CN112071667B - 一种电解电容器加工拨正用辅助装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及电容加工设备技术领域，且公开了一种电解电容器加工拨正用辅助装置，包括支撑架，所述检测装置的下部开设有气孔，检测装置的内部滑动连接有磁杆，弹簧的下侧设置有线圈，检测装置的内部连接有电板，检测装置的内部且在圆形槽的下侧设置有与照明灯对应的凸面镜，凸面镜的下侧设置有光敏电阻。通过电容上的引脚在照明灯的作用下通过凸面镜放大在光敏电阻上的投影，与光敏电阻的线圈通电产生的磁场减弱，在弹簧的作用下拉动磁杆带动定位轮脱离电容的下部，从而保证拨正后的电容进入下一道工序，综合以上结构之间的配合，本发明解决了现有电容引脚拨正装置易使得电容磨损、自动化程度低、工人工作强度大和引脚易弯折的问题。

Description

一种电解电容器加工拨正用辅助装置
技术领域
本发明涉及电容加工设备技术领域，具体为一种电解电容器加工拨正用辅助装置。
背景技术
电解电容是一种用于储能的电子元器件，包括电解电容本体和两个引脚为了避免电容器引脚易被弯折的问题，通常会在电容器引脚上插上两个保护套筒，该保护套筒具有弹性形变，保护套筒内设有用于容纳引脚的容纳槽，但是由于电容本体为圆柱体易滚动，在放置或传送的过程中，部分电解电容的引脚会随电解电容本体发生不同角度的偏转，导致电解电容引脚无法准确***到保护套筒内，从而影响电解电容下一步加工流程。
现有的电容器引脚拨正设备是通过挤压引脚带动电容器转动，虽然能达到将电解电容的引脚拨正到水平，但是挤压引脚带动电容器转动易造成电容器的磨损，且现有的电容器引脚拨正自动化程度较低，从而增大了工人的工作强度，另外拨正之后只能人为的观察，当保证设备出现较大误差时，不能及时纠正，从而导致保护套筒与容纳引脚无法插接，进一步导致引脚弯折。为了解决这一问题我们提出了一种电解电容器加工拨正用辅助装置。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本发明提供了一种电解电容器加工拨正用辅助装置，具备避免电容磨损、自动化程度高、降低工作强度和避免引脚弯折的优点，解决了现有电容引脚拨正装置易使得电容磨损、自动化程度低、工人工作强度大和引脚易弯折的问题。
(二)技术方案
为实现具备避免电容磨损、自动化程度高、降低工作强度和避免引脚弯折的目的，本发明提供如下技术方案：一种电解电容器加工拨正用辅助装置，包括支撑架，所述支撑架的上部右侧固定连接有检测装置，检测装置的内部开设有圆形槽，检测装置的内部且在圆形槽的下部前后两侧均设置有导向块，检测装置的下部且在导向块的左侧开设有气孔，支撑架的上部设置有传送带，传送带的上部设置有电容，电容的右侧设置有引脚，检测装置的内部前后两侧均设置有供气装置，供气装置的下端固定连接有与气孔对应的气管，检测装置的内部且在导向块内均滑动连接有磁杆，磁杆的里侧端均转动连接有定位轮，磁杆的下端固定连接有弹簧，弹簧的下侧且在检测装置的内设置有线圈，检测装置的内部且在圆形槽的内壁上端固定连接有照明灯，检测装置的内部且在圆形槽的前后侧壁均固定连接有电板，检测装置的内部且在圆形槽的下侧设置有与照明灯对应的凸面镜，凸面镜的下侧设置有光敏电阻。
优选的，所述圆形槽的下侧开设有与传送带对应的凹槽。
优选的，所述传送带的上部设置有与电容对应的弧形槽，从而保证电容在传送带的限位。
优选的，所述气管与气孔连通，且其均对称分布在检测装置的两侧，从而保证电容受到的气体吹动的合力方向向上。
优选的，所述线圈产生的磁场与相对面的磁杆的磁极相同，从而保证线圈产生的磁场推动磁杆对电容进行定位。
优选的，所述照明灯宽度与传送带的宽度相对应，从而保证电容上的引脚达到水平时，进一步保证引脚通过照明灯投影在传送带的两侧。
优选的，所述电板的水平中心线与电容的轴线在同一水平面，从而保证引脚受到电板上电荷吸引的最大吸力，且使得电容最终保持静止。
