CN117658465A - 一种改性玻璃、制备方法及电子设备 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种改性玻璃、制备方法及电子设备。改性玻璃的原料包括玻璃原料和包含N元素的改性剂，所述玻璃原料包括SiO2。本申请实施例中，引入N3‑到改性玻璃，加大改性玻璃中的内部结构单元的堆积密度，提高玻璃的机械性能，从根本上提高玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
Description
技术领域
本申请涉及玻璃技术领域，具体涉及一种改性玻璃、制备方法及电子设备。
背景技术
随着电子设备具备的功能逐渐增加，电子设备被用户使用的频率也越来越高。电池后盖为电子设备的主要组成部分，电池后盖通常采用玻璃制成。
在用户使用电子设备的过程中，电池后盖不可避免的会与异物(钥匙、桌面等)摩擦而出现划痕，或者电子设备不慎从高处摔落造成电池后盖外观损坏，严重的甚至会导致电子设备无法正常使用。当前用于制备电池后盖的玻璃的抗划伤和抗跌落性能较差，难以满足使用需求。
发明内容
本申请提供了一种改性玻璃，以解决无法从根本上提高玻璃的抗划伤和抗跌落性能的问题。
第一方面，本申请提供了一种改性玻璃，改性玻璃的原料包括玻璃原料和包含N元素的改性剂，玻璃原料包括SiO2。
这样，引入N3-到改性玻璃，加大改性玻璃中的内部结构单元的堆积密度，提高玻璃的机械性能，从根本上提高玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，改性剂包括包含N3-的改性剂。
这样，将N3-引入到改性玻璃中，可以提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，改性剂包括AlN、BN和Si3N4的至少一种。
这样，通过上述改性剂可以将N3-引入到改性玻璃中，从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜AlN≤8％。
这样，可以保证制备得到改性玻璃的同时，还能从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜BN≤10％。
这样，玻璃原料可以熔制，最终制备得到改性玻璃的同时，还能从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜Si3N4≤6％。
这样，可以保证制备得到改性玻璃的同时，还能从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，改性剂包括包含N元素的改性气体。
这样，将N3-引入到改性玻璃中，可以提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，改性剂包括N2和NH3的至少一种。
这样，将N3-引入到改性玻璃中，可以提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
第二方面，本申请提供了一种改性玻璃的制备方法，包括：
取改性玻璃所需原料进行混合均匀，得到粉末混合物；
将粉末混合物在第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液，其中第一预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境；
将玻璃液浇筑到已预热的模具中成型，得到玻璃成型体；
将玻璃成型体进行退火处理，得到改性玻璃。
这样，利用上述方法制备的改性玻璃中引入N3-，从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括：
改性剂x％，x大于0。
在一种实现方式中，包括：
取改性玻璃所需原料进行混合均匀，得到粉末混合物；
将粉末混合物在第一预设环境条件下且在1450-1550℃下熔制1-3h，得到玻璃液；
将玻璃液浇筑到预热温度为300-500℃的模具中成型，得到玻璃成型体；
将玻璃成型体在第二预设环境条件下且在450-600℃下进行退火12-24h，其中第二预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境，第一预设环境条件与第二预设环境条件相同或者不同。
这样，利用上述方法制备的改性玻璃中引入N3-，从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，惰性气体包括N2、He和Ar中的至少一种。
这样，惰性气体可以保证N3-不能被氧化，使得改性玻璃顺利制得。
在一种实现方式中，还原性气体包括H2、CO、第一组合气体、第二组合气体和第三组合气体中的至少一种，其中第一组合气体包括N2和H2，第二组合气体包括He和H2，第三组合气体包括H2和Ar。
这样，还原性气体可以保证N3-不能被氧化，使得改性玻璃顺利制得。
在一种实现方式中，当原料包括碳酸盐时，将粉末混合物在第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液的步骤包括：
将粉末混合物在第三预设环境条件下预烧，得到预烧后的混合物，其中第三预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境，预烧的温度低于熔制的温度，第三预设环境条件与第一预设环境条件相同或者不同；
将预烧后的混合物在第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液。
这样，在熔制步骤前可将碳酸盐提前分解，释放CO2，避免出现溢流的情况。
在一种实现方式中，在将玻璃液浇筑到已预热的模具中成型，得到玻璃成型体之前，方法还包括：将玻璃液澄清。
这样，将玻璃液进行澄清，使得玻璃液中的气泡消除。
第三方面，本申请提供了一种改性玻璃的制备方法，包括：
取改性玻璃所需原料；
