CN1187239C - 净室用的物品保管设备 - Google Patents

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Abstract

一种净室用的物品保管设备,可消除因结构复杂而引起成本升高的不利因素,而且,还可消除因清洁空气的气流紊乱对保持其他装置的空气清洁度带来不良影响的不利因素。下流式的净室内,设有对物品进行规定处理的物品处理装置(A)、和具有多个物品存放部(5)的物品保管装置(B),在物品处理装置(A)的物品移载部(15)的上方侧配备有在上下方向上重叠的重叠装置部分,还形成有导风通路(16),该导风通路将从净室的天花板部向下吹出的净化过的空气,从背部侧空气通风路(L)导向其重叠装置部分的物品存放部(5)的下方侧,还形成有空气吹出部(17),该空气吹出部将由该导风通路(16)导向物品存放部(5)的下方侧的空气向下方侧吹出而供给物品处理装置(A)。

Description

净室用的物品保管设备
技术领域
本发明涉及在尘埃少的洁净环境中,保管例如液晶显示元件和半导体制品等物品用的保管设备。更具体地说,是涉及设在从天花板部向下方吹出空气的下流式净室中的物品保管设备的改进。
背景技术
净室用的物品保管设备具有输送物品的输送机构,该输送机构用于将液晶显示元件和半导体制品等物品搬入多个物品存放部,并且为了将保管在物品存放部内的物品输送到外部,配置了可进行物品输送的物品输送机构。现有装置,为了有效利用所配备的该物品输送机构,有的将物品处理装置靠近物品输送机构设置,以便能向物品处理装置输送物品,该物品处理装置用于对物品进行预定的处理。因此,可缩短输送时间,提高作业效率。而且,为了将物品处理装置的上方空间也作为存放空间利用,还配备有存放空间,该存放空间位于物品处理装置的物品移送部的上方,使得其与物品移送部在上下方向上重叠。因此,有效利用了设置空间,提高了存放保管效率(例如,参照特开平10-294351号公报)。
但是,由于需要将物品保管在尘埃少的清洁环境中,故这种物品保管设备设置在下流式的净室内,该净室通过空气净化滤清器从天花板向下方吹出,供给净化后的清洁空气。位于存放架上方侧的从天花板吹出所供给的清洁空气,从上端部空气进入部进入,从上述背部侧空气通风路、并通过各存放部的存放空间,在前部侧空气通风路内向下方侧流动。现有的物品保管设备如图8所示,例如是这样构成的,即,物品保管装置B的上述重叠装置部分的下端部30形成闭塞状态,从上端部空气进入部13进入的清洁空气,全部从物品存放部5的存放空间和前部侧空气通风路M中通过后,向下方流动。其结果,位于上述重叠装置部分下方的物品处理装置的物品移载部15,成为不从天花板面2供清洁空气的状态。因此,在物品处理装置A的上部侧配备了具有鼓风机和空气净化滤清器的风扇滤清器装置FU,可确保利用物品输送机构向物品处理装置搬进搬出物品的部位的清洁度。
但是,上述现有结构虽可确保向物品处理装置搬进搬出物品的部位的清洁度,然而,如图8所示,在物品保管装置的背面部位向下方流动的来自天花板的清洁空气被风扇滤清器装置吸入,在位于上述物品移载部上方的角部(A部),清洁空气流(下流)有可能紊乱而形成紊流,结果,对保持其他装置的空气清洁度带来不良影响。
发明内容
本发明是为了改进这些问题而开发的,因此,本发明的主要目的之一是提供一种净室用的物品保管设备,这种保管设备可避免因净室的清洁空气流紊乱而给保持其他装置的空气清洁度带来恶劣影响的不利因素。
本发明提供一种净室用的物品保管设备,其在从天花板部向下方吹出空气的净室内设有具有多个物品存放部的物品保管装置,其中,
上述物品保管装置包括物品输送机构,
在上述各物品存放部的背面侧部位形成有背部侧空气通风路,
而且,还在上述各物品存放部的前面侧的配备有上述物品输送机构的空间内,形成有前部侧空气通风路,
从净室的天花板部向下吹出的净化后的空气,通过使该空气进入上述背部侧空气通风路的空气进入部和上述背部侧空气通风路,再通过上述各物品存放部的存放空间,在上述前部侧空气通风路内向下方流动,这样构成净室用的物品保管设备,
其特征在于,上述物品保管装置还包括对物品进行预定处理的物品处理装置,配置于物品处理装置上的对物品进行搬进搬出的物品移载部,以及配置在上述物品处理装置的上述物品移载部的上方侧、与该物品移载部在上下方向上重叠的重叠装置部分,
该物品输送机构在上述物品移载部和上述各物品存放部之间输送物品,
