JPS5958402A - 反射鏡の鏡面矯正方法 - Google Patents
反射鏡の鏡面矯正方法Info
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- JPS5958402A JPS5958402A JP16831282A JP16831282A JPS5958402A JP S5958402 A JPS5958402 A JP S5958402A JP 16831282 A JP16831282 A JP 16831282A JP 16831282 A JP16831282 A JP 16831282A JP S5958402 A JPS5958402 A JP S5958402A
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- concave mirror
- concave
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
- G02B7/1822—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
- G02B7/1824—Manual alignment
- G02B7/1825—Manual alignment made by screws, e.g. for laser mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0825—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a flexible sheet or membrane, e.g. for varying the focus
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- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、重力場内において重力の方向に対して傾斜さ
せて用いる反射鏡の自重による撓みを矯正する方法に関
するものである。
せて用いる反射鏡の自重による撓みを矯正する方法に関
するものである。
たとえば半導体製品加工用の１対１反射投影露光装置に
おいては、凹面鏡を垂直面に対して傾斜（通常、約３２
０）させて支承す、る。第１図は１対１反射投影露光装
置の原理を示す説明図で、凹面ｍｌと凸面鏡、２とを対
向せしめ、マスク３上のパターンを露光光５によってウ
ェハ４上に結像せしめて転写が行なわれる。この転写を
高精度で行なうため、凹面鏡ｌおよび凸面鏡２の鏡面精
度は露光光５の波長λの／２０〜／４０であることを要
し、この値は一般に０．０３−０．０１５μ扉である。
おいては、凹面鏡を垂直面に対して傾斜（通常、約３２
０）させて支承す、る。第１図は１対１反射投影露光装
置の原理を示す説明図で、凹面ｍｌと凸面鏡、２とを対
向せしめ、マスク３上のパターンを露光光５によってウ
ェハ４上に結像せしめて転写が行なわれる。この転写を
高精度で行なうため、凹面鏡ｌおよび凸面鏡２の鏡面精
度は露光光５の波長λの／２０〜／４０であることを要
し、この値は一般に０．０３−０．０１５μ扉である。
上記の凹面鏡１は、通常第２図のように水平にセットし
て鏡面６の研摩を行ない、第３図のように垂直に立てて
レーザ干渉７により鏡面６の精度を検査される。
て鏡面６の研摩を行ない、第３図のように垂直に立てて
レーザ干渉７により鏡面６の精度を検査される。
このようにして精密に作られた凹面鏡１を第４図に示す
ように垂直面から角θだけ傾けて取。
ように垂直面から角θだけ傾けて取。
何部材８に取りつけると凹面鏡の自重によって生じる力
のために仮想線で示すように歪みを生じて鏡面精度が低
下する。ただし第４図の仮想線は歪みの顔向を拡大して
描いである。前述の自重による歪みは凹面鏡１が垂直面
に対して載る角をなすことによって生じるので、これを
水平眞保持した場合にも歪みを生じる。
のために仮想線で示すように歪みを生じて鏡面精度が低
下する。ただし第４図の仮想線は歪みの顔向を拡大して
描いである。前述の自重による歪みは凹面鏡１が垂直面
に対して載る角をなすことによって生じるので、これを
水平眞保持した場合にも歪みを生じる。
上記の鏡面を歪ませる力をＦｌとすると、この力は次式
で表わされる。
で表わされる。
ｐ１＝＝７１Ｌ ＠ ！Ｉ 、Ｓｔｎθただし ｍ：凹
面鏡の質量 ！Ｉ：重力加速度 上記の歪みを矯正するには−Ｆ１なる力を凹面鏡に加え
ることが必要である。
面鏡の質量 ！Ｉ：重力加速度 上記の歪みを矯正するには−Ｆ１なる力を凹面鏡に加え
ることが必要である。
本発明は上述の事情に鑑みて為され、反射鏡を重力の方
向に対して傾けて用いる場合、反射鏡の自重による歪み
を矯正して鏡面精度の低下を防止する方法を提供するこ
とを目的とする。
向に対して傾けて用いる場合、反射鏡の自重による歪み
を矯正して鏡面精度の低下を防止する方法を提供するこ
とを目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明の反射鏡の鏡面矯正
方法は、自重によって生じる反射面の歪みを外部力によ
って強制的に矯正することを特徴とする。
方法は、自重によって生じる反射面の歪みを外部力によ
って強制的に矯正することを特徴とする。
次に本発明の一実施例を第５図にっ−て説明する。本実
施例では凹面鏡１の裏面中央部に引張シバネ９を係着し
、該凹面鏡１に対してほぼ垂直な方向に前記の−Ｆ１の
力、即ぢ、−ｍａｙ Ｓｉｎθの力を加える。この実施
