CN115038959A - 荧光x射线分析装置、判断方法和判断程序 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够简便地确认遮蔽入射到检测器的荧光X射线的一部分的机构是否正常安装的荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。一种荧光X射线分析装置具有：X射线源(104)、索勒狭缝(110)、分光元件(112)和检测器(114)，其特征在于，具有：判断用部件(106)，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；视野限制部(108)，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；存储部(122)，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及判断部(120)，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。

Description

荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序

技术领域

本发明涉及荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。

背景技术

一直以来，通过检测从照射了一次X射线的试样产生的荧光X射线，由此进行试样所包含的元素的定性和定量分析的荧光X射线检测装置得到广泛使用。在通常的波长分散型荧光X射线分析装置中，装置内配置有X射线源、索勒狭缝(Soller slits)、分光结晶、检测器、试样等。

在对配置在装置室中的各构成进行维护、校正的情况下，出于安全考虑，需要关闭X射线。X射线的开启、关闭必须分阶段花费时间进行，在开启X射线后，直到装置温度稳定能够进行精度良好的分析，需要相当长的时间。此外，在需要抽真空的情况下，操作进一步变得繁杂。为了减少该时间和工作量，例如在下述专利文献1中，公开了使用X射线的检测数据进行校正的发明点，该检测数据从设置在遮光器上的标准试样得到。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平10-48161号公报

发明内容

发明所要解决的课题

为了限制试样上的测量范围，有时在试样室中配置视野限制机构(例如光阑)，其遮蔽入射至检测器的荧光X射线的一部分。为了限制试样上的测量范围，有时候也使用试样掩膜，但为了除去试样掩膜导致的荧光X射线散射线，期望并用视野限制机构。为了变更试样上的测量范围，有时视野限制机构设置为可拆卸的构成。

虽然也存在具有将视野限制机构进行机械拆卸或更换的机构的荧光X射线分析装置，但由于设置机械拆卸或更换的机构，装置复杂，也花费成本。另一方面，当将视野限制机构设置成能够人为更换的构成时，有时会发生将测量范围不同的视野限制装置错误安装或者安装位置不正确等未正确安装的情况。

此时，无法从装置外部查看是否正确安装，因此需要为了确认而关闭X射线，确认后再次开启X射线等，操作繁杂。此外，即使在具有将视野限制机构进行机械拆卸或更换的机构的情况下，也无法从外部查看是否正确安装。

本发明是鉴于上述课题而完成的，目的在于提供一种能够简单地确认视野限制装置是否正常安装的荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。

用于解决问题的方案

本发明的方案1所述的荧光X射线分析装置具有：X射线源，对试样照射一次X射线；索勒狭缝，使试样产生的荧光X射线作为平行光线通过；分光元件，将通过了所述索勒狭缝的荧光X射线分光；以及检测器，测量被所述分光元件分光的荧光X射线的强度，其特征在于，具有：判断用部件，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；视野限制部，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；存储部，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及判断部，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。

本发明的方案2所述的荧光X射线分析装置的特征在于，在权利要求1所述的荧光X射线分析装置中，所述视野限制部能够设定大小不同的多个开口，所述存储部按照每个所述开口的大小而预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度，所述判断部基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部的开口大小。

本发明的方案3所述的荧光X射线分析装置的特征在于，在本发明的方案1或2所述的荧光X射线分析装置中，每当所述X射线源开始照射一次X射线时，或者在开始对作为分析对象的试样进行测量前，所述判断部进行所述判断。

本发明的方案4所述的荧光X射线分析装置的特征在于，在本发明的方案1至3中任一项所述的荧光X射线分析装置中，在所述判断用部件中，所述元素在一次X射线照射的面上以与所述视野限制部的开口对应的形状固定。

本发明的方案5所述的荧光X射线分析装置的特征在于，在本发明的方案1至4中任一项所述的荧光X射线分析装置中，所述判断用部件为遮蔽对作为分析对象的试样照射的一次X射线的遮光器。

本发明的方案6所述的判断方法的特征在于，具有：在开始测量作为分析对象的试样前，将包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素的判断用构件配置在一次X射线照射的区域的步骤；安装限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线的视野限制部的步骤；在所述视野限制部正常安装的情况下，在存储部中预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度的步骤；以及基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装的步骤。

本发明的方案7所述的判断程序，其特征在于，该判断程序为通过荧光X射线分析装置所使用的信息处理装置执行的判断程序，所述荧光X射线分析装置包括：判断用部件，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；和视野限制部件，其限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线，所述判断程序使所述信息处理装置执行如下步骤：在所述视野限制部正常安装的情况下，在存储部中预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度的步骤；以及基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装的步骤。

