CN117891137A - 装置、装置的控制方法、信息处理装置、信息处理方法、以及物品制造方法 - Google Patents

装置、装置的控制方法、信息处理装置、信息处理方法、以及物品制造方法 Download PDF

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Abstract

本公开涉及装置、装置的控制方法、信息处理装置、信息处理方法、以及物品制造方法。一种装置包括控制单元，该控制单元被配置为控制用于调整光学***的成像特性的调整单元。在跨越多个批次的时段中，控制单元测量光学***的成像特性，并且决定预测公式中的预测系数以将预测公式拟合到在跨越多个批次的时段中通过测量获得的测量数据。预测公式是多项式函数，该多项式函数包括表示成像特性的测量值的改变的项，该成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的。控制单元决定多项式函数的项，使得拟合残差落入允许的范围内。

Description

装置、装置的控制方法、信息处理装置、信息处理方法、以及物 品制造方法
技术领域
实施例的方面涉及装置、装置的控制方法、信息处理装置、信息处理方法、以及物品制造方法。
背景技术
近年来，在半导体工艺的DRAM和NAND工艺中所需的叠加准确度不断提高。例如，批次中由曝光热引起的倍率的波动允许值可以是0.1ppm或更小。为了实现这一点，可想到执行闭合校正，在该闭合校正中在批次内执行校准，但是吞吐量降低。相反，存在以下技术：在该技术中对每个曝光条件预测诸如由曝光热引起的倍率的像差的波动，从而执行开放校正。在下文中，由曝光热引起的像差波动将被称为“曝光历史”。
已提出了使用一些基本照明条件下的曝光历史的预测系数来预测另一个照明条件下的曝光的曝光历史的技术(日本专利特许公开No.H10-289865)。然而，因为曝光历史依赖于原版(original)的衍射光、基板反射率等而改变，因此高度准确的预测是困难的。另外，还已提出了通过在曝光过程期间测量曝光历史来对多个曝光条件预测曝光历史的技术(日本专利特许公开No.2006-157020)。
当通过原版测量由曝光热引起的投影光学***的倍率时，测量结果包括原版的绘制误差。因为原版的绘制误差对于每个原版不同，因此每次更换原版时，与绘制误差对应的偏移被添加到倍率的测量值。如果使用在使用不同原版的多个批次的曝光期间获得的倍率测量值来预测每个批次的由曝光热引起的倍率波动，那么难以准确地获得每个批次的预测模型参数。
发明内容
第一方面提供了一种装置，包括：光学***，所述光学***被配置为将原版的图案投影到基板上；调整单元，所述调整单元被配置为调整所述投影光学***的成像特性；以及控制单元，所述控制单元被配置为使用预测公式预测所述成像特性的波动，并且基于所述预测的结果控制所述调整单元，所述成像特性的波动是由所述投影光学***吸收曝光能量引起的，其中所述控制单元被配置为在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头(leading)的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时测量所述成像特性，以及决定所述预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中通过所述测量获得的测量数据，所述预测公式是多项式函数，所述多项式函数包括表示所述成像特性的测量值的改变的项，所述成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的，并且所述控制单元被配置为决定所述多项式函数的所述项，使得拟合残差落入允许的范围内。
