KR101500167B1 - 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 빛의 입사면에 배치되어 입사면에서의 표면 반사율을 저감시키고 투과성을 향상시킬 수 있는 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법은, (a) 일정한 주기로 배치되는 다수의 미세 패턴 돌기로 이루어지는 미세 격자패턴 구조물이 표면에 마련된 마스터 몰드를 형성하는 단계와, (b) 마스터 몰드의 표면에 액상의 투명 폴리머를 코팅하여 투명 폴리머층을 형성하는 단계와, (c) 액상의 투명 폴리머층을 경화시키는 단계와, (d) 투명 폴리머층이 경화된 것으로, 그 일면에 다수의 미세 패턴 돌기에 대응하는 다수의 미세 패턴 홈으로 이루어진 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 반사 방지막을 마스터 몰드로부터 분리하는 단계를 포함한다.
Description
본 발명은 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 빛의 입사면에 배치되어 입사면에서의 표면 반사율을 저감시키고 투과성을 향상시킬 수 있는 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법에 관한 것이다.
최근 들어 광학적 바이오 센서, LED, 태양전지, 평판형 디스플레이 등 광소자(optical element)를 갖는 디바이스의 시장 규모는 세계적으로 지속적인 성장을 거듭하고 있고, 이에 대한 수요도 증가하고 있다. 이와 함께 광소자의 표면 반사를 줄여 광학적 특성을 개선하기 위한 연구도 활발하게 이루어지고 있다.
표면 반사를 줄이기 위한 무반사 처리는 광소자에 있어 매우 중요한 역할을 한다. 예컨대, 디스플레이의 경우 여러 장의 광학 패널이 사용되므로, 무반사 처리를 하지 않으면 빛이 여러 장의 광학 패널을 거치면서 투과율이 크게 떨어질 수 있다. 태양전지의 경우, 표면 반사로 인해 에너지 효율이 떨어지기도 한다.
광소자의 반사를 줄이기 위한 방법으로, 굴절률이 다른 물질을 여러 층 박막으로 적층하는 방법이 알려져 있는데, 이러한 방법은 대한민국 등록특허공보 제0822242호(2000. 11. 25 공개) 등에 개시되어 있다. 그러나 이러한 방법은 박막 간의 열적 불일치(thermal mismatch), 접착(adhesion)의 문제, 박막 증착 조건의 까다로움 등의 여러 가지 문제점을 가지고 있다.
입사광의 반사를 줄이기 위한 다른 방법으로, 무반사 미세 격자패턴 구조물을 입사면에 형성하는 방법이 있다. 입사면에 미세 구조물을 격자 패턴으로 형성하되 격자 주기가 주기적이고 광파장 이하가 되게 하면, 표면 반사율이 떨어질 뿐 아니라 강한 산란광을 만들어내지도 않으므로, 무반사 특성이 나타나게 된다. 이러한 원리를 이용하는 구체적인 방법으로, 입사한 빛의 파장보다 작은 파장 이하의 주기적인 미세 구조물(subwavelength grating: SWG)을 광학 소자의 표면에 형성하는 방법이 알려져 있다. 이러한 방법은 대한민국 공개특허공보 제2010-0075000호(2010. 07. 02 공개), 대한민국 공개특허공보 제2011-0019143호(2011. 02. 25 공개) 등에 개시되어 있다.
상술한 것과 같이, 입사면에 무반사 미세 격자패턴 구조물을 형성하여 표면 반사율을 저감시키고 투과성을 향상시키기 위한 다양한 방법에 제안된 바 있지만, 종래의 방법은 여러 가지 한계가 있다. 예컨대, 대한민국 공개특허공보 제2011-0019143호의 방법은 기판 위에 적층된 금속박막을 마스크 패턴으로 이용되는 금속입자로 변형시키기 위해 금속박막을 고온 열처리해야 하므로, 기판 선택에 제한이 따른다. 현재, 종래 기술의 한계를 극복하고, 더욱 효과적이고 저비용으로 무반사 미세 격자패턴 구조물을 형성하기 위한 연구가 지속적으로 진행되고 있다.
