CN1774651A - 生产由聚合物材料组成的透明光学元件的方法和模具 - Google Patents
生产由聚合物材料组成的透明光学元件的方法和模具 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1774651A CN1774651A CNA200480010137XA CN200480010137A CN1774651A CN 1774651 A CN1774651 A CN 1774651A CN A200480010137X A CNA200480010137X A CN A200480010137XA CN 200480010137 A CN200480010137 A CN 200480010137A CN 1774651 A CN1774651 A CN 1774651A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mould
- optical element
- aforementioned
- nanostructured
- protuberance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 title abstract 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 14
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 abstract 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- 240000005373 Panax quinquefolius Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/16—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by wave energy or particle radiation, e.g. infrared heating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0866—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation
- B29C2035/0872—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation using ion-radiation, e.g. alpha-rays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/022—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing characterised by the disposition or the configuration, e.g. dimensions, of the embossments or the shaping tools therefor
- B29C2059/023—Microembossing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
Abstract
本发明涉及生产由聚合物材料构成的透明光学元件的方法和模具。由此生产的所述光学元件应该至少具有表现出界面反射降低的表面区域。根据本发明，由聚合物材料构成的基准元件的对应于各个光学元件的整个表面或适当选择的表面区域在真空中暴露在高能离子作用下。这在对应表面上形成具有交错的***和凹陷的不规则纳米结构。随后涂覆薄导电层并且进行电镀成型以得到具有被纳米结构覆盖的阴模轮廓的模具。随后在成型过程中使用所述模具生产光学元件，所述成型过程通过降低界面反射的纳米结构而实现。
Description
本发明涉及由聚合物材料生产透明光学元件的方法和模具。这样生产的光学元件试图在至少一个表面上、至少在某些区域内实现界面反射减少。
由聚合物材料制成的这种光学元件日益频繁地用于广泛的应用中。在这些应用中，反射导致的损失是不希望的，并且在这些光学元件表面反射导致不能使用的电磁辐射比例应保持得尽可能低。因此，致力于使该比例≤4％/单位面积，优选≤1％/单位面积。
过去已经采用了多种方法来解决该问题。
例如，已知在光学元件表面上形成层状体系，其由若干薄膜相互叠层排布而形成，通常称为交错层状体系。该层状体系的应用成本高昂，也导致透射下降，并且不能消除这种层状体系在光学元件表面上的粘着问题。
由于该层状体系通常可利用本身已知的PVD或CVD加工技术在真空中形成，因此，大批量生产该光学元件伴随相应的高成本。
选择用来降低电磁辐射的反射比例的另一方法是在将被制成非反射性的相应表面上形成所谓motheye结构的微结构。例如A.Gombert和W.Glaubitt在Thin solid film351(1999)，73-78页中和D.L.Brundrett，E.N.Glysis，T.K.Gaylord在Applied optics16(1994)，2695-2706页中描述了相应的解决方案。
利用这些已知的解决方案，在相应的限制入射角范围和相应的限制光谱范围内的各种情况下可以实现电磁辐射反射比例的降低，也就是说适用于各电磁辐射的特定入射角或所选波长。
为了形成本身已知的微结构，需要大量的努力，尤其是对于模具的制造，这是因为必须在该模具中形成细丝工艺的阴模轮廓。这在一方面可以利用聚焦能束辅助的热处理或者是通过光刻成型来进行。
无论如何，都需要极大的努力。此外，可以这样制造的微结构受限于相应的最小尺寸，低于该尺寸则不能进行加工。
因此本发明的目的是提出解决方案，通过该解决方案，可以对聚合物材料制的透明光学元件表面进行处理，使得实现界面反射的降低，同时可以降低生产成本并且本发明可以用于生产类型广泛的光学元件。
