CN1363929A - 光记录介质及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

在一种光记录介质中,通过用着色剂溶液涂布基材形成记录层,所述溶液包括溶解在包括环辛烷和至少一种除环辛烷外的有6-9个碳原子的烃的混合溶剂中的着色剂。制得的光记录介质能够在记录数据重现时抑制用于地址信息的平地预凹坑信号泄漏入用于记录数据的RF信号,从而达到降低误差率。

Description

光记录介质及其制造方法
发明领域
本发明涉及一种其中提供一层着色剂薄膜作为记录层的光记录介质及其制造方法。
发明背景
随着电子工业的发展,进行光记录用的大容量存储记录光盘如CD·R、DVD·R和DVD·RW广泛用作个人计算机的外部存储或取代视频的成象记录介质,最近用作大容量存储光记录介质。在各种能进行光记录的介质中,写入立刻可读型(WOR)紧密光盘具有和普通只重现(只读)的CD·ROM(仅能一次记录)重复交换,这种光盘称作CD·R,许多人使用这种光盘。而且,将促进甚至能用记录密度大于CD的数字通用盘(DVD)进行记录的介质的发展。尤其是,从DVD·ROM的高交换性考虑,预期写入立刻可读型DVD·R可普及。
这样的大容量存储记录光盘中,一般在盘的内部,而不是在其表面上提供记录面,并且主要由着色剂组成的着色剂薄膜用作记录层。例如,在写入立刻可读型光记录介质中,在记录层内使用有机着色剂。当辐照激光束时,该着色剂被局部加热而变性,从而能形成比特(bit)并且记录信息。
对记录层中使用的着色剂,例如有各种花青、酞青和金属偶氮染料。
这些染料一般溶解于合适的有机溶剂,通过旋转涂布法形成薄膜,提供记录层。当要在室温环境形成给定染料薄膜厚度在40-200nm范围,且公差不大于10%的均匀薄膜时,涂布溶液中溶剂的主要组分选自具有合适的蒸发温度、合适的染料溶解度和不溶解透明树脂基材的那些溶剂。
例如,在许多涉及通过施涂有机染料获得的光记录介质的文献中,已知通过旋转涂布使用有6-9个碳原子的烃溶剂。在日本专利公开公报9(1997)-267562中,公开了使用烃溶剂进行酞青染料和四氮杂卟啉(tetraazaporphyrin)染料的施涂。日本专利公开公报10(1998)-226172中,揭示一种成薄膜方法,其中使用二甲基环己烷和乙基环己烷作为涂布溶剂。
在使用也具有上述染料薄膜的记录层的光记录介质时,需要正确地获得盘信息如在记录时间的地址。
例如,在上述写入立刻可读的光记录介质中,预先在基材的平地区(land zone)刻出预凹坑(prepit),并通过从平地预凹坑(land prepit)接收到的信号获得地址信息。对于平地预凹坑信号,在平地区形成约0.2-1.0μm的预凹坑,按照推拉法通过在预凹坑区和非预凹坑区之间的反射光的差别进行检测。
通过在数据信号重现时的光拾取(pickup),读出这些平地预凹坑以及数据信号凹坑。沿跟踪导向(tracking guide)进行光拾取的跟踪随动,因此,在常规条件下,在凹槽上形成的平地预凹坑和数据信号记录凹坑被彼此区别,并读出。
然而,存在的问题是,使用上述常规溶剂实际形成的染料薄膜获得的光记录介质出现将平地凹坑信号泄漏入RF信号,这种信号检测用于数据信号记录的凹坑的存在。
需要平地预凹坑来获得地址信息(如在记录时的光记录介质时的位置信息),但在重现时不需要。
上述平地预凹坑信号泄漏入用于已记录数据的RF信号,有时会变成在重现时RF信号读出中出现误差的因素。
发明目的
鉴于现有技术领域目前的状况,本发明的目的是提供一种光记录介质及其制造方法,这种介质能减少平地预凹坑信号泄漏入RF信号,从而能按要求的误差率(信号检测误差率)记录和重现(读出)。
发明概述
本发明的光记录介质包括以螺旋或同心圆形式提供的凹槽(groove)和平地的记录基材、重叠在该基材上的记录层、反射层和保护层,