利用玻璃原料制备初始玻璃；
在改性剂作为气氛下对初始玻璃进行处理，得到改性玻璃。
这样，将改性剂作为气氛，对初始玻璃进行处理，将N3-引入到改性玻璃，从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括：
改性剂。
在一种实现方式中，在改性剂作为气氛下对初始玻璃进行处理，得到改性玻璃的步骤包括：
将初始玻璃在550-750℃并处于改性剂作为气氛下反应8-24h，得到改性玻璃。
这样，以将N3-引入到改性玻璃中，提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
第四方面，本申请提供了一种改性玻璃在电子设备中的应用。
第五方面，本申请提供了一种电子设备，包括电池后盖，电池后盖采用改性玻璃。
附图说明
为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的电子设备的结构示意图；
图2为本申请实施例提供的O-Si的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的N-Si的结构示意图；
图4为本申请实施例提供的一种改性玻璃的制备方法的流程图；
图5为本申请实施例提供的另一种改性玻璃的制备方法的流程图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
本申请实施例中的电子设备可以是手机、车载设备(也可称为车机)、平板电脑、笔记本电脑、超级移动个人计算机、手持计算机、上网本、个人数字助理、可穿戴电子设备、虚拟现实设备等包括玻璃材质的电子设备，本申请实施例对此不做任何限制。
以手机为上述电子设备100举例。
图1为本申请实施例提供的电子设备的结果示意图，其中图1中(a)为手机的前视图。图1中(b)为手机的后视图。
如图1中(a)和(b)所示，电子设备100包括位于前侧的显示屏盖板101，还包括位于后侧的电池后盖102。本申请实施例中，制备电池后盖102的玻璃为改性玻璃，该改性玻璃从根本上提高了机械性能，具有较强的抗划伤和抗跌落性能。
上述的电子设备100还可以包括其他必要的组件，例如处理器、外部存储器接口、内部存储器、通用串行总线(universal serial bus，USB)接口、充电管理模块、电源管理模块、电池、天线、移动通信模块、无线通信模块、音频模块、扬声器、受话器、麦克风、耳机接口、传感器模块、按键、马达、指示器、摄像头等。
当前，通常采用化学强化和微晶化的方法提高玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
化学强化是通过改变玻璃表面的化学组成来提高玻璃的强度，一般是应用离子交换法进行强化，其方法是将玻璃表层的Na+或K+离子与其它碱金属离子发生交换，使得玻璃表面形成离子交换层。当冷却到常温后，玻璃处于内层受拉，外层受压的状态，从而达到增加玻璃抗划伤和抗跌落性能的目的，该化学强化属于一种玻璃的二次加工工艺。
微晶化的方法同样是玻璃的二次加工工艺，玻璃经晶化热处理后形成含有大量、微小晶相的微晶玻璃，以提高玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
由于化学强化和微晶化的方法为玻璃的二次加工工艺，并不是从根本上提高玻璃的抗划伤和抗跌落性能，因此本申请实施例提供一种改性玻璃，引入N3-到改性玻璃，进而加大改性玻璃中的内部结构单元的堆积密度，提高玻璃的机械性能，从根本上提高玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
需要说明的是，本申请实施例中，引入N3-的改性玻璃还可以继续使用化学强化和微晶化的方法进行二次处理，进一步提高玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
本申请实施例中的改性玻璃的原料包括玻璃原料和包含N元素的改性剂，玻璃原料包括SiO2。
图2为本申请实施例提供的O-Si的结构示意图。
如图2所示，O与Si之间的配位数为2。玻璃的机械性能与玻璃内部结构单元的堆积密度密切相关，而堆积密度则与阴离子种类紧密相关。阴离子对应的原子与阳离子对应的原子的配位数越高，堆积密度越大。所以只有引入比O2-更高价态的阴离子才能提高阴离子对应原子与Si的配位数，本申请实施例中引入N3-到改性玻璃，以提高与Si的配位数。
图3为本申请实施例提供的N-Si的结构示意图。
如图3所示，N与Si之间的配位数为3，并且Si-N之间的化学键强度大于Si-O之间的化学键强度。这样，改性玻璃中高价态的N3-的引入可以增大玻璃内部结构单元的堆积密度，从根本上提高改性玻璃的机械性能。
在一种实现方式中，改性剂包括包含N3-的改性剂，N元素以N3-的形式在改性剂中。利用包含N3-的改性剂制备改性玻璃的步骤在下文有详细描述，在此不再赘述。
在另一种实现方式中，改性剂包括包含N元素的改性气体。利用包含N元素的改性气体制备改性玻璃的步骤在下文有详细描述，在此不再赘述。
上述两种实现方式中的改性剂，均可以将N3-引入到改性玻璃中，提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
N3-的改性剂可以有多种选择，使得N3-可以引入到改性剂中。
在一种实现方式中，改性剂包括AlN、BN和Si3N4的至少一种。
在本实现方式中，改性剂可以为单独的AlN，单独的BN，单独的Si3N4，AlN和BN的混合物，BN和Si3N4的混合物，AlN和Si3N4的混合物，或者可以为AlN、BN和Si3N4的混合物。通过上述改性剂可以将N3-引入到改性玻璃中，从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
包含N3-的改性剂除了上述提到的AlN、BN和Si3N4，还可以为其他物质，任何不影响本申请实施例中改性玻璃的制备的其他包含N3-的改性剂，均可以被接受。
