CN112394438A - 滤色器的制造方法、滤色器、及树脂组合物 - Google Patents

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武内弘明
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Abstract

本发明涉及滤色器的制造方法、滤色器、及树脂组合物。本发明的课题在于提供无需使用氟树脂作为隔壁的材质、且能够使用可通过灰化容易地除去的材质来形成低折射率的隔壁的滤色器的制造方法、可利用该滤色器的制造方法制造的滤色器、和可在前述滤色器的制造方法中合适地使用的树脂组合物。其解决手段为，使用无机成分的含量为5质量％以下的、含有气泡的树脂或含有气泡的树脂组合物等来形成隔壁。

Description

滤色器的制造方法、滤色器、及树脂组合物
技术领域
本发明涉及滤色器的制造方法、可利用该滤色器的制造方法制造的滤色器、和可在前述滤色器的制造方法中合适地使用的树脂组合物。
背景技术
以往，在固体摄像器件、液晶显示装置等各种图像显示装置中，使用包含配置成矩阵状的红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)等的着色层和将前述着色层隔开的隔壁的滤色器。
作为该滤色器，例如，提出了具备配置成矩阵状的着色层和作为将多个着色层隔开的隔壁的由氟树脂形成的低折射率层的固态摄像装置用滤色器(专利文献1)。该滤色器可利用简化的制造工序制造，能够良好地抑制由相对于滤色器倾斜地入射的光引起的混色。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2006-295125号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而，专利文献1中记载的滤色器虽然具有可利用简化的制造工序制造的优点，但另一方面，也具有因隔壁由富有斥液性的氟树脂形成而导致的不良状况。具体而言，专利文献1中公开了下述方法：利用旋涂法，将包含氟树脂的涂布液填充于配置成矩阵状的着色层之间的间隙中，从而形成隔壁。但是，就专利文献1中记载的方法而言，由于氟树脂的斥液性，根据间隙的尺寸，有时包含氟树脂的涂布液难以良好地侵入至间隙。
另外，对于隔壁的材质，期望为低折射率，并且，出于制造隔壁时的加工、制造滤色器时发生不良情况时容易除去的目的，还期望能够通过灰化容易地除去。
本发明是鉴于上述课题而做出的，目的在于提供无需使用氟树脂作为隔壁的材质、且能够使用可通过灰化容易地除去的材质来形成低折射率的隔壁的滤色器的制造方法、可利用该滤色器的制造方法制造的滤色器、和可在前述滤色器的制造方法中合适地使用的树脂组合物。
用于解决课题的手段
本申请的发明人发现，通过使用含有气泡且无机成分的含量为5质量％以下的树脂或树脂组合物来形成隔壁，能够解决上述课题，从而完成了本发明。
本发明的第一方式为滤色器的制造方法，所述滤色器在基板上具备透光性的着色层和无间隙地与相邻的着色层双方接触、将相邻的着色层隔开、折射率低于着色层的折射率的隔壁，
所述制造方法包括下述工序：
着色层形成工序，在基板上，形成以在相当于隔壁的位置具有空隙的方式配置的多个着色层；和
隔壁形成工序，将含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物填充于空隙，形成隔壁，
树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下。
本发明的第二方式为滤色器的制造方法，所述滤色器在基板上具备透光性的着色层和无间隙地与相邻的上述着色层双方接触、将相邻的着色层隔开、折射率低于着色层的折射率的隔壁，
所述制造方法包括下述工序：
前体膜形成工序，在基板上形成隔壁的前体膜；
掩模形成工序，在前体膜上的相当于隔壁的位置形成掩模；
灰化工序，对掩模及前体膜进行灰化处理，将前体膜的未被掩模被覆的部分除去，且使前体膜的被掩模被覆的部分作为隔壁残留；
将掩模除去的工序；和
着色层形成工序，在由隔壁划分的区域内形成着色层，
前体膜由含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物形成，
树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下。
本发明的第三方式为滤色器，其在基板上具备透光性的着色层和无间隙地与相邻的着色层双方接触、将相邻的着色层隔开、折射率低于着色层的折射率的隔壁，
隔壁由含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物形成，
树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下。
本发明的第四方式为包含(A)树脂、(B)壳部分由树脂构成的中空粒子、和(S)有机溶剂的树脂组合物，其用于第一方式或第二方式涉及的滤色器的制造方法，所述制造方法中隔壁或前体膜由包含(A)树脂和(B)壳部分由树脂构成的中空粒子的树脂组合物、或该树脂组合物的固化物形成。
发明的效果
根据本发明，能够提供无需使用氟树脂作为隔壁的材质、且能够使用可通过灰化容易地除去的材质来形成低折射率的隔壁的滤色器的制造方法、可利用该滤色器的制造方法制造的滤色器、和可在前述滤色器的制造方法中合适地使用的树脂组合物。
附图说明
[图1]为示意性地示出第一方式涉及的滤色器的制造方法的图。
[图2]为示意性地示出第二方式涉及的滤色器的制造方法的图。
附图标记说明
1 滤色器
10 基板
11 着色层
12 隔壁
13 前体膜
14 掩模
具体实施方式
《第一方式》
第一方式涉及的滤色器的制造方法中，所述滤色器在基板上具备透光性的着色层和无间隙地与相邻的着色层双方接触、将相邻的着色层隔开、折射率低于着色层的折射率的隔壁，
所述制造方法包括下述工序：
着色层形成工序，在基板上，形成以在相当于隔壁的位置具有空隙的方式配置的多个着色层；和
隔壁形成工序，将含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物填充于空隙，形成隔壁，
树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下。
以下，参见图1，对第一方式涉及的滤色器的制造方法进行说明。
<着色层形成工序>
如图1(a)所示，上述方法中，首先，在基板10上，形成以在相当于隔壁12的位置具有空隙的方式配置的多个着色层11。
作为基板10，没有特别限定，可根据滤色器1所应用的装置种类从已知的基板10中适当选择。
典型而言，在基板10上，根据基板10的尺寸而各自形成多个配置为矩阵状的红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)等的着色层11。形成配置为矩阵状的多个着色层11的方法没有特别限定。
作为在基板10上以矩阵状配置并形成红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的着色层11的方法，例如可举出下述方法：使用红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)三种颜色的光敏性组合物，将基于光刻法形成各颜色着色层的操作重复进行三次。
形成的着色层11的厚度没有特别限定，可考虑滤色器1所应用的装置种类、性能等而适当确定。着色层11的厚度例如优选为0.1μm以上且10μm以下，更优选为0.5μm以上且5μm以下。