发明效果

根据本发明的上述方案1～7，能够简便地确认遮蔽入射到检测器的荧光X射线的一部分的机构是否正常安装。

附图说明

图1是示意性表示本发明的实施方式的荧光X射线分析装置的图。

图2是表示存储部存储的光谱的一例的图。

图3是表示存储部存储的光谱的另一例的图。

图4是表示存储部存储的测量强度的测量方法的流程图。

图5是表示判断方法的流程图。

图6是表示变形例的判断用部件的图。

具体实施方式

以下，按照附图对用于实施本发明的优选实施方式(以下称为实施方式)进行说明。此外，本实施方式将荧光X射线分析装置100为波长分散型荧光X射线分析装置的情况为主要例子进行说明。

图1是表示本发明的实施方式的荧光X射线分析装置100的概况的图。如图1所示，荧光X射线分析装置100划分为试样室101、球管室102和分光室103。荧光X射线分析装置100构成为包括X射线源104、判断用部件106、视野限制部108、索勒狭缝110、分光元件112、检测器114、计数器116和控制部118。在试样室101中配置试样124。在球管室102中配置X射线源104和视野限制部108。在分光室103中配置索勒狭缝110、分光元件112和检测器114。另外，试样124配置在试样架(未图示)上。

X射线源104生成一次X射线，对判断用部件106或作为分析对象的试样124照射。

判断用部件106包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线(以下称为用于判断的荧光X射线)的元素(以下称为用于判断的元素)。具体而言，例如判断用部件106是遮蔽对作为分析对象的试样124照射一次X射线的遮光器。遮光器配置在试样124与X射线源104之间，能够开闭。在进行试样124的分析的情况下遮光器打开，一次X射线照射试样124。另一方面在进行后述的判断的情况下遮光器关闭，一次X射线照射遮光器。

产生规定能量的荧光X射线的元素，只要是能够适用于后述的判断的元素，可任意设定。在判断用部件106为遮光器的情况下，生成规定能量的荧光X射线的元素优选为不使X射线透过的元素。优选的元素为例如钨、铅，钨、铅是通常遮光器所包含的元素。

此外，本实施方式的遮光器也作为分隔试样室101和球管室102的遮光器发挥功能。在遮光器关闭的状态下，气体不会在试样室101与球管室102之间移动。由此，在分析某试样124之后，在不更换视野限制部108而仅更换试样进行分析的情况下，能够维持球管室102和分光室103真空状态，继续进行分析。另外，对试样124遮蔽一次X射线的照射的遮光器、以及分隔试样室101与球管室102的遮光器可以分别设置。

另外，判断用部件106不限于遮光器，配置在一次X射线照射、产生的荧光X射线出射至视野限制部108的位置即可。通过使用预先配置在试料室101或球管室102中的部件，能够简化荧光X射线分析装置100的构成。

视野限制部108为可拆卸的构成，限制产生的荧光X射线中的入射检测器114的荧光X射线。具体而言，例如视野限制部108为具有荧光X射线通过的开口的光阑。

此外，视野限制部108能够设定大小不同的多个开口。例如，视野限制部108可以是开口直径为30mm、20mm和10mm的3种光阑。在此情况下，开口直径为30mm的光阑固定在球管室102的内部。开口直径为20mm和10mm的光阑可拆卸，以覆盖开口直径为30mm的光阑的开口的方式安装。从判断用部件106、试样124出射的荧光X射线的一部分通过光阑的开口，经索勒狭缝110等到达检测器114。另一方面，另一部分被光阑遮蔽，不到达检测器114。因此，视野限制部108具有限制从检测器114看到的视野的功能。

索勒狭缝110使试样124产生的荧光X射线作为平行光线通过。具体而言，索勒狭缝110是平板平行排列构成的，在通过了控制部118的开口的荧光X射线中，仅使与该平板平行的荧光X射线通过。

分光元件112将通过了索勒狭缝110的荧光X射线分光。具体而言，例如在试样124、判断用部件106产生并通过了索勒狭缝110的多个波长的荧光X射线中，分光元件112将满足布拉格条件表达式的特定波长的荧光X射线分光。

检测器114测量分光元件112分光的荧光X射线的强度。检测器114和分光元件112通过未图示的扫描机构驱动。例如，扫描机构为测角仪。扫描机构变更荧光X射线入射到分光元件112的入射角度，并沿分光了的荧光X射线出射的方向扫描检测器114。检测器114在包括峰角度的角度范围内测量荧光X射线的强度，该蜂角度是观测到用于判断的荧光X射线的峰的角度。检测器114为例如已知的比例计数器、闪烁计数器等。