第二方面提供了一种装置的控制方法，所述装置执行在使用预测公式预测光学***的成像特性的波动、并且基于所述预测的结果调整所述光学***的成像特性的同时经由所述光学***对基板进行曝光的过程，所述光学***的成像特性的波动是由所述光学***吸收曝光能量引起的，所述方法包括：在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时测量所述成像特性，以及决定所述预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中通过所述测量获得的测量数据，其中所述预测公式是多项式函数，所述多项式函数包括表示所述成像特性的测量值的改变的项，所述成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的，并且在所述决定中，所述多项式函数的所述项被决定，使得拟合残差落入允许的范围内。
第三方面提供了一种信息处理装置，包括：处理单元，所述处理单元被配置为使用预测公式预测特性的波动，所述特性的波动是由光学***吸收曝光能量引起的，所述光学***被配置为将原版的图案投影到基板上，其中所述处理单元被配置为在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时测量所述成像特性，以及决定所述预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中通过所述测量获得的测量数据，所述预测公式是多项式函数，所述多项式函数包括表示所述成像特性的测量值的改变的项，所述成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的，并且所述处理单元决定所述多项式函数的所述项，使得拟合残差落入允许的范围内。
第四方面提供了一种信息处理方法，所述信息处理方法使用预测公式预测光学***的成像特性的波动，所述光学***的成像特性的波动是由所述光学***吸收曝光能量引起的，所述方法包括：在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时获取关于所述成像特性的数据，以及决定所述预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中在所述获取中获取的关于所述成像特性的数据，其中所述预测公式是多项式函数，所述多项式函数包括表示所述成像特性的测量值的改变的项，所述成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的，并且在所述决定中，所述多项式函数的所述项被决定，使得拟合残差落入允许的范围内。
第五方面提供了一种物品制造方法，包括：在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时获取关于光学***的特性的数据，所述光学***的特性是由所述光学***吸收曝光能量引起的；决定预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中在所述获取中获取的关于所述成像特性的数据，所述预测公式被用于预测所述成像特性的波动；使用所述预测公式预测所述成像特性的波动；在基于所述预测中的预测结果调整所述成像特性的同时经由所述光学***对基板进行曝光；以及对在所述曝光中曝光的基板进行显影，其中物品从在所述显影中显影的基板制造。
本公开的进一步特征从以下示例性实施例的描述(参考附图)将变得清楚。
附图说明
图1是示出曝光装置的布置的视图；
图2是示出空中(aerial)图像测量期间的移位与光量之间的关系的示图；
图3是示出倍率波动的示例的示图；
图4A和图4B是示出传统的预测模型的拟合结果的示图；
图5A和图5B是示出实施例中的使用预测模型进行拟合的概念的示图：
图6A和图6B是示出实施例中的预测模型的拟合结果的示图；以及
图7是图示实施例中的计算并且反映预测模型参数的方法的流程图。
具体实施方式
在下文中，将参考附图详细描述实施例。注意，以下实施例不旨在限制公开的范围。在实施例中描述了多个特征，但是不限于需要所有这样的特征的发明，并且可以适当地组合多个这样的特征。此外，在附图中，对相同或类似的配置给予相同的参考数字，并且省略其冗余描述。
图1是示出实施例中的曝光装置1的布置的视图。在这个说明书和附图中，在XY平面被设置为水平面的XYZ坐标系中指示方向。一般地，基板110(晶片)被放置在基板台架111上，使得它的表面将与水平面(XY平面)平行。因此，在以下描述中，在沿着基板110的表面的平面中彼此垂直的方向被设置为X轴和Y轴，并且与X轴和Y轴垂直的方向被设置为Z轴。而且，在以下描述中，在XYZ坐标系中，与X轴、Y轴、以及Z轴平行的方向将分别被设置为X方向、Y方向、以及Z方向。