본 발명은 이러한 점을 감안하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 간단하고 저렴하며 대면적 공정이 가능한 나노임프린트 리소그라피 방법으로 효과적으로 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막을 제조할 수 있는 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법은, (a) 일정한 주기로 배치되는 다수의 미세 패턴 돌기로 이루어지는 미세 격자패턴 구조물이 표면에 마련된 마스터 몰드를 형성하는 단계와, (b) 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 투명 폴리머를 코팅하여 투명 폴리머층을 형성하는 단계와, (c) 상기 액상의 투명 폴리머층을 경화시키는 단계와, (d) 상기 투명 폴리머층이 경화된 것으로, 그 일면에 상기 다수의 미세 패턴 돌기에 대응하는 다수의 미세 패턴 홈으로 이루어진 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 반사 방지막을 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 단계를 포함한다.
상기 (b) 단계에서 상기 투명 폴리머는 PDMS일 수 있다.
상기 (b) 단계는 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 하드 PDMS를 코팅하여 하드 PDMS층을 형성하는 단계와, 상기 하드 PDMS층 위에 액상의 소프트 PDMS를 코팅하여 소프트 PDMS층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 (a) 단계에서 레이저 간섭 리소그래피, 홀로그램 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 자가 마스크(self-masked) 패턴 형성 중에서 선택된 패턴 형성 방법과 건식 식각 방법으로 상기 마스터 몰드의 표면에 상기 미세 격자패턴 구조물을 형성할 수 있다.
상기 (c) 단계에서 상기 액상의 투명 폴리머층을 열처리하여 경화시킬 수 있다.
상기 마스터 몰드는 실리콘으로 이루어질 수 있다.
한편, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 광소자의 제조방법은, (a) 일정한 주기로 배치되는 다수의 미세 패턴 돌기로 이루어지는 미세 격자패턴 구조물이 표면에 마련된 마스터 몰드를 형성하는 단계와, (b) 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 투명 폴리머를 코팅하여 투명 폴리머층을 형성하는 단계와, (c) 상기 액상의 투명 폴리머층을 경화시키는 단계와, (d) 상기 투명 폴리머층이 경화된 것으로, 그 일면에 상기 다수의 미세 패턴 돌기에 대응하는 다수의 미세 패턴 홈으로 이루어진 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 반사 방지막을 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 단계와, (e) 상기 반사 방지막을 투명 기판에 부착하는 단계를 포함한다.
상기 (e) 단계에서 상기 투명 기판은 유리, 사파이어, 투명 플라스틱 중에서 선택될 수 있다.
본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법은 미세 격자패턴 구조물이 형성된 마스터 몰드의 표면에 액상의 투명 폴리머를 도포하여 투명 폴리머층을 형성하고, 이 투명 폴리머층을 경화시킨 후 마스터 몰드로부터 분리하는 나노임프린트 리소그래피 방법을 통해 간단하고 저렴하게 표면에 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 반사 방지막을 형성할 수 있다. 또한 본 발명은 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 대면적의 반사 방지막을 대량 생산할 수 있다.
또한 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법으로 만들어지는 반사 방지막은 투명 폴리머로 이루어져 플렉서블한 특성을 가지므로, 다양한 플렉서블 광소자에 적용되어 플렉서블 광소자의 기능을 향상시킬 수 있다.
또한 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법으로 만들어지는 반사 방지막은 소수성 특성을 보이므로, 유리 기판 등 다양한 투명 기판 표면에 적층되어 투명 기판 표면에 빗물이나 물성분의 액상 이물질이 부착되는 것을 억제시킴으로써 표면 오염을 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법을 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법을 이용하여 반사 방지막을 제조하는 실험예에 사용된 실리콘 마스터 몰드의 SEM 이미지(a) 및 제조된 반사 방지막의 SEM 이미지(b)이다.
(원본 이미지를 보내 주세요)
도 3은 도 2의 실험예를 통해 형성된 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막이 적층된 유리 기판과 일반적인 유리 기판의 투과율을 비교하여 나타낸 그래프이다.
(원본 이미지를 보내 주세요)
도 4는 도 2 및 도 3에 나타낸 실험예에 의해 형성된 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막이 적층된 유리 기판과 일반적인 유리 기판의 접촉각을 비교하여 나타낸 사진이다.