着色层11间空隙的宽度没有特别限定，可考虑滤色器1所应用的装置种类、性能等而适当确定。着色层11间空隙的宽度例如优选为0.1μm以上且5μm以下，更优选为0.3μm以上且2μm以下。
着色层11间空隙的宽度在上述范围内时，在接下来的隔壁形成工序中，容易向空隙填充隔壁12的材料。
<隔壁形成工序>
在隔壁形成工序中，如图1(b)所示，向着色层形成工序中所形成的着色层11间的空隙,填充含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物，形成隔壁12。
此处，填充于空隙的树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物含有气泡。即，隔壁12中含有气泡。通过使树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物含有气泡，从而能够形成折射率低于着色层的隔壁12。
树脂或树脂组合物可以通过下述方式填充于空隙内：将包含树脂及溶剂的液态组合物填充于空隙，然后，利用加热等方法除去溶剂。从树脂或树脂组合物容易向空隙填充的方面考虑，液态组合物中包含的树脂优选为不含氟的树脂。作为液态组合物中包含的树脂，可以使用(甲基)丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环状烯烃树脂等，但并不限定于这些。
树脂或树脂组合物可以为固化性材料的固化物。在该情况下，将包含未固化状态的树脂前体的液态组合物填充于空隙后，利用加热或曝光等方法，使填充于空隙中的液态组合物固化，由此能够将树脂的固化物、或树脂组合物的固化物填充于空隙内。
作为能够用作树脂前体的固化性材料，只要为提供透光性固化物的材料即可，没有特别限定。固化性材料可以为热固性材料，也可以为光固化性材料。另外，固化性材料优选根据需要与固化剂一同使用。作为固化剂，也可以使用光敏性固化剂、热敏性固化剂。
作为热固性材料的典型例，可举出异氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物、氧杂环丁烷化合物、环氧化合物等。这些之中，从固化性良好等方面考虑，优选环氧化合物、及氧杂环丁烷化合物，更优选环氧化合物。作为环氧化合物，优选多官能环氧化合物。此处，多官能环氧化合物是在1分子中具有2个以上的环氧基的环氧化合物。
作为光固化性材料的典型例，可举出各种(甲基)丙烯酸酯这样的、具有不饱和双键的化合物。作为该光固化性的化合物，有单官能化合物和多官能化合物。
作为单官能化合物，可举出(甲基)丙烯酰胺、羟甲基(甲基)丙烯酰胺、甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、乙氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、丙氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、丁氧基甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟基甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸、富马酸、马来酸、马来酸酐、衣康酸、衣康酸酐、柠康酸、柠康酸酐、丁烯酸、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、叔丁基丙烯酰胺磺酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基-2-羟基丙酯、2-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙基邻苯二甲酸酯、丙三醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、N,N-二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、邻苯二甲酸衍生物的半(甲基)丙烯酸酯等。这些单官能化合物可以单独使用或组合两种以上而使用。
作为多官能化合物，可举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基二乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2-羟基-3-(甲基)丙烯酰氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸二缩水甘油基酯二(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三丙烯酸酯、丙三醇聚缩水甘油基醚聚(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(即，甲苯二异氰酸酯)、三甲基六亚甲基二异氰酸酯与六亚甲基二异氰酸酯与(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的反应物、亚甲基双(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰胺亚甲基醚、多元醇与N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺的缩合物等多官能化合物、1,3,5-三丙烯酰基六氢-1,3,5-三嗪等。这些多官能化合物可以单独使用或组合两种以上而使用。
气泡可以以不具备壳(外壳)的状态包含于由树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物形成的基质中，也可以以具备壳的状态包含于由树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物形成的基质中。从容易调节树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物中的气泡尺寸、气泡容易稳定地分散的方面考虑，优选具备壳的气泡包含于由树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物形成的基质中。就具备壳的气泡而言，通过将中空粒子加入至树脂或树脂组合物中而使其包含于树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物中。
如后文所述，构成隔壁12的树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物仅包含少量无机成分。因此，作为上述中空粒子，优选使用壳部分由树脂构成的中空粒子。
作为使气泡包含于树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物中的方法，例如，可举出：使用已知的微泡产生装置、纳米气泡(nano bubble)产生装置，将微小的气泡吹入用于形成隔壁12的液态组合物中的方法；使通过热分解、化学反应产生气体的发泡剂包含于用于形成隔壁12的液态组合物中，在液态组合物中产生发泡的方法；等等。
隔壁12的气泡含量没有特别限定，可以考虑隔壁12的折射率而适当确定。
