CN112823143A - 无碱玻璃板 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 115
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 15
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 26
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N Arsenious Acid Chemical compound O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 11
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Inorganic materials O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N tetraantimony hexaoxide Chemical compound O1[Sb](O2)O[Sb]3O[Sb]1O[Sb]2O3 YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910017976 MgO 4 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 11
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 3
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052661 anorthite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N dialuminum;calcium;disilicate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[Ca+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001631 strontium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L strontium dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sr+2] AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/361—Temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
本发明的无碱玻璃板的特征在于，玻璃组成中的Li2O+Na2O+K2O的含量为0～0.5mol％，所述无碱玻璃板的杨氏模量为78GPa以上，应变点为680℃以上，液相温度为1450℃以下。
Description
技术领域
本发明涉及无碱玻璃板，特别是涉及适合有机EL显示器的无碱玻璃板。
背景技术
有机EL显示器等电子器件为薄型且动画显示优异，并且消耗电力也低，因此，被用于柔性器件、便携电话的显示器等用途。
作为有机EL显示器的基板，广泛使用了玻璃板。该用途的玻璃板主要要求以下特性。
(1)为了防止碱离子在热处理工序中扩散到经成膜而成的半导体物质中的情形，要求基本不含碱金属氧化物，也就是说，为无碱玻璃(玻璃组成中的碱氧化物的含量为0.5mol％以下)；
(2)为了使玻璃板低廉化，要求生产率优异，特别是熔融性、耐失透性优异；
(3)为了在LTPS(低温多晶硅(low temperature poly silicon))工艺中减少玻璃板的热收缩，要求应变点高。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2012-106919号公报
发明内容
发明所要解决的课题
另外，有机EL器件也广泛地应用于有机EL电视中。有机EL电视的面板尺寸比移动制品大得多。预测今后对玻璃板的大型化、薄型化的要求会增强。玻璃板越大型化、薄型化，玻璃板变得越容易挠曲，变得越容易产生各种不良状况。
由玻璃制造商进行成形而得的玻璃板经由切割、退火、检查、清洗等工序，在这些工序中，玻璃板被投入到形成有多段搁板的盒子中并从盒子中搬出。对于该盒子而言，通常在形成于左右的内侧面的搁板上载置玻璃板的相对的两边，以使得能够在水平方向上保持玻璃板，但大型且薄的玻璃板的挠曲量大，因此在将玻璃板投入到盒子中时，玻璃板的一部分与盒子接触而破损，或者在搬出时大幅度摇动而容易变得不稳定。电子器件制造商也使用这种形态的盒子，因此会产生同样的不良状况。
此外，有机EL器件越大型化、薄型化，则玻璃板变得越容易挠曲，因此，有机EL电视的图像画面有可能看起来变形。
为了解决该问题，提高玻璃板的杨氏模量、减少挠曲量的方法是有效的。
另外，如上所述，为了在LTPS工艺中减少玻璃板的热收缩，需要提高玻璃板的应变点。
但是，若要提高玻璃板的杨氏模量和应变点，则容易变得玻璃组成失衡，熔融性、耐失透性降低，玻璃板的生产率降低。其结果，玻璃板的原板成本高涨。
