CN116209874A - 用于测量弯曲玻璃板的几何形状的方法和设备 - Google Patents

Abstract

一种用于在至少200°C的温度下测量弯曲玻璃板（1）的几何形状的方法，所述玻璃板具有第一侧（I）和第二侧（II），其中a）将具有第一波长（λ_M）的测量激光器（L）的辐射对准所述第一侧（I）上的测量点（P），并且利用第一探测器（6）探测辐射回的辐射（B），并且确定测量点（P）和激光器（L）之间的所测量的间距h，b）将具有不同于所述第一波长（λ_M）的第二波长（λ_R）的参考激光器（LR）的辐射对准漫反射参考样品（5）上的具有距所述参考激光器（LR）的已知额定间距f的参考点（R），并且利用第二探测器（7）探测辐射回的参考辐射（BR），并且确定参考点（R）和参考激光器（LR）之间的参考间距r，c）确定所述参考间距r和所述额定间距f之间的差，并且从所测量的间距h中减去所述差，使得获得经校正的间距d，d）对于至少两个测量点和同样多的参考点执行步骤a）至c），并且从至少两个经校正的间距中确定所述至少两个测量点的空间位置。

Description

用于测量弯曲玻璃板的几何形状的方法和设备

技术领域

本发明涉及一种用于测量弯曲玻璃板的几何形状的方法和设备。

背景技术

在交通工具领域中，对窗板的几何形状提出越来越高的要求。这尤其是涉及窗板的弯曲，如果所述弯曲偏离指定的值，则所述弯曲可能导致不期望的光学效应。这些光学效应例如可能是在通过窗板透视时的光学失真或平视显示器的失真表示。

因此，存在对用于准确地测量弯曲式玻璃板的弯曲的方法的需求，所述弯曲式玻璃板适用于工业大量生产。尤其是，存在对可以集成到工业上常用的玻璃弯曲方法中的这种测量方法的需求。复杂的玻璃板典型地以多级弯曲方法被弯曲，所述多级弯曲方法例如包括重力弯曲步骤（预弯曲），之后是压制弯曲步骤（最终弯曲）。仅示例性地应该参照EP1836136B1、FI912871A、US2004107729A1、EP0531152A2和EP1371616A1。多级弯曲方法可以从在弯曲步骤之间对弯曲的测量中获利：后续弯曲步骤的参数可以被适配于所实现的预弯曲，以便实现具有与指定的弯曲值的减小的偏差的最终弯曲。

用于进行间距测量的激光方法是已知的，例如激光三角测量。在此，探测由待测定的对象的表面反射的激光辐射，其中从观察光点的角度测量间距。通过测量两个或多个点，通过这样的方法可以推断出其相对位置以及从而推断出对象的几何形状。因为不需要与对象直接接触，而是在远处进行几何形状测量，所以原则上这种激光方法也可以良好地被集成到弯曲方法中。然而，激光三角测量和类似方法以在测量对象的表面处的漫反射为前提，所述漫反射在玻璃板的情况下并不总是以需要的程度出现。此外，玻璃板的弯曲部分地在超过500°C的温度下发生。当在热大气中进行测量时，炉大气中的湍流导致测量的不准确性。这由空气的折射率的温度相关性引起。

US20100051817A1、EP0747664A2、EP3786576A1和DE202020104634U1公开用于测量弯曲玻璃板的几何形状的方法，其中如例如由制造引起地在浮法玻璃情况下出现的锡沉积借助于激光辐射被激发以发荧光。确定发荧光的面或点的空间位置，由此可以推断出玻璃板的几何形状、尤其是其弯曲。这些方法还遭受由玻璃弯曲炉中的热大气引起的测量不准确性。

US2019302582A1涉及一种用于在光刻技术的领域中使用的用于聚焦和测平的方法和测量设备。

US2008068620A1涉及一种用于当在环形体（Ringform）上使玻璃板材弯曲时测量玻璃板材的挠度的方法，其中该方法包括相对于环形体设立静止的或位置固定的基准平面并且测量玻璃板材的测量点处的挠度，并且使用测量数据来控制弯曲工艺的流程，尤其是玻璃板材的加热或弯曲工艺的中止。

发明内容

本发明所基于的任务在于提供一种适用于工业应用并且可以简单地实现的用于在提高的温度下测量弯曲玻璃板的几何形状的方法和设备。尤其是，该方法应该可以简单地被集成到多级弯曲方法中。

本发明的任务根据本发明通过根据权利要求1所述的方法解决。优选的实施方案从从属权利要求中得知。

根据本发明的方法用于测量弯曲玻璃板的几何形状。在此情况下，表述“几何形状”涉及板的弯曲。因此，也可以谈及弯曲、弯曲几何形状（Krümmungsgeometrie）、弯曲形状或曲率（Krümmungsgrad）的测量。玻璃板具有第一侧（I）和相对的第二侧（II）。板的环绕式边面（侧边）在第一侧和第二侧之间延伸。

根据本发明的方法特别适用于在热大气中、也即在至少200°C的环境温度下、优选地在如在玻璃弯曲时在炉内或在两个炉之间存在着的温度下执行。这些是至少300°C、优选地至少400°C、完全特别优选地至少500°C、例如约650°C的温度。根据本发明的方法的一个特别的优点是所述方法即使在如此高的温度下也能被使用并且提供精确的结果。该方法也在较低的温度下起作用。然而，特别的优点特别是在高温下发挥作用。

在根据本发明的方法的步骤a）中，将具有第一波长λ_M的测量激光器的辐射对准玻璃板的第一侧（I）上的测量点。然后利用第一探测器探测辐射回的辐射。测量激光器是用于照射玻璃板的第一侧上的要测定的测量点所使用的激光器。第一探测器作为与位置有关的信号探测辐射回的辐射。借助于激光三角测量从中确定测量点和激光器之间的所测量的间距h。

在步骤b）中，将具有第二波长λ_R的参考激光器的辐射对准具有已知位置的漫反射参考样品上的参考点，并且作为空间分辨参考信号利用第二探测器探测辐射回的参考辐射。由于漫反射参考样品的位置是已知的，因此参考激光器和参考点之间的额定间距f也是已知的。借助于三角测量确定参考点和参考激光器之间的参考间距r。

第二波长不同于第一波长，使得测量激光器的辐射回的辐射也不同于参考激光器的辐射回的参考辐射。因此，可以作为差分信号探测测量点的辐射回的辐射和参考点的辐射回的参考辐射，其方式是探测两个不同的波长。参考激光器是用于照射参考样品所使用的激光器。