上述记录层包括通过在凹槽和平地上面施涂着色剂溶液形成的着色剂薄膜,
其中的凹槽区和平地区对从记录介质一面看到的入射光显示基本上相等的反射率。
在此,术语“基本上相等”指:如果用R20表示凹槽区反射率,而用R22表示平地区反射率,则R20和R22满足下面关系:
0.90≤R20/R22≤1.10,较好的0.93≤R20/R22≤1.07。
在上述着色剂溶液中,着色剂宜溶解在包括环辛烷和至少一种有6-9个碳原子的除环辛烷外的烃的混合溶剂中。更好的,这种溶剂中环辛烷含量为1-50%(重量)。上述着色剂较好的是二吡咯甲撑金属配合物(dipyrromethene metalcomplex)。
而且,光记录介质较好的具有某一平地预凹坑信号泄漏入RF信号的幅度,X(V),和I3信号幅度Y(V),这些X和Y满足下面关系:
-0.3≤X/Y≤0.3。
本发明制造上述光记录介质的方法包括下列步骤:用着色剂溶液涂布基材,形成记录层,着色剂溶液中,着色剂溶于包括环辛烷和至少一种有6-9个碳原子的除环辛烷外的烃的混合溶剂中。
在所述溶剂中环辛烷含量宜为1-50%(重量)。着色剂较好的是二吡咯甲撑金属配合物。
通过本发明方法制得的光记录介质较好的具有某一平地预凹坑信号泄漏入RF信号的幅度,X(V),和I3信号幅度Y(V),这些X和Y满足下面关系:
-0.3≤X/Y≤0.3。
下面说明凹槽区和平地区基本相等的反射率能达到抑制平地预凹坑信号泄漏入RF信号的原因。
本发明中,凹槽深度较好的等于平地预凹坑深度。
在重现记录的数据时,当重现激光束扫描到凹槽上的记录凹坑的线时,光束的边缘照射在平地区,从而,在平地预凹坑区上的反射率变化有时交叠到数据信号上,在某些情况下,由于将平地预凹坑认作信号一部分而导致误差率增加。
本发明人考虑到,反射率的变化主要产生于在平地预凹坑区上的着色剂薄膜和没有平地预凹坑的平地区上的着色剂薄膜之间厚度的差异。
通过在平地预凹坑区和没有平地预凹坑的平地区形成显示基本上相等的反射率的厚度的着色剂薄膜,即使重现激光束的边缘照射在平地预凹坑区上,可以使RF信号的反射率一致。
由于在平地预凹坑区上的着色剂薄膜的厚度基本等于在凹槽区上的薄膜的厚度,平地预凹坑区的反射率会和凹槽区的反射率相等。所以,设计光记录介质的很重要的一点就是进行控制,使得易于监测的在凹槽区上的反射率等于没有平地预凹坑的平地区的反射率。
当从上方看到,在基材上凹槽区和平地区显示出基本相等的入射光反射率时,沿着凹槽进行的光拾取位于存在平地预凹坑的位置时所显示的反射率基本上等于光拾取位于不存在平地预凹坑的位置所显示的反射率,其结果是可以抑制平地预凹坑信号泄漏入RF信号。
使用不仅具有合适的高粘度而且还具有比主溶剂高的沸点的除环辛烷外的烃与环辛烷的混合物作为溶剂,达到控制所获得的着色剂薄膜的构形。
通过矩阵计算,由(a)-(d)决定凹槽区的反射率:
(a)入射光波长;
(b)基材的光学常数;
(c)记录层的光学常数(折射率和衰减因子)和凹槽区薄膜厚度;
(d)反射层光学常数(照射率和衰减因子)和薄膜厚度。
同样,通过矩阵计算,由(a’)-(d’)决定平地区的反射率:
(a’)入射光波长;
(b’)基材的光学常数;
(c’)记录层的光学常数(折射率和衰减因子)和凹槽区薄膜厚度;
(d’)反射层光学常数(照射率和衰减因子)和薄膜厚度。
在此,“通过使用环辛烷(fyflooftane)作为溶剂使得能够控制有色物质薄膜的构形”的说法指凹槽区的膜厚度和平地区的薄膜的厚度可以分别独立控制,并且,可以独立控制基材上凹槽区的反射率和平地区的反射率。
因此,调节溶剂中环辛烷的混合量能够控制凹槽区的膜厚度和平地区的薄膜厚度,使基材上凹槽区和平地区显示基本相等的反射率,从而达到抑制平地预凹坑信号泄漏入RF信号的目的。
附图简述
图1是本发明光记录介质的剖面示意图。
图2是本发明光记录介质的局部放大剖面示意图。
发明详细描述
下面参考实施方案详细描述本发明的光记录介质及其制造方法。