因此，本发明是鉴于上述情况而发明的，其技术课题在于，提供生产率优异且应变点和杨氏模量足够高的无碱玻璃板。
用于解决课题的手段
本申请的发明人反复进行了各种实验，结果发现，通过严格地限制无碱玻璃板的玻璃特性，从而能够解决上述技术课题，作为本发明而提出。即，本发明的无碱玻璃板的特征在于，玻璃组成中的Li2O+Na2O+K2O的含量为0～0.5mol％，所述无碱玻璃板的杨氏模量为78GPa以上，应变点为680℃以上，液相温度为1450℃以下。此处，“Li2O+Na2O+K2O”是指Li2O、Na2O及K2O的合计量。“杨氏模量”是指通过弯曲共振法进行测定而得的值。需要说明的是，1GPa相当于约101.9Kgf/mm2。“应变点”是指基于ASTM C336的方法进行测定而得的值。“液相温度”是指将通过标准筛30目(500μm)且残存于50目(300μm)的玻璃粉末放入到铂舟中并在温度梯度炉中保持24小时后晶体析出的温度。
另外，本发明的无碱玻璃板优选作为玻璃组成以mol％计含有SiO258～68％、Al2O311～18％、B2O31.5～6％、Li2O+Na2O+K2O 0～0.5％、MgO 4～10％、CaO 2～10％、SrO+BaO 2～13％。此处，“SrO+BaO”是指SrO+BaO的合计量。
另外，本发明的无碱玻璃板优选作为玻璃组成以mol％计含有SiO258～67％、Al2O311～18％、B2O31.5～6％、Li2O+Na2O+K2O0～0.5％、MgO 4～10％、CaO 2～10％、SrO1.5～8％、BaO 1.5～8％，且实质上不含As2O3、Sb2O3。此处，“实质上不含As2O3、Sb2O3”是指玻璃组成中的As2O3、Sb2O3的含量分别低于0.05％的情况。
另外，本发明的无碱玻璃板优选还包含SnO20.001～1mol％。
另外，本发明的无碱玻璃板优选应变点为690℃以上。
另外，本发明的无碱玻璃板优选杨氏模量高于80GPa。
另外，本发明的无碱玻璃板优选30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数为30×10-7～50×10-7/℃。此处，“30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数”可以利用膨胀计进行测定。
另外，本发明的无碱玻璃板优选液相粘度为104.5dPa·s以上。此处，“液相粘度”是指液相温度下的玻璃的粘度，可以利用铂球提拉法进行测定。
另外，本发明的无碱玻璃板优选用于有机EL器件。
具体实施方式
本发明的无碱玻璃板优选作为玻璃组成以mol％计含有SiO258～72％、Al2O311～18％、B2O31.5～6％、Li2O+Na2O+K2O0～0.5％、MgO 0～10％、CaO 0～10％、SrO 0～8％、BaO0～8％，进一步优选含有SiO258～68％、Al2O311～18％、B2O31.5～6％、Li2O+Na2O+K2O0～0.5％、MgO 4～10％、CaO 2～10％、SrO+BaO 2～13％，特别是进一步优选含有SiO258～67％、Al2O311～18％、B2O31.5～6％、Li2O+Na2O+K2O0～0.5％、MgO 4～10％、CaO 2～10％、SrO 1.5～8％、BaO1.5～8％，且实质上不含As2O3、Sb2O3。如上所述地限定各成分的含量的理由示于以下。需要说明的是，在各成分的含量的说明中，除了有特别说明的情况以外，％表达表示mol％。
SiO2为形成玻璃的骨架的成分。若SiO2的含量过少，则热膨胀系数变高，密度增加。由此，SiO2的下限量优选为58％，进一步优选为59％，进一步优选为60％，进一步优选为61％，进一步优选为62％，进一步优选为63％，最优选为64％。另一方面，若SiO2的含量过多，则杨氏模量降低，此外高温粘度变高，熔融时所需的热量变多，熔融成本高涨，并且有可能发生因SiO2原料的未熔化所导致的不良，成为良品率降低的原因。另外，变得容易析出方石英等失透结晶，液相粘度变得容易降低。由此，SiO2的上限量优选为72％，进一步优选为71％，进一步优选为70％，进一步优选为69.5％，进一步优选为69％，进一步优选为68％，最优选为67％。
Al2O3为形成玻璃的骨架的成分，另外，为提高杨氏模量的成分，还是使应变点上升的成分。若Al2O3的含量过少，则杨氏模量变得容易降低，另外，应变点变得容易降低。由此，Al2O3的下限量优选为11％，更优选为11.2％，更优选为11.4％，进一步优选为11.6％，进一步优选为11.8％，最优选为12％。另一方面，若Al2O3的含量过多，则变得容易析出莫来石等失透结晶，液相粘度变得容易降低。由此，Al2O3的上限量优选为18％，更优选为17％，更优选为16％，进一步优选为15.5％，进一步优选为15％，最优选为14％。
以mol％比计，SiO2/Al2O3优选为4.2～5.8，更优选为4.5～5.5，特别优选为4.8～5.3。若SiO2/Al2O3过小，则应变点和/或耐失透性变得容易降低。另一方面，若SiO2/Al2O3过大，则杨氏模量和/或熔融性变得容易降低。需要说明的是，“SiO2/Al2O3”是指SiO2的含量除以Al2O3的含量而得的值。