在一种实现方式中，改性剂可以根据玻璃原料中存在的阳离子确定。
示例性的，玻璃原料包括Al2O3，此时可以选择改性剂为AlN，这样可以避免其他阳离子被引入到改性玻璃中。
N3-的改性剂可以设置为不同的摩尔百分比，该摩尔百分比是指N3-的改性剂占原料的摩尔百分比。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜AlN≤8％。
在本实现方式中，通过AlN引入N3-到改性玻璃中。由于AlN的熔点较高，AlN的摩尔百分比大于8％，会导致原料无法熔化，无法制备得到改性玻璃，所以AlN的摩尔百分比限制在不大于8％的范围，这样可以保证制备得到改性玻璃的同时，还能从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜BN≤10％。
在本实现方式中，通过BN引入N3-到改性玻璃中。由于BN在玻璃中溶解度受限，当BN的摩尔百分比设置过高，会导致制备改性玻璃时原料无法熔制，最终无法制备得到改性玻璃，所以BN的摩尔百分比限制在不大于10％的范围，这样原料可以熔制，最终可以在制备得到改性玻璃的同时，从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜Si3N4≤6％。
在本实现方式中，通过Si3N4引入N3-到改性玻璃中。由于Si3N4的熔点较高，Si3N4的摩尔百分比大于6％，会导致原料无法熔化，无法制备得到改性玻璃，所以Si3N4的摩尔百分比限制在不大于6％的范围，这样可以保证制备得到改性玻璃的同时，还能从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
包含N元素的改性气体可以有多种选择，使得N3-可以引入到改性剂中。
在一种实现方式中，改性剂包括N2和NH3的至少一种。
在本实现方式中，改性剂可以包括仅N2，仅NH3，或者N2和NH3的混合气。改性剂可以作为气氛，在该气氛下可以对初始玻璃进行处理得到改性玻璃，该初始玻璃是指利用玻璃原料直接制备的玻璃，该玻璃中未引入N3-。
包含N元素的改性气体除了上述提到的N2和NH3，任何不影响本申请实施例中改性玻璃制备的其他包含N元素的改性气体，均可以被接受。
本申请实施例中，提供一种改性玻璃的制备方法，该方法利用包含N3-的改性剂制备改性玻璃。
图4为本申请实施例提供的一种改性玻璃的制备方法的流程图。该方法包括步骤S100-S400。
S100、取改性玻璃所需原料进行混合均匀，得到粉末混合物。
在一种实现方式中，准确称取改性玻璃所需原料，将原料放入球磨机球磨均匀，得到粉末混合物。
在一种实现方式中，在执行步骤S200之前，可以将粉末混合物放入在铂金坩埚中。铂金坩埚利用铂的稳定、高熔点、高沸点和耐腐蚀的特性，可以作为承载粉末混合物的容器，使粉末混合物在该容器中反应。
S200、将粉末混合物在第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液，其中第一预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境。
本申请实施例中，为了避免原料中的N3-被氧化，将熔制过程设置在第一预设环境条件下。在该第一预设环境条件下环境中可以确保不存在氧化性物质，不能将N3-氧化，保证改性物质中Si-N键的合成。本申请实施例中，在粉料混合物进行熔制之后原料的机械混合物转换成了复杂的熔融物，即玻璃液。
在一种实现方式中，步骤S200可以在真空炉中完成，在真空炉中可以使粉末混合物处于真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境中。
在一种实现方式中，真空环境包括真空度≤5*10-3Pa。其中，当真空度为5*10-3Pa时，已经可以满足本申请实施例需要的不能将N3-氧化的要求。
在一种实现方式中，惰性气体包括N2、He和Ar中的至少一种。
在本实现方式中，惰性气体可以为单独的N2，单独的He，单独的Ar，还可以N2、He的混合气，He和Ar的混合气，N2和Ar的混合气，或者还可以为N2、He和Ar的混合气。这样，上述惰性气体可以保证N3-不能被氧化。
在一种实现方式中，还原性气体包括H2、CO、第一组合气体、第二组合气体和第三组合气体中的至少一种，其中第一组合气体包括N2和H2，第二组合气体包括He和H2，第三组合气体包括H2和Ar。这样，上述还原性气体可以保证N3-不能被氧化。
在一些实施例中，原料包括碳酸盐。将粉末混合物在第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液的步骤包括：
将粉末混合物在第三预设环境条件下预烧，得到预烧后的混合物，其中第三预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境，预烧的温度低于熔制的温度；将预烧后的混合物在第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液。
本申请实施例中，粉末混合物在第三预设环境条件预烧，可以避免粉末混合物中的N3-被氧化。第三预设环境条件和第一预设环境条件可以相同，也可以不同。在一个示例中，第一预设环境条件为真空环境，第三预设环境条件也为真空环境。在另一个示例中，第一预设环境条件为真空环境，第三预设环境条件为惰性气体环境。在另一个示例中，第一预设环境条件为真空环境，第三预设环境条件为还原性气体环境。
本申请实施例中，粉末混合物需要在容器内熔制。这样在执行熔制步骤时，如果粉末混合物包括碳酸盐，碳酸盐就会分解产生CO2，这样就可能会出现溢流的情况。所以为了避免熔制步骤中出现溢流的情况，在执行熔制步骤之前可以先对粉末混合物执行低温预烧，将碳酸盐提前分解，释放CO2。
在一个示例中，玻璃原料包括Li2CO3和/或Na2CO3，由于Li2CO3和Na2CO3高温分解均会得到CO2，所以在熔制步骤之前先对粉末混合物执行预烧步骤，这样执行熔制步骤时就会不产生或少量产生CO2，避免溢流发生。