计数器116根据峰值，计数作为检测器114的测量强度输出的脉冲信号，作为荧光X射线强度输出至控制部118。

控制部118控制配置在试样室101、球管室102和分光室103的各构成的动作，并且进行视野限制部108是否正常安装的判断。控制部118例如是用于荧光X射线分析装置100的信息处理装置，例如是个人电脑。控制部118在功能上包括存储部122和判断部120。

存储部122在视野限制部108正常安装的情况下预先存储判断用部件106产生的规定能量的荧光X射线的强度。具体而言，存储部122是个人电脑所包括的HDD、SSD。存储部122预先存储在视野限制部108正常安装的状态下测量的、用于判断的荧光X射线的强度。在使用开口直径为30mm、20mm和10mm的3种光阑的情况下，存储部122按照每个开口的直径而预先存储判断用部件106产生的规定能量的荧光X射线的强度。存储部122例如存储表1所示的荧光X射线的强度与基准值的比率。

【表1】

另外，表1所示的各测量强度是在用于判断的元素为遮光器所包含的钨的情况下，4秒测量的W-Lα射线的峰强度。此外，在表1中，将开口直径为30mm的情况下的测量强度作为基准值。

理论标准偏差根据各测量强度和测量时间算出。具体而言，例如理论标准偏差使用方程式1算出。另外，在方程式1中，I为测量强度(kcps)，t为测量时间。

【方程式1】

存储部122可以存储图2所示的光谱代替表1。图2是在W-Lα射线表示的2θ角度前后测量的光谱。存储部122可以不存储表1所示的峰角度，而是存储光谱和根据光谱得到的总强度或净强度。此外，在将用于判断的荧光X射线设为W-Mα射线的情况下，存储部122可以存储图3所示的光谱。

对于存储部122存储的测量强度的测量方法，使用图4所示的流程进行说明。首先，确定作为基准值使用的开口的直径(S402)。例如，确定将使用直径为30mm的开口测量的荧光X射线的强度作为基准值使用。

接着，将确定了直径开口的视野限制部108正常安装在球管室102中(S404)。具体而言，将具有直径为30mm的开口的光阑安装在球管室102中。在S404步骤中，光阑正常安装。

接着，关闭遮光器后，将X射线源104的电源设为打开(S406)。在S406步骤中，为通过荧光X射线分析装置100测量而进行准备。具体而言，进行将试样室101、球管室102和分光室103的内部抽真空、X射线源104的陈化。另外，在大气环境下进行分析的情况下，不进行抽真空。此外，在He环境下进行分析的情况下，在试样室101、球管室102和分光室103的内部为真空的状态下，在球管室102和分光室103中导入He。此外，可以在将试样室101、球管室102和分光室103抽真空的同时，进行向球管室102和分光室103中导入He。

接着，测量荧光X射线的强度(S408)。具体而言，例如在关闭的遮光器上照射一次X射线，遮光器所包含的钨产生荧光X射线。产生的荧光X射线的一部分通过视野限制部108的30mm开口，另一部分被视野限制部108遮蔽。通过开口的荧光X射线通过索勒狭缝110，W-Lα射线被分光元件112分光。分光的W-Lα射线入射检测器114，计数器116和控制部118基于检测器114的输出算出测量强度。测量后，X射线源104的电源被关闭。

接着，存储部122将测量的荧光X射线强度与开口直径关联，进行存储(S410)。具体而言，如上述表1，与30mm开口直径关联，存储119.21kcps的强度。此外，作为基准值使用的开口直径为30mm，因此与该强度进行关联，存储1.0的比率。

接着，在有其他直径开口的情况下(S412的“是”)，变更开口直径(S414)，在球管室102的内部安装具有该直径开口的视野限制部108。例如，将具有直径为20mm的开口的光阑安装在球管室102中。另外，在球管室102被抽真空的情况下，从S414到S404的步骤，球管室102向大气敞开。在该步骤中，光阑正常安装。

S404至S412的步骤对所有开口的光阑重复执行，直到荧光X射线的强度测量完成。由此，表1所包括的、与20mm和10mm开口直径关联起来的荧光X射线的强度和比率存储在存储部122中。

接着，在没有其他直径开口的情况下(S412的“否”)，存储部122存储的测量强度的测量流程结束。另外，可以在S412之后算出与各强度比率对应的标准理论偏差σ，存储在存储部122中。

判断部120基于存储部122存储的强度和检测器114测量的强度，判断视野限制部108是否正常安装。具体而言，判断部120每当X射线源104开始照射X射线，或者在开始测量作为分析对象的试样124之前，进行上述判断。使用图5的流程对判断部120进行的判断进行说明。

