CN115094499A - 一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法 - Google Patents

一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及复合涂层制备技术领域,具体涉及一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,制备含TiB2‑X纳米复合粉末的固体混合盐,将NaF与AlF3盐、纳米TiB2以及纳米颗粒X按比例混合后加入球磨罐中,球磨后经真空加热处理后冷却到常温即得含TiB2‑X纳米复合粉末的固体混合盐;将NaF与AlF3盐装入石墨坩埚中加热到熔融状态后,将所制备的含TiB2‑X纳米复合粉末的固体混合盐加入NaF‑AlF3熔盐中,稳定后,将石墨和待沉积基体材料***石墨坩埚中,施加一定电场强度,电泳沉积一段时间后,即可得TiB2基复合涂层,巧妙的利用两种纳米颗粒同时电泳沉积来制备复合涂层,不仅保留了熔盐电泳沉积制备涂层工艺的优点,同时所制备的TiB2基复合涂层致密度高、组织成分分布均匀且性能稳定。

Description

一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法
技术领域
本发明涉及复合涂层制备技术领域,具体涉及一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法。
背景技术
TiB2具有熔点高、硬度大、耐强酸抗高温氧化能力强,耐液态金属腐蚀能力强,同时导电和导热性能良好等特征,使其在很多恶劣环境下具有巨大的应用优势。但是,由于TiB2脆性大、韧性差且抗弯性能差等原因,纯TiB2涂层的应用受到了限制,为此,人们开发了TiB2-TiC、TiB2-Mo与TiB2-TiN等TiB2基复合涂层,这种TiB2基复合涂层,不仅硬度高、熔点高、且具有良好的耐蚀性、耐热性、耐磨性及导电导热性,所以广泛应用于机床零件、刀具材料、隔热防护体系、航天飞机的动力***、轻质军用材料等领域。
TiB2基复合涂层主要采用等离子体喷涂与激光熔覆等方法制备。这些方法制备复合涂层具有高的沉积效率,但制备的复合涂层一般由部分熔化或未熔化的颗粒组成,呈现出疏松多孔的微观结构,容易导致复合涂层成分与组织结构不均匀,孔隙度高,致密度低,且容易氧化等问题,严重影响TiB2基复合涂层的性能。
鉴于上述缺陷,本发明创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本发明。
发明内容
本发明的目的在于解决现有方法制备得到的TiB2基复合涂层成分分布不均匀、孔隙度高且存在氧化等影响涂层性能的问题,提供了一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法。
为了实现上述目的,本发明公开了一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,包括以下步骤:
S1:制备含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐
将NaF与AlF3盐、纳米TiB2以及纳米颗粒X按比例混合得混合粉末,球磨,在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末,干燥保温,冷却到常温后即得含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐;
S2:NaF-AlF3熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层
将NaF与AlF3盐,在惰性气体保护的电阻炉中加热熔融,将步骤S1中制得的含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐加入NaF-AlF3熔盐中,形成含TiB2-X纳米复合粉的NaF-AlF3熔盐,稳定后,将石墨和待沉积基体材料***熔盐中,施加电场,电泳沉积后即可得到致密TiB2基复合涂层。
所述步骤S1中NaF与AlF3盐的摩尔比为1.2~2:1。
所述步骤S1中纳米颗粒X为Mo、Fe、TiC、ZrO2和TiN中的任意一种,所述纳米TiB2和纳米颗粒X的平均粒径为50~100nm。
所述步骤S1中TiB2与纳米颗粒X的重量比为3~10:1,纳米TiB2和纳米颗粒X的总重量为NaF与AlF3盐总重量的40~60%。
所述步骤S1中球磨时磨球和混合粉末的质量比为20~30:1,球磨转速为500~800rpm,球磨时间为5~10h。
所述步骤S1中干燥在真空下进行,真空度为40Pa,干燥和保温温度为120℃,保温时间为1h。
所述步骤S2中NaF与AlF3盐的摩尔比为1.2~2:1,熔融的温度为950~1000℃
所述步骤S2中含TiB2-X纳米复合粉的NaF-AlF3熔盐中TiB2-X纳米复合粉的含量为20~200g/L。
所述步骤S2中施加电场的强度为0.3~0.8V/cm,电泳沉积时间为20~120min。
所述步骤S2中待沉积基体材料包括石墨、不锈钢、金属钼和金属钛中的任意一种。
发明实现的基本原理是:在高温NaF-AlF3熔盐中,均匀分散的纳米TiB2以及另外一种纳米颗粒X在电场的作用下同时发生电泳迁移,在作为负极的基体材料上同时沉积得到TiB2基复合涂层。由于高温熔盐提供了无氧环境,且两种物质的尺寸均为纳米级且均匀分散同时电泳沉积,可在基体材料上得到成分均匀、致密度高且结合力强的复合涂层。
与现有技术比较本发明的有益效果在于:
1、本发明采用熔盐电泳沉积工艺制备复合涂层,该方法制备的涂层致密度非常高,接近100%,另外设备成本低,工艺流程短且操作方便,在复杂形状的基体上也能形成涂层;
2、本发明采用的介质为氟化物熔盐,可提供无氧环境,所得TiB2基复合涂层不会被氧化,纯度高,杂质含量非常少;
3、本发明采用纳米级的原料,在保证两种纳米颗粒在熔盐中均匀分布的同时,两种纳米颗粒同时发生电泳沉积,可确保TiB2基复合涂层组织成分的均匀性,从而保证复合涂层性能的均匀性。
附图说明
图1为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的XRD图;
图2为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的表面SEM图;
图3为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的断面SEM图;