B2O3为提高熔融性、耐失透性的成分。若B2O3的含量过少，则熔融性、耐失透性变得容易降低。由此，B2O3的下限量优选为1.5％，更优选为1.8％，更优选为2.0％，进一步优选为2.2％，进一步优选为2.4％，最优选为2.5％。另一方面，若B2O3的含量过多，则杨氏模量、应变点变得容易降低。由此，B2O3的上限量优选为6％，更优选为5.7％，更优选为5.3％，进一步优选为5.0％，进一步优选为4.8％，最优选为4.5％。
以mol％比计，Al2O3/B2O3优选为3～7.5，更优选为3.5～6，特别优选为4～5。若Al2O3/B2O3过小，则杨氏模量变得容易降低。另一方面，若Al2O3/B2O3过大，则耐失透性变得容易降低。需要说明的是，“Al2O3/B2O3”是指Al2O3的含量除以B2O3的含量而得的值。
Li2O、Na2O及K2O的合计量为0～0.5％，优选为0～0.2％，更优选为0～0.15％。若Li2O、Na2O及K2O的合计量过多，则有可能导致碱离子在热处理工序中扩散到经成膜而成的半导体物质中的情形。
MgO为在碱土金属氧化物中显著地提高杨氏模量的成分。若MgO的含量过少，则熔融性、杨氏模量变得容易降低。由此，MgO的下限量优选为0％，更优选为2％，更优选为2.5％，进一步优选为3％，进一步优选为3.5％，进一步优选为4％，进一步优选为4.2％，最优选为4.5％。另一方面，若MgO的含量过多，则变得容易析出莫来石等失透结晶，液相粘度变得容易降低。由此，MgO的上限量优选为10％，更优选为9.5％，更优选为9％，进一步优选为8.5％，进一步优选为8％，进一步优选为7.5％，进一步优选为7％，进一步优选为6.8％，最优选为6.5％。
以mol％比计，(Al2O3+MgO)/B2O3优选为3.5～10，更优选为4～8，特别优选为4.5～6。若(Al2O3+MgO)/B2O3过小，则杨氏模量变得容易降低。另一方面，若(Al2O3+MgO)/B2O3过大，则耐失透性变得容易降低。需要说明的是，“(Al2O3+MgO)/B2O3”是指Al2O3与MgO的合计量除以B2O3的含量而得的值。
CaO为在不使应变点降低的情况下降低高温粘性、显著地提高熔融性的成分。另外，为提高杨氏模量的成分。若CaO的含量过少，则熔融性变得容易降低。由此，CaO的下限量优选为0％，更优选为2％，更优选为2.5％，进一步优选为2.8％，进一步优选为3％，进一步优选为3.5％，进一步优选为3.8％，最优选为4％。另一方面，若CaO的含量过多，则热膨胀系数有可能不当地变高。由此，CaO的上限量优选为10％，更优选为9.8％，更优选为9.5％，进一步优选为9％，进一步优选为8.8％，进一步优选为8.5％，进一步优选为8％，进一步优选为7.8％，最优选为7.5％。
SrO为提高耐失透性的成分，还是在不使应变点降低的情况下降低高温粘性、提高熔融性的成分。另外，为抑制液相粘度的降低的成分。若SrO的含量过少，则变得难以享有上述效果。由此，SrO的下限量优选为0％，更优选为0.1％，更优选为0.2％，进一步优选为0.3％，进一步优选为0.4％，进一步优选为0.5％，进一步优选为0.7％，进一步优选为0.8％，最优选为大于1％。另一方面，若SrO的含量过多，则热膨胀系数和密度变得容易增加。由此，SrO的上限量优选为8％，更优选为7.5％，更优选为7％，进一步优选为6.5％，最优选为6％。
BaO为提高耐失透性的成分。若BaO的含量过少，则变得难以享有上述效果。由此，BaO的下限量优选为0％，更优选为0.2％，更优选为0.5％，进一步优选为1％，进一步优选为1.3％，最优选为1.5％。另一方面，若BaO的含量过多，则杨氏模量变得容易降低，另外，热膨胀系数和密度变得容易增加。由此，BaO的上限量优选为10％，更优选为8％，更优选为7％，进一步优选为6％，进一步优选为5％，进一步优选为4％，最优选为3.6％。
若MgO、CaO、SrO及BaO的合计量过少，则熔融性变得容易降低。由此，MgO、CaO、SrO及BaO(RO)的合计量的下限优选为13％，更优选为14％，更优选为15％，进一步优选为15.2％，最优选为15.5％。另一方面，若MgO、CaO、SrO及BaO的合计量过多，则热膨胀系数和密度变得容易增加。由此，MgO、CaO、SrO及BaO(RO)的合计量的上限优选为24％，更优选为22％，更优选为21％，进一步优选为20％，最优选为19％。
若SrO与BaO的合计量过少，则耐失透性和熔融性变得容易降低。由此，SrO与BaO的合计量的下限优选为0％，更优选为1％，更优选为1.5％，进一步优选为2％，最优选为2.5％。另一方面，若SrO与BaO的合计量过多，则杨氏模量变得容易降低，另外，热膨胀系数和密度变得容易增加。由此，SrO与BaO的合计量的上限优选为13％，更优选为10％，更优选为8％，进一步优选为7％，进一步优选为6％，最优选为5％。
以mol％比计，(MgO+CaO)/(SrO+BaO)优选为2.1～10，更优选为3～7，特别优选为4～5。若(MgO+CaO)/(SrO+BaO)过小，则杨氏模量变得容易降低。另一方面，若(MgO+CaO)/(SrO+BaO)过大，则耐失透性变得容易降低。需要说明的是，“(MgO+CaO)/(SrO+BaO)”是指MgO与CaO的合计量除以SrO与BaO的合计量而得的值。