在步骤c）中，确定所述参考间距r和所述额定间距f之间的差。由环境的干扰性影响、诸如炉大气中的湍流或车身底盘的振动引起所述差。因此，从所测量的间距h中减去所述差，使得获得激光器和测量点之间的经校正的间距d。这种方法背后的构思是，例如由于空气的折射率的温度相关性而影响辐射回的辐射的炉大气中的湍流对于参考点和测量点是相同的。由于参考样品的位置是已知的，因此可以使用所测量的参考间距r与额定间距f之间的差来校正所测量的间距h。

在步骤d）中，对于至少两个测量点和至少两个参考点执行步骤a）至c）。测量点和参考点的数量是相同的。于是对于每个测量点获得经校正的间距。从至少两个经校正的间距中确定至少两个测量点的空间位置。至少两个测量点的相对位置允许关于弯曲几何形状的陈述。基于两个测量点已经可以作出这样的陈述。通过增加测量点的数量，关于板几何形状的更准确的描述是可能的。

通过激光三角测量的方法确定所测量的间距或所测量的参考间距。这是用于在室温下进行间距确定的已知方法，所述方法的测量原理已多次公布。例如在这里描述测量原理：Laser triangulation: fundamental uncertainty in distance measurements,R.G. Dorsch, G. Häusler, J.M. Herrmann; Applied Optics, Vol. 33, No 7, 1306-1314。在此，探测从要测定的对象的表面辐射回的激光辐射，其中从观察光点的角度测量间距。通过测量两个或多个点，通过这样的方法可以推断出所述点的相对位置以及从而推断出对象的几何形状。

本发明意义上的间距表示空间中的两个点之间的最短距离。

在本发明的意义上，点被理解为按照近似点形聚焦的激光辐射的测量点（激光点、激光光斑）。因此，该点不是数学意义上的点，而是对应于点状聚焦的激光辐射的扩展并且因此与聚焦光学元件（透镜，尤其是球面聚光透镜）有关的面。这些阐述适用于测量激光器和参考激光器。

步骤d）中的至少两个测量点可以是离散的，即彼此相间隔，其中在测量点之间没有激光辐射射到玻璃板上。两个离散的测量点可以同时被照射。也就是说，对于至少两个测量点同时执行步骤a）至c）。可替代地，两个离散的测量点可以顺序地（也即依次地）被照射。

也可能的是，使用单个激光光斑，其中在激光辐射和玻璃板之间出现相对运动，使得第一侧的线状区域由激光光斑扫过。然后顺序地照射大量测量点。但是，可替代地，也可以同时照射更大的区域，所述区域于是包括大量测量点。从而，尤其是可以使用激光线、即线状辐射焦点。这样的激光线可以被理解为大量相邻的测量点。换言之，激光线包含本发明意义上的大量测量点。所描述的变型方案既可以应用于测量激光器，也可以应用于参考激光器。优选地为测量激光器选择与对于参考激光器相同的变型方案，以便实现空间分辨信号的校正并且参考点的数量和测量点的数量是相同的。

为了重复执行步骤a），优选地分别使用多个不同的测量激光器来测量玻璃表面上的多个测量点。例如，可以使用具有相同第一波长的两个测量激光器来测量玻璃板上的两个特定的测量点。可替代地，优选地使用单个测量激光器，所述单个测量激光器依次地或同时被聚焦到多个测量点上，如上所描述的那样。相应地，为了重复执行步骤b），优选地分别使用多个不同的参考激光器来测量参考样品上的多个参考点。可替代地，优选地使用单个参考激光器，所述单个参考激光器依次地或同时被聚焦到多个参考点上。

尽可能迅速地（zeitnah）、优选地同时地执行步骤a）和b），使得对测量点和对参考样品上的参考点的干扰性影响是相同的。在例如大于5秒的非常大的时间间隔的情况下，环境对测量点和对参考点的影响可能是不同的。最大时间间隔取决于环境的干扰性影响，所述干扰性影响应该被校正。在针对行驶底盘的振动的校正的情况下，最大时间间隔例如与底盘的速度有关。

步骤a）和b）之间的时间间隔优选地小于0.1秒、特别优选地小于0.01秒。热炉大气中的湍流导致快速变化的条件，使得测量和参考测量尽可能几乎同时被执行。

玻璃板上的测量点和漫反射参考样品上的参考点之间的距离a优选地不应该太大，以便环境条件尽可能相似，使得可以成功地执行信号的校正。距离a是在玻璃板的第一侧上的测量点和参考点之间在空间上最短的可能连接。玻璃板上的测量点和漫反射参考样品上的参考点之间的距离a优选地为1 mm和30 mm之间、优选地为5 mm和20 mm之间。

术语参考样品表示漫反射、也即例如白色染色的物品。该物品优选地由热稳定材料制成。物品本身可以具有任何几何形状，诸如圆形、矩形、条形或三角形。可以在多个不同的位置（参考点）处照射物品。也可以使用多个单独的物品，使得不同参考样品上的参考点也可以被用来校正不同的测量点。优选地使用为了在步骤d）中重复执行而在不同的参考点处被照射的参考样品。

参考样品可以位置固定地布置在玻璃板的环境中的位置处、例如布置在炉中，或者例如直接布置在可移动载体上，玻璃板在所述可移动载体上被运送。布置在用于玻璃板的载体上是特别优选的，因为在这种情况下同时针对载体的不期望的运动进行校正。

根据所使用的测量激光器和玻璃板的性质，测量激光器的辐射在玻璃板的第一侧处被漫反射，或者测量激光器的辐射激发第一侧上的原子以发荧光，使得辐射回的辐射是所发射的荧光辐射。

该方法可以静态地被执行。这表示其中玻璃板在测量期间位置固定地定位的执行。在此，激光辐射在玻璃板上也可以是位置固定的。位置固定的意味着不使激光辐射在玻璃板的长度或宽度方向上移动。在此，对于测量激光器和/或参考激光器可以使用至少两个激光光斑。理想地，大量测量点光栅式地被分布在玻璃板上，以便使得能够尽可能准确地测量弯曲轮廓。测量点可以同时利用多个激光器或单个激光器的经划分的辐射被测定，或者顺序地、也即依次地优选地利用同一激光器被测定。也可以使用激光线，所述激光线被理解为以线状方式聚焦的激光辐射。激光线优选地在玻璃板的整个宽度上延伸（或者使用多个彼此相邻的激光器的较小激光线，使得总体上覆盖玻璃板的整个宽度）。优选地使用多个彼此相间隔的并且平行的激光线。利用两个或多个激光光斑进行测量导致两个或多个所测量的位置点，利用一个或多个激光线进行测量导致沿着（一个或多个）激光线的一个或多个线状弯曲轮廓（轮廓线、线轮廓）。优选地以相同方式使用参考激光器和测量激光器。也就是说，例如如果对于测量激光器使用激光线，则也对于参考激光器使用激光线。