构成隔壁12的树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下，更优选为3质量％以下，进一步优选为1质量％以下，特别优选为0质量％。
通过使无机成分的含量为5质量％以下，能够通过灰化将构成隔壁12的材料容易地除去。在着色层11也不包含无机成分或基本不含无机成分的情况、形成滤色器1后着色层11或隔壁12中观察到不良状况的情况下，可以通过灰化将着色层11和隔壁12除去，对基板10进行再利用。
另一方面，构成隔壁12的树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物大量包含无机成分的情况下，来自无机成分的残渣大量产生，由此难以通过灰化将隔壁除去。
基于与针对隔壁12所说明的理由同样的理由，从能够容易地实施灰化的观点考虑，优选着色层11也不包含例如铜酞菁这样的无机成分。
灰化只要为不对基板10造成不可容许程度的损坏的方法即可，没有特别限定。
作为优选的灰化处理方法，可举出使用氧等离子体的方法。为了使用氧等离子体使基板10上的着色层11及隔壁12进行灰化，使用已知的氧等离子体产生装置来产生氧等离子体，并对基板10上的着色层11及隔壁12照射该氧等离子体即可。
作为氧等离子体的产生中使用的气体，可以混合以往与氧一同在等离子体处理中使用的各种气体。作为该气体，例如，可举出氮气、氢气、氦气等。
使用氧等离子体的灰化条件没有特别限定，处理时间例如为10秒以上且20分钟以下的范围，优选为20秒以上且18分钟以下的范围，更优选为30秒以上且15分钟以下的范围。
向着色层11间的空隙填充树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物的方法没有特别限定。例如，在向基板10整面涂布包含树脂或树脂组合物、固化性材料的液态组合物后,从填充于空隙的液态组合物中除去溶剂、或者使填充于空隙的固化性材料固化，由此将树脂或树脂组合物填充于空隙内。
作为将液态组合物涂布于基板10整面的方法，优选使用辊涂机、逆式涂布机、棒涂机等接触转印型涂布装置、旋涂机(旋转式涂布装置)、幕涂机等非接触型涂布装置的方法，更优选使用旋涂机的方法。
另外，也可以利用喷墨印刷法等印刷法仅向空隙供给液态组合物。
涂布液态组合物后，形成了将着色层11的空隙以外的部分的表面被覆的涂布膜时，可通过灰化等将前述涂布膜除去。
以上说明的方法中，作为构成隔壁12的材料，从折射率低、气泡尺寸、分布的不均少、容易通过灰化而除去等方面考虑，优选包含(A)树脂和(B)壳部分由树脂构成的中空粒子的树脂组合物。关于该优选的树脂组合物，详细如后文所述。
利用以上说明的方法，在基板10上形成着色层11、和填充于着色层11间的空隙中的隔壁12，由此得到包含着色层11和隔壁12的滤色器。
<第二方式>
第二方式涉及的滤色器的制造方法中，所述滤色器是在基板上具备透光性的着色层和无间隙地与相邻的着色层双方接触、将相邻的着色层隔开、折射率低于着色层的折射率的隔壁的滤色器，
所述制造方法包括下述工序：
前体膜形成工序，在基板上形成隔壁的前体膜；
掩模形成工序，在前体膜上的相当于隔壁的位置形成掩模，
灰化工序，对掩模及前体膜进行灰化处理，将前体膜的未被掩模被覆的部分除去，且使前体膜的被掩模被覆的部分作为隔壁残留；
将掩模除去的工序；和
着色层形成工序，在由隔壁划分的区域内形成着色层，
前体膜由含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物形成，
树脂、树脂组合物、树脂的固化物、或树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下。
需要说明的是，前体膜的材质与最终形成的隔壁的材质相同。因此，第二方式涉及的滤色器的制造方法中的前体膜的材质、和隔壁的材质与针对第一方式涉及的滤色器的制造方法所说明的隔壁的材质相同。
以下，参见图2，对第二方式涉及的滤色器的制造方法进行说明。
<前体膜形成工序>
在前体膜形成工序中，如图2(a)所示，首先，在基板10上形成隔壁12的前体膜13。为了形成前体膜13，使用在第一方式涉及的滤色器的制造方法中优选用于形成隔壁12的、前述液态组合物。将液态组合物涂布于基板10，然后根据需要利用加热等方法从涂布膜中除去溶剂、或者利用加热或曝光等方法使涂布膜固化，由此形成前体膜13。
作为将液态组合物涂布于基板10的方法，优选使用辊涂机、逆式涂布机、棒涂机等接触转印型涂布装置、旋涂机(旋转式涂布装置)、幕涂机等非接触型涂布装置的方法，更优选使用旋涂机的方法。
另外，也可以利用丝网印刷法、喷墨印刷法等印刷法来形成涂布膜。
前体膜13的膜厚与着色层11的厚度相同。着色层11的厚度和前体膜13的厚度例如优选为0.1μm以上且10μm以下，更优选为0.5μm以上且5μm以下。
<掩模形成工序>
在掩模形成工序中，如图2(b)所示，在前体膜13上的相当于隔壁12的位置，形成掩模14。在接下来的灰化工序中，前体膜13的仅被掩模14被覆的位置未进行灰化而残留，成为隔壁12。
掩模14可以由具有针对灰化的耐久性的材料形成，也可以由可灰化的材质构成。前者的情况下，在接下来的灰化工序后，隔壁12与掩模14的层叠物(未图示)在基板上残留。通过使用溶剂、碱等的处理，从该层叠物仅除去掩模14，由此在基板10上形成隔壁。关于后者的情况，作为灰化工序进行说明。需要说明的是，图2(c)及图2(d)中，示出使用由可灰化的材质形成的掩模14的情况。
<灰化工序、及掩模除去工序>
在灰化工序中，对掩模14及前体膜13进行灰化处理，将前体膜13的未被掩模14被覆的部分除去，并且使前体膜13的被掩模14被覆的部分作为隔壁12残留。
在掩模除去工序中，除去掩模14。掩模的除去在灰化工序后进行，或者与灰化工序同时地进行。
此处，针对使用由可灰化的材质形成的掩模14的情况进行说明。在该情况下，由于通过灰化，掩模14也逐渐消失，因此在灰化工序和掩模除去工序的图2(c)中，示出针对具备由可灰化的材质形成的掩模14的前体膜13开始灰化的状态。图2(c)中，通过灰化，前体膜13的未被掩模14被覆的位置的膜厚减少，并且掩模14的厚度也因灰化而减少。
从图2(c)所示的状态，进一步继续灰化，由此如图2(d)所示，前体膜13的未被掩模14被覆的位置被完全地除去，并且掩模14也因灰化而除去，前体膜13的仅被掩模14被覆的位置未进行灰化而残留，成为隔壁12。
对于灰化的条件，只要能够形成所期望的状态的隔壁12，则没有特别限定。
作为优选的灰化处理方法，可举出使用氧等离子体的方法。作为氧等离子体的产生中所使用的气体，可以混合以往与氧一同在等离子体处理中使用的各种气体。作为该气体，例如，可举出氮气、氢气、氦气等。
使用氧等离子体的灰化条件没有特别限定，处理时间例如为10秒以上且20分钟以下的范围，优选为20秒以上且18分钟以下的范围，更优选为30秒以上且15分钟以下的范围。
<着色层形成工序>
在着色层形成工序中，如图2(e)所示，在由隔壁12划分的区域内形成着色层11。在着色层形成工序中，典型而言，在由隔壁12划分的区域内形成红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的着色层11。作为该着色层11的形成方法，可举出下述方法：使用红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)这三种颜色的光敏性组合物，将利用光刻法形成各颜色的着色层的操作重复进行三次。也可以使用红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)这三种颜色的着色层11形成用油墨，利用喷墨印刷法等印刷法，在由隔壁12划分的区域内形成着色层11。