在一种实现方式中，当玻璃原料包括Li2CO3和Na2CO3时，预烧步骤包括将粉末混合物在第三预设环境下升温到700-900℃预烧0.5-3h。
在一些实施例中，原料包括碳酸盐，在将玻璃液浇筑到已预热的模具中成型，得到玻璃成型体之前，方法还包括：将玻璃液澄清，即将玻璃液静置。
本申请实施例为了减少后续玻璃成型体中的气泡，在浇筑到模型之前，将玻璃液进行澄清，使得玻璃液中的气泡消除。该澄清步骤可以在真空炉中完成。
S300、将玻璃液浇筑到已预热的模具中成型，得到玻璃成型体。
在制得玻璃液之后需在模具中成型得到玻璃成型体。需要说明的是，玻璃成型体的生产过程是将熔融的玻璃液转变为具有几何形状制品的过程。
在使用模具之前，需要对模具进行预热，这样可以避免高温的玻璃液浇筑到未预热的模具中，使玻璃成型体骤冷开裂。
S400、将玻璃成型体进行退火处理，得到改性玻璃。
退火处理的目的是为了消除改性玻璃中的应力，避免玻璃破碎。在一种实现方式中，该退火处理的步骤可以在真空炉中完成。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括：
改性剂x％，x大于0。
基于本实现方式，方法包括：
取改性玻璃所需原料进行混合均匀，得到粉末混合物；
将粉末混合物在第一预设环境条件下且在1450-1550℃下熔制1-3h，得到玻璃液，其中第一预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境；
将玻璃液浇筑到预热温度为300-500℃的模具中成型，得到玻璃成型体；
将玻璃成型体在第二预设环境条件下且在450-600℃下进行退火12-24h，其中第二预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境。
该第二预设环境条件可以与第一预设环境条件相同，也可以与第一预设环境条件不同。在一个示例中，在一个示例中，第一预设环境条件为真空环境，第二预设环境条件也为真空环境。在另一个示例中，第一预设环境条件为真空环境，第二预设环境条件为还原性气体环境。
这样可以将N3-引入到改性玻璃中，提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
为了便于更好地理解本申请实施例的利用包括N3-的改性剂制备改性玻璃的方法，通过下面多个实施例进行说明。
需要说明的是，本申请主要针对的是改性玻璃中引入N3-，以从根本上提高改性玻璃的机械性能，所以本申请实施例并不限定玻璃原料的具体组分，但是为了清楚的描述本申请实施例中的方法，随机选取一种玻璃原料，该玻璃原料包括SiO2、Li2CO3、Al2O3、ZrO2、Na2CO3、P2O5、MgO和Sb2O3。
实施例1
改性玻璃的制备方法包括：
按摩尔百分比称取400g原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括SiO2(60-x)％、Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O3 0.2％、AlN x％，其中x＝0.0，1.0，2.0，4.0，6.0，8.0。
将称取的原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料，将粉末混合料放入至铂金坩埚中。
将以铂金坩埚为容器承载的粉末混合料放入至真空炉中。
真空炉抽真空使真空度≤1*10-3Pa，粉末混合料随炉升温至900℃并预烧1h；
真空炉再次抽真空使真空度≤1*10-3Pa，预烧后的原料随炉升温至1550℃并熔制3h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1500℃，并澄清1h；
将澄清后的玻璃液浇筑至已经预热至500℃的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体放入真空炉中，真空炉抽真空使真空度≤1*10-3Pa，玻璃成型体在550℃下进行12h的退火处理，得到改性玻璃；
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试。
维氏硬度的测试结果，具体数值如表1所示。AlN的摩尔百分比依次为0.0，1.0，2.0，4.0，6.0，8.0时，对应的原料依次命名为Al-N0.0，Al-N1.0，Al-N2.0，Al-N4.0，Al-N6.0，Al-N8.0。
表1不同摩尔百分比的AlN制备的改性玻璃的维氏硬度
| 编号 | Al-N0.0 | Al-N1.0 | Al-N2.0 | Al-N4.0 | Al-N6.0 | Al-N8.0 |
| 维氏硬度-Hv | 546 | 611 | 653 | 698 | 705 | 719 |
通过表1可以看出，编号Al-N0.0的玻璃的维氏硬度为546Hv，该编号Al-N0.0的玻璃为未加入AlN时制备得到玻璃。加入不同摩尔百分比的AlN时制备的改性玻璃的维氏硬度，均高于未加入AlN时制备的玻璃的维氏硬度(546Hv)，说明加入AlN时制备的改性玻璃的硬度较高，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
实施例2
改性玻璃的制备方法包括：
按摩尔百分比称取400g原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括SiO2(60-x)％；Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O3 0.2％；BN x％，其中x＝0.0，2.0，4.0，6.0，8.0，1.0。
将称取的原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料，将粉末混合料放入至铂金坩埚中。
