CN114805899A - 一种防雾hud膜的制备方法 - Google Patents
一种防雾hud膜的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114805899A CN114805899A CN202210319128.9A CN202210319128A CN114805899A CN 114805899 A CN114805899 A CN 114805899A CN 202210319128 A CN202210319128 A CN 202210319128A CN 114805899 A CN114805899 A CN 114805899A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- parts
- film
- fog
- hud
- sol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 53
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims abstract description 40
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 12
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 72
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 60
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 36
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 24
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 24
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims description 24
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 24
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 14
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 12
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 11
- LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N aminoethylethanolamine Chemical compound NCCNCCO LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 124
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 15
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 abstract description 6
- 230000032683 aging Effects 0.000 abstract description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 5
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/06—Coating with compositions not containing macromolecular substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
- C09D7/62—Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2369/00—Characterised by the use of polycarbonates; Derivatives of polycarbonates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明提供了一种防雾HUD膜的制备方法,步骤如下:对聚碳酸酯基片进行初步清洗;等离子体处理;打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜②沉积SiO2膜;将制备好的中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,固化,取出冷却至室温得中间层膜;将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,固化,获得防雾层膜;冷却至室温,即得防雾HUD膜。本发明针对目前大多数HUD膜不具备防雾功能,提供一种防雾HUD膜的制备方法,制备的HUD膜的基本性能佳(耐盐雾性、耐冷热冲击性、耐低温性、耐高温性、耐紫外老化性、耐摩擦性),防雾性能好,在80℃下进行耐蒸汽暴露测试80h无变化。
Description
技术领域
本发明涉及抬头显示膜材料领域,具体涉及一种防雾HUD膜的制备方法。
背景技术
HUD(head up display)抬头显示器,最早是应用于飞机上的辅助仪器,通过参数的集中透射,驾驶员可以不需要低头查看仪器就能掌握载具的大部分驾驶信息,目前这项技术也被引入汽车,尽管在过去一段时间发展相对缓慢,但是克服了成本和规模等障碍,HUD又重新回到人们的视野,随着AR技术的出现,HUD的优势也越来越明显。HUD的工作原理就是投影-将汽车道路信息投影到驾驶员前方,这样就不需要频繁低头看仪表盘,提高驾驶的安全性和便捷性,同时提升汽车的科技感。同时,由于驾驶信息是投射到前挡风玻璃上,显示的背景是外界环境,由于温度等变化,非常容易起雾,目前一般可利用空调、电加热等进行防雾,但此方法必须借助外界条件,目前还没有本身具有防雾效果的HUD膜。
发明内容
要解决的技术问题:本发明针对目前大多数HUD膜不具备防雾功能,而大部分情况下起雾都是无法避免的,因此,本发明提供一种防雾HUD膜的制备方法,制备的HUD膜的基本性能佳(耐盐雾性、耐冷热冲击性、耐低温性、耐高温性、耐紫外老化性、耐摩擦性),防雾性能好,在80℃下进行耐蒸汽暴露测试80h无变化。
技术方案:一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口2-5mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理10-15min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;(4)制备中间层溶胶;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得防雾HUD膜。
优选的,所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入4.5-6.5份聚山梨糖醇环氧树脂、1.5-3份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得。
优选的,所述中间层膜厚为3-5μm。
优选的,所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取45-65份混合溶剂,加入20-30份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入6-12份固化剂,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶。
优选的,所述混合溶剂为无水乙醇和甲基乙基酮的混合物,无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1。
优选的,所述固化剂为聚氧化烯三胺、羟乙基乙二胺或5wt%酸酐溶液中的一种。
优选的,所述防雾层膜厚度为10-17μm。
有益效果:
1.本发明采用等离子体对聚碳酸酯基片进行处理,能够去除聚碳酸酯基片表面的有机物等污渍,并使聚碳酸酯基片表面获得优异的亲水性,以增强后期膜层与聚碳酸酯基片的结合力;
2.本发明中防雾层中环氧树脂环氧基团数与固化剂交联反应后形成的三维网络结构,形成吸水空间,形成防雾效果;
3.本发明中设置的中间层膜主要作用为:一方面与沉积Ti3O5膜的聚碳酸酯基片具有良好的结合性,另一方面中间层膜具有较低的吸水性使防雾层吸水量较大时具有一定的缓冲作用,不至于和基片表面发生剥离。
4.本发明的基本性能佳(耐盐雾性、耐冷热冲击性、耐低温性、耐高温性、耐紫外老化性、耐摩擦性),防雾性能好,在80℃下进行耐蒸汽暴露测试80h无变化。
具体实施方式
实施例1
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口2mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理10min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入4.5份聚山梨糖醇环氧树脂、1.5份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为3μm的中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取45份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入20份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入6份聚氧化烯三胺,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为10μm的防雾HUD膜。
实施例2