从光源101发出的光进入照明光学***102，通过衍射光学元件103形成期望的有效光源分布，并且被施加到原版104(掩模或分划板)上。由此，在原版104上绘制的图案通过投影光学***107被缩小投影到基板110上，从而执行曝光。原版104由原版台架106保持，并且原版台架106可以在Y方向上被扫描驱动。当执行曝光时，保持基板110的基板台架111可以在与原版台架106的扫描驱动的方向相反的方向上被扫描驱动。当曝光结束时，基板台架111被步进驱动以曝光下一个击射(shot)区域。
控制单元100全面地控制曝光装置的各个单元。控制单元100可以由包括处理器和存储器的计算机装置(信息处理装置)形成。例如，控制单元100可以由下面描述的(a)、(b)和(c)中的一个、或者这些组件中的全部或一些的组合形成：
(a)可编程逻辑器件(PLD)，诸如现场可编程门阵列(FPGA)；
(b)专用集成电路(ASIC)；以及
(c)包含程序的通用或专用计算机。
在这个实施例中，衍射光学元件103被布置在与和用作要被照明的表面(图像平面)的原版104共轭的平面或照明光学***102的光瞳平面具有傅立叶变换关系的平面上。衍射光学元件103在诸如照明光学***102的光瞳平面(该光瞳平面是与投影光学***107的光瞳平面共轭的平面)或者与照明光学***102的光瞳平面共轭的平面的预定的平面上通过利用衍射效应转换来自光源101的光束的光强度分布来形成期望的光强度分布。作为衍射光学元件103，可以使用已由计算机设计使得可以在衍射图案平面上获得期望的衍射图案的计算机产生的全息图(CGH)。形成在投影光学***107的光瞳平面上的光源形状将被称为“有效光源形状”。注意的是，在这个说明书中，“有效光源”意指要被照明的表面及其共轭平面上的光强度分布或光角度分布。在示例中，衍射光学元件103可以是从将来自光源101的光束转换成不同的光强度分布的多个衍射光学元件选择的衍射光学元件。多个衍射光学元件中的每一个被安装，同时被附接到转台(未示出)的多个槽中的对应槽。多个衍射光学元件可以形成不同的有效光源形状。多个衍射光学元件可以包括用于曝光期间的修改的照明的衍射光学元件。基于修改的照明的有效光源形状，照明模式被称为小σ照明、大σ照明、环形照明、偶极照明、四极照明等。
原版台架106包括与原版104不同的原版基准板105，并且用于空中图像测量的原版侧标记113被布置在原版基准板105上。原版侧标记113可以是包括周期性地布置的线和间隔的图案。另外，基板基准板112被布置在基板台架111上。用于空中图像测量的基板侧标记114被布置在基板基准板112上。基板侧标记114可以是包括以与原版侧标记113的线和间隔图案相同的间距布置的线和间隔的图案。此外，光检测器115被布置在基板基准板112下方。
原版侧标记113和基板侧标记114中的每一个中的线和间隔图案的线可以由铬制成，并且其间隔可以由玻璃制成。原版台架103在Y方向上被扫描驱动并且停止，使得从光源101发出的光经由照明光学***102被施加到原版基准板105上的原版侧标记113。已经过原版基准板105的原版侧标记113的光经由投影光学***107到达基板基准板112上的基板侧标记114。已到达基板侧标记114的光经过基板基准板112上的基板侧标记114，并且到达光检测器115。
接下来，将描述作为测量图像移位的测量方法的空中图像测量。从光源101发出的光经由照明光学***102被施加到原版侧标记113，并且原版侧标记113的图像通过投影光学***107被缩小投影到基板侧标记114上。当在图像被缩小投影的同时在与光轴方向垂直的X方向上扫描驱动基板台架111时，在投影光学***107的成像位置处原版侧标记113的缩小投影图像与基板侧标记114重叠，并且由光检测器115接收的光量变为最大。相反，当基板侧标记114从投影光学***107的成像位置移位时，原版侧标记113的缩小投影图像与基板侧标记114之间的重叠减少，使得由光检测器115接收的光量逐渐地减少。