首先，关闭遮光器，将X射线源104的电源设为开启(S502)。具体而言，在安装了哪个视野限制部108不明的状态下，为了测量荧光X射线而进行准备。该步骤与S406等同。另外，有时不知道之前使用了荧光X射线分析装置100的其他用户安装了哪个视野限制装置108，或者是否正常安装。因此，在该步骤中，假设不知道安装了哪种视野限制部108以及是否正常安装。

接着，测量荧光X射线的强度(S504)。该步骤与S408相同。

接着，判断部120根据存储部122存储的强度，参考与测量强度最接近的强度(S506)。具体而言，例如在S504中测量的荧光X射线强度为119.35kcps的情况下，作为表1的测量强度中与该强度最接近的强度，参考119.21kcps这一强度。

接着，判断部120基于存储部122存储的强度和检测器114测量的强度进行判断(S508)。具体而言，例如判断部120将S504中测量的119.35kcps强度与参考的119.21kcps测量强度进行比较。在比较的强度的差值为预先设定的阈值以下的情况下，判断部120判断与参考的强度对应的开口直径的视野限制部108正常安装。例如，在比较的强度的差值为理论标准偏差σ的3倍以下的情况下，判断部120判断正常安装。在上述例子中，119.35kcps与119.21kcps的差值小于0.17理论标准偏差σ的3倍。因此，判断部120判断直径为30mm的开口的视野限制部108正常安装。

完成S502至S508的步骤，判断视野限制部108正常安装后，进行作为分析对象的试样124的分析。由此，能够防止在视野限制部108未正常安装的状态下执行作为分析对象的试样124的分析。此外，S504至S508的步骤可以每当更换作为分析对象的试样124时执行。

另外，判断部120可以基于比较的强度的比率进行上述判断。例如，可以是在比较的强度的比率为预先设定的阈值(误差3％)以下的情况下，判断部120判断与参考的强度对应的开口直径的视野限制部108正常安装。

为了确认视野限制部108的开口的直径，确认视野限制部108是否正常安装而关闭X射线源104，确认后再开启X射线源104，这样做很繁杂。X射线源104的开启关闭需要逐步分阶段进行管电压、管电流的控制，需要时间。此外，X射线源104也是发热源，因此为了稳定装置内的温度，进行精度良好的测量，开启X射线源104之后，需要长时间的陈化。荧光X射线分析装置100大多保持在球管室102、分光室103的内部保持真空的状态。因此，在确认视野限制部108是否正常安装的情况下，需要将球管室102、分光室103在大气中敞开，再使其处于真空状态，该作业繁杂而消耗时间。根据以上的方法，不花费X射线源104的关闭、开启、陈化、抽真空等繁杂的作业，不花费时间，能够容易地判断视野限制部108是否正常安装。

〔变形例〕

以下对变形例进行说明。在本变形例中，在判断用部件106中，规定的元素在一次X射线照射的面上以视野限制部108的开口所对应的形状固定。具体而言，例如变形例中的判断用部件106是用规定的涂料涂布成图6所示的图形的遮光器。

规定的元素与上述实施方式同样地，只要是能够用于判断的元素即可任意选择，但优选避开判断用部件106原本包含的元素、作为分析对象的频率高的元素进行选择。

图6所示的例子中，在遮光器的将要照射一次X射线的面上，用规定的涂料涂布成视野限制部108的开口对应的形状。在视野限制部108正常安装的情况下，图形沿着产生的荧光X射线被检测器114检测的区域的轮廓绘制。即，在开口直径10mm、20mm和30mm的光阑正常安装的情况下，产生的荧光X射线中，检测器114检测的荧光X射线产生的范围的轮廓与各直径对应，进行绘制。

在图6所示的图形中，最小的圆602对应开口直径为10mm的光阑。中间大小的圆604对应开口直径为20mm的光阑。最大的圆606对应开口直径为30mm的光阑。

通过涂布包含规定元素的涂料，绘制图6所示的图形。该规定元素产生特有的荧光X射线(用于判断的荧光X射线)，开口直径所对应的强度的荧光X射线被检测器114测量。具体而言，在安装了具有直径为10mm的开口的光阑的情况下，检测器114仅能检测到绘制图6所示最小圆602的涂料所包含的元素产生的荧光X射线。在安装了具有直径为20mm的开口的光阑的情况下，检测器114检测到绘制图6所示最小圆602和中间的圆604的涂料所包含的元素产生的荧光X射线。进而，在安装了具有直径为30mm的开口的光阑的情况下，检测器114检测到绘制图6所示的所有圆的涂料所包含的元素产生的荧光X射线。