图1是本发明光记录介质的剖面示意图,图2是本发明光记录介质的局部放大剖面示意图。
参见图1,编号10一般指本发明的光记录介质。
光记录介质10包括记录基材12,其上有以螺旋或同心圆形式提供的凹槽20和平地22,随后按次序叠加在其上的至少有记录层14、反射层16和保护层18。上述记录层14通过在凹槽20和平地22上表面涂布的着色剂溶液形成。通过记录基材12测定,凹槽区20和平地区22显示基本上相等的反射率。
用于本发明的记录基材12可由透明基材组成。其材料可以是例如塑料(如聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯类、聚丙烯酸酯类或聚烯烃),或玻璃。从强度、防潮/耐热性能和大量生产考虑,较好的是聚碳酸酯。尽管对制造基材12的方法没有特别的限制,但是考虑生产效率(如大批量生产)时,一般采用注塑成形。对基材12,作为光入射平面的下表面11一般已进行镜面抛光。
基材12的厚度一般在0.6-1.2mm范围。基材12上,凹槽(引导槽)20以0.5-2μm螺距、50-250nm深度和约200-700nm宽度的螺旋或同心圆形式提供。插在相邻凹槽20之间的区域,提供平地22。
具体而言,在用于4.7GB容量的DVD·R介质的记录基材12上,当磁道间距是0.74μm时凹槽20的深度宜在140-250nm范围,较好为150-180nm,宽度宜在250-450nm范围,较好为270-350nm。
尽管原则上可以使用任何种类的着色剂作为形成凹槽20和平地22上的记录层14的着色剂,只要这种物质能吸收激光束并将其转变为热量,但较好的例如是有高折射率的花青、酞青染料、金属偶氮染料、卟啉染料和金属吡咯甲撑染料作为着色剂组。
这些着色剂中,宜使用能溶解于非极性溶剂的酞青染料、卟啉染料和金属吡咯甲撑染料作为本发明的着色剂。最好是甲基吡咯甲撑染料。
具体而言,由下面式(1)表示的金属吡咯甲撑染料对平地预凹坑信号泄漏入RF信号有较大效果。
Figure A0114388300071
其中,R1-R13各自独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、硝基、有1-12个碳原子的取代或未取代的烷基、有1-12个碳原子的取代或未取代的烷氧基、氨基或有7-20个碳原子的取代或未取代的芳基。而且,式(1)中,尽管对中心金属M没有特别的限制,只要它是能和二吡咯甲撑化合物形成配合物的金属,但从稳定性和光学性能考虑,较好的选自过渡金属如Cu、Co、Ni、Mn、Zn和Pd。上述烷基、烷氧基和芳基的取代基例子包括烷基如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基或异戊基,烷氧基如甲氧基、乙氧基、丙氧基或丁氧基,和芳基如苯基、甲苯基或二甲苯基。
记录层14可采用常规的涂布方法如旋转涂布、喷涂或辊涂,涂布着色剂溶液来形成。从大量生产和缩短过程的战术考虑,尤其选择旋转涂布。这样形成记录层14,使基材12的凹槽20上薄膜厚度在40-200nm范围,较好为70-150nm,在基材12的平地22上薄膜厚度在20-60nm范围。
首先,通过将着色剂溶解在不损害基材12的溶剂中制备着色剂溶液。将该溶液涂布在基材12上,干燥后形成记录层14。
对于不损害基材12的溶剂的主要组分,从对溶剂的水浓度的详细考察出发,如醇类、酮类、溶纤剂和卤代烃的各种溶剂都不合要求。本发明中,宜使用环辛烷和除环辛烷外的烃溶剂的混合物。在此,“除环辛烷外的烃溶剂”指有直链或支链侧链的脂族链烃、有直链或支链烷基取代基的环脂族烃、或有直链或支链烷基取代基的芳烃。