图2示出了在原版侧标记113的图像被缩小投影到基板侧标记112上的同时跨投影光学***107的成像位置在X方向上扫描驱动基板台架111的情况下的光量的改变的示例。在图2中，横坐标表示基板台架111的X方向位置，并且纵坐标表示由光检测器115接收的光量。相对于基板台架111的X方向位置的由光检测器115接收的光量绘制向上凸的曲线。曲线的峰位置被设置为投影光学***107的成像位置，并且与基准位置的差被设置为图像移位(Δ)。注意的是，获得图像移位的方法不限于此。可以通过另一个方法获得图像移位。
多个(例如，两个)原版侧标记113被布置在X方向上的不同位置处，并且对每个原版侧标记执行上述图像移位测量。从各个图像移位测量结果和转换成图像侧的多个X方向跨距，可以获得倍率。在这个说明书中，作为成像特性测量操作中的一个，这将被称为“倍率测量”。
接下来，将描述由曝光热引起的投影光学***107的成像特性的波动(下文中将被称为“曝光历史”)的预测。
考虑以下情况：曝光光被施加到原版104上的标记，从而经由投影光学***107在基板台架111上形成标记的图像。当曝光光被施加到投影光学***107时，曝光能量被形成投影光学***107的透镜的玻璃材料自身或者透镜的表面上的抗反射膜吸收。这使透镜的温度升高，并且透镜的折射率改变。如果形成投影光学***107的透镜的折射率改变，那么成像特性改变。这里，成像特性包括波像差、聚焦、倍率、畸变、像场弯曲、像散等，但是在这个说明书中，将使用倍率来描述曝光历史预测模型。由曝光热引起的投影光学***107的倍率将被称为“曝光倍率”。
曝光装置1包括调整成像特性的调整单元120。在示例中，调整单元120可以调整形成投影光学***107的光学元件(例如，透镜)的一部分的位置、姿势、形状和温度中的至少一个。调整单元120包括例如在光轴方向(Z方向)和与光轴方向垂直的方向上驱动透镜的机构、驱动支撑光学元件的支撑单元的机构、向光学元件施加应力(按压或拉动光学元件的力)的结构、加热或冷却光学元件的机构等。调整单元120中的如上所述的驱动操作由控制单元100控制。注意的是，在一个实施例中，需要调整单元通过执行投影光学***107的光学元件的驱动、原版台架106的驱动以及基板台架111的驱动中的至少一个来调整成像特性。控制单元100可以通过预测倍率波动并且控制调整单元120以便消除预测的倍率波动来校正倍率。
控制单元100在跨越多个批次的时段中对下一个批次(包括领头的批次)的曝光条件的设置完成之后、在该批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时测量成像特性(倍率测量)。下面将描述具体示例。
在以下描述中，“作业”是指用于根据包括曝光负荷和预测模型参数的曝光方案(下文中将被称为“方案(recipe)”)曝光一个批次的基板(预定数量的基板(例如，25个基板))的一系列操作。方案包括由用户定义的实际过程的指令内容，并且原版、照明条件、曝光量、击射尺寸、击射的次数、抗蚀剂反射率等对于每个曝光条件可以不同。可以通过例如在批次之间使用不同的原版来实现多个曝光条件。可替代地，可以通过例如在批次之间使用不同的照明模式来实现多个曝光条件。可替代地，可以通过例如在批次之间使用原版和照明模式的不同组合来实现多个曝光条件。
当第一作业开始时，控制单元100在批次中的领头的基板的曝光开始之前执行倍率测量，从而获取曝光之前的倍率。这被称为“批次领头的倍率”。批次领头的倍率包括投影光学***107的静态倍率和原版侧标记113的布置误差(下文中将称为“原版绘制误差”)。
在第一作业中的曝光开始之后，控制单元100在预定的基板的曝光之前执行倍率测量，从而获取批次中的曝光倍率的波动。这被称为“批次内倍率”。批次内倍率包括投影光学***107的静态倍率、原版绘制误差以及由于曝光而波动的曝光倍率。注意的是，“对于每个预定的基板”可以是“对于每个基板”或“每N个基板”(N是预定的自然数)。
在第一作业之后，当使用与第一作业中使用的原版不同的原版的第二作业开始时，控制单元100如第一作业中那样执行倍率测量，从而获取批次领头的倍率和批次内倍率。此时的批次领头的倍率包括投影光学***107的静态倍率、与第一作业不同的原版绘制误差以及第一作业的曝光倍率的影响。批次内倍率包括投影光学***107的静态倍率、与第一作业不同的原版绘制误差以及第二作业的曝光倍率。在执行倍率测量的同时重复如上所述具有多个曝光条件的作业。