因此，当安装开口直径不同的光阑时，根据该直径，测量不同荧光X射线的强度。该荧光X射线是涂料所包含的规定的元素固有的荧光X射线，与上述实施方式同样地，是用于判断的荧光X射线。在视野限制部108未正确安装的情况下，以偏离图6所示的圆的中心的位置为中心的区域产生荧光X射线，被检测器检测。即，在视野限制部108未正确安装的情况和视野限制部108正确安装的情况下，涂料包含的上述元素固有的荧光X射线的强度不同。因此，通过与图4所示的流程同样地，通过测量、存储该荧光X射线的强度，进行图5所示的流程，即使在变形例中，也能够判断视野限制部108是否正常安装。

本发明不限定于上述的实施例，能够进行各种变形。上述荧光X射线分析装置100的构成为一个例子，并不限定于此。可以替换为与上述实施例所示的构成实质相同的构成，发挥相同作用效果的构成或实现相同目的的构成。

例如，判断用部件106可以是转台(Turret)。具体而言，荧光X射线分析装置100可以是试样室101中具有配置了试样架的多个孔的转台。转台包含用于判断的元素而形成。在此情况下，在S408和S504步骤中，在遮光器打开的状态下对转台照射一次X射线。然后，通过使用转台产生的用于判断的荧光X射线，能够进行与上述同样的判断。

进而，判断用部件106可以是校正用试样。具体而言，例如判断用部件可以是配置在上述转台中设置的多个孔的一个中的试样，是包含用于判断的元素的校正用的试样。与上述同样地，在S408和S504步骤中，在遮光器打开的状态下对校正用试样照射一次X射线。然后，通过使用校正用试样产生的用于判断的荧光X射线，能够进行与上述同样的判断。校正用试样可以与用于校正荧光X射线分析装置100所包含的其他构成的试样共用。

此外，在上述实施方式中，对使用具有3种开口大小的光阑的情况进行了说明，但不限定于此。开口大小的种类可以是1种、2种或4种以上。在开口大小的种类为1种的情况下，判断部120不判断是否安装了某个开口大小的光阑，而是仅判断是否正常安装。

此外，对通过包含规定的元素的涂料涂布来绘制图6所示的圆形的图形的情况进行了说明，但并不限定于此。例如，图形的形状可以是椭圆形、矩形。此外，图6所示的图形可以通过蒸镀、喷溅绘制，也可以通过嵌入包含用于判断的元素的材料来绘制。

标记说明

100 荧光X射线分析装置

101 试样室

102 球管室

103 分光室

104 X射线源

106 判断用部件

108 视野限制部

110 索勒狭缝

112 分光元件

114 检测器

116 计数器

118 控制部

120 判断部

122 存储部

124 试样

602 10mm对应的图形

604 20mm对应的图形

606 30mm对应的图形

Claims (7)

1.一种荧光X射线分析装置，具有：

X射线源，对试样照射一次X射线；

索勒狭缝，使试样产生的荧光X射线作为平行光线通过；

分光元件，将通过了所述索勒狭缝的荧光X射线分光；以及

检测器，测量被所述分光元件分光的荧光X射线的强度，

其特征在于，具有：

判断用部件，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；

视野限制部，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；

存储部，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及

判断部，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。

2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

所述视野限制部能够设定大小不同的多个开口，

所述存储部按照每个所述开口的大小而预先存储所述判断用部件产生的所述预定能量的荧光X射线的强度，

所述判断部基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部的开口大小。

3.根据权利要求1或2所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

每当所述X射线源开始照射一次X射线时，或者在开始对作为分析对象的试样进行测量前，所述判断部进行所述判断。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

在所述判断用部件中，所述元素在一次X射线照射的面上以与所述视野限制部的开口对应的形状固定。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

所述判断用部件为遮蔽对作为分析对象的试样照射的一次X射线的遮光器。

6.一种判断方法，其特征在于，包括如下步骤：

在开始测量作为分析对象的试样前，将包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素的判断用构件配置在一次X射线照射的区域的步骤；

安装限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到检测器的荧光X射线的视野限制部的步骤；

在所述视野限制部正常安装的情况下，在存储部中预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度的步骤；以及

基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装的步骤。

7.一种判断程序，其特征在于，

该判断程序为通过荧光X射线分析装置所使用的信息处理装置执行的判断程序，所述荧光X射线分析装置包括：判断用部件，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；和视野限制部件，其限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线，

所述判断程序使所述信息处理装置执行如下步骤：

在所述视野限制部正常安装的情况下，在存储部中预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度的步骤；以及

基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装的步骤。

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