根据本发明利用具有权利要求1的特征的方法来实现该目的，可以使用如权利要求14所要求保护的生产光学元件的模具。
本发明的有利实施方案和发展可以通过从属权利要求中所指出的特征来实现。
在用于生产透明光学元件的根据本发明的方法的情况下，所述光学元件的表面至少在某些区域内具有降低的界面反射，该方法的步骤如下：在第一步骤中，将也可称作“主模(master)”且由聚合物材料构成的基准元件的各个表面在真空室中暴露在高能离子的作用下。高能离子例如借助于等离子体而生成，并且所述基准元件的各个表面经受离子轰击。
以传统方法生产然后以上述方法处理的光学元件可优选用作基准元件。
高能离子的作用具有在基准元件的各个表面上形成不规则纳米结构的作用。该纳米结构可通过已形成的各自相互交错的***和位于***之间的凹陷的多样性来区分。所述***以及相应的凹陷以不同的尺寸形成在整个表面，从而可以借助于相应的纳米结构得到折射率梯度层。
在第二步骤中，将基准元件的各个表面涂覆导电薄膜。
该薄膜的厚度必须仅仅获得导电性，从而在随后将进行的第三方法步骤中，可以通过电化学方法形成模具。
于是，该模具具有相应处理基准元件表面的完全阴模轮廓，其中所述纳米结构与对应于***的凹陷和对应于凹陷的***相重合/结合。
用于生产模具的电化学成型可以传统方法进行，并且所述模具例如可以通过镍沉积而获得。
借助于这样生产的模具，各光学元件随后可以通过本身已知的模制过程来大量生产。有利的是可以仅由具有所形成纳米结构的一个基准元件通过电化学成型来生产大量模具，由此可以实现生产成本的进一步降低。
除了简单设计的基准元件之外，根据本发明的具有平坦平面或连续曲面的基准元件也可用来生产具有不连续表面轮廓的光学元件。该基准元件可以具有光学效果的表面轮廓，例如菲涅耳轮廓，并且利用根据本发明的解决方案，可以至少在有效侧面降低界面反射。
借助于如通过第三方法步骤制造的模具，可随后相应生产光学元件。因此，可以通过片状热压元件或塑料膜或由塑料球或粒来生产相应的光学元件。
然而，同样可以通过在所述模具中注射成型塑料来生产光学元件。
但是，光学元件也可以利用挤出压制方法来生产。
对于光学元件将由各种情况下具有不同折射率的至少两种材料和/或利用更耐刮擦的表面涂层形成的情况，UV模制方法尤其适合。
光学元件可由种类广泛的各种塑料制成。除了所需的光学性质外，在此尤其是除了折射率之外，仅必须考虑对于各模制过程来说重要的性质。
此外，可以在光学元件的表面涂层上形成光学有效的纳米结构。例如可以通过溶胶-凝胶过程涂覆特别有利的“耐刮擦性”涂层，如有机-无机杂化聚合物，例如可以商品名“Ormocere”购得的，并且在反射降低的纳米结构形成期间或之后固化。在此，优选杂化聚合物中的无机组分为玻璃组分(例如二氧化硅或硅烷)。
这样，降低界面反射的纳米结构可以不仅形成在塑料制的光学元件上，还可形成在由不可或者仅仅难以通过模制方法处理的材料所形成的光学元件表面上。例如，本发明还可用来生产由玻璃构成的光学元件。
形成对于本发明来说重要的纳米结构且其间具有凹陷的***可以形成在各基准元件的表面上，使得形成在表面上的多个***的高度范围为30nm-210nm。这样，在各种情况下各***均具有30nm-150nm的平均厚度，平均厚度是指在各种***情况下平均高度处***的相应厚度。
优选生产具有各自高度和/或厚度的***，使得在各自区间范围内实现关于平均值的均匀分布，所述平均值例如120nm高或80nm厚。
在生产光学元件的模具上的纳米结构阴模槽尺寸的确定与这些规格相对应。
令人惊奇地发现，形成在基准元件表面上的这种纳米结构可以通过根据专利权利要求1的第二和第三方法步骤转移到模具表面上，与所用基准元件表面上的阳模轮廓仅产生轻微偏差，甚至完全没有偏差。
方法步骤1为在基准元件上形成充分降低表面反射的纳米结构，以下将更加详细地描述。
将聚合物塑料材料制成的基准元件放入真空室并暴露在等离子体作用下，所述聚合物塑料材料优选聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、双(烯丙基碳酸)二乙二醇酯(CR39)或含有甲基丙烯酸甲酯的聚合物。在等离子体作用下，产生高能离子并且基准元件的所需表面受到该离子的轰击。优选采用DC氩等离子体，尤其优选在其中加入氧。
在此，真空室应在低于10-3毫巴、优选为约3×10-4毫巴的内部压力下工作。
等离子体应具有至少30sccm的氧。
所生成的离子应具有100eV-160eV的能量，而各离子能量应该考虑基准元件的材料来设定。表面离子轰击的各自持续时间也应该考虑相应的基准元件材料。
因此，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的基准元件可以使用能量为100eV-160eV、优选120eV-140eV的离子持续轰击200s-400s、优选250s-350s。
对于双(烯丙基碳酸)二乙二醇酯基准元件来说，离子应具有至少120eV的能量，优选150eV，并且所述离子轰击应该进行至少500s。
对于通过根据本发明的方法生产的光学元件来说，可以使波长范围为400nm-1100nm的电磁辐射在表面处的反射比例降低至最大2％。在420nm-870nm的波长范围，也就是说，大部分可见光的电磁辐射反射比例可以降低至小于1.5％。
利用本发明，可以针对广泛应用而生产品种广泛的光学元件，用于电磁辐射，在此尤其是可见光、红外光光谱范围内的电磁辐射，还有部分是UV光谱范围内的电磁辐射。还可以方便地生产许多种投影式光学元件，其中尤其是菲涅耳透镜，它们具有改进的光学性质而仅增加很少的成本。
然而，还可以生产其它光学元件，例如光学窗户和棱镜。
本发明还可以有利地用于生产光学透镜(也可以是透镜阵列)、分束器、光波导管、漫射体、柱面镜(lenticular lens)和用于光学透明膜。
另一重要应用是光学显示屏或光学指示元件的透明覆盖物。例如，可以根据本发明生产各种电气或电子器件例如电话的指示显示屏。
在此，尤其可以防止双重反射。
对于特定的光学指示元件，本发明可以同样用作覆盖物，从而可以使用输出减少的光源。