控制单元100(处理单元)执行决定预测公式(模型公式)中的预测系数以将预测公式拟合到在跨越多个批次的时段中通过上述倍率测量获得的测量数据的过程。下面将描述具体示例。
控制单元100对于获取的倍率波动使用以下模型公式(1)、(2)和(3)，从而决定每个曝光条件的预测模型参数。预测模型参数是表达在每个时间常数下单位曝光负荷下的曝光倍率的饱和量的预测系数。是模型化的曝光倍率的预测量，并且后缀N指示测量的倍率的定时。在这个说明书中，使用三个时间常数K模型的预测模型参数P。因而，后缀m指示模型编号。α指示曝光负荷，其根据曝光条件而改变。曝光负荷α由原版透射率R、曝光量D、击射尺寸A、两次倍率测量操作之间的击射的数量Num以及两次倍率测量操作之间的时间T来表示。后缀c意味着参数对于每个曝光条件改变。另一个参数(诸如抗蚀剂反射率)可以在曝光负荷的计算中使用。
αcN＝(Rc*Dc*Ac*NumcN)/TN...(3)
图3示出了当随机执行具有四个曝光条件的作业并且测量批次领头的倍率和批次内倍率时获得的倍率波动G。控制单元100执行将模型公式拟合到测量数据。例如，通过使用上述模型公式(1)中的每个曝光条件的预测模型参数作为变量、并且使用最小二乘法决定预测模型参数使得预测模型的预测与实际的倍率波动之间的差F(等式(4)))变小来执行拟合。
注意的是，对于拟合可以使用最小二乘法以外的方法。图4A示出了对实际的倍率波动的拟合的结果，并且图4B示出了拟合残差。参考图4B，可以看到，在曝光条件D切换到曝光条件B的部分中没有进行拟合。如图4B中所示，最大拟合残差是0.3ppm或更大。这是因为，由于与曝光热不相关的原版绘制误差而发生倍率波动。以这种方式，当混合地执行其中作业切换时的原版绘制误差的差异对于每个曝光条件很大地不同的作业时，如果使用传统的预测模型获得多个曝光条件的预测模型参数，那么曝光倍率的波动的预测误差变大。
因此，需要要被添加到上述预测模型的包括原版绘制误差的预测模型。还可以通过使用由原版的制造商测量的原版绘制误差并且从获取的倍率波动去除与原版绘制误差对应的量来从传统的预测模型决定预测模型参数。然而，因为原版绘制误差由于将原版104安装在原版台架106上时的歪曲而改变，因此为了更严格地控制叠加准确度，使用在原版104被实际地安装在原版台架106上的状态下倍率的测量值更准确。此外，将原版安装在原版台架上时的歪曲不总是相同。因此，即使通过从获取的倍率波动中去除当在投影光学***107中没有发生曝光倍率时将原版安装在原版台架106上时获得的倍率测量值来使用传统的预测模型决定预测模型参数，也产生预测误差。
下面描述通过将原版绘制误差E的项添加到公式(1)而获得的模型公式(5)(预测公式)。原版绘制误差是对于每个曝光条件不同的变量。模型公式(5)是多项式函数，其包括表示由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的成像特性的测量值的改变的项(原版绘制误差E)。
控制单元100决定多项式函数(模型公式(5))的项(原版绘制误差E)，使得拟合残差落入允许的范围内。例如，控制单元100对于倍率波动(G)通过最小二乘法决定预测模型参数P和原版绘制误差E，使得包括模型公式(5)的等式(6)的F'变小。
参考图5A和图5B，将描述决定作为用于拟合模型公式(5)的变量的预测模型参数P和原版绘制误差E的方法。
在图5A中，由黑圆圈指示的绘图表示批次A中的倍率的产生量。在批次A中，投影光学***的倍率由于曝光而增加。由黑三角形指示的绘图表示在批次A之后执行的批次B中的倍率的产生量。在批次B中，投影光学***的倍率由于曝光而减小。
当从批次A切换到批次B时，由于曝光的影响以外的因素而发生改变。例如，当从批次A切换到批次B时，由于原版绘制误差E，倍率可以在批次A与批次B之间跳跃(很大地改变)。如果使用传统的曝光历史预测模型来表达这个改变，那么在倍率的产生量(每个绘图)与预测(实线)之间产生偏差。因为传统的曝光历史预测模型使用递推公式，因此它可以表示从紧接的前一状态连续的状态。因此，在值跳跃的状态下，不能获得准确的预测。作为结果，在批次A和批次B中不能准确地预测批次中的曝光历史。