《树脂组合物》
上述第一方式涉及的滤色器的制造方法、及第二方式涉及的滤色器的制造方法中，作为用于形成隔壁或前体膜的树脂组合物，优选包含(A)树脂、(B)壳部分由树脂构成的中空粒子、和(S)有机溶剂的树脂组合物。以下，对优选的树脂组合物中包含的必要成分及任选成分继续进行说明。
<(A)树脂>
(A)树脂没有特别限定。作为(A)树脂，从包括灰化在内的形成隔壁时的加工性良好的方面考虑，优选(甲基)丙烯酸树脂。作为(甲基)丙烯酸树脂，从容易通过灰化来良好地除去的方面、和通过环氧基之间的固化反应来提供耐溶剂性、耐化学药品性优异的交联物的方面考虑，优选为包含下式(a1)表示的结构单元及下式(a2)表示的结构单元的树脂。
因此，第一方式涉及的滤色器的制造方法、及第二方式涉及的滤色器的制造方法中，形成的隔壁或前体膜优选包含(B)壳部分由树脂构成的中空粒子以及作为(A)树脂的、包含下式(a1)表示的结构单元及下式(a2)表示的结构单元的树脂的交联物。
[化学式1]
Figure BDA0002637833800000131
(式(a1)及(a2)中，R1各自独立地为氢原子或甲基，R2为单键、或碳原子数1以上且5以下的亚烷基，R3为结构中含有环氧基的碳原子数2以上且30以下的一价有机基团，R4为二价烃基。)
以下，式(a1)表示的结构单元也记为“结构单元A1”，式(a2)表示的结构单元也记为“结构单元A2”。
〔结构单元A1〕
上述式(a1)表示的结构单元A1在R3中含有环氧基，由此呈现作为树脂的固化性。
能够用作R2的亚烷基的碳原子数为1以上且5以下，优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。作为亚烷基，具体而言，可举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基等。
R3为结构中含有环氧基的碳原子数2以上且30以下的一价有机基团。该环氧基也包括脂环式环氧基。另外，R3可以在其结构中包含除构成环氧基的氧原子以外的杂原子、卤素原子。
该杂原子可举出氮原子、硫原子、硅原子等，另外，作为该卤素原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
结构单元A1例如可以通过将具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯供于聚合反应而形成。
具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯可以为具有链状脂肪族环氧基的(甲基)丙烯酸酯，也可以为后述这样的、具有脂环式环氧基的(甲基)丙烯酸酯。另外，具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯可以包含芳香族基团。具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯中，优选具有链状脂肪族环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯、具有脂环式环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯。
需要说明的是，结构单元A1在树脂中可以以嵌段状存在，也可以无规地存在。
作为含有芳香族基团、且具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯的例子，可举出4-缩水甘油基氧基苯基(甲基)丙烯酸酯、3-缩水甘油基氧基苯基(甲基)丙烯酸酯、2-缩水甘油基氧基苯基(甲基)丙烯酸酯、4-缩水甘油基氧基苯基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-缩水甘油基氧基苯基甲基(甲基)丙烯酸酯、及2-缩水甘油基氧基苯基甲基(甲基)丙烯酸酯等。
作为具有链状脂肪族环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯的例子，可举出(甲基)丙烯酸环氧基烷基酯、及(甲基)丙烯酸环氧基烷基氧基烷基酯等这样的、在酯基(-O-CO-)中的氧基(-O-)上键合链状脂肪族环氧基的(甲基)丙烯酸酯。这样的(甲基)丙烯酸酯所具有的链状脂肪族环氧基可以在链中包含1个或多个氧基(-O-)。链状脂肪族环氧基的碳原子数没有特别限定，优选3以上且20以下，更优选3以上且15以下，特别优选3以上且10以下。
作为具有链状脂肪族环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯的具体例，可举出(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧基丁酯、(甲基)丙烯酸6,7-环氧基庚酯等(甲基)丙烯酸环氧基烷基酯；(甲基)丙烯酸2-缩水甘油基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-缩水甘油基氧基正丙酯、(甲基)丙烯酸4-缩水甘油基氧基正丁酯、(甲基)丙烯酸5-缩水甘油基氧基正己酯、(甲基)丙烯酸6-缩水甘油基氧基正己酯等(甲基)丙烯酸环氧基烷基氧基烷基酯。
作为具有脂环式环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯的具体例，例如可举出下式(a1-1)～(a1-15)表示的化合物。这些之中，优选下式(a1-1)～(a1-5)表示的化合物，更优选下式(a1-1)～(a1-3)表示的化合物。另外，关于这些各化合物，酯基的氧原子与脂环的键合部位不限于此处所示的位置，可以包含部分位置异构体。
[化学式2]
Figure BDA0002637833800000151
[化学式3]
Figure BDA0002637833800000152
[化学式4]
Figure BDA0002637833800000161
上述式中，Ra1表示氢原子或甲基，Ra2表示碳原子数1以上且6以下的二价脂肪族饱和烃基，Ra3表示碳原子数1以上且10以下的二价烃基，t表示0以上且10以下的整数。作为Ra2，优选直链状或支链状的亚烷基，例如亚甲基、亚乙基、亚丙基、四亚甲基、乙基亚乙基、五亚甲基、六亚甲基。作为Ra3，例如优选亚甲基、亚乙基、亚丙基、四亚甲基、乙基亚乙基、五亚甲基、六亚甲基、亚苯基、亚环己基。
(A)树脂中的结构单元A1的量在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。从固化性方面考虑，(A)树脂中的结构单元A1的含量相对于树脂的全部结构单元而言例如为20摩尔％以上，优选为20摩尔％以上且95摩尔％以下，更优选为30摩尔％以上且90摩尔％以下，进一步优选为50摩尔％以上且85摩尔％以下。
〔结构单元A2〕
结构单元A2为前述式(a2)表示的结构单元。
式(a2)中，R4为二价烃基。作为R4的烃基可以为脂肪族烃基，也可以为芳香族烃基，还可以为具有脂肪族部分和芳香族部分的烃基。从树脂的固化性方面考虑，R4优选为二价脂肪族烃基。R4为二价脂肪族烃基时，脂肪族烃基的结构可以为直链状，也可以为支链状，也可以为环状，还可以为将它们组合而成的结构，优选直链状。