下面通过实施例更加详细地解释本发明。
附图中：
图1示出形成在聚甲基丙烯酸甲酯基准元件上的纳米结构的AFM显微图像(原子力显微镜)。
在此，将聚甲基丙烯酸甲酯基准元件放入真空室中，真空室压力降至7-8×10-6毫巴。借助于等离子体离子源APS 904(Leybold Optics)，产生加入有30sccm氧的氩等离子体，保持压力为约3×10-4毫巴。
等离子体离子源施加有至少120V的偏压。
这样可以生成能量为至少120eV的离子，并且其将轰击在基准元件的PMMA表面上。
离子轰击进行持续300s。
如图1所示，可以通过离子轰击形成不规则纳米结构，各***具有50-120nm的不同高度以及50-120nm的平均厚度。图1中，还可见***保持约1∶1的幅形比。
具有最大层厚为5nm、优选低于1nm的金薄膜随后通过本身已知的薄膜加工方法形成在基准元件的纳米结构表面上。
这样制备的基准元件随后用于电化学成型。这样可以生产具有基本相同的阴模轮廓的镍制模具，其也具有叠置的纳米结构。该模具随后用来通过热压技术生产光学元件，仅在使用其进行至少5000次压印之后才需要进行由于磨损所致的更换。
Claims (21)
1.生产透明光学元件的方法，所述光学元件表面至少在某些区域内具有降低的界面反射，其中
由聚合物材料构成并对应于各光学元件的基准元件的各表面在真空中暴露在高能离子作用下，
这样，在各表面上形成具有交错排布的***和位于***之间的凹陷的不规则纳米结构；
随后，各表面涂覆导电薄膜，
其后，通过电化学成型得到具有由纳米结构所叠置的阴模轮廓的模具，并且
利用所述模具，在透明光学元件的至少一个表面上通过模制方法形成降低界面反射的纳米结构。
2.权利要求1的方法，其特征在于使用具有光学有效表面轮廓的基准元件。
3.权利要求1或2的方法，其特征在于高能离子是利用氩/氧等离子体产生的。
4.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于使用聚甲基丙烯酸甲酯、双(烯丙基碳酸)二乙二醇酯(CR39)或含有甲基丙烯酸甲酯的聚合物来生产基准元件。
5.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于利用高能离子形成具有30nm-210nm高度的纳米结构***。
6.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于所形成的纳米结构***的平均厚度为30nm-150nm。
7.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于导电层形成为薄金属层。
8.权利要求9的方法，其特征在于导电层由金形成。
9.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于轰击在各表面上的离子具有100eV-160eV的能量。
10.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于各表面的离子轰击进行200s-600s。
11.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于离子轰击在低于10-3毫巴的压力下进行。
12.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于光学元件的模制成型是通过热压或通过塑料注射成型技术进行的。
13.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于光学元件的模制成型是通过挤出压制或UV模制进行的。
14.前述权利要求中任意一项的方法，其特征在于光学元件表面涂覆有有机-无机杂化聚合物，并且利用模具在该杂化聚合物层的表面上形成纳米结构。
15.用于生产由权利要求1-14中任意一项的方法制备的光学元件的模具，其特征在于在表面上形成具有交错排布的***和位于***之间的凹陷的不规则纳米结构，并且
各种情况下，凹陷均具有30nm-210nm区间内的不同深度。
16.权利要求15的模具，其特征在于凹陷具有30nm-150nm的平均净宽。
17.权利要求15或16的模具，其特征在于凹陷的各深度和/或厚度均关于一定区间内的平均值均匀分布。
18.权利要求15-17中任意一项的模具，其特征在于成型来生产菲涅耳透镜。
19.权利要求15-17中任意一项的模具，其特征在于成型来生产光学窗户、光学透镜、柱面镜、分束器、光波导管或光学棱镜。
20.权利要求15-17中任意一项的模具，其特征在于成型来生产光学透明膜。
21.权利要求15-17中任意一项的模具，其特征在于成型来生产显示屏或光学指示元件的覆盖物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10318566.6 | 2003-04-15 | ||
| DE10318566A DE10318566B4 (de) | 2003-04-15 | 2003-04-15 | Verfahren und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren Werkstoffen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1774651A true CN1774651A (zh) | 2006-05-17 |
| CN100373180C CN100373180C (zh) | 2008-03-05 |
Family
ID=33185710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB200480010137XA Expired - Lifetime CN100373180C (zh) | 2003-04-15 | 2004-04-13 | 生产由聚合物材料组成的透明光学元件的方法和模具 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070035053A1 (zh) |