图5B示出了这个实施例中在包括与曝光的影响不同的改变模型(这里是原版绘制误差E)时在批次之间执行预测的状态。原版绘制误差E的项具有校正与批次B中的跳跃对应的量的作用，从而使得能够在提取批次A和批次B中的批次中的曝光的影响的同时进行拟合。在图5B中所示的示例中，一般通过在批次B中使倍率的产生量(灰三角形)为负(黑三角形)来执行校正。由此，可以获得预测模型参数P和原版绘制误差E，以便使预测(实线)与批次A和批次B中的倍率的产生量(黑圆圈和黑三角形)重叠。
图6A示出了这种情况下的拟合结果，并且图6B示出了拟合残差。参考图6A，可以看到，即使在如传统的预测模型中所示的曝光条件D切换到曝光条件B的部分(例如，20000秒附近)中，也实现了优异的拟合。在图6B中，拟合残差是0.1ppm或更小，并且这是比传统的模型好的结果。因此，根据这个实施例，对于包括曝光热以外的波动因素的倍率波动，可以决定抑制预测误差的预测模型参数。
在这个实施例中，仅描述了原版绘制误差，但是存在由于曝光热以外的因素而改变的另一个倍率波动。例如，经由包括静态彗形像差倾斜的投影光学***107通过空中图像测量获得的倍率的测量值对于测量中使用的每个照明条件不同。上述实施例在利用由投影光学***107的彗形像差引起的倍率波动来改写这个实施例中的模型的原版绘制误差的参数时也可以被应用到这种情况。另外，上述实施例也可以被应用到其中原版绘制误差和由投影光学***107的慧形像差引起的倍率波动混合的情况。
在上述实施例中，已描述了使用倍率的测量值来获得倍率波动。在示例中，控制单元100被配置为通过预测模型来预测成像特性的波动(例如，倍率波动)，并且通过利用调整单元120驱动投影光学***107的透镜来执行校正以便消除预测的成像特性的波动。在这种情况下，可以使用校正量和倍率的测量值来获得倍率的产生量以获得倍率波动。
在上述实施例中，作为成像特性的示例已描述了由曝光热引起的倍率。然而，上述实施例也可以被应用到其它像差，诸如聚焦、畸变、像场弯曲和像散。
参考图7的流程图，将描述计算并且反映预测模型参数的方法(信息处理方法)。
在步骤S1中，具有给定方案的作业开始。在步骤S2中，控制单元100测量批次领头的倍率。在步骤S3中，控制单元100对批次中的各个基板执行曝光。此时，例如，控制单元100使用预测公式(模型公式)预测成像特性的波动(倍率波动)，基于预测的结果控制调整单元120，并且对基板执行曝光。另外，控制单元100在开始对该批次中的预定的基板的曝光之前执行倍率测量。预定的基板包括例如每批次25个基板中的第四、第七、第十三和第二十五个基板。在步骤S4中，作业结束。随后，对遵循另一个方案的作业重复步骤S1至S4。
每次在步骤S4中作业结束时，执行步骤S5以计算预测模型参数。在步骤S5中，控制单元100将在步骤S2和S3中获得的倍率测量值以及校正值存储在存储器中。另外，控制单元100还在存储器中存储从方案获得的曝光负荷信息、曝光开始时间(Ts)和曝光停止时间(Te)。这里，曝光负荷信息可以包括击射尺寸Ac、曝光量Dc、原版透射率Rc、两次倍率测量操作之间的击射的数量Numc以及两次倍率测量操作之间的时间T。
在步骤S6中，用作预测模型参数计算***的控制单元100计算每个方案的新的预测模型参数Pc和原版绘制误差Ec。更具体地，控制单元100基于在存储器中存储的倍率测量值和校正值计算倍率波动G。然后，控制单元100在使用预测模型公式(5)的同时通过最小二乘法执行计算的倍率波动G的拟合，使得等式(6)的F'变小，该预测模型公式(5)使用每个方案的预测模型参数Pcm和原版绘制误差Ec作为变量。由此，计算每个方案的新的预测模型参数Pc和原版绘制误差Ec。
在步骤S7中，控制单元100对每个方案反映计算的预测模型参数Pcm。随后，当具有反映新的预测模型参数Pcm的方案的作业开始时，使用新的预测模型参数Pcm来执行预测和校正。
注意的是，获得预测模型参数的步骤S6以及步骤S7可以在步骤S5中累积多个批次的测量数据之后执行。可替代地，可以不在累积多个批次的测量数据之后而是在每次执行测量时执行步骤S6和S7，从而更新预测系数。
<物品制造方法的实施例>