将以铂金坩埚为容器承载的粉末混合料放入至真空炉中。
将粉末混合料转移至真空炉中，抽真空使真空度≤1*10-3Pa，随后通入惰性气体N2使得内部气压达到标准大气压，粉末混合物随炉升温至900℃并低温预烧1h；
真空炉再次抽真空使真空度≤1*10-3Pa，随后通入惰性气体N2使得内部气压达到标准大气压，预烧后的原料随炉升温至1550℃保温3h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1500℃，并澄清1h；
将澄清后的玻璃液浇筑至500℃预热的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体放入真空炉中，真空炉抽真空使真空度≤1*10-3Pa，随后通入惰性气体N2使得内部气压达到标准大气压，玻璃成型体在550℃下进行12h的退火处理，得到改性玻璃；
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试。
维氏硬度的测试结果，具体数值如表2所示。BN的摩尔百分比依次为0.0，2.0，4.0，6.0，8.0，1.0时，对应的原料依次命名为B-N0.0，B-N2.0，B-N4.0，B-N6.0，B-N8.0，B-N10.0。
表2不同摩尔百分比的BN制备的改性玻璃的维氏硬度
| 编号 | B-N0.0 | B-N2.0 | B-N4.0 | B-N6.0 | B-N8.0 | B-N10.0 |
| 维氏硬度-Hv | 554 | 631 | 689 | 722 | 755 | 793 |
通过表2可以看出，编号B-N0.0的玻璃的维氏硬度为644Hv，该编号B-N0.0的玻璃为未加入BN时制备的玻璃。加入不同摩尔百分比的BN时制备的改性玻璃的维氏硬度，均高于未加入BN时制备得到的比例的维氏硬度(644Hv)，说明加入BN时制备的改性玻璃的硬度较高，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
实施例3
改性玻璃的制备方法包括：
按摩尔百分比称取400g原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括SiO2(60-x)％；Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O3 0.2％；Si3N4x％，其中x＝0.0，0.5，1.0，2.0，4.0，6.0。
将称取的原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料，将粉末混合料放入至铂金坩埚中。
将以铂金坩埚为容器承载的粉末混合料放入至真空炉中。
将粉末混合料转移至真空炉中，抽真空使真空度≤1*10-3Pa，通入还原性气体H2使得内部气压达到标准大气压，粉末混合物随炉升温至900℃并低温预烧1h；
真空炉再次抽真空使真空度≤1*10-3Pa，通入还原性气体H2使得内部气压达到标准大气压，预烧后的原料随炉升温至1550℃保温3h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1500℃，并澄清1h；
将澄清后的玻璃液浇筑至500℃预热的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体放入真空炉中，真空炉抽真空使真空度≤1*10-3Pa，通入还原性气体H2使得内部气压达到标准大气压，玻璃成型体在550℃下进行12h的退火处理，得到改性玻璃；
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试。
维氏硬度的测试结果，具体数值如表3所示。Si3N4的摩尔百分比依次为0.0，0.5，1.0，2.0，4.0，6.0时，对应的原料依次命名为S-N0.0，S-N0.5，S-N1.0，S-N2.0，S-N4.0，S-N6.0。
表3不同摩尔百分比的Si3N4制备的改性玻璃的维氏硬度
| 编号 | S-N0.0 | S-N0.5 | S-N1.0 | S-N2.0 | S-N4.0 | S-N6.0 |
| 维氏硬度-Hv | 542 | 611 | 653 | 728 | 755 | 799 |
通过表3可以看出，编号S-N0.0的玻璃的维氏硬度为542Hv，该编号S-N0.0的玻璃为未加入Si3N4时制备得到玻璃。加入不同摩尔百分比的Si3N4时制备的改性玻璃的维氏硬度，均高于未加入Si3N4时制备的玻璃的维氏硬度(542Hv)，说明加入Si3N4时制备的改性玻璃的硬度较高，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
实施例4
改性玻璃的制备方法包括：
按摩尔百分比称取400g原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括SiO253％；Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O30.2％；BN3％和AlN 4％。
将称取的原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料，将粉末混合料放入至铂金坩埚中。
将以铂金坩埚为容器承载的粉末混合料放入至真空炉中。
真空炉抽真空使真空度≤2*10-3Pa，粉末混合料随炉升温至800℃并预烧1.5h；
真空炉再次抽真空使真空度≤2*10-3Pa，随后通入惰性气体Ar使得内部气压达到标准大气压，预烧后的原料随炉升温至1500℃并熔制2h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1450℃，并澄清1h；
将澄清后的玻璃液浇筑至已经预热至450℃的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体放入真空炉中，真空炉抽真空使真空度≤5*10-3Pa，玻璃成型体在520℃下进行18h的退火处理，得到改性玻璃；