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口3mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理11min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入5份聚山梨糖醇环氧树脂、2份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为3μm的中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取50份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入20份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入7份聚氧化烯三胺,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为11μm的防雾HUD膜。
实施例3
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口3mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理12min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入5.5份聚山梨糖醇环氧树脂、2份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为4μm的中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取55份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入25份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入8份羟乙基乙二胺,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为12μm的防雾HUD膜。
实施例4
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口4mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理13min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入5.5份聚山梨糖醇环氧树脂、2.5份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为4μm的中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取55份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入25份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入9份羟乙基乙二胺,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为13μm的防雾HUD膜。
实施例5
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口4mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理13min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入6份聚山梨糖醇环氧树脂、2份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为4μm的中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取60份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入25份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入10份羟乙基乙二胺,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为14μm的防雾HUD膜。
实施例6
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口4mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理13min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入6份聚山梨糖醇环氧树脂、2.5份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为4μm的中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取60份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入25份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入11份羟乙基乙二胺,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为15μm的防雾HUD膜。
实施例7
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口5mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理14min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入6份聚山梨糖醇环氧树脂、2.5份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为4μm的中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取60份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入30份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入11份5wt%酸酐溶液,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为16μm的防雾HUD膜。
实施例8
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口5mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理15min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入6.5份聚山梨糖醇环氧树脂、3份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为5μm的中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取65份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入30份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入12份5wt%酸酐溶液,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为17μm的防雾HUD膜。
对比例1
本实施例与实施例8之间的区别在于不做等离子体清洗,具体的:
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(3)制备中间层溶胶;所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入6.5份聚山梨糖醇环氧树脂、3份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得;
(4)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得膜厚为5μm的中间层膜;
(5)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取65份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入30份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入12份5wt%酸酐溶液,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(6)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(7)冷却至室温,即得膜厚度为17μm的防雾HUD膜。
对比例2
本实施例与实施例8之间的区别在于不涂覆中间层膜,具体的:
一种防雾HUD膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口5mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理15min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备防雾层溶胶;所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取65份无水乙醇和甲基乙基酮的混合物(无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1),加入30份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入12份5wt%酸酐溶液,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶;