本发明中,溶剂中环辛烷的含量,以溶剂总重量为基准,较好为1-50%(重量),更好为3-20%(重量)。当环辛烷含量在上述范围内时,在制得的光记录介质上能充分降低平地预凹坑信号泄漏入RF信号。当环辛烷含量超出上述范围上限时,基材12被着色剂溶液的润湿不足,从而不能形成均匀的记录层,导致引起噪音量加重和跟踪失误。另一方面,当环辛烷含量低于上述范围的下限,环辛烷含量很小,不能提供环辛烷的作用,从而不能抑制平地预凹坑信号泄漏入RF信号。
控制溶剂蒸发速度对于通过旋转涂布形成一定厚度的均匀薄膜,旨在控制涂层薄膜构形很重要。因此,要求混合了环辛烷的溶剂的沸点在80-160℃范围之内。最好从除环辛烷外的有6-9个碳原子的烃中选择作为溶剂。当烃的碳原子数为5或小于5时,常温下溶剂的沸点较低,蒸汽压很高。所以,例如,当通过旋转涂布在直径120mm的光盘基材上形成记录层时,很难确保光盘内部和外部之间的薄膜厚度均匀性。另一方面,当烃碳原子数为10或更大时,溶剂的沸点一般很高,在常规旋转涂布和干燥条件下极难蒸发除去溶剂,而且即使达到形成薄膜,也很难达到要求的厚度。
沸点在80-160℃范围的除环辛烷外的有6-9个碳原子的烃可用于本发明,这些溶剂是例如任何脂族链烃溶剂如正庚烷、正辛烷、异庚烷或异辛烷,脂环烃溶剂如环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷、丙基环己烷、1,2-二甲基环己烷、1,4-二甲基环己烷、1,2,4-三甲基环己烷或环庚烷,以及芳烃溶剂如甲苯、对二甲苯、邻二甲苯或乙苯。
根据提高着色剂溶解度、调整蒸发速度等目的,这些有机溶剂可以单独使用或组合使用。例如,实践中芳烃溶剂不用作主要溶剂,原因是芳烃溶剂和透明基材如聚碳酸酯或丙烯酸基材的高混溶性,较好的使用少量芳烃溶剂和链脂族烃或脂环烃的混合溶剂,主要达到提高着色剂溶解度的目的。
尽管对构成反射层16的材料没有特别的限制,只要能达到对读出激光束波长的高反射率,但最好是选自下列的金属:如金、银、铝、铂、铑和钯以及由这些金属组成的合金。反射层16一般通过溅射法形成,其厚度宜在50-200μm范围。
可紫外固化的树脂可以用作构成向反射层16表面上提供保护层18的材料。较好的使用(甲基)丙烯酸紫外可固化树脂。例如,通过旋转涂布施用上述材料,厚度为约2-20μm,并通过如辐照紫外光进行固化。对单片形式的光盘如CD·R,保护层18上可以叠加商标印刷层。还可以使用通过粘合剂层与哑元基材层叠的结构如DVD·R。
本发明的光记录介质10上,从基材12侧看,在凹槽区20的入射光的反射率和平地区22的反射率基本上相等。在此使用的“凹槽区20的反射率和平地区22的反射率基本上相等”说明地指:如果用R20表示凹槽区反射率,而用R22表示平地区反射率时,R20和R22满足下面关系:
0.90≤R20/R22≤1.10,较好的0.93≤R20/R22≤1.07。
通过矩阵计算,由(a)-(d)决定凹槽区的反射率:
(a)入射光波长;
(b)基材12的光学常数(折射率和衰减因子);
(c)记录层14的光学常数(折射率和衰减因子)和凹槽中心区薄膜厚度d20
(d)反射层16的光学常数(照射率和衰减因子)和在薄膜厚度d20上的薄膜厚度d30
同样,通过矩阵计算,由(a’)-(d’)决定平地区的反射率:
(a’)入射光波长;
(b’)基材12的光学常数(折射率和衰减因子);
(c’)记录层14的光学常数(折射率和衰减因子)和平地中心区薄膜厚度d22
(d’)反射层16的光学常数(照射率和衰减因了)和在薄膜厚度d22上的薄膜厚度d32
如上面所述,使用和一般溶剂相比具有合适高粘度和高沸点的含有适量环辛烷的主要溶剂,可以分别控制凹槽区和平地区所制得着色剂薄膜的构形。例如,通过调节旋转涂布中的旋转速度以及环辛烷含量比,可以最有效地调整凹槽区的着色剂薄膜的厚度,改变平地区着色剂薄膜厚度。因此,可以选择这样的薄膜构形,使凹槽区20的反射率基本上等于平地区22的反射率。
如果按照上面所述,凹槽区20的反射率基本上等于平地区22的反射率,当沿着凹槽进行的光拾取位于存在平地预凹坑的位置时所显示的反射率基本上等于当光拾取位于不存在平地预凹坑的位置时所显示的反射率,其结果是可以抑制平地预凹坑信号泄漏入RF信号。