但是，在静态执行时也可能的是，尤其是借助于合适的激光扫描设备，例如在使用两个可倾式镜的情况下，使测量激光器和/或参考激光器的激光辐射在玻璃板上移动。在此，可以使用单个激光光斑，所述激光光斑优选地在玻璃板的整个长度上被移动。这导致线轮廓的测量。在一种有利的实施方案中，使用多个激光光斑，所述激光光斑沿着一条线在玻璃板的宽度上分布地布置。使这些测量点在玻璃板上方移动，优选地沿着玻璃板的整个长度移动。从而可以确定弯曲几何形状的彼此相间隔的线轮廓。该方法可以利用一个激光器的激光线被执行，所述激光线优选地覆盖玻璃板的整个宽度（或利用彼此相邻的多个激光器的较小激光线，使得总体上覆盖玻璃板的整个宽度）。如果然后使激光线在整个玻璃板上移动（垂直于其延伸方向），则可以创建整个板的连续或准连续的弯曲轮廓。

在静态执行的情况下，利用位置固定的激光辐射的变型方案具有以下优点：所述变型方案无复杂且可能易于干扰的扫描设备也行。而利用移动的激光辐射的变型方案具有以下优点：所述变型方案利用较少数量的激光器（或利用用于划分激光辐射的较少技术耗费）得到准确的测量结果。

替代于静态执行，也可以作为连续方法执行该方法，其中使玻璃板在激光辐射下移动。这被理解为玻璃板的运动，其中激光辐射优选地保持位置固定（即对准空间中的相同的点或相同的面），使得由激光辐射扫过板表面。如果使玻璃板在激光辐射下移动，则激光辐射沿着玻璃板的整个长度扫过所述玻璃板。在此，长度表示在玻璃板的运动方向（运送方向）上的尺寸。在使玻璃板在激光辐射下移动期间，借助于第一和第二探测器探测辐射回的辐射和辐射回的参考辐射，并且分别确定所测量的间距h和参考间距r。在利用参考间距r和额定间距f之间的差校正所测量的间距h之后，可以沿着由激光辐射扫过的区域与位置有关地确定所照射的区域的空间位置。在此，激光辐射（一个/多个激光焦点）的可能设计方案对应于利用移动的激光辐射的静态执行的那些设计方案。因此，对于测量激光器和参考激光器可以分别使用单个激光光斑（测量轮廓线）、多个沿着一条线在玻璃板的宽度上分布的激光光斑（测量多个平行的轮廓线）或优选地在玻璃板的整个宽度上延伸的激光线（测量连续或准连续的整个弯曲轮廓）。

即使在作为连续方法执行该方法时，也可以应用可移动的激光束，例如以便利用同一激光器来测定多个关于运送方向并排放置的轮廓线，或以便在玻璃板垂直于运送方向移动期间扫描激光束，用于测定垂直于运送方向（沿着板的宽度）的轮廓线，由此可得到整个板的连续或准连续的弯曲轮廓。

以连续方法实施相对于静态实施是优选的，因为以连续方法实施可以特别良好地集成到工业工艺中，尤其是集成到多级弯曲方法中，在此处玻璃板典型地从第一弯曲站被移动到第二弯曲站。如果应该不能实现连续方法，例如因为玻璃板在运送期间摇晃太剧烈，则也可以停止运送并且静态地执行该方法。

测量激光器和/或参考激光器可以以脉冲方式或以持续波模式被运行。因为尤其是在UV-C范围内，脉冲式激光器可以成本较低地被获得，所以所述脉冲式激光器是优选的。在此，应该优选地使用高脉冲重复频率（脉冲序列频率）以便能够实现快速测量。脉冲重复频率例如为至少100 Hz、优选地至少1 kHz。

测量激光器和参考激光器不限于特定的结构方式。例如可以使用“三倍频”（355nm；基础辐射与倍频辐射的和频混合；三次谐波）或两倍倍频（266 nm；四次谐波；二次谐波的倍频）Nd:YAG激光器，其对于工业应用是流行的（verbreitet）（基础辐射1064 nm）。可替代地，同样流行的Yb:YAG激光器（基础辐射1030 nm）适用。但是，也可以使用其他激光器类型，例如二极管激光器、准分子激光器或染料激光器。

在连续方法的情况下，玻璃板的运动速度优选地为0.5 m/s至5 m/s、特别优选地为1 m/s至2 m/s。这种运动速度在工业弯曲方法的情况下是常见的。如果该方法静态地利用移动的激光辐射被执行，则激光辐射的运动速度（扫描速度）优选地为5 m/s至20 m/s。从而可以以低时间耗费执行几何形状测量。

测量激光器和参考激光器的激光辐射的焦点的最小扩展（即激光光斑的直径或激光线的线宽）优选地为0.2 mm至1 mm、特别优选地为0.3 mm至0.7 mm。该范围在辐射强度和分辨能力方面是特别有利的。

激光辐射优选地基本上垂直地射到玻璃板上。这指的是，光轴（即激光辐射的传播方向）平行于弯曲玻璃板的几何中心的表面法线伸展。第一和第二探测器优选地布置在玻璃板的相同侧上，其中探测方向典型地与几何中心的表面法线围成0°和90°之间的角度，例如20°至70°。垂直照射是优选的，因为板的弯曲几何形状有时需要对焦点布置的特殊设计，这在这种情况下可以更简单地实现。这在使用具有线形焦点（激光线）的激光辐射的情况下尤其是这种情况。

第一探测器和/或第二探测器优选地是光电二极管、光电倍增器或空间分辨光电探测器、例如CCD（charge-coupled device（电荷耦合器件））传感器或CMOS（complementarymetal-oxide semiconductur（互补金属氧化物半导体））传感器或光电二极管阵列。这些探测器探测空间分辨信号。使用该空间分辨信号，以便通过三角测量确定测量点距激光器和/或探测器的间距。

可以借助于辐射回的辐射以不同的方式确定玻璃板的几何形状。原则上，可以将至少一个测量激光器的辐射聚焦到第一侧上，使得同时照射至少两个测量点。例如，CCD或CMOS摄像机被用作第一探测器。相应地，可以将至少一个参考激光器的辐射聚焦到第一侧上，使得同时照射至少两个参考点。例如使用第二CCD或CMOS摄像机作为第二探测器，或者使用可以同时探测辐射回的辐射和辐射回的参考辐射的同一摄像机。

相应的摄像机对于每个测量点和参考点记载空间分辨信号，借助于三角测量从所述空间分辨信号中确定测量点和参考点与摄像机/激光器的间距。用于计算间距所需要的处理器优选地集成在摄像机中，但是也可以集成在与摄像机连接的计算机中。