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도 2는 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법을 이용하여 반사 방지막을 제조하는 실험예에 사용된 실리콘 마스터 몰드의 SEM 이미지(a) 및 제조된 반사 방지막의 SEM 이미지(b)이다.
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도 3은 도 2의 실험예를 통해 형성된 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막이 적층된 유리 기판과 일반적인 유리 기판의 투과율을 비교하여 나타낸 그래프이다.
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도 4는 도 2 및 도 3에 나타낸 실험예에 의해 형성된 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막이 적층된 유리 기판과 일반적인 유리 기판의 접촉각을 비교하여 나타낸 사진이다.
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이하에서는 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물의 형성방법 및 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 유리 기판의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명을 설명함에 있어서, 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의를 위해 과장되거나 단순화되어 나타날 수 있다. 또한, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 이러한 용어들은 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법을 나타낸 것이다.
도 1에 도시된 것과 같이, 본 발명의 일실시예에 의한 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법은, 반사 방지막(30)을 형성하는 단계((a)~(d))와, 형성된 반사 방지막(30)을 투명 기판(40) 위에 부착하는 단계(e)를 포함한다. 반사 방지막(30)은 그 표면에 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)이 형성된 것으로, 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)은 그 격자 패턴의 격자 주기가 주기적이고 광파장 이하로 이루어진 것이다. 이러한 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)은 입사면에서의 표면 반사율을 떨어뜨리고 강한 산란광을 만들어내지 않아 무반사 특성을 나타나게 된다.
반사 방지막(30)은 나노임프린트 리소그래피(nanoimprint lithography)를 통해 만들어진다. 잘 알려진 것과 같이, 나노임프린트 리소그래피는 미세 구조의 몰드를 폴리머 수지에 몰딩함으로써 몰드의 미세 구조를 수지에 전사하는 방법으로, 제작 몰드를 반복하여 사용할 수 있기 때문에 복잡한 나노 구조의 부품도 대량 생산할 수 있는 장점이 있다. 이러한 나노임프린트 리소그래피를 이용하여 반사 방지막(30)을 형성하는 구체적인 과정은 다음과 같다.
먼저, 도 1의 (a)에 도시된 것과 같이, 일면에 미세 격자패턴 구조물(11)이 형성된 마스터 몰드(10)를 형성한다. 미세 격자패턴 구조물(11)은 다수의 미세 패턴 돌기(12)가 격자 패턴으로 형성된 것으로, 다수의 미세 패턴 돌기(12)는 주기적으로 배치되고, 그 격자 주기는 광파장 이하이다.
이러한 미세 격자패턴 구조물(11)은 레이저 간섭 리소그래피, 홀로그램 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 자가 마스크(self-masked) 패턴 형성 중에서 선택된 패턴 형성 방법과 건식 식각 방법으로 만들어진다. 구체적으로, 마스터 몰드(10)의 베이스를 구성하는 기판 표면에 상술한 것과 같은 방법들을 이용하여 패턴을 형성한 후, 각종 식각 방법으로 형성된 패턴 주위를 식각하면 다수의 미세 패턴 돌기(12)로 이루어진 미세 격자패턴 구조물(11)을 형성할 수 있다. 베이스 기판에 형성된 패턴 주위를 식각하는 방법으로는 반응성이온 식각(reactive ion etching)이나 유도결합플라즈마 식각(inductively coupled plasma etching) 등의 건식 식각 방법이 이용될 수 있다. 마스터 몰드(10)를 구성하는 베이스 기판으로는 실리콘 등 다양한 소재의 것이 이용될 수 있다.
마스터 몰드(10)의 일면에 형성되는 미세 격자패턴 구조물(11)은 반사 방지막(30)에 형성될 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)의 형상을 좌우한다. 따라서, 마스터 몰드(10)의 미세 격자패턴 구조물(11)을 구성하는 미세 패턴 돌기들(12)의 격자 주기나 크기, 형상 등을 조절함으로써, 반사 방지막(30)에 형성되는 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)이 무반사 효과를 나타낼 수 있는 빛의 파장 영역을 설정할 수 있다.