| EP (1) | EP1613987B1 (zh) |
| JP (1) | JP2006524829A (zh) |
| KR (1) | KR101085307B1 (zh) |
| CN (1) | CN100373180C (zh) |
| AT (1) | ATE498141T1 (zh) |
| DE (2) | DE10318566B4 (zh) |
| WO (1) | WO2004092789A1 (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108463666A (zh) * | 2015-12-23 | 2018-08-28 | 泰米科公司 | 用于耦合出光的板状光学元件 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004043871A1 (de) * | 2004-09-10 | 2006-03-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung eines strahlungsabsorbierenden optischen Elements und strahlungsabsorbierendes optisches Element |
| DE102005017170B4 (de) * | 2005-04-13 | 2010-07-01 | Ovd Kinegram Ag | Transferfolie, Verfahren zu deren Herstellung sowie Mehrschichtkörper und dessen Verwendung |
| DE102005049280A1 (de) * | 2005-10-14 | 2007-06-14 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren zur Erzeugung einer Nanostruktur und optisches Element mit einer Nanostruktur |
| DE102007015747A1 (de) | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Erich Utsch Ag | Lichtleiteranordnung zur Ausleuchtung eines an einem Kfz befestigten retroreflektierenden Kfz-Kennzeichenschilds, Montagevorrichtung mit einer solchen Lichtleiteranordnung sowie beleuchtete retroreflektierende Kfz-Kennzeichen...... |
| DE202008017840U1 (de) | 2007-09-28 | 2010-11-11 | Erich Utsch Ag | Lichtleiteranordnung zur Ausleuchtung eines an einem Kfz befestigten Kfz-Kennzeichenschilds |
| DE102008049256A1 (de) | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Erich Utsch Ag | Lichtleiteranordnung zur Ausleuchtung eines an einem Kfz befestigten Kfz-Kennzeichenschilds und Verfahren zu deren Herstellung |
| DE102007049462A1 (de) | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Erich Utsch Ag | Lichtleiteranordnung zur Ausleuchtung eines an einem Kfz befestigten Kfz-Kennzeichenschilds und Verfahren zu deren Herstellung |
| DE102007059886B4 (de) * | 2007-12-12 | 2014-03-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Schicht und optisches Element mit einer reflexionsmindernden Schicht |
| DE102008018866A1 (de) * | 2008-04-15 | 2009-10-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Reflexionsminderndes Interferenzschichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE102008046579A1 (de) * | 2008-09-10 | 2010-03-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellenleiterschicht |
| KR101071778B1 (ko) * | 2008-10-29 | 2011-10-11 | 현대자동차주식회사 | 고분자 전해질 막에 나노 표면 구조를 형성하기 위한 연료전지용 전극막 접합체 제조 방법 |