除上述成分以外，例如还可以添加以下的成分作为任意成分。需要说明的是，从可靠地享有本发明的效果的观点出发，上述成分以外的其他成分的含量以合计量计为10％以下，特别优选为5％以下。
ZnO为提高熔融性的成分。但是，若大量含有ZnO，则玻璃变得容易失透，另外，应变点变得容易降低。ZnO的含量优选为0～5％、0～3％、0～2％、特别是0％以上且低于1％。
P2O5为提高应变点的成分，并且为能够显著地抑制钙长石等碱土类铝硅酸盐系失透结晶的析出的成分。但是，若大量含有P2O5，则玻璃变得容易发生分相。P2O5的含量优选为0～2.5％，更优选为0.0005～1.5％，进一步优选为0.001～0.5％，特别优选为0.005～0.3％。
以mol％比计，Al2O3/(10000×P2O5)优选为0.12～10，更优选为0.2～5，特别优选为0.3～2。若Al2O3/(10000×P2O5)过小，则杨氏模量变得容易降低。另一方面，若Al2O3/(10000×P2O5)过大，则钙长石等碱土类铝硅酸盐系失透结晶变得容易析出。需要说明的是，“Al2O3/(10000×P2O5)”是指Al2O3的含量除以P2O5的含量的10000倍而得的值。
TiO2为降低高温粘性、提高熔融性的成分，并且为抑制曝晒的成分，但若大量含有TiO2，则玻璃发生着色，透射率变得容易降低。TiO2的含量优选为0～2.5％，更优选为0.0005～1％，进一步优选为0.001～0.5％，特别优选为0.005～0.1％。
以mol％比计，Al2O3/(1000×TiO2)优选为0.1～10，更优选为0.6～4，特别优选为1.1～1.6。若Al2O3/(1000×TiO2)过小，则杨氏模量变得容易降低。另一方面，若Al2O3/(1000×TiO2)过大，则熔融性、耐曝晒性变得容易降低。需要说明的是，“Al2O3/(1000×TiO2)”是指Al2O3的含量除以TiO2的含量的1000倍而得的值。
Y2O3、Nb2O5、La2O3具有提高应变点、杨氏模量等的作用。这些成分的合计量及单个含量优选为0～5％，更优选为0～1％，进一步优选为0～0.5％。若Y2O3、Nb2O5、La2O3的合计量及单个含量过多，则密度、原料成本变得容易增加。
SnO2为在高温域具有良好的澄清作用的成分，并且为提高应变点的成分，另外，为使高温粘性降低的成分。SnO2的含量优选为0～1％、0.001～1％、0.01～0.5％、特别是0.05～0.3％。若SnO2的含量过多，则变得容易析出SnO2的失透结晶。需要说明的是，若SnO2的含量少于0.001％，则变得难以享有上述效果。
如上所述，SnO2适合作为澄清剂，只要不损害玻璃特性，就可以分别添加F、SO3、C或Al、Si等的金属粉末至5％(优选至1％、特别是至0.5％)作为澄清剂。另外，作为澄清剂，还可以添加CeO2等至5％(优选至1％、特别是至0.5％)。
作为澄清剂，As2O3、Sb2O3也是有效的。但是，从环境的观点出发，本发明的无碱玻璃板实质上不含这些成分。进而，若含有As2O3，则处于耐曝晒性降低的倾向。
Cl为促进玻璃配合料的初始熔融的成分。另外，如果添加Cl，则可以促进澄清剂的作用。作为这些的结果，能够使熔融成本低廉化，并且实现玻璃制造窑的长寿命化。但是，若Cl的含量过多，则应变点变得容易降低。由此，Cl的含量优选为0～3％，更优选为0.0005～1％，特别优选为0.001～0.5％。需要说明的是，作为Cl的导入原料，可以使用氯化锶等碱土金属氧化物的氯化物、或氯化铝等原料。
Fe2O3为作为原料杂质而混入的成分，为降低电阻率的成分。Fe2O3的含量优选为0～300质量ppm、80～250质量ppm、特别是100～200质量ppm。若Fe2O3的含量过少，则原料成本变得容易高涨。另一方面，若Fe2O3的含量过多，则熔融玻璃的电阻率上升，变得难以进行电熔融。
本发明的无碱玻璃板优选具有以下特性。
30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数优选为30×10-7～50×10-7/℃、32×10-7～48×10-7/℃、33×10-7～45×10-7/℃、34×10-7～44×10-7/℃、特别是35×10-7～44×10-7/℃。如此，变得易于与用于TFT的Si的热膨胀系数匹配。
杨氏模量为78GPa以上，优选为大于78GPa、80GPa以上、特别是81GPa以上。若杨氏模量过低，则变得容易发生起因于玻璃板的挠曲的不良状况。
应变点为680℃以上，优选为大于680℃、690℃以上、特别是700℃以上。如此，能够抑制在LTPS工艺中玻璃板的热收缩。
液相温度为1450℃以下，优选为低于1210℃、1200℃以下、特别是1190℃以下。如此，变得易于防止在制造玻璃时产生失透结晶，生产率降低的情形。此外，变得易于利用溢流下拉法进行成形，因此，变得易于提高玻璃板的表面品质，并且能够使玻璃板的制造成本低廉化。需要说明的是，液相温度为耐失透性的指标，液相温度越低，则耐失透性越优异。
液相粘度优选为104.8dPa·s以上、105.0dPa·s以上、105.2dPa·s以上、特别是105.3dPa·s以上。如此，在成形时变得不易发生失透，因此，变得易于利用溢流下拉法进行成形，其结果，能够提高玻璃板的表面品质，另外，可以使玻璃板的制造成本低廉化。需要说明的是，液相粘度为耐失透性与成形性的指标，液相粘度越高，耐失透性和成形性越提高。