上述物品保管装置的所述重叠装置部分形成有导风通路,而且,还形成有空气吹出部,该导风通路将从上述空气进入部进入的空气,从上述背部侧空气通风路导向其重叠装置部分的物品存放部的下方侧,该空气吹出部将被该导风通路导向上述物品存放部的下方侧的空气向下方侧吹出,而供给上述物品处理装置。
根据本发明,从空气进入部进入的净化空气,通过导风通路从背部侧空气通风路导入其重叠装置部分的存放部的下方侧。其后,被该导风通路导入前述存放部下方侧的空气,从上述空气吹出部向下方侧吹出而供给物品处理装置。因此,利用这样供给的净化空气,可确保物品输送机构向物品处理装置搬进搬出物品的部位的清洁度。另外,不必从物品保管装置吹出供给净化过的空气,故不必在物品处理装置一侧设置特别的风扇滤清器装置,可相应简化其构造。而且,又因不必在物品处理装置一侧设风扇滤清器装置,故不必像以往那样,从物品处理装置的上部位置强制性地吸空气,因此,可使来自天花板部的清洁空气流产生紊乱的情况很少。
因此,可提供一种净室用的物品保管设备,这种保管设备可避免因净室的清洁空气流紊乱而给保持其他装置的空气清洁度带来恶劣影响的不利因素。
在具体的实施形式中,最好在上述空气吹出部配备自由改变、调整空气吹出量的风量调节机构。即,用风量调节机构可改变、调整从空气吹出部向下方吹出、供给的空气吹出量,使得从空气吹出部吹出的空气的气流状态,和从天花板部吹出的空气的气流状态成为极相同的状态,这样,便可尽量减少净室内的气流紊乱现象。
附图说明
图1是表示本发明的净室中的物品保管设备的设置状态的侧视图。
图2是从上方看物品保管装置的俯视图。
图3是表示物品保管装置和物品处理装置的正视图。
图4是表示物品保管装置的后视图。
图5是物品保管装置的纵剖面侧视图。
图6是表示通风状态的图。
图7是另一实施形式的物品保管装置的纵剖面侧视图。
图8是表示现有的物品保管设备的通风状态的图。
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的净室用的物品保管设备作说明。图1所示为,例如为了保管半导体制品和液晶显示元件等而设置在尘埃少的清洁过的室内空间内的物品保管设备,在上述那样的制品的初期阶段和制造过程中,需要在细粉尘等尘埃少的环境中保管。该物品保管设备,以这种物品作为保管对象,在尘埃少的清洁过的空间内保管物品。
设有该物品保管设备的房间,设成空气从天花板向下方吹出的下流式的净室。具体地说,净室R1的地板部,设成形成有许多通气孔的网眼状的格子地板1。该格子地板1的下方设有形成有吸气用空间Q的吸气室R2。如图1所示,净室R1内的空气通过吸气室R2内的空间和循环路Q,由通风风扇F进行吸气。被吸的空气,经过设在净室R1的天花板2上方侧的空气室3,并经过设在净室R1的天花板2上的,例如由HEPA(高效微粒空气)滤清器等构成的空气滤清器4净化后,向下吹出、供给净室R1内。因此,净室R1的空气经过上述路线进行循环,经过净化的空气经常以从天花板2向下方吹出的状态供给,故可保持清洁度高的状态。
下面,参照图2~图6对物品保管设备的构造作说明。该物品保管设备,大体分为对物品进行预定处理的物品处理装置,和具有多个物品存放部5的物品保管装置B。详细地说,上述物品保管装置B具有一侧的架主体6和另一侧的架主体7,其中架主体6在上下方向和横向上以多个并列的状态、设有存放物品C的多个物品存放部5;架主体7,在上下方向上以排成一列的状态、在横向上以多个并列的状态设有多个物品存放部5。架主体6和7,在前后方向上相隔规定间隔排列配置。在一对架主体6、7之间的间隔内,具有多个物品存放部5,和作为物品输送机构的塔式起重机9,该塔式起重机在后述的物品搬进搬出用的输送机装置8之间输送物品。该塔式起重机9,也是在一个物品存放部5和其他物品存放部5之间输送物品。作为物品输送机构,也可利用这样的装置来取代塔式起重机,即利用在水平方向上延伸、在上下方向上移动的升降机,和在该升降机上具有可在水平方向上移动的载置装置。
这里,参照表示从上向下观察物品保管设备的状态的图、即作为俯视图的图2,对本说明书中所用的方向的表现形式加以说明。架主体6的物品存放部5,在塔式起重机9一侧开有口。因此,用D1所示的箭头方向来定义架主体6的前方向。同样,用D2所示的箭头方向来定义架主体7的前方向。所以,沿着D1或D2的方向被称作架主体6、7的前后方向。另外,D3所示的方向被定义为横方向。