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试，维氏硬度的测试结果为792Hv。
可以看出，改性剂包括两种不同物质时，即包括BN和AlN，改性玻璃的维氏硬度也位于较高水平，说明加入BN和AlN时制备的改性玻璃的硬度较高，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
实施例5
改性玻璃的制备方法包括：
按摩尔百分比称取400g原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括SiO250％；Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O30.2％；BN3％；AlN 3％和Si3N4 4％。
将称取的原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料，将粉末混合料放入至铂金坩埚中。
将以铂金坩埚为容器承载的粉末混合料放入至真空炉中。
真空炉抽真空使真空度≤1*10-3Pa，粉末混合料随炉升温至900℃并预烧2h；
真空炉再次抽真空使真空度≤1*10-3Pa，随后通入惰性气体N2使得内部气压达到标准大气压，预烧后的原料随炉升温至1550℃并熔制3h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1500℃，并澄清3h；
将澄清后的玻璃液浇筑至已经预热至500℃的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体放入真空炉中，真空炉抽真空使真空度≤1*10-3Pa，玻璃成型体在550℃下进行24h的退火处理，得到改性玻璃；
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试，维氏硬度的测试结果为836Hv。
可以看出，改性剂包括三种不同物质时，即包括BN、AlN和Si3N4，改性玻璃的维氏硬度也位于较高水平，说明加入BN、AlN和Si3N4时制备的改性玻璃的硬度较高，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
实施例6
按摩尔百分比称取400g原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括SiO258％；Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O30.2％；AlN2％。
将称取的原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料，将粉末混合料放入至铂金坩埚中。
将以铂金坩埚为容器承载的粉末混合料放入至真空炉中。
真空炉抽真空使真空度≤5*10-3Pa，粉末混合料随炉升温至700℃7并预烧0.5h；
真空炉再次抽真空使真空度≤5*10-3Pa，预烧后的原料随炉升温至1450℃并熔制1h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1400℃，并澄清0.5h；
将澄清后的玻璃液浇筑至已经预热至300℃的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体放入真空炉中，真空炉抽真空使真空度≤5*10-3Pa，玻璃成型体在450℃下进行12h的退火处理，得到改性玻璃；
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试，维氏硬度的测试结果为636Hv，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
实施例7
按摩尔百分比称取400g原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括SiO258％；Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O30.2％；BN2％。
将称取的原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料，将粉末混合料放入至铂金坩埚中。
将以铂金坩埚为容器承载的粉末混合料放入至真空炉中。
真空炉抽真空使真空度≤1*10-3Pa，粉末混合料随炉升温至900℃并预烧2h；
真空炉再次抽真空使真空度≤1*10-3Pa，预烧后的原料随炉升温至1550℃并熔制3h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1500℃，并澄清3h；
将澄清后的玻璃液浇筑至已经预热至500℃的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体放入真空炉中，真空炉抽真空使真空度≤1*10-3Pa，玻璃成型体在600℃下进行24h的退火处理，得到改性玻璃；
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试，维氏硬度的测试结果为637Hv，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
本申请实施例，提供还一种改性玻璃的制备方法，该方法利用包含N元素的改性气体制备改性玻璃。
图5为本申请实施例提供的另一种改性玻璃的制备方法的流程图。该方法包括步骤S500-S700：
S500、取改性玻璃所需原料。
S600、利用玻璃原料制备初始玻璃。
在一种实现方式中，利用玻璃原料制备初始玻璃的方法包括：将玻璃原料进行混合均匀，得到混合物；将混合物熔制后浇筑到模具中，得到玻璃成型体。将玻璃成型体进行退火处理，得到初始玻璃。
S700、在改性剂作为气氛下对初始玻璃进行处理，得到改性玻璃。