至少两个测量点的辐射回的辐射可以利用相应的摄像机同时被探测。由此，可以确定至少两个测量点的位置，尤其是其彼此的相对位置，这允许关于玻璃板的弯曲的陈述。

在上面描述的方法的情况下，激光辐射优选地基本上垂直地射到玻璃板上，但是这不是强制性需要的。原则上，激光辐射可以以与（在玻璃板的几何中心的）表面法线成1°至90°的每个任意角度射到玻璃板上。决定性的是对准第一板的激光器的辐射（激发光路）与所探测的辐射回的辐射（探测光路）之间的角度。该角度越大，测量方法的分辨率就越好。激发光路与探测光路之间的角度优选地为10°至170°，并且可以由本领域技术人员根据应用情况中的要求和限制来选择。

上面描述的方法可以静态地、即利用位置固定的玻璃板或以连续方法被执行。在静态执行的情况下，可以使用两个或多个彼此分离的测量点（激光光斑），所述测量点同时照射玻璃板，或者使用一个或多个激光线，所述激光线理想地在玻璃板的整个长度或宽度上延伸。也可以使激光辐射在位置固定的玻璃板上移动，以便获得更准确的测量。因此，两个或多个彼此分离的测量点可以分布在玻璃板的宽度上（沿着沿板的宽度尺寸延伸的线）并且在玻璃板的长度上被移动。同样可以使用激光线，所述激光线在玻璃板的宽度上延伸并且在玻璃板的长度上被移动。通过利用探测器持续地测量，从而获得沿着玻璃板的长度的平行线轮廓（在分离的测量点的情况下）或在长度和宽度尺寸上的总轮廓（在激光线的情况下）。在以连续方法执行时，两个或多个彼此分离的测量点同样可以分布在玻璃板的宽度上，或者可以使用激光线。观察对应于利用移动的激光辐射的静态执行，其中在这里通过使玻璃板在位置固定的激光辐射下移动进行相对运动。连续方法是优选的，因为所述连续方法可以有利地集成到工业方法、尤其是弯曲方法中，在此处玻璃板典型地在各个弯曲站之间被移动。

在利用在板和激光辐射之间的相对运动执行时，用长度表示运动方向上的尺寸，用宽度表示垂直于此的尺寸（Dimension）。在纯静态执行时，术语长度和宽度是可互换的。

在第一优选的实施方式中，在步骤a）中，具有第一波长的测量激光器的辐射由玻璃板的第一侧反射。在这种情况下，作为辐射回的辐射利用第一探测器探测反射的辐射。测量不需要与玻璃板直接接触，而是以相对大的间距进行，并且适用于连续方法。由此可以将该方法良好地集成到工业弯曲方法中。

在第二优选的实施方式中，在步骤a）中，从第一侧发射的荧光辐射作为辐射回的辐射被探测。窗板通常以流行的浮法玻璃方法被制造。在此，玻璃熔液被引导到由液态锡组成的槽中，在那里所述玻璃熔液硬化成玻璃层，所述玻璃层随后被分割成玻璃板。该方法的必然结果是玻璃板的两个表面是不相同的。在与锡槽直接接触的锡槽侧和相对的大气侧之间进行区分。这种区分尤其是基于：锡原子在玻璃板硬化期间从锡槽扩散到玻璃表面中。这些锡残留物可以被激发以发荧光，并且漫射荧光辐射可以被使用来确定玻璃表面上的不同测量点的相对位置，并且从而确定玻璃板的弯曲几何形状。与直接反射的激光辐射相比，荧光辐射是不相干的，使得不会预期干扰性干涉效应（“散斑（Speckle）”、激光造粒（Lasergranulation））。测量不需要与玻璃板直接接触，而是以相对大的间距进行，并且适用于连续方法。由此，该方法可以良好地被集成到工业弯曲方法中。这些是本发明的大的优点。

根据第二优选的实施方式，玻璃板是浮法玻璃板，并且第一侧是浮法玻璃板的锡槽侧，并且第二侧是浮法玻璃板的大气侧。在此，板的在浮法方法中与锡槽接触的那个表面被称为锡槽侧。在浮法方法中与周围大气接触的与锡槽侧相对的表面被称为大气侧。板的环绕式边面（侧边）在锡槽侧和大气侧之间延伸。

根据第二实施方式，测定弯曲浮法玻璃板。为了测量几何形状，测量激光器的辐射被对准或聚焦到锡槽侧上的测量点。由此，沉积在锡槽侧上或通过锡槽侧扩散到板表面以下的锡残留物被激发以发荧光（激光诱导的荧光）。为此合适地选择测量激光器。发射的荧光辐射是从测量点辐射回的辐射，并且借助于第一探测器（光电探测器）探测。

测量激光器必须适用于玻璃板中或玻璃板上的锡残留物的荧光激发。尤其是以下激光器适用于此，即所述激光器的辐射具有至多360 nm的UV光谱范围内的波长。特别优选地使用240 nm至355 nm、完全特别优选地240 nm至300 nm的UV范围内、尤其是240 nm至280nm的UV-C范围内的辐射。在所提到的范围中的波长情况下，锡残留物具有足够高的荧光量子产率，使得荧光辐射可以被用作用于几何形状测量的基础。虽然锡残留物的荧光量子产率在小于240 nm的波长情况下更加高，但是有时可能出现干扰性效应，诸如组分（Komponenten）的低使用寿命、弯曲炉中臭氧形成、浮法玻璃板的高吸收以及对大型且昂贵的准分子激光器的需求。

在这种情况下，例如绿色（490 nm至575 nm，例如532 nm）或红色（635 nm-750 nm，例如650 nm）参考激光器适合作为参考激光器，因为这些参考激光器成本低地可用。

在一种优选的实施方案中，根据本发明的用于进行几何形状测量的方法被集成到多级弯曲方法中。在此，在两个弯曲步骤之间执行所述方法。在将玻璃板从第一弯曲站运送到第二弯曲站期间，优选地作为连续方法执行该方法。在此，玻璃板例如可以直接放置在输送***上，例如辊式或带式输送***上，或者放置在载体模具上，所述载体模具在其侧例如通过辊式、轨道式或带式输送***被移动。在第一弯曲站中执行第一弯曲步骤，在第二弯曲站中执行第二弯曲步骤。例如，第一弯曲步骤可以是重力弯曲，利用所述重力弯曲实现玻璃板的预弯曲，并且第二弯曲步骤可以是压制弯曲和/或吸入弯曲，利用所述压制弯曲和/或吸入弯曲实现板的最终形状（最终弯曲）。这种多级弯曲方法典型地遭受在板几何形状方面不可忽略的离散（Streuung）。在两个弯曲步骤之间应用根据本发明的方法具有以下优点：即可以确定预弯曲的程度。随后的弯曲步骤的参数（例如弯曲温度或压制压力）然后优选地根据所测量的预弯曲被适配，以便减少与指定的板形状的偏差和最终弯曲的板的离散。