作为R4的烃基的碳原子数没有特别限定。烃基为脂肪族烃基时，碳原子数优选为1以上且20以下，更优选为2以上且10以下，特别优选为2以上且6以下。烃基为芳香族基团、或者具有脂肪族部分和芳香族部分的烃基时，碳原子数优选为6以上且20以下，更优选为6以上且12以下。
作为二价脂肪族烃基的具体例，可举出亚甲基、乙烷-1,2-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基、十三烷-1,13-二基、十四烷-1,14-二基、十五烷-1,15-二基、十六烷-1,16-二基、十七烷-1,17-二基、十八烷-1,18-二基、十九烷-1,19-二基、及二十烷-1,20-二基。
这些之中，优选亚甲基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基、十三烷-1,13-二基、十四烷-1,14-二基、十五烷-1,15-二基、十六烷-1,16-二基、十七烷-1,17-二基、十八烷-1,18-二基、十九烷-1,19-二基、及二十烷-1,20-二基，更优选亚甲基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、及癸烷-1,10-二基，更优选乙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、及己烷-1,6-二基。
作为二价芳香族烃基的具体例，可举出对亚苯基、间亚苯基、邻亚苯基、萘-1,4-二基、萘-2,6-二基、及萘-2,7-二基等，优选对亚苯基、间亚苯基，更优选对亚苯基。
结构单元A2可以通过使下式(a-II)表示的(甲基)丙烯酸酯与提供其他结构单元的单体共聚而组入树脂中。
结构单元A2在树脂中可以以嵌段状存在，也可以无规地存在。
[化学式5]
Figure BDA0002637833800000181
(式(a-II)中，R1及R4与式(a2)同样。)
作为提供结构单元A2的(甲基)丙烯酸酯的优选具体例，可举出丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸4-羟基苯酯、甲基丙烯酸4-羟基苯酯、丙烯酸3-羟基苯酯、及甲基丙烯酸3-羟基苯酯等。
这些之中，优选丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸4-羟基苯酯及甲基丙烯酸4-羟基苯酯。
(A)树脂中的结构单元A2的量在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。
从固化性方面考虑，(A)树脂中的结构单元A2的含量相对于树脂的全部结构单元而言优选为3摩尔％以上且40摩尔％以下，更优选为5摩尔％以上且30摩尔％以下，进一步优选为10摩尔％以上且25摩尔％以下。
〔其他结构单元〕
(A)树脂可以仅由上述结构单元A1及结构单元A2构成，也可以在不损害本发明目的的范围内，包含除前述结构单元A1、及结构单元A2以外的其他结构单元。
作为其他结构单元，例如，可举出来自上述以外的(甲基)丙烯酸酯的结构单元。这样的(甲基)丙烯酸酯为下式(a-III)表示的化合物，只要不损害本发明目的，则没有特别限定。
[化学式6]
Figure BDA0002637833800000191
上述式(a-III)中，Ra4为氢原子或甲基。Ra5为不具有含活性氢的基团的有机基团。
作为有机基团，优选为含有碳原子的基团，更优选为包含1个以上的碳原子、以及选自由H、O、S、Se、N、B、P、Si、及卤素原子组成的组中的1个以上的原子的基团。含有碳原子的基团的碳原子数没有特别限定，优选为1以上且50以下，更优选为1以上且20以下。
作为含活性氢的基团，例如，可举出羟基、巯基、氨基、羧基等。就该有机基团而言，可以在该有机基团中包含杂原子等烃基以外的键、取代基。另外，该有机基团可以为直链状、支链状、环状中的任意。
作为Ra5的有机基团中的烃基以外的取代基，只要不损害本发明的效果，则没有特别限定，可举出卤素原子、烷基硫基、芳基硫基、氰基、甲硅烷基、烷氧基、烷氧基羰基、硝基、亚硝基、酰基、酰基氧基、烷氧基烷基、烷基硫基烷基、芳基氧基烷基、芳基硫基烷基、N,N-二取代氨基(-NRR’：R及R’各自独立地表示烃基)等。上述取代基中包含的氢原子可以被烃基取代。另外，上述取代基中包含的烃基可以为直链状、支链状、及环状中的任意。
作为Ra5，优选烷基、芳基、芳烷基、或杂环基。这些基团可以被卤素原子、烷基、或杂环基取代。另外，这些基团包含亚烷基部分的情况下，亚烷基部分可以被醚键、硫醚键、酯键中断。
烷基为直链状或支链状的烷基时，其碳原子数优选为1以上且20以下，更优选为1以上且15以下，特别优选为1以上且10以下。作为优选的烷基的例子，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、异辛基、仲辛基、叔辛基、正壬基、异壬基、正癸基、及异癸基等。
Ra5为脂环式基、或包含脂环式基的基团的情况下，作为优选的脂环式基，可举出环戊基、及环己基等单环脂环式基、金刚烷基、降冰片基、异冰片基、三环壬基、三环癸基、及四环十二烷基等多环脂环式基。
作为提供其他结构单元的、上述(甲基)丙烯酸酯以外的单体，可举出烯丙基化合物、乙烯基醚类、乙烯基酯类、苯乙烯类等。这些单体可以单独使用或组合两种以上而使用。
作为烯丙基化合物，可举出：乙酸烯丙酯、己酸烯丙酯、辛酸烯丙酯、月桂酸烯丙酯、棕榈酸烯丙酯、硬脂酸烯丙酯、苯甲酸烯丙酯、乙酰乙酸烯丙酯、乳酸烯丙酯等烯丙基酯类；烯丙基氧基乙醇；等等。
作为乙烯基醚类，可举出己基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、癸基乙烯基醚、乙基己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、氯乙基乙烯基醚、1-甲基-2,2-二甲基丙基乙烯基醚、2-乙基丁基乙烯基醚、二乙二醇乙烯基醚、二甲基氨基乙基乙烯基醚、二乙基氨基乙基乙烯基醚、丁基氨基乙基乙烯基醚、苄基乙烯基醚、四氢糠基乙烯基醚等烷基乙烯基醚；乙烯基苯基醚、乙烯基甲苯基醚、乙烯基氯苯基醚、乙烯基-2,4-二氯苯基醚、乙烯基萘基醚、乙烯基蒽基醚等乙烯基芳基醚；等等。
作为乙烯基酯类，可举出丁酸乙烯酯、异丁酸乙烯酯、乙烯基三甲基乙酸酯、乙烯基二乙基乙酸酯、戊酸乙烯酯、己酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、二氯乙酸乙烯酯、乙烯基甲氧基乙酸酯、乙烯基丁氧基乙酸酯、乙烯基苯基乙酸酯、乙烯基乙酰乙酸酯、乳酸乙烯酯、乙烯基-β-苯基丁酸酯、苯甲酸乙烯酯、氯苯甲酸乙烯酯、四氯苯甲酸乙烯酯、萘甲酸乙烯酯等。
作为苯乙烯类，可举出：苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯等烷基苯乙烯；甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等的烷氧基苯乙烯；氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等卤代苯乙烯；等等。
(A)树脂包含除前述结构单元A1及结构单元A2以外的其他结构单元时，(A)树脂中的结构单元A1及结构单元A2的总量相对于(A)树脂中的全部结构单元而言，优选为80摩尔％以上，更优选为90摩尔％以上，特别优选为95摩尔％以上。
〔(A)树脂的制造方法〕