物品保管装置B的横向端部侧设有物品搬进搬出部10,用于向外部搬进搬出物品。该物品搬进搬出部10具有输送带装置8,用于接受来自塔式起重机9的物品C,并将其输送到外部,或把从外部接受的物品转移给塔式起重机9。上述塔式起重机9设有移动台车9c,该移动台车9c一面在设于地板上的行走轨道9a上行走,其上端部,一面沿着设于天花板上的导轨9b,被其引导在横向上自由移动行走。在该移动台车9c上,升降自如地设有移载装置9d,该移载装置在多个物品存放部5与上述输送装置8之间、和在多个物品存放部5之间以及在上述输送带装置8之间移载物品。利用该塔式起重机9,可在多个物品存放装置5、上述输送带装置8、以及后面将要说明的物品处理装置A之间移载物品。
对于上述架主体6、7来说,把与塔式起重机9一侧,即与前面侧相反的一侧称作背面侧。如图5所示,在上述架主体6、7各自的背面侧部分,在架主体6、7和罩体11之间分别形成有背部侧空气通风路L,该罩体以闭塞状态覆盖架主体外周部。另外,在上述架主体6、7各自的前面侧,形成有配备了塔式起重机9的空间即前部侧空气通风路M。又,上述架主体6、7的上端部及前部侧空气通风路M的上端部被通风抑制体12覆盖,成为抑制上下方向的通风状况的结构。各背部侧空气风路L的上端形成有空气进入部13。各物品存放部5的前面侧,为了用塔式起重机9搬进搬出物品C而呈敞开状态。各物品存放部5的背面侧分别设有风量调整器14,可调节从这里通过的空气量即通过的风量。风量调整器14设有调节开口量的机构,利用一片或数片闭锁板部分地或完全地闭锁开口部,这样来调整开口量。该机构也可用使闭锁板相对于开口部滑移而进行闭锁的结构,还可利用相对于开口部摆动而闭锁开口部的结构。
如图2、图3所示,架主体6、7中的一方的架主体7的下方侧,物品处理装置A配置成和该架主体7在上下方向上重叠的状态。即,架主体7的至少一部分位于物品处理装置A的物品移载部15的上方侧,是在上下方向上重叠于该物品移载部15上的重叠装置部分。上述物品处理装置A,沿着物品存放部5的横向排列方向、在排列成排的状态下,多个并列配置。关于多个物品处理装置A,不对具体的处理内容作详细说明,例如这些处理装置是依次对半导体制品和液晶显示元件进行制造用的化学上的多种处理装置。
如图6所示,从净室R1的天花板2向下吹出的净化过的空气,从上部的空气进入部13进入,从背部侧空气通风路L、并通过各物品存放部5的存放空间,在前部侧空气通风路M内向下方侧流动。物品保管装置B的一侧的架主体7上形成有导风通路16,该导风通路将从空气进入部13进入的空气,从背部侧空气通风路L导入该架主体7的物品存放部5的下方侧。形成有空气吹出部17,将从该导风通路16导入物品存放部5的下方侧的空气向下方吹出而供给物品处理装置A。
下面,对上述构造的空气流进一步作详细说明。
物品保管装置B的物品处理装置A,在上下方向上不重叠配置的架主体6上,物品存放部5在上下方向上分4层排列配置,背部侧空气通风路L,形成从上端部的空气进入部13一直连续到靠近装置下端部的位置的状态,背部侧空气通风路L的下端部用遮蔽板18闭塞,以使空气不向下方流出。配备有上述塔式起重机9的前部侧空气通风路M的下端部,形成有空气向下方流出的空气流出部19。因此,从净室R1的天花板2向下吹出的净化后的空气,从上部空气进入部13进入后,从背部侧空气通风路L、并通过各物品存放部5的存放空间,在前部侧空气通风路M内向下方侧流动。这时,可利用设在各物品存放部5背面的风量调整器14进行调整,以使通过各物品存放部5的存放空间的空气通风量基本均等。
上述物品处理装置A,设成多个物品存放部5在上下方向上重叠配置的架主体7上,在横向上排在一列的状态,背部侧空气通风路L形成在该一列物品存放部5的背部侧。和另一侧的架主体6一样,从净室R1的天花板2向下吹出的净化过的空气,从上部空气进入部13进入。然后,空气从背部侧空气通风路L通过各物品存放部5的存放空间,在前部侧空气通风路M内向下方侧流动。如图6所示,与背部侧空气通风路L的下端部相连地形成有导风通路16,该导风通路把从空气进入部13进入的空气从背部侧空气通风路L导向该架主体7的物品存放部5的下方侧。导风通路16如图5、图6所示,整体水平延伸,由物品存放部5的底部和罩体11的水平部分11a形成。另外,在上述导风通路16和前部侧空气通风路M之间设有壁11b,以使空气不从上述导风通路16逸出到前部侧空气通风路M内。另外形成有空气吹出部17,该吹出部使被该导风通路16导向物品存放部5下方侧的空气向下方侧吹出而供给物品处理装置A。上述空气吹出部17,从侧面看,配置在上述重叠装置部分7的物品存放部5和物品处理装置A之间。