当应用在弯曲方法中时，弯曲炉的热辐射可能干扰测量。因此，在一种有利的实施方案中，为了借助于第一探测器探测荧光辐射使用光学滤波器，所述光学滤波器阻挡比其滤波边沿更长波的辐射。光学滤波器的该滤波边沿优选地处于至多600 nm处，特别优选地500 nm至600 nm。从而，在探测浮法玻璃板的锡侧的荧光辐射时，锡残留物的荧光绝大部分地被透射并且常见的弯曲炉的热辐射在很大程度上被滤出。在作为辐射回的辐射探测所反射的辐射时，同样优选地使用合适的带通滤波器或高通滤波器，所述带通滤波器或高通滤波器被协调到所使用的激光器并且使其波长通过。光学滤波器在第一探测器的光路中布置在玻璃板和第一探测器之间，使得由第一探测器记录的辐射首先穿过滤波器行进。高通滤波器或带通滤波器可以被用作光学滤波器。高通滤波器具有滤波边沿，其中较长波辐射被阻挡而较短波辐射被透射。带通滤波器在较短波长处附加地具有另一滤波边沿，其中较短波辐射被阻挡。带通滤波器因此仅可以使两个滤波边沿之间的波长范围内的辐射通过。也可以使用高通滤波器和低通滤波器的组合来代替带通滤波器。如果第一探测器仅在相关的光谱范围内是灵敏的并且对干扰性辐射不灵敏，则可以不需要光学滤波器。尤其是可以以这种方式设计光电二极管。

用于复合板的组成部分、诸如挡风板的弯曲方法有时被执行为使得稍后应该被相互连接的两个单板叠置地同时完全相同地被弯曲。由此，单板的形状应该特别好地被相互协调。本发明的一个优点是，也可以将该测量方法应用于两个叠置的玻璃板，并且可以同步地测量其几何形状。

在根据第二实施方式执行时，激发式激光辐射穿过板并且可以在两个锡槽侧激发荧光。在此，两个板的锡槽侧优选地彼此背离。

在根据第一实施方式执行时，可以在粉末状分离剂处探测测量激光器的辐射的反射，所述粉末状分离剂在两个叠置的玻璃板之间位于两个玻璃板之一的第一侧上。

本发明还包括具有至少以下方法步骤的弯曲方法：

1.在第一弯曲步骤中使玻璃板预弯曲

2.利用根据本发明的方法测量玻璃板的几何形状，

3.在第二弯曲步骤中使玻璃板弯曲，所述第二弯曲步骤的参数优选地被适配所测量的预弯曲。

可选地可以在第一弯曲步骤之前或在第二弯曲步骤之后进行其他弯曲步骤。

本发明此外包括一种用于测量弯曲玻璃板的几何形状的设备，所述玻璃板具有第一侧和第二侧，所述设备包括

-具有第一波长的测量激光器，所述测量激光器的辐射能够被对准所述玻璃板的第一侧上的至少两个测量点，

-对准至少两个测量点的第一探测器，所述第一探测器适用于探测辐射回的辐射，

-具有第二波长的参考激光器，所述第二波长与第一波长不同，所述参考激光器的辐射能够被对准具有已知位置的漫反射参考样品上的至少两个参考点，

-对准所述至少两个参考点的第二探测器，所述第二探测器适用于探测辐射回的参考辐射，

-评估单元，所述评估单元适用于从至少两个测量点的经校正的间距d中确定所述至少两个测量点的空间位置。

从由第一探测器探测的辐射回的辐射中借助于三角测量确定对应的测量点和激光器之间的相应的所测量的间距h。这优选地在用于进行间距计算的第一评估单元中进行，所述评估单元直接与第一探测器连接。探测器于是与处理器连接，所述处理器直接计算所测量的间距h。可替代地，可以在单独的第一评估单元中、诸如在连接在下游的计算机中确定所测量的间距h。

评估单元适用于确定至少两个测量点的空间位置。这指的是，评估单元被配置为使得所述评估单元可以实施根据本发明的方法的步骤a）至d）。

相应地，借助于通过三角测量从由第二探测器探测的辐射回的参考辐射中确定各个参考点和激光器之间的相应的所测量的参考间距r。这优选地在用于进行间距计算的第二评估单元中进行，所述第二评估单元直接与第二探测器连接。探测器于是与处理器连接，所述处理器直接计算所测量的参考间距r。可替代地，可以在单独的第二评估单元中、诸如在连接在下游的计算机中确定所测量的参考间距r。

与根据本发明的方法相结合的上述实施方案相应地适用于根据本发明的设备。

由于该方法优选地作为连续方法被执行，所以该设备优选地包括用于使板移动的装置。该装置适用于使玻璃板在激光辐射下移动，使得玻璃板优选地沿着其整个长度（在运动方向上）被加载激光辐射。

本发明此外包括一种用于使玻璃板弯曲的设备，所述设备包括

-第一弯曲站，

-根据本发明的用于测量玻璃板的几何形状的设备，

-第二弯曲站，

-用于将玻璃板从第一弯曲站通过根据本发明的设备（尤其是连续地）移动到第二弯曲站的装置。

运动装置例如可以被构造为轨道式、辊式或带式输送***。玻璃板可以直接放置在输送***上（尤其是在辊式或带式输送***的情况下）或放置在载体模具上。载体模具尤其是被构造为具有框架状接触面的所谓框架模具，玻璃板的环绕式边缘区域放置在所述框架状接触面上，而玻璃板的大部分不与载体模具直接接触。

玻璃板优选地是浮法玻璃板并且优选地由如对于窗板常见的钠钙玻璃组成。玻璃板的厚度可以根据个别情况下的要求自由地被选择。典型的厚度处于1 mm至20 mm、尤其是1.5 mm至5 mm的范围中。

玻璃板优选地被用作交通工具板或被用作这种交通工具板的组成部分，尤其是用作机动车辆的挡风板、侧窗板、后窗板或顶窗板或作为这种组成部分的组成部分（在复合板的情况下）。玻璃板特别优选地被用作交通工具、尤其是机动车辆的挡风板，在此处对光学质量提出特别高的要求。在此，根据本发明的方法是特别有利的，因为所述方法使得能够制造具有特别低偏差的弯曲几何形状的玻璃板，由此减少干扰性光学效应、诸如失真。