以上说明的(A)树脂的制造方法没有特别限定。通常而言，将提供前述结构单元A1及结构单元A2的单体、与根据需要的提供其他结构单元的单体以各自规定量进行混合，然后在适当的溶剂中，在聚合引发剂的存在下，例如，在50℃以上且120℃以下的温度范围进行聚合，由此得到(A)树脂。(A)树脂大多以与有机溶剂形成的溶液的形式得到，可以将以溶液形式得到的(A)树脂直接配合于树脂组合物中，也可以将暂时以固态状聚合物的形式析出的(A)树脂配合于树脂组合物中。
由上述方法得到的(A)树脂的重均分子量优选为5000以上，更优选为7500以上且100000以下，特别优选为10000以上且80000以下。重均分子量为利用GPC测定的、按聚苯乙烯换算的分子量。通过使树脂的重均分子量在一定程度上较大，容易形成耐溶剂性、耐热分解性优异的固化物。
以组合物的全部固态成分为基准，上述(A)树脂的含量优选为20质量％以上且90质量％以下，更优选为30质量％以上且85质量％以下，特别优选为40质量％以上且80质量％以下。
通过设定在这样的范围内，容易获得耐溶剂性优异的固化物。
<(B)中空粒子>
本实施方式的树脂组合物中包含的(B)中空粒子的特征在于，壳部分由树脂构成。
该(B)中空粒子为由作为外壳的壳部分和内部的空隙构成的粒子。该壳部分可以为单层,也可以为多个层。壳部分包含多个层的情况下，各层可以由不同的树脂成分构成。
为了提高与前述(A)树脂等的亲和性，可以利用已知的方法对(B)中空粒子实施表面处理。
作为具体的(B)中空粒子的例子，可举出将W/O/W乳液悬浮聚合而得到的聚酯系多孔粒子、丙烯酸系多孔粒子、利用种子聚合法制作的苯乙烯-丙烯酸系的中空胶乳、偏二氯乙烯-丙烯腈系、丙烯腈系热膨胀性微囊等。
另外，也可以优选使用国际公开第2018/051794号、国际公开第2017/163439号中公开的这样的中空粒子，作为市售的中空粒子，也可以使用Techpolymer(日文为テクポリマー)(注册商标)NH(积水化成品工业株式会社)等。
上述(B)中空粒子的平均粒径可考虑隔壁的折射率等来适当设定，例如，为20nm以上且300nm以下的范围，优选为25nm以上且200nm以下的范围，进一步优选为30nm以上且150nm以下的范围。
就上述(B)中空粒子的壳层的厚度而言，将(B)中空粒子的平均粒径设为X[nm]时，例如被设定在0.03×X以上且0.60×X以下的范围内，优选设定在0.05×X以上且0.50×X以下的范围内，更优选设定在0.10×X以上且0.40×X以下的范围内。
更典型而言，上述(B)中空粒子的平均粒径被设定在30nm以上且150nm以下的范围内，(B)中空粒子的壳层的厚度优选设定在5nm以上且30nm以下的范围内。
通过设定在这样的范围内，能够获得树脂组合物固化时的机械强度、和折射率低这两者的均衡性。
(B)中空粒子的平均粒径例如可以利用动态光散射法来测定。(B)中空粒子的壳层的厚度可通过针对随机选择的50个粒子观察其截面来测定。
以树脂组合物的全部固态成分为基准，上述(B)中空粒子的含量优选为10质量％以上且80质量％以下，更优选为15质量％以上且70质量％以下，特别优选为20质量％以上且60质量％以下。
通过设定在这样的范围内，容易得到耐溶剂性优异的固化物。
<(S)有机溶剂>
前述隔壁或前体膜的形成中适合使用的树脂组合物包含(S)有机溶剂。
作为该(S)有机溶剂的优选例，可举出乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、丙二醇单丙基醚、及丙二醇单丁基醚等二醇类的单烷基醚；乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单丙基醚乙酸酯、及丙二醇单丁基醚乙酸酯等二醇类的单烷基醚乙酸酯；甲苯、及二甲苯等芳香族溶剂；丙酮、甲基乙基酮、2-庚酮、环戊酮、及环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、乙酸3-甲氧基丁基酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁基酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、丙酮酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、及γ-丁内酯等酯类。
这些(S)有机溶剂中，从涂布树脂组合物时的涂膜的流平性的方面等考虑，优选丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、2-庚酮、环戊酮、环己酮、乳酸乙酯、及乳酸丁酯，更优选丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、2-庚酮、环戊酮、及环己酮。
树脂组合物中包含的(S)有机溶剂可以为一种，也可以为多种的组合。
树脂组合物中的(S)有机溶剂的使用量没有特别限定，可根据树脂组合物的用途在考虑粘度等的基础上适当确定。
就(S)有机溶剂的使用量而言，优选以树脂组合物中的固态成分浓度成为1质量％以上的方式进行设定，更优选以成为2质量％以上的方式进行设定，进一步优选以成为3质量％以上的方式进行设定。另外，就(S)有机溶剂的使用量而言，优选以树脂组合物中的固态成分浓度成为45质量％以下的方式进行设定，更优选以成为30质量％以下的方式进行设定，进一步优选以成为25质量％以下的方式进行设定。
以下，对树脂组合物中可作为任选成分而包含的成分进行说明。
<(C)环氧化合物>
前述隔壁或前体膜的形成中适合使用的树脂组合物可以包含(C)环氧化合物。
需要说明的是，此处的(C)环氧化合物为不属于前述成分(A)的化合物。
作为(C)环氧化合物，可以使用一直以来广泛知晓的各种环氧化合物。该环氧化合物的分子量没有特别限定。环氧化合物中，从容易形成耐热性、耐化学药品性、机械特性等优异的固化膜的方面考虑，优选在分子内具有2个以上环氧基的多官能环氧化合物。
多官能环氧化合物只要为2官能以上的环氧化合物即可，没有特别限定。作为多官能环氧化合物的例子，可举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、双酚AD型环氧树脂、萘型环氧树脂、及联苯型环氧树脂等2官能环氧树脂；二聚酸缩水甘油基酯、及三缩水甘油基酯等缩水甘油基酯型环氧树脂；四缩水甘油基氨基二苯基甲烷、三缩水甘油基-对氨基苯酚、四缩水甘油基间苯二甲胺、及四缩水甘油基双氨基甲基环己烷等缩水甘油基胺型环氧树脂；三缩水甘油基异氰脲酸酯等杂环式环氧树脂；间苯三酚三缩水甘油基醚、三羟基联苯三缩水甘油基醚、三羟基苯基甲烷三缩水甘油基醚、甘油三缩水甘油基醚、2-[4-(2,3-环氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-双[4-(2,3-环氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷、及1,3-双[4-[1-[4-(2,3-环氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-环氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇等3官能型环氧树脂；四羟基苯基乙烷四缩水甘油基醚、四缩水甘油基二苯甲酮、双间苯二酚四缩水甘油基醚、及四环氧丙氧基联苯等4官能型环氧树脂。