根据本公开的实施例的物品制造方法适合制造物品，例如，诸如半导体器件的微型器件或具有微结构的元件。这个实施例的物品制造方法包括：通过使用上述曝光装置在施加在基板上的感光剂上形成潜像图案的步骤(对基板进行曝光的步骤)、以及对已在上面的步骤中形成有潜像图案的基板进行显影的步骤。此外，制造方法还包括其它众所周知的步骤(氧化、膜形成、沉积、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂去除、切割、接合、封装等)。这个实施例的物品制造方法在物品的性能、质量、生产率和生产成本中的至少一个上比传统的方法更有利。
其它实施例
本公开的实施例还可以通过读出并且执行记录在存储介质(其也可以被更完整地称为‘非暂时性计算机可读存储介质’)上的计算机可执行指令(例如，一个或多个程序)以执行上述实施例中的一个或多个的功能和/或包括用于执行上述实施例中的一个或多个的功能的一个或多个电路(例如，专用集成电路(ASIC))的***或装置的计算机、以及通过由***或装置的计算机通过例如读出并且执行来自存储介质的计算机可执行指令以执行上述实施例中的一个或多个的功能和/或控制一个或多个电路以执行上述实施例中的一个或多个的功能而执行的方法来实现。计算机可以包括一个或多个处理器(例如，中央处理单元(CPU)、微处理单元(MPU))，并且可以包括单独的计算机或单独的处理器的网络，以读出并且执行计算机可执行指令。计算机可执行指令可以例如从网络或存储介质提供给计算机。存储介质可以包括例如硬盘、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、分布式计算***的存储设备、光盘(诸如紧凑盘(CD)、数字多功能盘(DVD)或蓝光盘(BD)TM)、闪存设备、存储卡等中的一个或多个。
本发明的实施例还可以通过如下的方法来实现，即，通过网络或者各种存储介质将执行上述实施例的功能的软件(程序)提供给***或装置，该***或装置的计算机或是中央处理单元(CPU)、微处理单元(MPU)读出并执行程序的方法。
虽然已参考示例性实施例描述了本公开，但是要理解的是，本公开不限于所公开的示例性实施例。随附权利要求的范围要被赋予最广泛的解释以便涵盖所有这样的修改以及等同的结构和功能。

Claims (19)

1.一种装置，包括：
光学***，所述光学***被配置为将原版的图案投影到基板上；
调整单元，所述调整单元被配置为调整所述投影光学***的成像特性；以及
控制单元，所述控制单元被配置为使用预测公式预测所述成像特性的波动，并且基于所述预测的结果控制所述调整单元，所述成像特性的波动是由所述光学***吸收曝光能量引起的，
其中
所述控制单元被配置为在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时测量所述成像特性，以及
决定所述预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中通过所述测量获得的测量数据，
所述预测公式是多项式函数，所述多项式函数包括表示所述成像特性的测量值的改变的项，所述成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的，并且
所述控制单元被配置为决定所述多项式函数的所述项，使得拟合残差落入允许的范围内。
2.根据权利要求1所述的装置，其中
每次所述测量被执行时所述控制单元决定所述预测公式中的预测系数。
3.根据权利要求1所述的装置，其中
所述成像特性包括倍率、聚焦、畸变、像场弯曲、以及像散中的至少一个。
4.根据权利要求1所述的装置，其中
所述控制单元控制所述调整单元以便消除预测的所述成像特性的波动。
5.根据权利要求1所述的装置，其中
所述测量是空中图像测量。
6.一种装置的控制方法，所述装置执行在使用预测公式预测光学***的成像特性的波动、并且基于所述预测的结果调整所述光学***的成像特性的同时经由所述光学***对基板进行曝光的过程，所述光学***的成像特性的波动是由所述光学***吸收曝光能量引起的，所述方法包括：
在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时测量所述成像特性，以及