| WO2010072862A1 (es) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Universidad De Barcelona | Células solares de película delgada con texturas combinadas |
| DE102009030303A1 (de) | 2009-06-24 | 2010-12-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung von Antireflexschicht-bildenden Beschichtungen sowie Antireflexbeschichtungen |
| CN102079119A (zh) * | 2009-11-27 | 2011-06-01 | 东莞市震铭模具塑胶有限公司 | 一种大面积导光板的制造方法 |
| CN102108484B (zh) * | 2011-01-18 | 2012-07-04 | 厦门建霖工业有限公司 | 一种双层抗菌镀层的制备方法 |
| CN102108485B (zh) * | 2011-01-28 | 2012-03-28 | 厦门建霖工业有限公司 | 塑胶表面抗菌镀层的制备方法 |
| DE102011114850B4 (de) * | 2011-10-05 | 2023-02-09 | Continental Autonomous Mobility Germany GmbH | Streulichtblende für ein optisches Erfassungssystem und Kameraanordnung |
| WO2015080422A1 (ko) * | 2013-11-27 | 2015-06-04 | 네오뷰코오롱 주식회사 | 기판의 제조방법, 기판, 유기 전계 발광소자의 제조방법 및 유기 전계 발광소자 |
| AT517019B1 (de) * | 2015-04-02 | 2017-02-15 | Zkw Group Gmbh | Beleuchtungsvorrichtung sowie Kraftfahrzeugscheinwerfer |
| RU2659702C2 (ru) * | 2016-06-03 | 2018-07-03 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки "Федеральный исследовательский центр "Казанский научный центр Российской академии наук" | Способ изготовления алмазной дифракционной решетки |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2649622A (en) * | 1949-12-20 | 1953-08-25 | Du Pont | Process for molding synthetic linear polyesters |
| US4114983A (en) * | 1977-02-18 | 1978-09-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymeric optical element having antireflecting surface |
| GB2064987B (en) * | 1979-11-14 | 1983-11-30 | Toray Industries | Process for producing transparent shaped article having enhanced anti-reflective effect |
| US4862032A (en) * | 1986-10-20 | 1989-08-29 | Kaufman Harold R | End-Hall ion source |
| IT1204006B (it) * | 1987-05-05 | 1989-02-23 | Eniricerche Spa | Procedimento per la preparazione di film poliolefinici metallizzabili |
| US5071597A (en) * | 1989-06-02 | 1991-12-10 | American Bank Note Holographics, Inc. | Plastic molding of articles including a hologram or other microstructure |
| KR0170387B1 (ko) * | 1989-10-03 | 1999-03-30 | 제임스 조셉 드롱 | 고주파 반도체 웨이퍼 가공장치 및 방법 |
| JPH0527108A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | ラミナーグレーテイングの製造方法 |
| JPH0545503A (ja) * | 1991-08-09 | 1993-02-23 | Konica Corp | 光学素子およびその製造方法 |
| DE4244195A1 (de) * | 1992-12-24 | 1994-06-30 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von strukturierten Polymerschichten mit nichtlinear optischen Eigenschaften |
| US5541762A (en) * | 1993-02-01 | 1996-07-30 | Levy; George S. | Antiglare optical device |