这样,便将净化之后的空气向下吹出而供给物品处理装置A的物品移载部15,故可确保物品移载部15的清洁度。而且,上述空气吹出部17设有作为风量调整机构的风量调整器20,可自由地变更调整空气吹出量。该风量调整器20未详述,它和设在各物品存放部5中设置的风量调整器14一样,可利用滑动操作机构和摆动操作机构等一般的开口量调整机构,对通过这里的空气的量,即通过的空气量进行变更调整。用该风量调整器20来变更调整空气吹出量,可以和从净室R1的天花板2向下吹出的空气吹出量形成基本相同的状态,可尽量减少气流紊流的产生。
以下,列举另外的实施形式。
(1)上述实施形式中,空气吹出部具有风量调整器20,作为自由变更调整空气吹出量的风量调节机构,单独地自由变更调整通过的空气量。但是,作为风量调整机构的风量调整器20和设在各物品存放部5背面的风量调整器14,不必局限于此种形式。风量调整器14和风量调整器20的功能,是调节从这些输出侧出来的空气风量,为了调节该风量,也可利用能调节送风量的电机驱动式鼓风机来取代所说明的利用闭锁板调节开口量的方法。另外,也可将这两种方法组合起来利用。还可在鼓风机上安装空气净化滤清器使用。例如,最好设置调节装置,其作用是通过改变鼓风机的送风量,人为地或自动地调节来自风量调整器14和风量调整器20的风量。设在各物品存放部5背面的多个风量调整器14,也可将个别的调节装置设在例如架主体6的下部等,以便可独立地调节各风量调整器14,也可设1个调节装置来调节全部。在调节鼓风机的送风量时,也可设成例如可按“高速”、“中速”、“低速”等多个阶段操作的结构,也可以利用变换器进行无级控制。在可人为操作调整装置的场合,也可用旋钮作为操作工具,也可用具有数字显示和输入按钮的机构。
本发明也可不设这样的风量调节机构,构成经常以一定量的吹出量吹出、供给空气的结构。
(2)上述实施形式中,在上述物品处理装置的物品移载部上,作为在上下方向上重叠的重叠装置部分,例示了多个物品存放部在横向上以一列状态排列的结构,但不局限于这种结构,也可配置成物品存放部在上下方向上排列为数层的结构。
(3)上述实施形式中,各物品存放部的背部侧配备有单纯自由变更通过的空气量的风量调整器,但不局限于这种结构,也可以在各物品存放部的背部侧分别配置具有鼓风机和空气净化滤清器的风扇滤清器装置,强制性地使经过该风扇滤清器装置净化后的空气在物品存放部的存放空间内通风,在前部侧空气通风路内向下方流动。
(4)上述实施形式中,作为上述物品保管装置,例示了在一对架主体6、7中的任一方上、在上下方向上重叠配置物品处理装置A的结构,但不局限于这种结构,如图7所示,也可分别在一对架主体6、7上、在上下方向上重叠配置物品处理装置A。另外,作为上述物品保管装置,不局限于设置前后一对架主体的结构,也可只设1个在上下方向上重叠配置物品处理装置的架主体。

Claims (6)

1.一种净室用的物品保管设备,从天花板部向下方吹出空气的净室(R1)内,设有具有多个物品存放部(5)的物品保管装置,其中,
上述物品保管装置包括物品输送机构(9),
在上述各物品存放部(5)的背面侧部位形成有背部侧空气通风路(L),
而且,还在上述各物品存放部(5)的前面侧的配备有上述物品输送机构(9)的空间内,形成有前部侧空气通风路(M),
从净室(R1)的天花板部向下吹出的净化后的空气,通过使该空气进入上述背部侧空气通风路(L)的空气进入部(13)和上述背部侧空气通风路(L),再通过上述各物品存放部(5)的存放空间,在上述前部侧空气通风路(M)内向下方流动,这样构成净室用的物品保管设备,
其特征在于,上述物品保管装置还包括对物品进行预定处理的物品处理装置(A),配置于物品处理装置(A)上的对物品进行搬进搬出的物品移载部(15),以及配置在上述物品处理装置(A)的上述物品移载部(15)的上方侧、与该物品移载部(15)在上下方向上重叠的重叠装置部分,
该物品输送机构(9)在上述物品移载部(15)和上述各物品存放部(5)之间输送物品,
上述物品保管装置的所述重叠装置部分形成有导风通路(16),而且,还形成有空气吹出部(17),该导风通路将从上述空气进入部(13)进入的空气,从上述背部侧空气通风路(L)导向其重叠装置部分的物品存放部(5)的下方侧,该空气吹出部将被该导风通路(16)导向上述物品存放部(5)的下方侧的空气向下方侧吹出,而供给上述物品处理装置(A)。
2.根据权利要求1所述的净室用物品保管设备,其特征在于,在上述空气吹出部(17)上配备有变更空气吹出量用的风量调节机构(20)。