另外，从提供高硬度的固化物的方面考虑，作为多官能环氧化合物，也优选脂环式环氧化合物。作为脂环式环氧化合物的具体例，可举出2-(3,4-环氧环己基-5,5-螺-3,4-环氧基)环己烷-间二氧杂环己烷、己二酸双(3,4-环氧环己基甲基)酯、己二酸双(3,4-环氧基-6-甲基环己基甲基)酯、3,4-环氧基-6-甲基环己基-3’,4’-环氧基-6’-甲基环己烷甲酸酯、ε-己内酯改性3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷甲酸酯、三甲基己内酯改性3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷甲酸酯、β-甲基-δ-戊内酯改性3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷甲酸酯、亚甲基双(3,4-环氧环己烷)、乙二醇的二(3,4-环氧环己基甲基)醚、乙撑双(3,4-环氧环己烷甲酸酯)、环氧环六氢邻苯二甲酸二辛酯、及环氧环六氢邻苯二甲酸二-2-乙基己酯、具有三环癸烯氧化物基(tricyclodecene oxide group)的环氧树脂等。
在树脂组合物中含有(C)环氧化合物的情况下，其含量相对于上述(A)树脂100质量份而言优选为1质量份以上且100质量份以下，进一步优选为3质量份以上且50质量份以下。
《(D)表面活性剂》
作为表面活性剂，可举出含有氟原子的表面活性剂、含有硅原子的表面活性剂等。作为含有氟原子的表面活性剂，优选具有环氧烷链的氟系表面活性剂。作为含有硅原子的表面活性剂，优选具有环氧烷链的聚硅氧烷系表面活性剂。
作为含氟原子的表面活性剂的优选具体例，例如，可举出PolyFox(日文为“ポリフォックス”)系列的PF-636、PF-6320、PF-656、PF-6520(均为商品名，OMNOVA公司(日文为“オムノバ社”)制)等。
作为含有硅原子的表面活性剂的优选具体例，可举出BYK-307、BYK-333、BYK-378(均为商品名，BYK-Chemie公司制)等。
树脂组合物中含有(D)表面活性剂的情况下，其含量相对于上述(A)树脂100质量份而言优选为0.01质量份以上且1质量份以下。进一步优选为0.03质量份以上且0.8质量份以下。
前述隔壁或前体膜的形成中优选使用的树脂组合物可以在不损害本发明目的的范围内还含有各种添加剂。作为添加剂的例子，可举出交联剂、紫外线吸收剂、敏化剂、增塑剂、抗氧化剂、光稳定剂、密合助剂、产酸剂、及自由基产生剂等。
〔树脂组合物的制备方法〕
就前述隔壁或前体膜的形成中优选使用的树脂组合物而言，利用通常的方法将上述各成分混合、搅拌而制备。作为将上述各成分混合、搅拌时可使用的装置，可举出溶解器、均化器、三辊磨机等。可以在将上述各成分均匀地混合后，进一步使用筛网、膜滤器等将得到的混合物过滤。
〔固化物〕
通过将上述树脂组合物供至加热工序而转化为固化物。
固化物的折射率优选为1.50以下，更优选为1.48以下，更优选为1.45以下。折射率的下限没有特别限定，例如为1.20以上。
上文说明的、包含结构单元A1和结构单元A2的树脂通过加热而提供耐溶剂性、耐化学药品性优异的交联物。就加热温度而言，只要不对基板造成过度损坏即可，没有特别限定。加热温度的上限例如优选为300℃以下，优选为280℃以下。加热温度的下限优选为120℃以上，更优选为130℃以上。

Claims (14)

1.滤色器的制造方法，所述滤色器在基板上具备透光性的着色层和无间隙地与相邻的所述着色层双方接触、将相邻的所述着色层隔开、折射率低于所述着色层的折射率的隔壁，
所述制造方法包括下述工序：
着色层形成工序，在所述基板上，形成以在相当于所述隔壁的位置具有空隙的方式配置的多个着色层；和
隔壁形成工序，将含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物填充于所述空隙，形成所述隔壁，
所述树脂、所述树脂组合物、所述树脂的固化物、或所述树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下。
2.滤色器的制造方法，所述滤色器在基板上具备透光性的着色层和无间隙地与相邻的所述着色层双方接触、将相邻的所述着色层隔开、折射率低于所述着色层的折射率的隔壁，
所述制造方法包括下述工序：
前体膜形成工序，在所述基板上形成所述隔壁的前体膜；
掩模形成工序，在所述前体膜上的相当于所述隔壁的位置形成掩模；
灰化工序，对所述掩模及所述前体膜进行灰化处理，将所述前体膜的未被所述掩模被覆的部分除去，且使所述前体膜的被所述掩模被覆的部分作为所述隔壁残留；
将所述掩模除去的工序；和
着色层形成工序，在由所述隔壁划分的区域内形成所述着色层，
所述前体膜由含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物形成，
所述树脂、所述树脂组合物、所述树脂的固化物、或所述树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下。
3.如权利要求1或2所述的滤色器的制造方法，其中，所述隔壁、或所述前体膜由包含(A)树脂和(B)壳部分由树脂构成的中空粒子的树脂组合物、或所述树脂组合物的固化物形成。
4.如权利要求3所述的滤色器的制造方法，其中，所述(A)树脂为包含下式(a1)表示的结构单元和下式(a2)表示的结构单元的树脂，
[化学式1]
Figure FDA0002637833790000021
式(a1)及(a2)中，R1各自独立地为氢原子或甲基，R2为单键、或碳原子数1以上且5以下的亚烷基，R3为结构中含有环氧基的碳原子数2以上且30以下的一价有机基团，R4为二价烃基。
5.如权利要求4所述的滤色器的制造方法，其中，包含所述式(a1)表示的结构单元和所述式(a2)表示的结构单元的树脂的全部结构单元中，所述式(a1)表示的结构单元的比例为20摩尔％以上。
6.如权利要求4所述的滤色器的制造方法，其中，包含所述式(a1)表示的结构单元和所述式(a2)表示的结构单元的树脂的全部结构单元中，所述式(a2)表示的结构单元的比例为3摩尔％以上且40摩尔％以下。
7.如权利要求3所述的滤色器的制造方法，其中，所述(B)中空粒子的平均粒径为20nm以上且300nm以下。
8.如权利要求3所述的滤色器的制造方法，其中，所述树脂组合物中的所述(A)树脂的含有比例为20质量％以上且90质量％以下。
9.如权利要求3所述的滤色器的制造方法，其中，所述树脂组合物中的所述(B)中空粒子的含有比例为10质量％以上且80质量％以下。
10.滤色器，其在基板上具备透光性的着色层和无间隙地与相邻的所述着色层双方接触、将相邻的所述着色层隔开、折射率低于所述着色层的折射率的隔壁，
所述隔壁由含有气泡的树脂、含有气泡的树脂组合物、含有气泡的树脂的固化物、或含有气泡的树脂组合物的固化物形成，
所述树脂、所述树脂组合物、所述树脂的固化物、或所述树脂组合物的固化物的无机成分的含量为5质量％以下。
11.如权利要求10所述的滤色器，其中，所述隔壁由包含(A)树脂和(B)壳部分由树脂构成的中空粒子的树脂组合物、或所述树脂组合物的固化物形成。
12.如权利要求11所述的滤色器，其中，所述(A)树脂为包含下式(a1)表示的结构单元和下式(a2)表示的结构单元的树脂，
[化学式2]
Figure FDA0002637833790000031
式(a1)及(a2)中，R1各自独立地为氢原子或甲基，R2为单键、或碳原子数1以上且5以下的亚烷基，R3为结构中含有环氧基的碳原子数2以上且30以下的一价有机基团，R4为二价烃基。