| DE4431216A1 (de) * | 1994-09-02 | 1996-05-15 | Bayer Ag | Herstellung kratzfest ausgerüsteter Polycarbonatformteile |
| TW297865B (zh) * | 1995-06-29 | 1997-02-11 | Minnesota Mining & Mfg | |
| US6309580B1 (en) * | 1995-11-15 | 2001-10-30 | Regents Of The University Of Minnesota | Release surfaces, particularly for use in nanoimprint lithography |
| US5772905A (en) * | 1995-11-15 | 1998-06-30 | Regents Of The University Of Minnesota | Nanoimprint lithography |
| DE19627638A1 (de) * | 1996-07-09 | 1998-01-15 | Giesecke & Devrient Gmbh | Prägezylinder für die Herstellung von Prägefolien |
| DE19708776C1 (de) * | 1997-03-04 | 1998-06-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
| KR100843639B1 (ko) * | 1999-10-19 | 2008-07-07 | 롤리크 아게 | 위상 구조화 중합체 필름 또는 피막의 제조방법, 당해 방법으로부터 제조된 필름 또는 피막, 및 당해 필름 또는 피막을 포함하는 광학 제품 |
| DE10000132A1 (de) * | 2000-01-04 | 2001-07-12 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Elastomeren |
| DE10038749A1 (de) * | 2000-08-09 | 2002-02-28 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer optisch antireflektierenden Oberfläche |
| DE10129313C1 (de) * | 2001-06-19 | 2002-11-21 | Fraunhofer Ges Forschung | Sputterverfahren und Vorrichtung zur Beschichtung und/oder Oberflächenbehandlung von Substraten |
| US6608431B1 (en) * | 2002-05-24 | 2003-08-19 | Kaufman & Robinson, Inc. | Modular gridless ion source |
-
2003
- 2003-04-15 DE DE10318566A patent/DE10318566B4/de not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-04-13 US US10/553,284 patent/US20070035053A1/en not_active Abandoned
- 2004-04-13 EP EP04726956A patent/EP1613987B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-04-13 DE DE502004012177T patent/DE502004012177D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-04-13 WO PCT/DE2004/000817 patent/WO2004092789A1/de active Application Filing
- 2004-04-13 JP JP2006504305A patent/JP2006524829A/ja active Pending
- 2004-04-13 CN CNB200480010137XA patent/CN100373180C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-04-13 AT AT04726956T patent/ATE498141T1/de active
- 2004-04-13 KR KR1020057019374A patent/KR101085307B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108463666A (zh) * | 2015-12-23 | 2018-08-28 | 泰米科公司 | 用于耦合出光的板状光学元件 |
| CN108463666B (zh) * | 2015-12-23 | 2020-08-21 | 泰米科公司 | 用于耦合出光的板状光学元件 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE498141T1 (de) | 2011-02-15 |
| CN100373180C (zh) | 2008-03-05 |
| WO2004092789A1 (de) | 2004-10-28 |
| US20070035053A1 (en) | 2007-02-15 |
| EP1613987A1 (de) | 2006-01-11 |
| DE502004012177D1 (de) | 2011-03-24 |
| DE10318566B4 (de) | 2005-11-17 |