图4为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的截面SEM图(高倍);
图5为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的XRD图;
图6为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的表面SEM图;
图7为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的截面SEM图;
图8为对比例熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的表面SEM图。
具体实施方式
以下结合附图,对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。
实施例1
将摩尔比为3:2的NaF和AlF3充分混合,再将重量比为5:1的纳米TiB2与纳米ZrO2混合物加入NaF和AlF3混合盐中,纳米TiB2(平均粒径50nm)和纳米颗粒ZrO2(平均粒径60nm)的总重量为NaF与AlF3盐总重量的45%,一起放入行星式球磨机内球磨罐中,磨球与混合物的质量比为25:1,球磨机转速为700rpm,球磨6h。在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末后,将混合粉末放入真空度为40Pa的真空干燥箱内,加热到120℃后保温1h,冷却到常温后即得含TiB2-ZrO2纳米复合粉末的固体混合盐;将摩尔比为3:2的NaF和AlF3无机盐混匀加入石墨坩埚中,在高纯氩气保护下,在温度为960℃的电阻炉内进行熔融,完全熔融之后,将制备得到的含TiB2-ZrO2纳米复合粉末的固体混合盐装入石墨坩埚中,确保最终制备得到的NaF-AlF3熔盐中纳米TiB2-ZrO2浓度为50g/L;完全熔融并稳定12min后,***石墨正极和待沉积的石墨负极,施加0.5V/cm的电场强度,电泳沉积35min后,即可得厚度为12μm的致密TiB2-ZrO2复合涂层。
图1为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的XRD图,表明涂层中同时含有TiB2和ZrO2。图2为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的表面SEM图,图3为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的断面SEM图,图4为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的截面SEM图(高倍),从图2到图4可知,所制备的TiB2-ZrO2复合涂层表面和截面致密,且从宏观看,涂层厚度基本相同,表面非常平整。
实施例2
将摩尔比为2:1的NaF和AlF3充分混合,再将重量比为7:1的纳米TiB2与纳米Mo混合物加入NaF和AlF3混合盐中,纳米TiB2(平均粒径50nm)和纳米颗粒Mo(平均粒径80nm)的总重量为NaF与AlF3盐总重量的50%,一起放入行星式球磨机内球磨罐中,磨球与混合物的质量比为23:1,球磨机转速为670rpm,球磨8h。在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末后,将混合粉末放入真空度为40Pa的真空干燥箱内,加热到120℃后保温1h,冷却到常温后即得含TiB2-Mo纳米复合粉末的固体混合盐;将摩尔比为2:1的NaF和AlF3无机盐混匀加入石墨坩埚中,在高纯氩气保护下,在温度为970℃的电阻炉内进行熔融,完全熔融之后,将制备得到的含TiB2-Mo纳米复合粉末的固体混合盐装入石墨坩埚中,确保最终制备得到的NaF-AlF3熔盐中纳米TiB2-Mo浓度为60g/L;完全熔融并稳定10min后,***石墨正极和待沉积的石墨负极,施加0.3V/cm的电场强度,电泳沉积20min后,即可得厚度为3μm的致密TiB2-Mo复合涂层。
图5为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的XRD图,表明涂层中同时含有TiB2和Mo。图6为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的表面SEM图,图7为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的截面SEM图,从图6和图7可知,所制备的TiB2-Mo复合涂层表面和截面致密,且涂层表面比较平整。
实施例3
将摩尔比为4:3的NaF和AlF3充分混合,再将重量比为6:1的纳米TiB2与纳米TiC混合物加入NaF和AlF3混合盐中,纳米TiB2(平均粒径50nm)和纳米颗粒TiC(平均粒径50nm)的总重量为NaF与AlF3盐总重量的48%,一起放入行星式球磨机内球磨罐中,磨球与混合物的质量比为26:1,球磨机转速为700rpm,球磨8h。在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末后,将混合粉末放入真空度为40Pa的真空干燥箱内,加热到120℃后保温1h,冷却到常温后即得含TiB2-TiC纳米复合粉末的固体混合盐;将摩尔比为4:3的NaF和AlF3无机盐混匀加入石墨坩埚中,在高纯氩气保护下,在温度为980℃的电阻炉内进行熔融,完全熔融之后,将制备得到的含TiB2-TiC纳米复合粉末的固体混合盐装入石墨坩埚中,确保最终制备得到的NaF-AlF3熔盐中纳米TiB2-TiC浓度为40g/L;完全熔融并稳定15min后,***石墨正极和待沉积的石墨负极,施加0.7V/cm的电场强度,电泳沉积60min后,即可得厚度为45μm的致密TiB2-TiC复合涂层。
对比例
本对比例中制备得到的TiB2-Mo复合涂层制备条件中NaF与AlF3盐的摩尔比为3:1,其他条件以及步骤与实施例2均相同,图8为本对比例制备得到的TiB2-Mo复合涂层SEM图,由图可以看出,本对比例制得的TiB2-Mo复合涂层表面疏松。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,对本发明而言仅仅是说明性的,而非限制性的。本专业技术人员理解,在本发明权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变,修改,甚至等效,但都将落入本发明的保护范围内。