决定所述预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中通过所述测量获得的测量数据，
其中
所述预测公式是多项式函数，所述多项式函数包括表示所述成像特性的测量值的改变的项，所述成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的，并且
在所述决定中，所述多项式函数的所述项被决定，使得拟合残差落入允许的范围内。
7.根据权利要求6所述的方法，其中
每次所述测量被执行时所述决定被执行。
8.根据权利要求6所述的方法，其中
所述特性包括倍率、聚焦、畸变、像场弯曲、以及像散中的至少一个。
9.根据权利要求6所述的方法，其中
所述特性被调整以便消除预测的所述特性的波动。
10.根据权利要求6所述的方法，其中
所述测量是空中图像测量。
11.一种信息处理装置，包括
处理单元，所述处理单元被配置为使用预测公式预测特性的波动，所述特性的波动是由光学***吸收曝光能量引起的，所述光学***被配置为将原版的图案投影到基板上，
其中
所述处理单元被配置为在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时测量所述成像特性，以及
决定所述预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中通过所述测量获得的测量数据，
所述预测公式是多项式函数，所述多项式函数包括表示所述成像特性的测量值的改变的项，所述成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的，并且
所述处理单元决定所述多项式函数的所述项，使得拟合残差落入允许的范围内。
12.根据权利要求11所述的装置，其中每次所述测量被执行时所述处理单元决定所述预测公式中的预测系数。
13.根据权利要求11所述的装置，其中所述成像特性包括倍率、聚焦、畸变、像场弯曲、以及像散中的至少一个。
14.一种信息处理方法，所述信息处理方法使用预测公式预测光学***的成像特性的波动，所述光学***的成像特性的波动是由所述光学***吸收曝光能量引起的，所述方法包括：
在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时获取关于所述成像特性的数据，以及
决定所述预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中在所述获取中获取的关于所述成像特性的数据，其中
所述预测公式是多项式函数，所述多项式函数包括表示所述成像特性的测量值的改变的项，所述成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的，并且
在所述决定中，所述多项式函数的所述项被决定，使得拟合残差落入允许的范围内。
15.根据权利要求14所述的方法，其中每次所述测量被执行时所述预测决定所述预测公式中的预测系数。
16.根据权利要求14所述的方法，其中所述成像特性包括倍率、聚焦、畸变、像场弯曲、以及像散中的至少一个。
17.一种物品制造方法，包括：
在跨越多个批次的时段中、在对下一批次的曝光条件的设置完成之后、在所述批次中的领头的基板的曝光之前的定时和后续预定的基板的曝光之前的定时获取关于光学***的特性的数据，所述光学***的特性是由所述光学***吸收曝光能量引起的；
决定预测公式中的预测系数以将所述预测公式拟合到在跨越所述多个批次的时段中在所述获取中获取的关于所述成像特性的数据，所述预测公式被用于预测所述成像特性的波动；
使用所述预测公式预测所述成像特性的波动；
在基于所述预测中的预测结果调整所述成像特性的同时经由所述光学***对基板进行曝光；以及
对在所述曝光中曝光的基板进行显影，
其中物品从在所述显影中显影的基板制造。
18.根据权利要求17所述的方法，其中每次所述测量被执行时所述预测决定所述预测公式中的预测系数。
19.根据权利要求17所述的方法，其中所述成像特性包括倍率、聚焦、畸变、像场弯曲、以及像散中的至少一个。
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