| KR101085307B1 (ko) | 2011-11-22 |
| JP2006524829A (ja) | 2006-11-02 |
| DE10318566A1 (de) | 2004-11-25 |
| KR20060014374A (ko) | 2006-02-15 |
| EP1613987B1 (de) | 2011-02-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100373180C (zh) | 生产由聚合物材料组成的透明光学元件的方法和模具 | |
| US20050233083A1 (en) | Method for reducing boundary surface reflection of plastic substrates and substrate modified in such a manner and use thereof | |
| JP4977021B2 (ja) | 光拡散板及びそれを用いた照明装置 | |
| CN1447134A (zh) | 抗反射构件 | |
| EP3505979B1 (en) | Anti-glare and anti-reflective transparent substrate and method for manufacturing same | |
| US20130236697A1 (en) | Microstructured articles comprising nanostructures and method | |
| AU2015370497A1 (en) | IR reflective film | |
| JP2017015824A (ja) | シート状透明積層体、それを備えた透明スクリーン、およびそれを備えた画像投影装置 | |
| KR101676901B1 (ko) | 광학 성능이 우수한 광학 필름 적층체 및 이를 포함하는 백라이트 유닛 | |
| CN1379250A (zh) | 带有弱反射色的抗反射基片 | |
| CN109073963B (zh) | 透明光散射体、反射型透明屏幕和图像投影*** | |
| TWI460462B (zh) | 導電性抗反射薄膜 | |
| CN1171241C (zh) | 导电性氮化物膜及其制备方法和防反射体 | |
| JP2009282279A (ja) | 反射シートおよびバックライトユニット | |
| JP2018045137A (ja) | 映像を投影可能な積層体、およびそれを備えた映像投影システム | |
| Chou et al. | Laser interference lithography and nanoimprint techniques for lower reflection transparent conducting oxide hybrid films | |
| RU2359291C1 (ru) | Способ изготовления композитной концентраторной линзовой панели для фотоэлектрических модулей | |
| US20120085406A1 (en) | Substrate with thin film, and solar cell using the same | |
| WO2008153435A1 (fr) | Procédé de fabrication d'un panneau de concentration à lentilles composite pour modules photoélectriques | |
| KR101500167B1 (ko) | 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법 | |
| CN1677130A (zh) | 光学基材的制造方法 | |
| Fonrodona Turon et al. | PEN as substrate for new solar cell technologies | |
| KR20170037386A (ko) | 코팅 조성물 및 이로부터 제조되는 플라스틱 필름 | |
| EP1417263A2 (de) | Optisches bauelement |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Munich, Germany Co-patentee after: KUHNE, Manfred Patentee after: Franhofer transportation Application Research Co.,Ltd. Address before: Munich, Germany Co-patentee before: Fresnel Optics Co.,Ltd. Patentee before: Franhofer transportation Application Research Co.,Ltd. |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20180419 Address after: Opal in Germany Patentee after: KUHNE, Manfred Address before: Munich, Germany Co-patentee before: KUHNE, Manfred Patentee before: Franhofer transportation Application Research Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20080305 |
|
| CX01 | Expiry of patent term |