本申请实施例中，利用气氛处理初始玻璃，可以得到引入N3-的改性玻璃，可以从根本上提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
在一种实现方式中，以氧化物基准的摩尔百分比表示，原料包括：
改性剂。
基于本实现方式，在改性剂作为气氛下对初始玻璃进行处理，得到改性玻璃的步骤包括：将初始玻璃在550-750℃并处于改性剂作为气氛下反应8-24h，得到改性玻璃。这样可以将N3-引入到改性玻璃中，提高改性玻璃的抗划伤和抗跌落性能。
下面通过多个实施例说明利用包括N元素的改性气体制备改性玻璃的方法。
需要说明的是，本申请旨在改性玻璃中引入N3-，以从根本上提高改性玻璃的机械性能，所以本申请实施例并不限定玻璃原料的具体组分，但是为了清楚的描述本申请实施例中的方法，随机选取一种玻璃原料，该玻璃原料包括SiO2、Li2CO3、Al2O3、ZrO2、Na2CO3、P2O5、MgO和Sb2O3。
实施例8
改性玻璃的制备方法包括：
按摩尔百分比称取400g玻璃原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，玻璃原料包括SiO260％；Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O3 0.2％。
将称取的玻璃原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料；
将粉末混合物在900℃下预烧1h。
预烧后的粉末混合物在1550℃下熔制3h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1500℃，并澄清1h；
将澄清后的玻璃液浇筑至已经预热至500℃的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体在550℃下进行12h的退火处理，得到初始玻璃；
初始玻璃在550℃下并处于N2作为气氛下反应8h，得到改性玻璃。
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试，维氏硬度的测试结果为650Hv。
可以看出，通过包含N元素的改性气体即N2，制备的改性玻璃的维氏硬度也位于较高水平，说明在N2作为气氛下反应得到的改性玻璃的硬度较高，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
实施例9
改性玻璃的制备方法包括：
按摩尔百分比称取400g玻璃原料。以氧化物基准的摩尔百分比表示，玻璃原料包括SiO260％；Li2O 27.6％；Al2O3 7.8％；ZrO2 1.4％；Na2O 1.8％；P2O5 1.0％；MgO 0.2％；Sb2O3 0.2％。
将称取的玻璃原料放入球磨机中球磨均匀得到粉末混合料；
将粉末混合物在900℃下预烧1h。
预烧后的粉末混合物在1550℃下熔制3h，得到玻璃液；
玻璃液随炉降温至1500℃，并澄清1h；
将澄清后的玻璃液浇筑至已经预热至500℃的不锈钢模具中得到玻璃成型体；
将玻璃成型体在550℃下进行12h的退火处理，得到初始玻璃；
初始玻璃在750℃下并处于NH3作为气氛下反应24h，得到改性玻璃。
将改性玻璃进行切割、抛光工序处理，使其达到20*20*20mm3尺寸，随后进行维氏硬度测试，维氏硬度的测试结果为750Hv。
可以看出，通过包含N元素的改性气体即NH3，制备的改性玻璃的维氏硬度也位于较高水平，说明在NH3作为气氛下反应得到的改性玻璃的硬度较高，改性玻璃具有较好的抗划伤和抗跌落性能。
本申请提供的改性玻璃可以在电子设备中的应用。
本申请提供一种电子设备，包括电池后盖，电池后盖采用改性玻璃。
可以理解的是，在本申请的实施例中涉及的各种数字编号仅为描述方便进行的区分，并不用来限制本申请的实施例的范围。可以理解的是，在本申请的实施例中，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本申请的实施例的实施过程构成任何限定。
以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (20)
1.一种改性玻璃，其特征在于，所述改性玻璃的原料包括玻璃原料和包含N元素的改性剂，所述玻璃原料包括SiO2。
2.根据权利要求1所述的改性玻璃，其特征在于，所述改性剂包括包含N3-的改性剂。
3.根据权利要求2所述的改性玻璃，其特征在于，所述改性剂包括AlN、BN和Si3N4的至少一种。
4.根据权利要求3所述的改性玻璃，其特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜AlN≤8％。
5.根据权利要求3所述的改性玻璃，其特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜BN≤10％。
6.根据权利要求3所述的改性玻璃，其特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示，0＜Si3N4≤6％。
7.根据权利要求1所述的改性玻璃，其特征在于，所述改性剂包括包含N元素的改性气体。
8.根据权利要求7所述的改性玻璃，其特征在于，所述改性剂包括N2和NH3的至少一种。
9.一种改性玻璃的制备方法，其特征在于，包括：
取满足权利要求2-6中任一项所述的改性玻璃所需原料进行混合均匀，得到粉末混合物；
将所述粉末混合物在第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液，其中所述第一预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境；
将玻璃液浇筑到已预热的模具中成型，得到玻璃成型体；
将所述玻璃成型体进行退火处理，得到改性玻璃。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示，所述原料包括：