附图说明

根据附图和实施例更详细地阐述本发明。附图是示意图并且不是按正确比例的。附图不以任何方式限制本发明。其中：

图1示出在根据本发明的方法的实施方式期间通过玻璃板的横截面，

图2示出借助于三角测量对间距的测量的示意图，

图3示出在根据本发明的用于测量玻璃板的几何形状的方法的不同实施方式情况下所述玻璃板的俯视图，

图4示出锡残留物的荧光量子产率的图表，

图5示出浮法玻璃板的荧光辐射和弯曲炉的热辐射的光谱，

图6示出通过具有根据本发明的集成测量设备的弯曲设备的横截面，以及

图7示出通过浮法玻璃板的示意性横截面。

具体实施方式

图1示出在根据本发明的方法的实施期间通过弯曲玻璃板1的横截面。测量激光器L的辐射和参考激光器LR的辐射分别作为激光光斑2对准第一侧I和参考样品5。测量激光器L具有第一波长λ_M，并且参考激光器LR具有与第一波长λ_M不同的第二波长λ_R。测量激光器L的辐射被对准测量点P并且作为辐射回的辐射B从那里被辐射回。辐射回的辐射B是根据玻璃板的性质和激光器L的波长发射的荧光辐射或在第一侧处反射的辐射。辐射回的辐射B射到第一探测器6上并且在那里被探测为空间分辨信号。参考激光器LR的辐射被对准参考点R，所述参考点R位于漫反射参考样品5上。参考样品具有已知的位置。参考激光器LR的辐射在参考样品处作为辐射回的参考辐射BR被漫反射。辐射回的参考辐射BR作为空间分辨参考信号利用第二探测器被探测。在这种情况下，第一探测器和第二探测器是CCD（charge-coupled device（电荷耦合器件））色彩传感器，所述CCD色彩传感器作为分离的信号探测辐射回的辐射B和辐射回的参考辐射BR。CCD色彩传感器与用于间距计算的评估单元连接，所述评估单元确定测量点和激光器之间的所测量的间距h，以及计算参考点和参考激光器之间的所测量的参考间距r。这通过激光三角测量的已知方法进行。随后针对环境的干扰性影响进行校正。为此，确定所测量的参考间距r和已知的额定间距f之间的差，并且将该差从所测量的间距h中减去，使得获得经校正的间距d为d=h-(r-f)。

然后针对多个测量点P和多个参考点R重复所描述的步骤。测量点P的数量分别是与参考点R的数量相同的数量。然后，借助于评估单元可以从经校正的间距d中对于至少两个测量点确定至少两个测量点的空间位置。

玻璃板上的测量点P和漫反射参考样品5上的参考点R之间的距离a例如约为5 mm。从而确保针对测量点和参考点的环境条件相似。因此，借助于根据本发明的方法确保热炉中的湍流不影响测量结果。

例如利用同一激光器L，至少两个测量点可以同时被照射或者也可以顺序地被测定，所述同一激光器依次被对准两个测量点。相应地，也照射多个参考点，所述多个参考点要么布置在同一参考样品上，要么布置在多个参考样品上。为了简单起见，利用仅一个测量点来示出该方法。增加激光光斑2的数量使得能够更准确地测定弯曲几何形状。测量点和参考点的布置的示例在图3中示出。

可以利用位置固定的玻璃板1静态地（不仅纯静态地而且利用移动的激光辐射静态地）或作为连续方法进行实施。在利用移动的激光辐射静态地执行以及利用移动的板作为连续方法执行时，对于测量激光器和参考激光器而言单独的激光光斑2是足够的，所述单个激光光斑扫过玻璃板1并且在此沿着一个线测定大量测量点。通过多个激光光斑2（多个测量线）可以提高精度。对于测量激光器和参考激光器尽可能相同地进行执行。

图2示意性地示出分别在两个测量点P1和P2与测量激光器L之间的两个所测量的间距h₁和h₂的确定。测量激光器对准测量点P1和P2，所述测量点P1和P2距激光器处于不同的间距h₁或h₂。第一探测器6被定向为使得所述第一探测器探测从测量点P1和P2辐射回的辐射并且在此将所述辐射回的辐射探测为空间分辨信号。在此，辐射回的辐射射到探测器6上的角度α或β此外被确定。可以从角度以及激光器L和探测器6之间的已知距离中确定间距h₁或h₂。如此测量的间距按照根据本发明的方法借助于针对参考样品的平行执行的测量被校正。

图3以玻璃板1的俯视图示出根据本发明的方法的不同实施方案。实施方案的不同之处在于激光辐射如何被聚焦到玻璃板1上的方式。

为了能够作出关于玻璃板1的几何形状、更准确地说曲率的陈述，必须确定板表面上的至少两个测量点的位置。从这些测量点彼此的相对定位得出弯曲。如针对图1描述的，借助于根据本发明的方法为至少两个测量点P1和P2确定经校正的间距d。为此，从测量点P1和P2的辐射回的辐射中确定所测量的间距h。使用至少两个参考点R1和R2的辐射回的辐射来校正所测量的间距h，对于所述参考点确定参考间距。如所描述的，使用这些参考间距用于校正所测量的间距。可以利用以下描述的各种方法使用辐射回的辐射来确定其起点。通过分析板表面上的两个测量点的经校正的间距d，可以确定其彼此的相对定位。将相对定位与对应的指定的值进行比较，允许关于以下的陈述：板弯曲在何种程度上与规格偏离（aufweicht）。通过增加测量点的数量，对曲率的更精确和更有说服力的测量是可能的。

必须利用测量激光器照射至少两个测量点。在最简单的情况下，这可以利用用于测量点P1和P2的两个彼此相间隔的激光光斑2进行（图3a）。这导致辐射回的辐射的两个彼此相间隔的起始点。相应地，参考激光器的两个激光光斑2被对准位于测量点P1和P2附近的各一个参考点R1和R2。对于每个测量点P1和P2，这导致相邻参考点R1和R2的辐射回的参考辐射的起始点。从而对于每个测量点，获得所测量的间距h 的值，也获得参考间距r的值，所述参考间距r的值对于随后的校正是必要的。如果使用分别利用激光光斑2激发并且理想地光栅式地分布在板表面上（图3b）的大量测量点和对应的参考点，则根据单独的测量点得出板弯曲的详细分析。

代替激光光斑2，也可以使用激光线3。在此，激光焦点以线的形式被聚焦，所述线理想地在玻璃板1的整个宽度上延伸（图3c）。激光线3可以被理解为大量测量点或参考点的叠加或排列成行，使得激光线3包含根据本发明需要的至少两个测量点。可以分析由此引起的辐射回的辐射的线形起始面，以便确定该起始面在空间中的弯曲形状。沿着激光线3得出轮廓线。不仅测量激光器而且参考激光器均以线的形式被聚焦。在这里也可以通过以下方式提高测量的陈述力，即使用大量激光线3，所述激光线理想地彼此平行地并且彼此以均匀的间隔在玻璃板1的整个宽度上延伸（图3d）。得出对应的大量平行轮廓线，从所述轮廓线中可以良好地确定玻璃板1的弯曲轮廓。