高温粘度102.5dPa·s时的温度优选为1650℃以下、1600℃以下、1580℃以下、特别是1560℃以下。若高温粘度102.5dPa·s时的温度过高，则变得难以将玻璃配合料熔化，玻璃板的制造成本高涨。需要说明的是，高温粘度102.5dPa·s时的温度相当于熔融温度，该温度越低，熔融性越提高。
β-OH为表示玻璃中的水分量的指标，若使β-OH降低，则能够提高应变点。另外，即使在玻璃组成相同的情况下，β-OH小的一方在应变点以下温度下的热收缩率变小。β-OH优选为0.30/mm以下、0.25/mm以下、0.20/mm以下、0.15/mm以下、特别是0.10/mm以下。需要说明的是，若β-OH过小，则熔融性变得容易降低。由此，β-OH优选为0.01/mm以上、特别是0.03/mm以上。
作为使β-OH降低的方法，可举出以下方法。(1)选择含水量低的原料。(2)在玻璃中添加使β-OH降低的成分(Cl、SO3等)。(3)使炉内气氛中的水分量降低。(4)在熔融玻璃中进行N2鼓泡。(5)采用小型熔融炉。(6)使熔融玻璃的流量增多。(7)采用电熔融法。
此处，“β-OH”是指使用FT-IR来测定玻璃的透射率并使用下述数学式1而求出的值。
[数学式1]
β-OH＝(1/X)log(T1/T2)
X：板厚(mm)
T1：参照波长3846cm-1下的透射率(％)
T2：羟基吸收波长3600cm-1附近的最小透射率(％)
本发明的无碱玻璃板优选利用溢流下拉法成形而成。溢流下拉法为下述方法：使熔融玻璃从耐热性的流槽状结构物的两侧溢出，一边使溢出的熔融玻璃在流槽状结构物的下端汇合，一边向下方进行拉伸成形，从而制造玻璃板。在溢流下拉法中，应成为玻璃板的表面的面不与流槽状耐火物接触而以自由表面的状态成形。因此，能够廉价地制造未研磨且表面品质良好的玻璃板，薄型化也容易。
除溢流下拉法以外，例如还可以利用下拉法(狭缝下拉法等)、浮法等将玻璃板成形。
对于本发明的无碱玻璃板而言，板厚没有特别限定，优选为低于0.7mm、0.6mm以下、0.5mm以下、特别是0.4mm以下。板厚越变薄，越能够实现有机EL器件的轻量化。板厚可以通过制造玻璃时的流量、拉板速度等进行调整。
本发明的无碱玻璃板优选用于有机EL器件、特别是有机EL电视。在有机EL电视的用途中，在玻璃板上制作多个器件后，分割切割成每个器件，实现了成本降低(所谓拼板)。本发明的无碱玻璃板的液相温度低，另外，液相粘度高，因此，易于将大型玻璃板成形，能够可靠地满足如上所述的要求。
实施例
以下，基于实施例对本发明进行说明。需要说明的是，以下的实施例仅仅为例示。本发明不受以下实施例的任何限定。
表1～14示出本发明的实施例(试样No.l～137)和比较例(试样No.138～141)。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
[表7]
[表8]
[表9]
[表10]
[表11]
[表12]
[表13]
[表14]
首先，将以成为表中的玻璃组成的方式调配玻璃原料而得的玻璃配合料放入到铂坩埚中，在1600～1650℃熔融24小时。在玻璃配合料熔化时，使用铂搅拌器搅拌，进行均质化。接下来，将熔融玻璃流出至碳板上，成形为板状，然后在退火点附近的温度下退火30分钟。对于所得的各试样，评价了30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数CTE、密度、杨氏模量、应变点Ps、退火点Ta、软化点Ts、高温粘度104dPa·s时的温度、高温粘度103dPa·s时的温度、高温粘度102.5dPa·s时的温度、液相温度TL、以及液相温度TL下的粘度log10ηTL。
30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数CTE为利用膨胀计进行测定而得的值。
密度为通过公知的阿基米德法进行测定而得的值。
杨氏模量为利用公知的共振法进行测定而得的值。
应变点Ps、退火点Ta、软化点Ts为基于ASTM C336及ASTM C338的方法进行测定而得的值。
高温粘度104dPa·s、103dPa·s、102.5dPa·s时的温度为利用铂球提拉法进行测定而得的值。
液相温度TL为将通过标准筛30目(500μm)且残存于50目(300μm)的玻璃粉末放入到铂舟中并在温度梯度炉中保持24小时后晶体析出的温度。
液相粘度log10ηTL为利用铂球提拉法对液相温度TL下的玻璃的粘度进行测定而得的值。
由表1～14可知，试样No.1～137的玻璃组成被限制为规定范围，因此，杨氏模量为80.1GPa以上，应变点为681℃以上，液相温度为1285℃以下，液相粘度为104.29dPa·s以上，因此可认为：生产率良好，能够减少LTPS工艺中的热收缩，即使进行大型化、薄型化，也不易产生因挠曲所致的不良状况。由此，试样No.1～137适合于有机EL器件的基板。
另一方面，对于试样No.138而言，高温粘度102.5dPa·s时的温度为1653℃这样高，杨氏模量为77.5GPa这样低。试样No.139的应变点为654℃这样低。对于试样No.140而言，30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数为50.7×10-7/℃这样高，应变点为679℃这样低。对于试样No.141而言，液相温度高于1450℃，无法测定液相粘度。