3.根据权利要求1所述的净室用物品保管设备,其特征在于,上述导风通路(16)整体上是水平的。
4.根据权利要求1所述的净室用物品保管设备,其特征在于,上述空气吹出部(17),从侧面看,它配置在上述重叠装置部分的上述物品存放部(5)和上述物品处理装置(A)之间。
5.根据权利要求1所述的净室用物品保管设备,其特征在于,上述导风通路(16)由上述重叠装置部分的物品存放部(5)的底部、和配置有上述空气吹出部(17)的罩体的一部分(11a)构成。
6.根据权利要求1或5所述的净室用物品保管设备,其特征在于,在上述导风通路(16)和前部侧空气通风路(M)之间设有壁(11b),以使空气不从上述导风通路(16)逸出到上述前部侧空气通风路(M)内。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3788296B2 (ja) * 2001-09-10 2006-06-21 株式会社ダイフク クリーンルーム用の物品保管設備
US7204751B2 (en) * 2003-07-07 2007-04-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method and apparatus for filtering contaminants
US20050095976A1 (en) * 2003-10-29 2005-05-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Design for LPT arm cover
KR101269384B1 (ko) * 2004-12-28 2013-05-29 엘지디스플레이 주식회사 스토커 장치
JP2006256794A (ja) * 2005-03-17 2006-09-28 Shimizu Corp クリーンストッカー設備
JP4614091B2 (ja) * 2005-08-16 2011-01-19 株式会社ダイフク フローティングユニット及び物品支持装置
KR101474572B1 (ko) * 2006-06-19 2014-12-18 엔테그리스, 아이엔씨. 레티클 스토리지 정화시스템
JP4126619B2 (ja) * 2006-06-27 2008-07-30 株式会社ダイフク 物品保管設備
JP4807579B2 (ja) 2006-09-13 2011-11-02 株式会社ダイフク 基板収納設備及び基板処理設備
US20080076343A1 (en) * 2006-09-15 2008-03-27 Vectech Pharmaceutical Consultants Portable clean air cart
JP4310712B2 (ja) * 2007-01-10 2009-08-12 株式会社ダイフク 板状物品用搬送車
JP4849255B2 (ja) * 2007-03-20 2012-01-11 株式会社ダイフク 作業設備
JP2009002634A (ja) * 2007-06-25 2009-01-08 Unitec Inc ユニット型クリーンルーム
DE102007051726A1 (de) * 2007-10-25 2009-04-30 Hänel & Co. Lageranordnung mit vorgebbarer Lagerungsatmosphäre
KR101073546B1 (ko) * 2009-08-13 2011-10-17 삼성모바일디스플레이주식회사 스토커
JP5562759B2 (ja) * 2009-11-04 2014-07-30 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP5403358B2 (ja) * 2009-12-10 2014-01-29 株式会社ダイフク 物品保管設備
JP5445863B2 (ja) * 2010-08-04 2014-03-19 株式会社ダイフク 板状体搬送装置
JP5366030B2 (ja) * 2011-09-22 2013-12-11 村田機械株式会社 クリーンルーム用の自動倉庫
JP5716968B2 (ja) * 2012-01-04 2015-05-13 株式会社ダイフク 物品保管設備