미세 격자패턴 구조물(11)을 갖는 마스터 몰드(10)를 형성한 후, 도 1의 (b) 및 (c)에 도시된 것과 같이, 마스터 몰드(10) 표면에 액상의 투명 폴리머를 코팅하여 투명 폴리머층(20)을 형성한다. 투명 폴리머층(20)은 하드 PDMS층(21)과 소프트 PDMS층(22)을 포함한다. 먼저, 도 1의 (b)에 도시된 것과 같이, 마스터 몰드(10)의 표면에 액상의 하드 PDMS를 코팅하여 하드 PDMS층(21)을 형성하고, 도 1의 (c)에 도시된 것과 같이 하드 PDMS층(21) 위에 액상의 소프트 PDMS를 코팅하여 소프트 PDMS층(22)을 형성함으로써, 투명 폴리머층(20)을 만들 수 있다.
본 발명에 있어서, 투명 폴리머층(20)은 도시된 것과 같은 두 개의 PDMS층을 갖는 구조 이외의 다른 구조로 변경될 수 있다. 다만, PDMS(poly-dimethylsiloxane)는 넓은 영역에 안정적으로 점착될 수 있고, 성형 가공성이 좋으며, 투명하고, 내구성이 우수한 특성이 있어 투명 폴리머층(20)을 형성하는데 유리하다. 또한 미세 격자패턴 구조물(11)이 형성된 마스터 몰드(10)의 표면에 하드 PDMS층(21)을 형성하면 다른 폴리머층에 비해 마스터 몰드(10)의 미세 격자패턴 구조물(11)을 하드 PDMS층(21)에 정밀하게 전사할 수 있고, 하드 PDMS층(21) 위에 소프트 PDMS층(22)을 형성하면 소프트 PDMS층(22)을 이용하여 다른 기판에 용이하게 부착할 수 있다.
마스터 몰드(10) 위에 형성되는 투명 폴리머층(20)은 경화 과정을 통해 경화되며, 이렇게 경화된 투명 폴리머층(20)이 반사 방지막(30)이 된다. 하드 PDMS층(21)과 소프트 PDMS층(22)으로 이루어지는 투명 폴리머층(20)은 열처리를 통해 경화될 수 있다. 투명 폴리머층(20)을 구성하는 폴리머의 종류에 따라 열처리 이외의 다양한 방법이 투명 폴리머층(20)을 경화시키는데 이용될 수 있다.
마스터 몰드(10) 위에 형성된 투명 폴리머층(20)을 경화시켜 반사 방지막(30)을 형성한 후, 도 1의 (d)에 도시된 것과 같이, 형성된 반사 방지막(30)을 마스터 몰드(10)로부터 분리한다. 도 1의 (d)에 도시된 것과 같이, 반사 방지막(30)의 일면에는 마스터 몰드(10)의 다수의 미세 패턴 돌기(12)에 대응하는 다수의 미세 패턴 홈(32)이 음각된 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)이 구비된다.
다음으로, 도 1의 (e)에 도시된 것과 같이, 마스터 몰드(10)에서 분리한 반사 방지막(30)을 투명 기판(40) 표면에 부착하여 광소자를 제조한다. 투명 기판(40) 위에 적층되는 반사 방지막(30)의 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)은 앞서 설명한 것과 같이, 투명 기판(40)의 입사면에서의 표면 반사율을 떨어뜨리고 강한 산란광을 만들어내지 않으므로, 투명 기판(40)에 무반사 특성을 제공한다.
상술한 것과 같이, 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법은 미세 격자패턴 구조물(11)이 형성된 마스터 몰드(10)의 표면에 액상의 투명 폴리머를 도포하여 투명 폴리머층(20)을 형성하고, 이 투명 폴리머층(20)을 경화시킨 후 마스터 몰드(10)로부터 분리하는 나노임프린트 리소그래피 방법을 통해 간단하고 저렴하게 표면에 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)이 형성된 반사 방지막(30)을 형성할 수 있다. 또한 본 발명은 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)이 형성된 대면적의 반사 방지막(30)을 대량 생산할 수 있다.