产业上的可利用性
本发明的无碱玻璃板适合作为有机EL器件、特别是有机EL电视的基板，除此以外，还适合于液晶显示器等的平板显示器基板、电荷耦合器件(CCD)、等倍接近型固体摄像元件(CIS)等影像传感器用的盖玻璃、太阳能电池用基板及盖玻璃、有机EL照明用基板等。
Claims (9)
1.一种无碱玻璃板，其特征在于，
玻璃组成中的Li2O+Na2O+K2O的含量为0mol％～0.5mol％，
所述无碱玻璃板的杨氏模量为78GPa以上，应变点为680℃以上，液相温度为1450℃以下。
2.根据权利要求1所述的无碱玻璃板，其特征在于，
作为玻璃组成，以mol％计含有SiO2 58％～68％、Al2O3 11％～18％、B2O3 1.5％～6％、Li2O+Na2O+K2O 0％～0.5％、MgO 4％～10％、CaO 2％～10％、SrO+BaO 2％～13％。
3.根据权利要求1所述的无碱玻璃板，其特征在于，
作为玻璃组成，以mol％计含有SiO2 58％～67％、Al2O3 11％～18％、B2O3 1.5％～6％、Li2O+Na2O+K2O 0％～0.5％、MgO 4％～10％、CaO 2％～10％、SrO 1.5％～8％、BaO 1.5％～8％，且实质上不含As2O3、Sb2O3。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃板，其特征在于，
所述无碱玻璃板还包含SnO2 0.001mol％～1mol％。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的无碱玻璃板，其特征在于，
所述无碱玻璃板的应变点为690℃以上。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的无碱玻璃板，其特征在于，
所述无碱玻璃板的杨氏模量高于80GPa。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的无碱玻璃板，其特征在于，
所述无碱玻璃板在30℃～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数为30×10-7/℃～50×10-7/℃。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的无碱玻璃板，其特征在于，
所述无碱玻璃板的液相粘度为104.5dPa·s以上。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的无碱玻璃板，其特征在于，
所述无碱玻璃板用于有机EL器件。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211512703.3A CN116161864A (zh) | 2018-10-15 | 2019-10-07 | 无碱玻璃板 |
Applications Claiming Priority (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018-194038 | 2018-10-15 | ||
| JP2018194038 | 2018-10-15 | ||
| JP2018-230725 | 2018-12-10 | ||
| JP2018230725 | 2018-12-10 | ||
| JP2019031628 | 2019-02-25 | ||
| JP2019-031628 | 2019-02-25 | ||
| JP2019074958 | 2019-04-10 | ||
| JP2019-074958 | 2019-04-10 | ||
| JP2019-093662 | 2019-05-17 | ||
| JP2019093662A JP7389400B2 (ja) | 2018-10-15 | 2019-05-17 | 無アルカリガラス板 |
| PCT/JP2019/039490 WO2020080163A1 (ja) | 2018-10-15 | 2019-10-07 | 無アルカリガラス板 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211512703.3A Division CN116161864A (zh) | 2018-10-15 | 2019-10-07 | 无碱玻璃板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112823143A true CN112823143A (zh) | 2021-05-18 |
Family
ID=72830747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201980067069.7A Pending CN112823143A (zh) | 2018-10-15 | 2019-10-07 | 无碱玻璃板 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210380465A1 (zh) |