例によれば矯正用の外部力−Ｆｌは凹面鏡１の中央部に
集中する。
施例では凹面鏡１の裏面中央部に引張シバネ９を係着し
、該凹面鏡１に対してほぼ垂直な方向に前記の−Ｆ１の
力、即ぢ、−ｍａｙ Ｓｉｎθの力を加える。この実施
例によれば矯正用の外部力−Ｆｌは凹面鏡１の中央部に
集中する。
本来、凹面鏡１を歪ませる力Ｆ１は凹面鏡ｌの自重によ
って生じるものであるから、該凹面鏡の全面についてそ
の厚さ分布に従って掛かつて因ると考えられる。従って
、本実施例のごとく中央の一点に集中する反力−Ｆｌを
加えたのでは重力の影響を完全に相殺することはできな
いが、本実施例によれば簡単な方法で実用上はぼ充分な
程度に鏡面の歪みを矯正することができる。
って生じるものであるから、該凹面鏡の全面についてそ
の厚さ分布に従って掛かつて因ると考えられる。従って
、本実施例のごとく中央の一点に集中する反力−Ｆｌを
加えたのでは重力の影響を完全に相殺することはできな
いが、本実施例によれば簡単な方法で実用上はぼ充分な
程度に鏡面の歪みを矯正することができる。
本実施例の改良例としで、仮想線で示す矢印４Ｂのごと
く凹面鏡ｌの裏面の′ｂＬ数箇所に矯正用の外部力を加
えると、１点に集中した力を加えた場合に比してよシ完
全に近い矯正ができる。。
く凹面鏡ｌの裏面の′ｂＬ数箇所に矯正用の外部力を加
えると、１点に集中した力を加えた場合に比してよシ完
全に近い矯正ができる。。
第６図は上記と異なる実施例を示す。本例では凹面鏡１
を取付部利８に取りつけるためにチ製した枠１１の周囲
に数本の押しネジ１０を設け、これらの押しネジ１０に
よりほぼ均等な力Ｆ２で凹面鏡１の側面を押圧すること
によって鏡面１４度の低下を防止することができる。
を取付部利８に取りつけるためにチ製した枠１１の周囲
に数本の押しネジ１０を設け、これらの押しネジ１０に
よりほぼ均等な力Ｆ２で凹面鏡１の側面を押圧すること
によって鏡面１４度の低下を防止することができる。
第１図は更に異なる実施例を示す。本実施例は凹面鏡１
を用いた反射投影露光装置に本発明を適用して該凹面鏡
ｌの自重による歪みを矯正する方法の説明図である。
を用いた反射投影露光装置に本発明を適用して該凹面鏡
ｌの自重による歪みを矯正する方法の説明図である。
凹面鏡ｌは枠１１を介して投影り光装置の架台１３に取
りつける。この架台１３は定盤１６の上にｂ珈：されて
いる。照明光学系１４から出た露光光５はスレッド１５
を通ｊ局シ、該スレッド１５上に載置したマスク３を通
過する。そして平面鏡１７、同１８で反射され、凹面鏡
ｌ及び凸面鏡２で反射され、再度凹面鏡１及び平面鏡１
９で反射されてウェハ４に投射され、マスク３のパター
ンをウェハ４上に結像する。２０はウェハ４とマスク３
との位置合わせを行うためのＸ、Ｙ・θステージである
０ 凹面鏡ｌと枠１１との間をシール剤１２で密的し、枠１
１の裏面を板２１で気密に傑って凹面鏡１の裏側に密封
された空間２２を構成する。この状態で上記の密封空間
２２内を負圧にすると四面ｉｌｌは大気圧によって密封
空間２２に向けて押しつけられ、重力による歪みを矯正
される。この操作に際して、密封空間２２を圧力調節可
能な真空装置２３に接続し、該空間２２内の真空度Ｐを
Ｐ＝ｍ°ｙ ｓ□θ に制御すると、凹面鏡１は鏡面全部に均一に分布する圧
力姉よって矯正を受け、上記圧力の全圧力が−Ｆ１に等
しくなるので適正な矯正が行なわれる。この実施例によ
れば反射鏡の反射面全体に均一な力を加えることができ
、その上、矯正のために加える力の制御が容易である。
りつける。この架台１３は定盤１６の上にｂ珈：されて
いる。照明光学系１４から出た露光光５はスレッド１５
を通ｊ局シ、該スレッド１５上に載置したマスク３を通
過する。そして平面鏡１７、同１８で反射され、凹面鏡
ｌ及び凸面鏡２で反射され、再度凹面鏡１及び平面鏡１
９で反射されてウェハ４に投射され、マスク３のパター
ンをウェハ４上に結像する。２０はウェハ４とマスク３
との位置合わせを行うためのＸ、Ｙ・θステージである
０ 凹面鏡ｌと枠１１との間をシール剤１２で密的し、枠１
１の裏面を板２１で気密に傑って凹面鏡１の裏側に密封
された空間２２を構成する。この状態で上記の密封空間
２２内を負圧にすると四面ｉｌｌは大気圧によって密封
空間２２に向けて押しつけられ、重力による歪みを矯正
される。この操作に際して、密封空間２２を圧力調節可
能な真空装置２３に接続し、該空間２２内の真空度Ｐを
Ｐ＝ｍ°ｙ ｓ□θ に制御すると、凹面鏡１は鏡面全部に均一に分布する圧
力姉よって矯正を受け、上記圧力の全圧力が−Ｆ１に等
しくなるので適正な矯正が行なわれる。この実施例によ
れば反射鏡の反射面全体に均一な力を加えることができ
、その上、矯正のために加える力の制御が容易である。
上掲の実施例は、反射鏡として凹面鏡を用いだが、本発
明は平面鏡、凸面鏡半透鏡その他各１種の反射鏡全部に
適用することができる。
明は平面鏡、凸面鏡半透鏡その他各１種の反射鏡全部に
適用することができる。
まだ、前掲の実施例においては反射面を斜下方に向けて
用いる場合について述べたが、本発明は反射鏡を斜上方
に向けて用いる場合にも逆用することができる。この場
合、第５図について説明した実施例を応用するには引張
りバネ９を圧縮バネ（図示せず）にすればよく、第７図
について酪シ明した実施例を応用するには真空装置２３
を空気圧縮機（図示せず）にすればよい。
用いる場合について述べたが、本発明は反射鏡を斜上方
に向けて用いる場合にも逆用することができる。この場
合、第５図について説明した実施例を応用するには引張
りバネ９を圧縮バネ（図示せず）にすればよく、第７図