本发明的光记录介质显示某一平地预凹坑信号泄漏入RF信号的幅度,即X(V),和I3信号幅度Y(V),这些X和Y满足下面关系:
-0.3≤X/Y≤0.3,较好为-0.2≤X/Y≤0.2。
当满足上述关系时,对I3信号波形,可以降低由于平地预凹坑信号泄漏的信号波形变形的程度,在这些信号中,I3信号显示最高的出现频率(最大数)和具有最小幅度,因此最可能受到信号波形变形的影响。结果,可以降低误差率(信号检测误差率)。在此,I3信号指由最短凹坑(3T)记录的信号。
发明效果
本发明能够降低平地预凹坑信号泄漏入RF信号,原因是从基材侧看,入射光在凹槽区的反射率基本上等于平地区上的反射率,因此降低了误差率。
使用环辛烷和至少一种除环辛烷外的有6-9个碳原子的烃的混合物作为施用到树脂基材上着色剂溶液的溶剂,可以控制形成的着色剂薄膜的构形。因此,在基材上,使凹槽区的反射率基本上等于平地区反射率。结果,在所获得的光记录介质上可以降低平地预凹坑信号泄漏入RF信号,从而达到降低误差率。
所以,根据本发明,提供了一种光记录介质,这种光记录介质在记录时能够从平地预凹坑精确读出地址信号,在重现时光读出记录的数据信号期间能够降低由于用于地址信息的平地预凹坑信号泄漏入用于被记录数据的RF信号导致的读出误差。
实施例
参考下面的实施例进一步说明本发明,遵循实施例仅用于说明,不构成对本发明的限制。
实施例1
使用直径120mm,厚0.6mm的用于DVD·R的聚碳酸酯片作为透明树脂基材,其上提供周期性Z形的跟踪凹槽(间距:0.74μm,深度:160nm,宽度(半波宽度):350nm)。
在形成记录层时,在包括1,2-二甲基环己烷(DMCH)和混有10%(重量)环辛烷的溶剂中溶解下式的二吡咯甲撑金属配合物染料,量为20g/L:
Figure A0114388300111
制得的溶液经过滤后通过旋转涂布施涂在上述基材上,通过调节旋转速度,使凹槽中心区染料薄膜厚度(记录层厚度)为120nm。
如此形成的染料薄膜在80℃干燥1小时,使用溅射装置(型号CDI 900,Balzers制造),涂布100nm厚的Au膜作为反射层。
然后,在反射层上施涂UV可固化的树脂(SD1700,由Dainippon Ink KagakuKogyo制造),并用UV进行固化,形成保护层。之后,通过可UV辐照固化的自由基粘合剂(Z8421H,由JSR制造),在保护层表面叠加0.6mm厚的聚碳酸酯片,并用UV使粘合剂固化。由此,制得光记录介质。
使用光盘试验仪(DDU 1000,由Pulsetec Kogyo制造,波长=657nm,NA=0.6),以3.5m/s线速,向DVD互换8-16调制记录提供制得的光记录介质(基本对策型3)。
然后,同样使用包括DDU 1000镜面体和安装在其上的标准ROM重现光学***(波长=650nm,NA=0.6)的光盘试验仪,重现上述记录位置的型号,从而评价误差率。此时,还同时评价I3型号幅度和平地预凹坑型号泄漏入RF型号的幅度。同时还评价I3型号幅度和平地预凹坑型号泄漏入RF型号的幅度以及在凹槽区反射率和平地区反射率。通过上述计算确定反射率。结果列于表1。
实施例2
使用和实施例1中所述相同的基材和染料。染料溶解在包括乙基环己烷(ECH)和混有3%(重量)邻二甲苯和10%(重量)环辛烷的混合溶剂中,浓度为25g/L。将制得的溶液涂布在基材上,调节旋转调节,使凹槽中心区的薄膜厚度(记录层厚度)为120nm。按照和实施例1相同的方式,制备光记录介质,并进行其信号评价。结果列于表1。
实施例3
使用和实施例1所述相同的基材。将下式(3)的吡咯甲撑金属配合物溶解在包括乙基环己烷(ECH)和环己烷混合物(混合重量比为3∶1)并混有5%(重量)环辛烷的溶剂中,浓度为15g/L。制得的溶液涂布在基材上,调节旋转调节,使凹槽中心区的薄膜厚度(记录层厚度)为120nm。按照和实施例1相同的方式,制备光记录介质,并进行其信号评价。结果列于表1。