| JP (1) | JP7389400B2 (zh) |
| KR (1) | KR20210073560A (zh) |
| CN (1) | CN112823143A (zh) |
| TW (1) | TW202028140A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115196876A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-10-18 | 郑州大学 | 一种柔性超薄玻璃及其制备方法和应用 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103313948A (zh) * | 2011-03-08 | 2013-09-18 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
| CN104039727A (zh) * | 2011-12-29 | 2014-09-10 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
| CN104854050A (zh) * | 2012-12-05 | 2015-08-19 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃基板 |
| CN105452182A (zh) * | 2013-10-17 | 2016-03-30 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
| WO2018116731A1 (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| WO2018123675A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7833919B2 (en) * | 2006-02-10 | 2010-11-16 | Corning Incorporated | Glass compositions having high thermal and chemical stability and methods of making thereof |
| KR101577492B1 (ko) * | 2009-07-02 | 2015-12-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 그의 제조 방법 |
| TWI478889B (zh) * | 2010-10-06 | 2015-04-01 | Corning Inc | 具有高熱與化學穩定性的無鹼玻璃組合物 |
| JP5874316B2 (ja) | 2010-10-27 | 2016-03-02 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
| US8785336B2 (en) * | 2011-03-14 | 2014-07-22 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass |
| JP5935471B2 (ja) * | 2011-04-25 | 2016-06-15 | 日本電気硝子株式会社 | 液晶レンズ |
| TWI677479B (zh) * | 2011-07-01 | 2019-11-21 | 日商安瀚視特股份有限公司 | 顯示器用玻璃基板 |
| KR102043599B1 (ko) * | 2011-12-28 | 2019-11-11 | 아반스트레이트 가부시키가이샤 | 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법 |
| EP2842918B1 (en) * | 2012-04-27 | 2017-09-06 | Asahi Glass Company, Limited | Non-alkali glass and method for producing same |
| KR102410236B1 (ko) * | 2012-06-05 | 2022-06-22 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 그 제조 방법 |
| CN104364217A (zh) * | 2012-06-05 | 2015-02-18 | 旭硝子株式会社 | 玻璃基板的精研磨方法及利用该方法进行了精研磨的无碱玻璃基板 |
| EP2860161A1 (en) * | 2012-06-07 | 2015-04-15 | Asahi Glass Company, Limited | Alkali-free glass and alkali-free glass plate using same |
| JP6037117B2 (ja) * | 2012-12-14 | 2016-11-30 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス及びガラス基板 |