또한 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법으로 만들어지는 반사 방지막은 투명 폴리머로 이루어져 플렉서블한 특성을 가지므로, 다양한 플렉서블 광소자에 적용되어 플렉서블 광소자의 기능을 향상시킬 수 있다.
또한 본 발명에 의한 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법은 일면에 무반사 미세 격자패턴 구조물(31)이 형성된 반사 방지막(30)을 태양전지용 보호 기판 등 유리 기판, 사파이어 기판, 투명 플라스틱 기판 등 다양한 광소자용 기판에 적층시킴으로써, 표면 반사율이 낮고 우수한 투과율을 갖는 광소자를 제조할 수 있다. 또한 본 발명에 의한 광소자의 제조방법은 광학적 바이오 센서, LED, 태양전지, 평판형 디스플레이, 건축물의 창문 등 다양한 분야에 적용되어 해당 광소자의 기능을 향상시킬 수 있다.
한편, 도 2는 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법을 이용하여 반사 방지막을 제조하는 실험예에 사용된 실리콘 마스터 몰드의 SEM 이미지(a) 및 제조된 반사 방지막의 SEM 이미지(b)이고, 도 3은 도 2의 실험예를 통해 형성된 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막이 적층된 유리 기판과 일반적인 유리 기판의 투과율을 비교하여 나타낸 그래프이다.
도 2 및 도 3에 나타낸 실험예에서 마스터 몰드는 실리콘 기판을 베이스 기판으로 하여 레이저 간섭 리소그래피와 건식 식각법을 이용하여 형성하였고, 투명 폴리머층은 하드 PDMS층과 소프트 PDMS층을 실리콘 마스터 몰드 위에 차례로 코팅하여 형성하였다. 그리고 투명 폴리머층을 열처리하여 경화시킨 후 마스터 몰드에서 분리하여 만든 반사 방지막을 유리 기판 표면에 부착하여 반사 방지막이 적층된 유리 기판을 제조하고, 그것의 투과율을 일반 유리 기판의 투과율과 비교하였다. 도 3의 그래프를 보면, 본 발명에 의한 반사 방지막을 갖는 유리 기판이 일반 유리 기판에 비해 광범위한 파장 영역에서 투과율이 높게 나타남을 확인할 수 있다.
한편, 도 4는 도 2 및 도 3에 나타낸 실험예에 의해 형성된 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막이 적층된 유리 기판과 일반적인 유리 기판의 접촉각을 비교하여 나타낸 사진이다.
도 4를 보면, 일반 유리 기판은 약 36도의 접촉각을 보이는 친수성 표면을 나타내는 반면, 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막이 적층된 유리 기판은 약 120도의 접촉각을 갖는 소수성 특성을 보이는 것을 확인할 수 있다. 이러한 소수성 특성은 자정작용(self-cleaning) 기능을 발휘할 수 있다. 즉, 빗물이나 물성분의 액상 이물질의 부착을 억제시킴으로써 표면 오염을 줄일 수 있다. 따라서, 본 발명에 의한 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막이 적층된 유리 기판은 건축물의 유리창이나, 자동차 등 다양한 이동수단의 윈도우에 적용되어 우수한 효과를 발휘할 수 있다.
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 실시예는, 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 특허청구범위에 기재된 사항에 의해서만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 및 변경하는 것이 가능하다. 따라서, 이러한 개량 및 변경은 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.