Claims (10)

1.一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:制备含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐
将NaF与AlF3盐、纳米TiB2以及纳米颗粒X按比例混合得混合粉末,球磨,在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末,干燥保温,冷却到常温后即得含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐;
S2:NaF-AlF3熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层
将NaF与AlF3盐,在惰性气体保护的电阻炉中加热熔融,将步骤S1中制得的含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐加入NaF-AlF3熔盐中,形成含TiB2-X纳米复合粉的NaF-AlF3熔盐,稳定后,将石墨和待沉积基体材料***熔盐中,施加电场,电泳沉积后即可得到致密TiB2基复合涂层。
2.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S1中NaF与AlF3盐的摩尔比为1.2~2:1。
3.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S1中纳米颗粒X为Mo、Fe、TiC、ZrO2和TiN中的任意一种,所述纳米TiB2和纳米颗粒X的平均粒径为50~100nm。
4.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S1中TiB2与纳米颗粒X的重量比为3~10:1,纳米TiB2和纳米颗粒X的总重量为NaF与AlF3盐总重量的40~60%。
5.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S1中球磨时磨球和混合粉末的质量比为20~30:1,球磨转速为500~800rpm,球磨时间为5~10h。
6.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S1中干燥在真空下进行,真空度为40Pa,干燥和保温温度为120℃,保温时间为1h。
7.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S2中NaF与AlF3盐的摩尔比为1.2~2:1,熔融的温度为950~1000℃。
8.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S2中含TiB2-X纳米复合粉的NaF-AlF3熔盐中TiB2-X纳米复合粉的含量为20~200g/L。
9.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S2中待沉积基体材料为石墨、不锈钢、金属钼和金属钛中的任意一种。
10.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S2中施加电场的强度为0.3~0.8V/cm,电泳沉积时间为20~120min。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3880729A (en) * 1973-10-18 1975-04-29 United Aircraft Corp Process for electrodepositing titanium diboride from fused salts
WO2011041809A1 (de) * 2009-10-06 2011-04-14 Gerhard Nauer VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON TITANDIBORID (TiB2)-SCHICHTEN AUS SCHMELZELEKTROLYTEN
US20120269218A1 (en) * 2011-04-22 2012-10-25 Lawrence Livermore National Security, Llc Stabilization of green bodies via sacrificial gelling agent during electrophoretic deposition
CN112359395A (zh) * 2020-10-15 2021-02-12 安徽工业大学 一种金属硼化物涂层及其制备方法
CN114277421A (zh) * 2021-12-20 2022-04-05 安徽工业大学 一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3880729A (en) * 1973-10-18 1975-04-29 United Aircraft Corp Process for electrodepositing titanium diboride from fused salts
WO2011041809A1 (de) * 2009-10-06 2011-04-14 Gerhard Nauer VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON TITANDIBORID (TiB2)-SCHICHTEN AUS SCHMELZELEKTROLYTEN
US20120269218A1 (en) * 2011-04-22 2012-10-25 Lawrence Livermore National Security, Llc Stabilization of green bodies via sacrificial gelling agent during electrophoretic deposition
CN112359395A (zh) * 2020-10-15 2021-02-12 安徽工业大学 一种金属硼化物涂层及其制备方法
CN114277421A (zh) * 2021-12-20 2022-04-05 安徽工业大学 一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
李冰等: "在石墨基体上电沉积TiB2镀层的研究", 稀有金属材料与工程, vol. 33, no. 07, pages 764 - 797 *

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