Figure A0114388300121
比较例1
使用和实施例1中所述相同的基材和染料。染料溶解在乙基环己烷(ECH)(没有加入环辛烷)溶剂中,浓度为25g/L。将制得的溶液涂布在基材上,调节旋转调节,使凹槽中心区的薄膜厚度(记录层厚度)为120nm。按照和实施例1相同的方式,制备光记录介质,并进行其信号评价。结果列于表1。
比较例2
使用和实施例1中所述相同的基材和染料。染料溶解在包括乙基环己烷(ECH)和混有60%(重量)环辛烷的混合溶剂中,浓度为25g/L。将制得的溶液涂布在基材上,调节旋转调节,使凹槽中心区的薄膜厚度(记录层厚度)为120nm。按照和实施例1相同的方式,制备光记录介质,并进行其信号评价。结果列于表1。
由表1可以理解,在本发明的光记录介质上,降低了平地预凹坑信号泄漏入RF信号,误差率也达到要求的低值。
                                   表1
 有色物质结构   涂料溶剂(主要溶剂)   环辛烷加入量(重量%)  凹槽反射率R20(%)  平地反射率R22(%)  R20/R22    PI误差 平地预凹坑信号泄漏入RF信号的幅度X(V) I3信号幅度Y(V)   X/Y
实施例1  式1     DMCH     10     60     57     1.05     20      0.07V  0.45V   0.16
实施例2  式1     ECH     10     60     56     1.06     30      0.10V  0.45V   0.22
实施例3  式2    ECH+CH     5     55     54     4.02     10      0.04V  0.52V   0.08
比较例1  式1     ECH     0     60     73     0.82     400      0.20V  0.45V   0.44
比较例2  式1     ECH     60   随动失败

Claims (9)

1.一种光记录介质,包括具有以螺旋或同心圆形式提供的凹槽和平地的记录基材,以及叠加在其上的记录层、反射层和保护层,
所述记录层包括通过在凹槽和平地的上表面上施用着色剂溶液形成的着色剂薄膜,
从记录基材侧看,其中的凹槽区和平地区显示入射光的基本上相等的反射率。
2.如权利要求1所述的光记录介质,其特征在于所述着色剂溶液中,将着色剂溶解在包括环辛烷和至少一种除环辛烷外的有6-9个碳原子的烃的混合溶剂中。
3.如权利要求2所述的光记录介质,其特征在于所述环辛烷在溶剂中的含量为1-50%重量。
4.如权利要求1所述的光记录介质,其特征在于所述着色剂是二吡咯甲撑金属配合物。
5.如权利要求1所述的光记录介质,其特征在于它具有平地预凹坑信号泄漏入RF信号的幅度X(V)和I3信号幅度Y(V),所述的X和Y满足下面的关系:
-0.3≤X/Y≤0.3。
6.一种制造光记录介质的方法,所述方法包括用着色剂溶液涂布基材,以形成记录层,所述着色剂溶液中,将着色剂溶解在包括环辛烷和至少一种除环辛烷外的有6-9个碳原子的烃的混合溶剂中。
7.如权利要求6所述的制造光记录介质的方法,其特征在于环辛烷在溶剂中的含量为1-50%重量。
8.如权利要求6所述的制造光记录介质的方法,其特征在于所述着色剂是二吡咯甲撑金属配合物。
9.一种以权利要求6所述的方法制造的光记录介质,其特征在于所述光记录介质具有平地预凹坑信号泄漏入RF信号的幅度X(V)和I3信号幅度Y(V),所述的X和Y满足下面的关系:
-0.3≤X/Y≤0.3。
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