CN102864952B (zh) * 2012-09-26 2014-12-31 深圳市华星光电技术有限公司 洁净室及其净化单元
KR20160042046A (ko) * 2013-10-25 2016-04-18 가부시키가이샤 재팬 티슈 엔지니어링 청정 작업 장치
JP6424708B2 (ja) * 2015-03-30 2018-11-21 村田機械株式会社 自動冷却設備
CN105775534B (zh) * 2016-05-26 2017-12-26 新昌县沃克工具有限公司 自洁无尘仓储室
JP6631447B2 (ja) * 2016-09-09 2020-01-15 株式会社ダイフク 物品収納設備
JP6631446B2 (ja) * 2016-09-09 2020-01-15 株式会社ダイフク 物品収納設備
DE102021207746A1 (de) * 2021-07-20 2023-01-26 KyooBe Tech GmbH Produktionsanlage und Verfahren zur Herstellung eines Produkts

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2976755B2 (ja) 1993-08-06 1999-11-10 株式会社ダイフク 荷物保管装置
JP2817605B2 (ja) * 1993-12-22 1998-10-30 村田機械株式会社 クリーンルーム用自動倉庫
JPH09153533A (ja) * 1995-12-01 1997-06-10 Mitsubishi Electric Corp 半導体ウエハ保管システムおよびそのシステムを使用した半導体装置の製造方式
US6099643A (en) * 1996-12-26 2000-08-08 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Apparatus for processing a substrate providing an efficient arrangement and atmospheric isolation of chemical treatment section
JPH10294351A (ja) 1997-04-21 1998-11-04 Sharp Corp 半導体装置製造用クリーンボックス、及び半導体装置の製造システム並びに製造方法
JPH1130436A (ja) * 1997-07-11 1999-02-02 Nittetsu Semiconductor Kk クリーンルーム及びクリーンルームの改装方法
JPH1179319A (ja) * 1997-09-08 1999-03-23 Murata Mach Ltd クリーン収納庫
JPH11199007A (ja) 1998-01-09 1999-07-27 Mitsubishi Electric Corp カセットの搬送方法及び処理設備
JPH11334812A (ja) * 1998-05-29 1999-12-07 Daifuku Co Ltd モータ設置の作動設備
JP4212713B2 (ja) 1999-03-19 2009-01-21 シャープ株式会社 搬送装置
JP4365934B2 (ja) * 1999-05-10 2009-11-18 キヤノン株式会社 露光装置、半導体製造装置およびデバイス製造方法
JP2001028388A (ja) 1999-07-14 2001-01-30 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP3476395B2 (ja) * 1999-09-24 2003-12-10 Necエレクトロニクス株式会社 クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法
JP3788296B2 (ja) * 2001-09-10 2006-06-21 株式会社ダイフク クリーンルーム用の物品保管設備

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Publication number Publication date
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