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，包括：
取所述改性玻璃所需原料进行混合均匀，得到粉末混合物；
将所述粉末混合物在所述第一预设环境条件下且在1450-1550℃下熔制1-3h，得到玻璃液；
将玻璃液浇筑到预热温度为300-500℃的模具中成型，得到玻璃成型体；
将所述玻璃成型体在第二预设环境条件下且在450-600℃下进行退火12-24h，其中所述第二预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境，所述第一预设环境条件与所述第二预设环境条件相同或者不同。
12.根据权利要求9或11所述的方法，其特征在于，所述惰性气体包括N2、He和Ar中的至少一种。
13.根据权利要求9或11所述的方法，其特征在于，所述还原性气体包括H2、CO、第一组合气体、第二组合气体和第三组合气体中的至少一种，其中所述第一组合气体包括N2和H2，所述第二组合气体包括He和H2，所述第三组合气体包括H2和Ar。
14.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，当原料包括碳酸盐时，所述将粉末混合物在第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液的步骤包括：
将所述粉末混合物在第三预设环境条件下预烧，得到预烧后的混合物，其中所述第三预设环境条件包括真空环境、惰性气体环境或者还原性气体环境，所述预烧的温度低于所述熔制的温度，所述第三预设环境条件与所述第一预设环境条件相同或者不同；
将所述预烧后的混合物在所述第一预设环境条件下熔制，得到玻璃液。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，在所述将玻璃液浇筑到已预热的模具中成型，得到玻璃成型体之前，所述方法还包括：将所述玻璃液澄清。
16.一种改性玻璃的制备方法，其特征在于，包括：
取满足权利要求7-8中任一项所述的改性玻璃所需原料；
利用所述玻璃原料制备初始玻璃；
在改性剂作为气氛下对所述初始玻璃进行处理，得到改性玻璃。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示，所述原料包括：
18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述在改性剂作为气氛下对所述初始玻璃进行处理，得到改性玻璃的步骤包括：
将所述初始玻璃在550-750℃并处于改性剂作为气氛下反应8-24h，得到改性玻璃。
19.一种权利要求1-8中任意一项所述的改性玻璃在电子设备中的应用。
20.一种电子设备，其特征在于，包括电池后盖，所述电池后盖采用权利要求1-8任一项所述的改性玻璃。
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|---|---|---|---|---|
| CN1735570A (zh) * | 2003-01-14 | 2006-02-15 | 迪亚摩弗股份公司 | 新型玻璃材料及其制备方法 |
Family Cites Families (7)
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|---|---|---|---|---|
| US4186021A (en) * | 1976-03-05 | 1980-01-29 | Corning Glass Works | Oxynitride glass-ceramics |
| US4609631A (en) * | 1985-09-12 | 1986-09-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Oxynitride glass fibers |
| US5006142A (en) * | 1990-03-28 | 1991-04-09 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Oxynitride glass production procedure |
| EP1736450A1 (en) * | 2005-06-21 | 2006-12-27 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Oxynitride armour glass |
| US9695081B2 (en) * | 2014-05-15 | 2017-07-04 | Corning Incorporated | Surface nitrided alkali-free glasses |
| CN109231818A (zh) * | 2018-10-10 | 2019-01-18 | 内蒙古科技大学 | 氧氮玻璃和氧氮玻璃的生产方法 |
| US20200123042A1 (en) * | 2018-10-19 | 2020-04-23 | Lifeport, Llc F/K/A Lifeport, Inc. | Oxynitride glass, its use, and methods of making |
-
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1735570A (zh) * | 2003-01-14 | 2006-02-15 | 迪亚摩弗股份公司 | 新型玻璃材料及其制备方法 |
| CN100467411C (zh) * | 2003-01-14 | 2009-03-11 | 迪亚摩弗股份公司 | 新型玻璃材料及其制备方法 |
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