根据本发明的方法可以以不同的方式被执行。一方面，可以静态地执行所述方法，这被理解为在位置固定的玻璃板1情况下的测量。在此情况下，可以再次区分两种变型方案，也即一方面在位置固定的激光辐射情况下的测量（纯静态的）和其中使激光辐射在板表面上移动的测量（利用移动的激光辐射静态地）。但是另一方面，该方法也可以被应用为连续方法，其中激光辐射是位置固定的并且板在激光辐射下、即相对于激光辐射被移动，使得激光辐射理想地沿着玻璃板1的整个长度扫过所述玻璃板1。这使得能够沿着板表面的由激光辐射扫过的区域创建弯曲轮廓（Krümmungsprofil）。

根据图3a、3b、3c和3d的激光焦点的分布适用于纯静态测量（板和激光焦点位置固定）。在利用移动的激光辐射的静态执行和作为连续方法执行时，又可以使用一个或多个激光光斑2或使用激光线3。优选地对于测量激光器和参考激光器使用多个激光光斑2，所述激光光斑沿着沿玻璃板1的宽度延伸的线排列并且理想地均匀地分布（图3e）。如果激光辐射沿着板表面的长度扫过所述板表面并且在此通过辐射回的辐射连续地或准连续地确定板表面在空间中的位置，则测量激光器的每个激光光斑2导致沿着玻璃板1的长度尺寸（运动方向的尺寸）的轮廓线并且参考激光器的每个激光光斑2导致沿着长度尺寸的轮廓线，并且可以使用来校正测量点的轮廓线。原则上，用于测量激光器的单个激光光斑2以及用于参考激光器的单个激光光斑2是足够的，所述用于测量激光器的单个激光光斑2以及用于参考激光器的单个激光光斑2于是扫过线形区域。该区域又可以被视为大量测量点的叠加或排列成行，使得根据本发明需要的至少两个测量点被照射。多个激光光斑2的使用导致具有多个长度轮廓线的更准确的测量，所述长度轮廓线分布在板宽度上。也可以对于测量激光器和参考激光器分别使用激光线3，所述激光线3在玻璃板1的宽度上延伸并且扫过玻璃板1的长度（图3f）。由此可得到板弯曲的连续或准连续的总轮廓。激光辐射相对于玻璃板1的相对运动在图3e和3f中通过方块箭头W示出。可以通过在位置固定的玻璃板1上方移动激光辐射（利用移动的激光辐射的静态执行）或通过在激光辐射下移动玻璃板1（连续方法）来实现相对运动。

可以通过借助于球面弯曲透镜聚焦激光辐射来产生激光光斑2。（只要所述聚焦点（Brennpunkt）准直地进入透镜）激光光斑2在透镜的聚焦点处形成。可以通过借助于柱面透镜、衍射光学元件（DOE）或全息光学元件（HOE）聚焦激光辐射来产生激光线3。激光线3在透镜的焦线上形成。代替将单个激光器的辐射形成为在整个板宽度上延伸的激光线3，等效地可能的是，使用多个激光器，所述激光器分别产生具有较小宽度的激光线3，并且彼此相邻地沿着板宽度布置这些激光线3，其中各个激光线3同样借助于（an）板宽度定向。理想地，激光线3彼此重叠，以便总计地产生在整个板宽度上延伸的激光辐射。但是，原则上，激光线3也可以彼此相间隔。于是得出具有彼此一定间距的板弯曲（Scheibenkrümmung）的平面轮廓。

图4示出锡残留物4（参见图7）的荧光量子产率的图表，所述荧光量子产率相对于激发辐射的波长λ绘出。在浮法玻璃板1的锡槽侧I处测量荧光量子产率。荧光激发可以在小于约360 nm的波长处发生。量子产率随着波长减小而增加，使得相同的激发强度导致更强化的荧光发射。特别是在100 nm至280 nm的UV-C范围内，锡残留物被高效地激发以发荧光。例如，可以利用两倍倍频的Nd:YAG激光器（266 nm）进行良好的荧光激发。如果想要避免过高激发，例如以便规避荧光饱和，则可以减弱激发功率或在更高波长下工作（较低的量子产率）。

图5示出与浮法玻璃板1的锡槽侧的荧光光谱（“荧光光谱”）相比示例性工业弯曲炉的热辐射的光谱（“弯曲炉光谱”）。在利用具有大约为255 nm的标称辐射波长的UV-C-LED激发之后记录荧光光谱。可以看出，与荧光辐射相比，热辐射明显红移（rotverschoben）。热辐射在约600 nm处开始。因此在根据本发明的测量的情况下例如通过在探测光路中使用具有在约550 nm处的滤波边沿（Filterkante）的高通滤波器可以简单地滤出其可能干扰性影响。通过附加的低通滤波器也可以滤出UV分量，例如散射的激发辐射。由低通滤波器和高通滤波器组成的组合也可以通过对应的带通滤波器代替。因为辐射回的参考辐射总是具有比测量点的辐射回的辐射更高的强度，使得在这里不需要滤波器来禁止通过热背景辐射引起的干扰，所以参考激光器的选择是灵活的。

图6示意性地示出通过具有根据本发明的用于测量板几何形状的集成设备的弯曲设备的横截面。该弯曲设备被设置用于两级弯曲方法，其中浮法玻璃板1在第一弯曲室12中被预弯曲并且在第二弯曲室13中被弯曲成最终形状。浮法玻璃板借助于运送***10、例如辊式输送***以放置在重力弯曲模11上的方式被驶入第一弯曲室12中，并且在那里借助于重力弯曲被预弯曲。然后，重力弯曲模11与浮法玻璃板1一起从第一弯曲室12被运送到第二弯曲室13，在此处所述浮法玻璃板在上压制弯曲模14和互补的下模具（例如重力弯曲模11或所述浮法玻璃板先前被移交到的其他模具）之间通过压制弯曲被最终弯曲。根据本发明的测量设备安装在第一弯曲室12和第二弯曲室13之间，所述测量设备具有测量激光器L和第一探测器6以及高通滤波器8，所述高通滤波器布置在第一探测器6上游以便滤出干扰性热辐射。此外，在重力弯曲模11处安置有漫反射参考样品5。参考激光器LR照射漫反射参考样品5并且辐射回的参考辐射由第二探测器7探测。将参考样品布置在重力弯曲模11处相对于安置在其他位置、例如安置在重力弯曲模下方具有以下优点：即从而也可以对于运送运动进行校正，因为参考样品经历与弯曲模11相同的运动。

在运送浮法玻璃板1时，因此可以在预弯曲之后确定所述浮法玻璃板的弯曲几何形状。根据预弯曲的程度，可以适配压制弯曲步骤的参数，例如弯曲温度或压制压力。由此，可以减少按照散射在批量工艺（Massenprozessen）的范围中出现的相对于指定的弯曲的偏差。