について酪シ明した実施例を応用するには真空装置２３
を空気圧縮機（図示せず）にすればよい。
以上詳述したように、本発明は、重力の方向に対して傾
斜させて用いる反射鏡において、その自重によって生じ
る反射面の歪みを外部力によって強制的に矯正すること
により鏡面精度の低下を防止することができる。
斜させて用いる反射鏡において、その自重によって生じ
る反射面の歪みを外部力によって強制的に矯正すること
により鏡面精度の低下を防止することができる。
第１図は反射投影露光装置の原理的説明図、第２図は凹
面鏡の製作方法の説明図、第３図は同検査方法の説明図
、第４図は同自重による歪みの説明図である。第５図は
本発明の反射鏡の鏡面修正方法の一実施例の説明図、第
６図は上記と異なる実施例の説明図、第７図は更に異な
る実施例の説明図である。 ｌ・・・凹面鏡、 ２・・・凸面鏡、 ３・・・マス
ク、４・・・ウェハ、 ９・・・引張シバネ、ｌＯ・
・・押しネジ、 １１・・枠、 １３・・・架台、
２１・・・板、２２・・・密封空間、２３・・・真
空装置。 代理人弁理士 薄 １）利 幸、：１
面鏡の製作方法の説明図、第３図は同検査方法の説明図
、第４図は同自重による歪みの説明図である。第５図は
本発明の反射鏡の鏡面修正方法の一実施例の説明図、第
６図は上記と異なる実施例の説明図、第７図は更に異な
る実施例の説明図である。 ｌ・・・凹面鏡、 ２・・・凸面鏡、 ３・・・マス
ク、４・・・ウェハ、 ９・・・引張シバネ、ｌＯ・
・・押しネジ、 １１・・枠、 １３・・・架台、
２１・・・板、２２・・・密封空間、２３・・・真
空装置。 代理人弁理士 薄 １）利 幸、：１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 重力の方向に対して傾斜させて用いる反射鏡におい
て、その自重によって生じる反射面の歪みを外部力によ
って強制的に矯正することを特徴とする反射鏡の鏡面矯
正方法。 ２ 前記の矯正のための外力は、反射鏡の裏面の少なく
とも１点に加えるものであることを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の反射鏡の鏡面矯正方法。 ３ 前記の矯正のための外力は、反射鏡の裏面に構成し
た密封空間内の圧力を制御することによって加えるもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
反射鏡の鏡面矯正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16831282A JPS5958402A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | 反射鏡の鏡面矯正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16831282A JPS5958402A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | 反射鏡の鏡面矯正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5958402A true JPS5958402A (ja) | 1984-04-04 |
Family
ID=15865689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16831282A Pending JPS5958402A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | 反射鏡の鏡面矯正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5958402A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004109359A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2004-12-16 | Olympus Corporation | 可変ミラー |
| WO2010034144A1 (zh) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 抑制大镜面像散的支撑调整方法 |
-
1982
- 1982-09-29 JP JP16831282A patent/JPS5958402A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004109359A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2004-12-16 | Olympus Corporation | 可変ミラー |
| JPWO2004109359A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2006-07-20 | オリンパス株式会社 | 可変ミラー |
| JP4642659B2 (ja) * | 2003-06-09 | 2011-03-02 | オリンパス株式会社 | 可変ミラー |
| WO2010034144A1 (zh) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 抑制大镜面像散的支撑调整方法 |
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