| CN106396370B (zh) * | 2013-04-23 | 2018-11-09 | Agc 株式会社 | 无碱玻璃基板及其制造方法 |
| JP6365826B2 (ja) * | 2013-07-11 | 2018-08-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| JP2016188148A (ja) * | 2013-08-30 | 2016-11-04 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよびその製造方法 |
| JP6532218B2 (ja) * | 2014-05-27 | 2019-06-19 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| JP6578774B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2019-09-25 | Ａｇｃ株式会社 | 無アルカリガラス |
| JP7004488B2 (ja) * | 2015-03-10 | 2022-01-21 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板 |
| JP6977718B2 (ja) * | 2016-04-27 | 2021-12-08 | Ａｇｃ株式会社 | 無アルカリガラス |
| CN109562979B (zh) * | 2016-08-05 | 2021-11-16 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃基板、半导体装置以及显示装置 |
| CN109641782B (zh) * | 2016-08-23 | 2022-10-28 | Ａｇｃ株式会社 | 无碱玻璃 |
-
2019
- 2019-05-17 JP JP2019093662A patent/JP7389400B2/ja active Active
- 2019-10-07 KR KR1020217014125A patent/KR20210073560A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-10-07 US US17/284,917 patent/US20210380465A1/en active Pending
- 2019-10-07 CN CN201980067069.7A patent/CN112823143A/zh active Pending
- 2019-10-08 TW TW108136429A patent/TW202028140A/zh unknown
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103313948A (zh) * | 2011-03-08 | 2013-09-18 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
| CN104039727A (zh) * | 2011-12-29 | 2014-09-10 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
| CN104854050A (zh) * | 2012-12-05 | 2015-08-19 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃基板 |
| CN105452182A (zh) * | 2013-10-17 | 2016-03-30 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
| WO2018116731A1 (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| WO2018123675A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115196876A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-10-18 | 郑州大学 | 一种柔性超薄玻璃及其制备方法和应用 |
| CN115196876B (zh) * | 2022-08-30 | 2024-02-27 | 郑州大学 | 一种柔性超薄玻璃及其制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202028140A (zh) | 2020-08-01 |
| JP7389400B2 (ja) | 2023-11-30 |
| US20210380465A1 (en) | 2021-12-09 |
| JP2020172423A (ja) | 2020-10-22 |
| KR20210073560A (ko) | 2021-06-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |