤压上基板201的重心。
在如上所述地构成的可变镜111中，可以通过使用施加给上电极202的电位与施加给下电极222至225中的每一个的电位之间的差来静电地改变上基板201相对于下基板221的倾斜。这改变了反射部204的倾斜角(反射角)(即，改变了反射部204的位置(姿势))。由此可以通过控制倾斜角来校正图像模糊。
在图4、5A和5B所示的示例中，上电极由单个电极构成，而下电极分为多块。相反，下电极可以由单个电极构成，而上电极可以分为多块。
也可以使用诸如图13和14所示的变型例。如图13所示，在该变型例中，上电极202与凹部250电导通。此外，如图14所示，引导电极234连接到导电支枢261。该结构使得引导电极234能够通过支枢261和凹部250向上电极202提供电压。即，上电极202的电位变得与支枢261的电位相等。因此可以略去到上电极202的馈电线。这使得可以防止由于馈电线的弹性而使得可控制性下降并且降低成本。
也可以使用如图15所示的这种变型例。在以上示例中，支枢261是与下基板221的主体分开制造并接合到该基板的。然而，在本变型例中，使用半导体制造工艺等将支枢261与下基板221的主体集成为一体地形成。在这种情况下，可以通过应用与AFM(原子力显微镜)中使用的悬臂(cantilever)的工艺相同的工艺将支枢261的顶部的曲率设置为大约几十纳米。
此外，在以上示例中，使用作用在上电极202与下电极222至225之间的静电力(吸引力)来改变上基板201相对于下基板221的倾斜。然而，也可以使用电磁力来改变倾斜。图17A和17B是分别示出当使用电磁力时的上基板201和下基板221的结构的示例的图。
如图17A所示，在上基板201上设置有磁体271至274。如图17B所示，在下基板221上在与磁体271至274对应的位置设置有线圈281至284。外部引导电极285a和285b连接到线圈281的相对端。外部引导电极286a和286b连接到线圈282的相对端。外部引导电极287a和287b连接到线圈283的相对端。外部引导电极288a和288b连接到线圈284的相对端。通过对流过各个线圈的电流进行控制，可以改变作用在上基板201与下基板221之间的电磁力(引力或斥力)。这使得上基板201相对于下基板221的倾斜能够产生变化。
如果将以上可变镜111接合到图像捕获装置中的镜筒(接合的部件)，则在下基板221的与上基板201相对的表面(即下基板221的上表面)上设置接合区域240。然后将接合区域240与镜筒紧固接触。如图4、5A和5B所示，下基板221比上基板201具有更大的面积。因此下基板221具有不与上基板201重叠的区域。因此，不重叠区域可以部分地用作接合区域。
图6是示意性示出以上可变镜111如何接合到图像捕获装置中的镜筒的图。如图6所示，可变镜111以使得下基板221的上表面邻接镜筒150的外表面的方式固定于镜筒150。
如果将可变镜111接合到镜筒150，则重要的是可变镜111的反射部(反射面)204相对于镜筒150的位置的精度。可变镜111的上基板201是可动的。因此，如果将上基板201接合到镜筒150，则无法适当地控制可变镜111。此外，如果将下基板221的下表面用于接合，则由于用作下基板221的半导体基板的厚度的变化(公差)而使得难以改进可变镜111的反射部204的位置的精度。
本实施例使用下基板221的上表面来进行接合。这使得可以避免以上问题并改进反射部204的位置精度。此外，使用下基板221的不与上基板201重叠的区域进行接合。可以将可变镜111容易地可工作地接合到镜筒150。
本实施例提供了支枢261，其邻接上基板201的重心位置。因此，即使可变镜111的反射部204的倾斜角产生变化，也可以在下基板221与上基板201的重心之间保持固定的距离。这使得能够在中心部分保持固定的光路长度。因此，可以简化调焦等的控制而无需考虑光路长度的变化。
[第二实施例]
下面给出对本发明第二实施例的说明。图1至3所示的图像捕获装置的基本结构、图像模糊校正的原理等与第一实施例中的类似。因此省略其说明。
图7是示出根据本实施例的可变镜111的结构的示例的剖面图。图8是示出根据本实施例的可变镜111的结构的示例的立体图。图7和8中所示的可变镜111是使用应用了半导体制造技术的MEMS技术来制造的。
如图7和8所示，该可变镜111包括上基板301、与上基板301相对设置的下基板321、以及设置在上基板301与下基板321之间以限定上基板301与下基板321之间的间隔(距离)的间隔体部件341。
上基板301具有层叠在硅基板(半导体基板)302的一个主面(principal surface)上的二氧化硅薄膜(绝缘薄膜)303和反射膜电极304，以及形成在硅基板(半导体基板)302的另一主面上的二氧化硅薄膜305。硅基板302的中央部分形成有空位(void)306。与空位306对应的部分二氧化硅薄膜303和反射膜电极304用作有效反射部307。
下基板321具有形成在诸如玻璃的绝缘基板322上并且由导电薄膜形成的对向电极323。
在如上所述地构成的可变镜111中，当在反射膜电极304与对向电极323之间存在电位差时，反射部307静电变形为向对向电极323凹陷。于是，反射部307的位移根据反射膜电极304与对向电极323之间的电位差而变化(即，反射部307的形状变化)。这又使得反射部307的反射角发生变化。因此，可以通过控制反射部307的位移来校正图像模糊。
如果将以上的可变镜111接合到图像捕获装置的镜筒，则在下基板321的与上基板301相对的表面(即下基板321的上表面)上设置接合区域330。然后使接合区域330与镜筒紧固接触。如图7和8所示，下基板321比上基板301具有更大的面积。因此，下基板321具有不与上基板301重叠的区域。因此，可以将不重叠区域部分地用作接合区域。
现在，参照图9A至9E，给出对以上可变镜111的制造方法的说明。
首先，如图9A所示，制备硅基板(硅晶片)302，其具有镜抛光的相对表面以及面方向<100>。在硅基板302的各个表面上形成厚度为大约400到500nm的二氧化硅薄膜303和305。随后，在二氧化硅薄膜303上形成厚度为大约100nm的金薄膜304。
然后，如图9B所示，在二氧化硅薄膜305上形成具有圆形开口的光刻胶图案311。然后，在基板的下表面受到保护的情况下，使用光刻胶图案311作为掩模对二氧化硅薄膜305进行刻蚀。在二氧化硅薄膜305中形成与光刻胶图案311中的开口对应的窗口。例如，可以使用氟代酸类的刻蚀剂进行刻蚀。
然后，如图9C所示，将基板浸入乙二胺picatechol的水溶液中以对硅基板302进行刻蚀。对硅基板302的刻蚀开始于形成在二氧化硅薄膜305中的窗口，并在暴露出二氧化硅薄膜303时结束。因此，在硅基板302的中央部分形成空位306。在与空位306对应的区域中形成反射部307；该反射部307包括二氧化硅薄膜303和反射膜电极304。这样，获得了上基板301。
另一方面，如图9D所示，制备厚度为大约300μm的玻璃基板322。在玻璃基板322上形成对向电极323；对向电极323由厚度为大约100nm的金属膜形成。这样，获得了下基板321。
在由此形成上基板301和下基板321之后，如图9E所示，在上基板301与下基板321之间***间隔体部件341；间隔体部件341由聚乙烯制成并且厚度为大约100nm。然后，通过间隔体部件341将上基板301与下基板321接合在一起。
如上所述，制成了如图7和8所示的这种可变镜111。
图10是示意性示出以上的可变镜111如何接合到图像捕获装置中的镜筒的图。如图10所示，可变镜111以使得下基板321的上表面邻接镜筒150的外表面的方式固定到镜筒150。
如已经说明的，如果将可变镜111接合到镜筒150，则重要的是可变镜111的反射部(反射面)307相对于镜筒150的位置的精度。如果使用上基板301来进行接合，则例如因为用作上基板301的半导体基板的厚度的变化(公差)或者制造工艺中可能出现的曲翘而使得难以提高可变镜111的反射部307的位置精度。另一方面，如果使用下基板321的下表面来进行接合，则例如因为下基板321的厚度变化而使得同样难以提高可变镜111的反射部307的位置精度。
相反，如果使用下基板321的上表面来进行接合，则可以通过使用像间隔体部件341那样具有高尺寸精度的部件(例如，精确形成的玻璃珠)来非常精确地管理下基板321的上表面与上基板301的下表面之间的间隔。此外，用作下基板321的玻璃基板通常具有高平坦度。因此，通过像本实施例中那样使用下基板321的上表面来进行接合，可以提高反射部307的位置精度。根据本实施例，与第一实施例的情况相同，使用下基板321的不与上基板301重叠的区域进行接合。因此，可以将可变镜111容易地可工作地接合到镜筒150。