13.树脂组合物，其用于在权利要求3所述的滤色器的制造方法中形成所述隔壁或所述前体膜，所述树脂组合物包含(A)树脂、(B)壳部分由树脂构成的中空粒子、和(S)有机溶剂。
14.如权利要求13所述的树脂组合物，其中，所述(A)树脂为包含下式(a1)表示的结构单元和下式(a2)表示的结构单元的树脂，
[化学式2]
Figure FDA0002637833790000041
式(a1)及(a2)中，R1各自独立地为氢原子或甲基，R2为单键、或碳原子数1以上且5以下的亚烷基，R3为结构中含有环氧基的碳原子数2以上且30以下的一价有机基团，R4为二价烃基。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006295125A (ja) * 2005-01-18 2006-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 固体撮像装置及びその製造方法並びにカメラ
JP2008242175A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 薄膜パターンの形成方法及びカラーフィルタ用ブラックマトリックス基板の製造方法
CN101750890A (zh) * 2008-11-12 2010-06-23 住友化学株式会社 感光性黑色树脂组合物、黑底基板以及滤色器的制造方法
JP2011075691A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Dainippon Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ
US20120003436A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-05 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, pattern forming material, and photosensitive film, pattern forming method, pattern film, low refractive index film, optical device and solid-state imaging device each using the same
JP2017032716A (ja) * 2015-07-30 2017-02-09 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP2018166159A (ja) * 2017-03-28 2018-10-25 キヤノン株式会社 デバイスおよび電子機器、輸送機器

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8139131B2 (en) * 2005-01-18 2012-03-20 Panasonic Corporation Solid state imaging device and fabrication method thereof, and camera incorporating the solid state imaging device
JP2007322485A (ja) * 2006-05-30 2007-12-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd 遮光隔壁形成用のアルカリ現像型黒色感光性樹脂組成物
JP6774876B2 (ja) * 2014-08-27 2020-10-28 東京応化工業株式会社 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法
CN104932136B (zh) * 2015-07-01 2018-01-26 合肥鑫晟光电科技有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置
KR102123800B1 (ko) * 2016-03-22 2020-06-17 세키스이가세이힝코교가부시키가이샤 중공 입자 및 그 용도
JP6833343B2 (ja) * 2016-05-09 2021-02-24 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP6736678B2 (ja) * 2016-09-16 2020-08-05 積水化成品工業株式会社 中空粒子及びその用途
KR20180068076A (ko) * 2016-12-13 2018-06-21 엘지디스플레이 주식회사 나노 입자, 이를 포함하는 절연막 및 표시장치
JP7016891B2 (ja) * 2017-12-27 2022-02-07 富士フイルム株式会社 組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および化合物の製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006295125A (ja) * 2005-01-18 2006-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 固体撮像装置及びその製造方法並びにカメラ
JP2008242175A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 薄膜パターンの形成方法及びカラーフィルタ用ブラックマトリックス基板の製造方法
CN101750890A (zh) * 2008-11-12 2010-06-23 住友化学株式会社 感光性黑色树脂组合物、黑底基板以及滤色器的制造方法
JP2011075691A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Dainippon Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ
US20120003436A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-05 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, pattern forming material, and photosensitive film, pattern forming method, pattern film, low refractive index film, optical device and solid-state imaging device each using the same
JP2017032716A (ja) * 2015-07-30 2017-02-09 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP2018166159A (ja) * 2017-03-28 2018-10-25 キヤノン株式会社 デバイスおよび電子機器、輸送機器

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