图7示出通过浮法玻璃板1的横截面。浮法玻璃板1由钠钙玻璃组成，例如具有3 mm的厚度，并且以浮法方法制成。在此，将玻璃熔液浇注到由液态锡组成的槽（Bad）中，在此处所述玻璃熔液均匀地分布并且硬化。形成的浮法玻璃板1的与锡槽直接接触的表面被称为锡槽侧I，相对的表面被称为大气侧II。锡原子在浮法方法期间可以通过锡槽侧I扩散到浮法玻璃板1中或粘附在所述浮法玻璃板处。由于这些剩余的锡残留物4，锡槽侧I与大气侧II不同。锡残留物4可以被激发以发荧光，这是根据本发明的测量方法的第二实施方式的基础。

附图标记列表

1 玻璃板、浮法玻璃板

2 激光光斑

3 激光线

4 锡残留物

5 参考样品

6 第一探测器

7 第二探测器

8 光学滤波器、高通滤波器、带通滤波器

10 用于玻璃板1的运送***

11 重力弯曲模

12 第一弯曲室

13 第二弯曲室

14 压制弯曲模

L 测量激光器

LR 参考激光器

B 第一侧的辐射回的辐射

BR 参考样品的辐射回的参考辐射

P 第一侧上的测量点

R 参考样品上的参考点

a 测量点和参考点之间的距离

h 测量点和激光器之间的所测量的间距

f 参考激光器和参考点之间的已知额定间距

r 参考激光器和参考点之间的所测量的参考间距

d 测量点和激光器之间的经校正的间距

W 辐射S在浮法玻璃板1上的相对运动的方向

I 玻璃板1的第一侧、浮法玻璃板1的锡槽侧

II 玻璃板1的第二侧、浮法玻璃板1的大气侧。

Claims (15)

1.一种用于在至少200°C的温度下测量弯曲玻璃板（1）的几何形状的方法，所述玻璃板具有第一侧（I）和第二侧（II），其中

a）将具有第一波长（λ_M）的测量激光器（L）的辐射对准所述第一侧（I）上的测量点（P），并且利用第一探测器（6）探测辐射回的辐射（B），并且确定测量点（P）和激光器（L）之间的所测量的间距h，

b）将具有不同于所述第一波长（λ_M）的第二波长（λ_R）的参考激光器（LR）的辐射对准漫反射参考样品（5）上的具有距所述参考激光器（LR）的已知额定间距f的参考点（R），并且利用第二探测器（7）探测辐射回的参考辐射（BR），并且确定参考点（R）和参考激光器（LR）之间的参考间距r，

c）确定所述参考间距r和所述额定间距f之间的差，并且从所测量的间距h中减去所述差，使得获得经校正的间距d，

d）对于至少两个测量点和同样多的参考点执行步骤a）至c），并且从至少两个经校正的间距中确定所述至少两个测量点的空间位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃板（1）上的测量点（P）和所述漫反射参考样品（5）上的参考点（R）之间的距离a为1 mm和30 mm之间、优选地为5 mm和20 mm之间。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中步骤a）和b）之间的时间间隔小于0.1秒、优选地小于0.01秒。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中在步骤a）中，所述测量激光器（L）的辐射由所述玻璃板的第一侧（I）反射并且作为辐射回的辐射（B）利用所述第一探测器（6）探测所反射的辐射。

5.根据权利要求4所述的方法，其中为了借助于所述第一探测器（6）探测所反射的辐射，使用能够使所述测量激光器（L）的波长通过的光学滤波器（8）、尤其是带通滤波器。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中

-所述玻璃板（1）是浮法玻璃板（1），并且所述第一侧（I）是所述浮法玻璃板的锡槽侧，并且所述第二侧（II）是所述浮法玻璃板（1）的大气侧，

-在步骤a）中，将所述测量激光器（L）的辐射对准所述锡槽侧（I）上的测量点（P），其中激发锡残留物以发荧光，并且作为辐射回的辐射（B）利用第一探测器（6）探测所发射的荧光辐射，和

-所述测量激光器（L）的辐射具有至多360 nm、优选地240 nm至355 nm、完全特别优选地240 nm至300 nm的UV光谱范围内的波长。

7.根据权利要求6所述的方法，其中为了借助于所述第一探测器（6）探测所述荧光辐射（B）使用具有至多600 nm、优选地500 nm至600 nm的滤波边沿的光学滤波器（8）、尤其是高通滤波器（8）或带通滤波器，在所述过滤边沿以上辐射被阻挡。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中所述第一探测器（6）和/或所述第二探测器（7）是光电二极管、光电倍增器或空间分辨光电探测器、例如CCD或CMOS传感器或光电二极管阵列。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述第一探测器（6）和所述第二探测器（7）是相同的。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中所述测量激光器（L）的辐射和所述参考激光器（LR）的辐射分别以至少两个激光光斑（2）的形式或者至少一个相对于所述玻璃板（1）移动的激光光斑（2）的形式被聚焦，以便照射所述至少两个测量点（P）和所述至少两个参考点（R）。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，所述方法作为连续方法被执行，其中使所述玻璃板（1）在所述测量激光器（L）和所述参考激光器（LR）的辐射下移动，使得所述测量激光器（L）的辐射和所述参考激光器（LR）的辐射在运动方向上扫过所述玻璃板（1）的整个长度，以便与位置有关地确定所照射的区域的空间位置。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法，在多级弯曲方法的两个弯曲步骤之间执行所述方法，其中所述第二弯曲步骤的参数优选地被适配于所述玻璃板（1）的所测量的几何形状。

13.一种用于根据权利要求1至12所述的方法测量弯曲玻璃板（1）的几何形状的设备，所述设备包括

-测量激光器（L），所述测量激光器的辐射具有第一波长（λ_M），并且所述测量激光器的辐射能够被对准所述玻璃板（1）的第一侧（I）上的至少两个测量点（P），

-参考激光器（LR），所述参考激光器的辐射具有不同于所述第一波长（λ_M）的第二波长（λ_R），并且所述参考激光器的辐射能够被对准漫反射参考样品（5）上的至少两个参考点（R），

-对准所述至少两个测量点（P）的第一探测器（6），所述第一探测器适用于探测从所述至少两个测量点（P）辐射回的辐射，

-对准所述至少两个参考点（R）的第二探测器（7），所述第二探测器适用于探测从所述参考点（R）辐射回的辐射，

-评估单元，所述评估单元适用于从经校正的间距d中确定所述至少两个测量点（P）的空间位置。

14.根据权利要求13所述的设备，所述设备布置在第一弯曲室（12）和第二弯曲室（13）之间，并且所述设备具有用于使所述玻璃板（1）从所述第一弯曲室（1）通过用于测量所述几何形状的设备移动到所述第二弯曲室（13）的运送***（10）。

15.根据权利要求13或14所述的设备，其中实施单元被配置为使得所述实施单元能够实施根据本发明的方法的步骤a）至d）。

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