图11是示出根据本实施例的可变镜111的结构的另一示例的立体图。在图7和8所示的示例中，接合区域330设置在下基板321的相对端。然而，在本示例中，接合区域330设置在下基板321的四个角。即，在上基板301的四个角形成凹切部315，与凹切部315相关联地设置接合区域330。可以通过在将上基板301层叠到下基板321之前或之后刻蚀掉上基板301的四个角来形成凹切部315。
使用如图11所示的这种结构也使得可以得到类似于图7和8所示示例的效果的效果。通过形成凹切部315并与凹切部315相关联地设置接合区域330，可以减小下基板321的尺寸。
工业适用性
本发明在第一基板的与其上形成有反射部的第二基板相对的表面上设置接合区域。这提高了反射部的位置精度，由此使得能够精确地接合可变镜。
此外，本发明在第一基板的与其上形成有反射部的第二基板相对的表面上设置凸部。这使得尽管反射部的倾斜发生变化仍可以保持固定的光路长度。

Claims (26)

1、一种可变镜，包括：第一基板，具有反射光的反射部；以及第二基板，与第一基板相对设置，并具有用于改变所述反射部的形状和位置中的至少一个的部件，
其中，第二基板在其与第一基板相对设置的表面上具有接合区域。
2、根据权利要求1所述的可变镜，其中，所述接合区域设置在第二基板不与第二基板重叠的区域中。
3、根据权利要求1所述的可变镜，其中，第二基板比第一基板具有更大的面积。
4、根据权利要求1所述的可变镜，其中，第一基板具有凹切部，并且所述接合区域设置在与该凹切部对应的区域中。
5、根据权利要求4所述的可变镜，其中，所述凹切部是通过刻蚀形成的。
6、根据权利要求1所述的可变镜，还包括设置在第一基板与第二基板之间以支承第一基板的支承部件。
7、一种可变镜，包括：第一基板，具有反射光的反射部；以及与第一基板相对设置的第二基板，所述可变镜被构造为使得第一基板与第二基板相互作用，
其中，第二基板在其与第一基板相对设置的表面上具有凸部。
8、根据权利要求7所述的可变镜，其中，所述相互作用是施加在第一基板与第二基板之间的引力。
9、根据权利要求7所述的可变镜，其中，所述相互作用是施加在第一基板与第二基板之间的斥力。
10、根据权利要求7所述的可变镜，其中，所述凸部与第二基板的主体集成为一体。
11、根据权利要求7所述的可变镜，其中，所述凸部粘附到第二基板。
12、根据权利要求7所述的可变镜，其中，所述凸部在第一基板的大致重心位置邻接第一基板。
13、根据权利要求7所述的可变镜，其中，所述凸部在第一基板的大致中心位置邻接第一基板。
14、根据权利要求7所述的可变镜，其中，所述凸部的顶部为球形。
15、根据权利要求7所述的可变镜，其中，第一基板在所述凸部邻接的位置具有凹部。
16、根据权利要求15所述的可变镜，其中，所述凹部形成在第一基板的大致重心位置。
17、根据权利要求15所述的可变镜，其中，所述凹部形成在第一基板的大致中心位置。
18、根据权利要求7所述的可变镜，其中，第二基板具有引起所述相互作用的电极，并且该电极与所述凸部间隔开。
19、根据权利要求7所述的可变镜，其中，第一基板具有引起所述相互作用的电极，并且该电极具有与所述凸部的电位相同的电位。
20、根据权利要求7所述的可变镜，其中，第一基板具有引起所述相互作用的电极，并且该电极与所述凸部电绝缘。
21、根据权利要求7所述的可变镜，进一步包括弹性部件，所述弹性部件一端连接到第一基板，另一端连接到第二基板。
22、根据权利要求21所述的可变镜，其中，在第一基板与第二基板之间设置有多个所述弹性部件。
23、根据权利要求22所述的可变镜，其中，所述凸部与所述弹性部件之间的距离相等。
24、根据权利要求22所述的可变镜，其中，所述多个弹性部件按大致相等的间隔排列以所述凸部为中心的圆上。
25、根据权利要求21所述的可变镜，其中，所述弹性部件为弹簧。
26、根据权利要求25所述的可变镜，其中，所述弹簧使得第一基板和第二基板彼此牵拉。
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