(5)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得膜厚度为17μm的防雾HUD膜。
盐雾测试:无包装的条件下,在质量浓度为4.9%~5.1%,温度35℃的盐雾环境中200h测试。
冷热冲击测试:无包装条件下,将样品放入冷热冲击试验箱,条件为-40℃~105℃,每30min转换一次,转换时间小于30s,1200h测试。
低温实验:无包装的情况下,在-40℃的低温中保持1500h测试。
高温实验:无包装的条件下,在115℃的高温中保持1500h测试。
紫外老化实验:在SAEJ 2527(氙灯老化),照射下,3000h测试。
摩擦测试:将样品在摩擦实验机中固定好,采用橡皮摩擦,压力为9.8N(1kg),往返25周期(摩擦50次)测试。
表1不同实施例的基本性能
雾度是指偏离入射光2.5°角以上的透射光强占总透射光强的百分数。本发明采用雾度仪进行测试,测试参照国标GB5137.1-2008进行。
耐蒸汽暴露测试:在80℃下进行耐蒸汽暴露测试80h。
表2不同实施例的防雾性能
Claims (7)
1.一种防雾HUD膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)对聚碳酸酯基片进行初步清洗,清除掉表面的颗粒等杂质,干燥;
(2)放入真空室,调节等离子体功率为800w,聚碳酸酯基片表面距离等离子发生器喷枪口2-5mm的距离,以3cm/s的速度对冲洗过的聚碳酸酯基片表面进行等离子处理10-15min;
(3)打开射频离子源开始成膜,①沉积Ti3O5膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O2100mL/min、Ar 5mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;②沉积SiO2膜离子源的工艺参数为:电压500V、电流500mA;离子源气体为O250mL/min;中和气体为Ar 8mL/min;
(4)制备中间层溶胶;
(5)将中间层溶胶均匀地旋涂在抛光处理后所得洁净的玻璃基板表面上,在温度100℃的烘箱中固化1h后,取出冷却至室温得中间层膜;
(6)制备防雾层溶胶;
(7)将制备好的防雾层溶胶旋涂至该涂有中间层膜的表面,置于90℃烘箱中固化2h,获得防雾层膜;
(8)冷却至室温,即得防雾HUD膜。
2.根据权利要求1所述的一种防雾HUD膜的制备方法,其特征在于:所述中间层溶胶的制备方法为取90份双丙酮醇作为有机溶剂,边搅拌边依次加入4.5-6.5份聚山梨糖醇环氧树脂、1.5-3份硝酸、1份KH560和1.5份咪唑,室温下搅拌1h后,即得。
3.根据权利要求1所述的一种防雾HUD膜的制备方法,其特征在于:所述中间层膜厚为3-5μm。
4.根据权利要求1所述的一种防雾HUD膜的制备方法,其特征在于:所述防雾层溶胶(以重量份计)的制备方法为:取45-65份混合溶剂,加入20-30份环氧树脂,搅拌30min使溶液充分混合,依次加入1.3份有机硅溶胶、2.1份2-甲基咪唑和8份KH-560,搅拌30min使溶液充分混合,逐滴加入6-12份固化剂,搅拌150min使其充分反应后,即得防雾层溶胶。
5.根据权利要求4所述的一种防雾HUD膜的制备方法,其特征在于:所述混合溶剂为无水乙醇和甲基乙基酮的混合物,无水乙醇和甲基乙基酮的质量比为0.85:1。
6.根据权利要求4所述的一种防雾HUD膜的制备方法,其特征在于:所述固化剂为聚氧化烯三胺、羟乙基乙二胺或5wt%酸酐溶液中的一种。
7.根据权利要求1所述的一种防雾HUD膜的制备方法,其特征在于:所述防雾层膜厚度为10-17μm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210319128.9A CN114805899A (zh) | 2022-03-29 | 2022-03-29 | 一种防雾hud膜的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210319128.9A CN114805899A (zh) | 2022-03-29 | 2022-03-29 | 一种防雾hud膜的制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114805899A true CN114805899A (zh) | 2022-07-29 |
Family
ID=82529924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210319128.9A Pending CN114805899A (zh) | 2022-03-29 | 2022-03-29 | 一种防雾hud膜的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114805899A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115466599A (zh) * | 2022-09-13 | 2022-12-13 | 中科融志国际科技(北京)有限公司 | 透明防冰涂层以及风机叶片 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060238870A1 (en) * | 2005-04-26 | 2006-10-26 | Brian Sneek | Gauge lens with embedded anti-fog film and method of making the same |
CN103979804A (zh) * | 2014-05-15 | 2014-08-13 | 奇瑞汽车股份有限公司 | 一种汽车玻璃用疏水耐磨膜层的制备方法 |
-
2022
- 2022-03-29 CN CN202210319128.9A patent/CN114805899A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060238870A1 (en) * | 2005-04-26 | 2006-10-26 | Brian Sneek | Gauge lens with embedded anti-fog film and method of making the same |
CN103979804A (zh) * | 2014-05-15 | 2014-08-13 | 奇瑞汽车股份有限公司 | 一种汽车玻璃用疏水耐磨膜层的制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
刘冬梅等: "车载抬头显示光学***塑料元件反射膜的研制" * |
贾迎辉: "玻璃表面功能性涂层材料的制备与表征" * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115466599A (zh) * | 2022-09-13 | 2022-12-13 | 中科融志国际科技(北京)有限公司 | 透明防冰涂层以及风机叶片 |
CN115466599B (zh) * | 2022-09-13 | 2024-03-12 | 中科融志国际科技(北京)有限公司 | 透明防冰涂层以及风机叶片 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100501532C (zh) | 液晶定向剂、液晶定向膜以及液晶显示元件 | |
EP2985301A1 (en) | Copolymer and hydrophilic material comprising same | |
JP6239086B2 (ja) | 共重合体または組成物からなる膜 | |
TW201431986A (zh) | 塗料組合物、其製備方法及其用途 | |
CN1429865A (zh) | 混杂膜、包括该混杂膜的防反射膜、光学产品和恢复该混杂膜的除雾性能的方法 | |
CN114805899A (zh) | 一种防雾hud膜的制备方法 | |
JP2017072624A (ja) | 防眩膜付き物品、その製造方法および画像表示装置 | |
CN106519741A (zh) | 硅锆复合超亲水耐磨涂料 | |
CN111718205B (zh) | 一种多孔透波材料超疏水封孔层及其制备方法 | |
WO2017029735A1 (ja) | 防眩膜付き物品、その製造方法および画像表示装置 | |
US20120305071A1 (en) | Substrate having a metal film for producing photovoltaic cells | |
CN114957524A (zh) | 一种透明超亲水抗雾涂层用聚合物及其制备方法 | |
CN108724857A (zh) | 一种控温防雾玻璃的制备方法 | |
JPH08319109A (ja) | 無機質組成物及び積層体の製造方法 | |
CN112794649B (zh) | 一种防雾薄膜及其制备方法 | |
TWI846563B (zh) | 一種親水塗層、製備方法及器件 | |
CN116496653B (zh) | 一种含紫外线吸收剂接枝纳米二氧化硅防雾液的制备方法 | |
JPH091064A (ja) | 積層体の製造方法 | |
KR100738462B1 (ko) | 자동차용 글레이징 제조방법 | |
WO2024034668A1 (ja) | 表面処理剤 | |
CN106590240A (zh) | 一种玻璃上使用的透明隔热水性涂料的制备方法 | |
CN117887314A (zh) | 一种抗刮擦、防雾汽车后视镜及其制备方法 | |
JPH08319110A (ja) | 無機質縮合組成物の製造方法、安定性無機質縮合組成物及び積層体の製造方法 | |
CN117625020A (zh) | 一种亲水涂层、制备方法及器件 | |
WO2020031642A1 (ja) | 組成物及び塗膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20220729 |