10 : 마스터 몰드 11 : 미세 격자패턴 구조물
12 : 미세 패턴 돌기 20 : 투명 폴리머층
21 : 하드 PDMS층 22 : 소프트 PDMS층
30 : 반사 방지막 31 : 무반사 미세 격자패턴 구조물
32 : 미세 패턴 홈 40 : 투명 기판
12 : 미세 패턴 돌기 20 : 투명 폴리머층
21 : 하드 PDMS층 22 : 소프트 PDMS층
30 : 반사 방지막 31 : 무반사 미세 격자패턴 구조물
32 : 미세 패턴 홈 40 : 투명 기판
Claims (12)
- (a) 일정한 주기로 배치되는 다수의 미세 패턴 돌기로 이루어지는 미세 격자패턴 구조물이 표면에 마련된 마스터 몰드를 형성하는 단계;
(b) 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 투명 폴리머를 코팅하여 투명 폴리머층을 형성하는 단계;
(c) 상기 액상의 투명 폴리머층을 경화시키는 단계; 및
(d) 상기 투명 폴리머층이 경화된 것으로, 그 일면에 상기 다수의 미세 패턴 돌기에 대응하는 다수의 미세 패턴 홈으로 이루어진 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 반사 방지막을 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 단계;를 포함하고,
상기 (b) 단계는 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 하드 PDMS를 코팅하여 하드 PDMS층을 형성하는 단계와,
상기 하드 PDMS층 위에 액상의 소프트 PDMS를 코팅하여 소프트 PDMS층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 (b) 단계에서 상기 투명 폴리머는 PDMS인 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법. - 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 레이저 간섭 리소그래피, 홀로그램 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 자가 마스크(self-masked) 패턴 형성 중에서 선택된 패턴 형성 방법과 건식 식각 방법으로 상기 마스터 몰드의 표면에 상기 미세 격자패턴 구조물을 형성하는 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 (c) 단계에서 상기 액상의 투명 폴리머층을 열처리하여 경화시키는 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 마스터 몰드는 실리콘으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법. - (a) 일정한 주기로 배치되는 다수의 미세 패턴 돌기로 이루어지는 미세 격자패턴 구조물이 표면에 마련된 마스터 몰드를 형성하는 단계;
(b) 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 투명 폴리머를 코팅하여 투명 폴리머층을 형성하는 단계;
(c) 상기 액상의 투명 폴리머층을 경화시키는 단계; 및
(d) 상기 투명 폴리머층이 경화된 것으로, 그 일면에 상기 다수의 미세 패턴 돌기에 대응하는 다수의 미세 패턴 홈으로 이루어진 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 반사 방지막을 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 단계; 및
(e) 상기 반사 방지막을 투명 기판에 부착하는 단계;를 포함하고,
상기 (b) 단계는 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 하드 PDMS를 코팅하여 하드 PDMS층을 형성하는 단계와,
상기 하드 PDMS층 위에 액상의 소프트 PDMS를 코팅하여 소프트 PDMS층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 (b) 단계에서 상기 투명 폴리머는 PDMS인 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법. - 삭제
- 제 7 항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 레이저 간섭 리소그래피, 홀로그램 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 자가 마스크(self-masked) 패턴 형성 중에서 선택된 패턴 형성 방법과 건식 식각 방법으로 상기 마스터 몰드의 표면에 상기 미세 격자패턴 구조물을 형성하는 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 (c) 단계에서 상기 액상의 투명 폴리머층을 열처리하여 경화시키는 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 (e) 단계에서 상기 투명 기판은 유리, 사파이어, 투명 플라스틱 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20130121821A KR101500167B1 (ko) | 2013-10-14 | 2013-10-14 | 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR20130121821A KR101500167B1 (ko) | 2013-10-14 | 2013-10-14 | 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR101500167B1 true KR101500167B1 (ko) | 2015-03-09 |
Family
ID=53026714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR20130121821A KR101500167B1 (ko) | 2013-10-14 | 2013-10-14 | 무반사 미세 격자패턴 구조물을 갖는 반사 방지막의 제조방법 및 반사 방지막을 갖는 광소자의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR101500167B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102684701B1 (ko) | 2022-06-13 | 2024-07-12 | 충남대학교산학협력단 | 초박막 반사 방지 스티커의 제작방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100986911B1 (ko) * | 2008-10-22 | 2010-10-08 | 고려대학교 산학협력단 | 태양전지의 반사방지막 제조 방법 |
KR20110118018A (ko) * | 2010-04-22 | 2011-10-28 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름의 제조방법 |
-
2013
- 2013-10-14 KR KR20130121821A patent/KR101500167B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Title |
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Chia-Jen Ting et al., "Fabrication of an antireflective polymer optical film with subwavelength structures using a roll-to-roll micro-replication process," J. OF MICROMECH. & MICROENG. 8 (2008) * |
Chia-Jen Ting et al., "Fabrication of an antireflective polymer optical film with subwavelength structures using a roll-to-roll micro-replication process," J. OF MICROMECH. & MICROENG. 8 (2008)* |
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