优选的，所述凸面镜的弧面与光敏电阻的弧面同心，通过凸面镜放大引脚的在光敏电阻上的投影。
(三)有益效果
与现有技术相比，本发明提供了一种电解电容器加工拨正用辅助装置，具备以下有益效果：
1、该电解电容器加工拨正用辅助装置，通过传送带在支撑架上运输电容，当传送带上的电容移动到气孔的上方时，通过供气装置和气管对电容进行吹气，气管与气孔连通，且其均对称分布在检测装置的两侧，从而保证电容受到的气体吹动的合力方向向上，这一结构不仅达到清除电容上灰尘的效果，且使得电容在竖直方向上存在向下很小的合力，从而保证电容在拨正转动时与传送带摩擦力非常小。
2、该电解电容器加工拨正用辅助装置，通过检测装置前后侧设置的电板对电容上的引脚进行吸附，这一结构利用电能的吸附性来完成对引脚的无接触控制，从而避免外部设置的机械机构进行拨正，不仅减小了空间的占用，且避免了接触磨损。
3、该电解电容器加工拨正用辅助装置，通过电容抵住定位轮，电容上的引脚在照明灯的作用下通过凸面镜放大在光敏电阻上的投影，当引脚拨正后，与光敏电阻的线圈通电产生的磁场减弱，此时，在线圈产生的磁场与相对面的磁杆的磁极相同，在弹簧的作用下拉动磁杆带动定位轮脱离电容的下部，从而保证拨正后的电容进入下一道工序，综合以上结构之间的配合，本发明解决了现有电容引脚拨正装置易使得电容磨损、自动化程度低、工人工作强度大和引脚易弯折的问题。
附图说明
图1为本发明整体俯视结构示意图；
图2为本发明整体俯视结构剖视图；
图3为本发明整体俯视部分结构剖视图；
图4为本发明图1中A-A处的结构剖视图；
图5为本发明图2中B-B处的结构剖视图；
图6为本发明图5中C处的结构放大图；
图7为本发明图3中D-D处的结构剖视图；
图8为本发明图7中拨正后引脚投影遮挡范围示意图；
图9为本发明图7中拨正前引脚投影遮挡范围示意图；
图10为本发明图7中引脚投影范围圈与照明灯夹角示意图。
图中：1支撑架、101检测装置、102圆形槽、103导向块、104气孔、2传送带、3电容、301引脚、4供气装置、5气管、6磁杆、7定位轮、8弹簧、9线圈、10照明灯、11电板、12凸面镜、13光敏电阻。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-10，一种电解电容器加工拨正用辅助装置，包括支撑架1，支撑架1的上部右侧固定连接有检测装置101，检测装置101的内部开设有圆形槽102，检测装置101的内部且在圆形槽102的下部前后两侧均设置有导向块103，检测装置101的下部且在导向块103的左侧开设有气孔104，支撑架1的上部设置有传送带2，圆形槽102的下侧开设有与传送带2对应的凹槽。传送带2的上部设置有电容3，电容3的右侧设置有引脚301，传送带2的上部设置有与电容3对应的弧形槽，从而保证电容3在传送带2的限位。检测装置101的内部前后两侧均设置有供气装置4，供气装置4的下端固定连接有与气孔104对应的气管5，气管5与气孔104连通，且其均对称分布在检测装置101的两侧，从而保证电容3受到的气体吹动的合力方向向上。
检测装置101的内部且在导向块103内均滑动连接有磁杆6，磁杆6的里侧端均转动连接有定位轮7，磁杆6的下端固定连接有弹簧8，弹簧8的下侧且在检测装置101的内设置有线圈9，线圈9产生的磁场与相对面的磁杆6的磁极相同，从而保证线圈9产生的磁场推动磁杆6对电容3进行定位。检测装置101的内部且在圆形槽102的内壁上端固定连接有照明灯10，照明灯10宽度与传送带2的宽度相对应，从而保证电容3上的引脚301达到水平时，进一步保证引脚301通过照明灯10投影在传送带2的两侧检测装置101的内部且在圆形槽102的前后侧壁均固定连接有电板11，电板11的水平中心线与电容3的轴线在同一水平面，从而保证引脚301受到电板11上电荷吸引的最大吸力，且使得电容3最终保持静止。检测装置101的内部且在圆形槽102的下侧设置有与照明灯10对应的凸面镜12，凸面镜12的下侧设置有光敏电阻13，凸面镜12的弧面与光敏电阻13的弧面同心，通过凸面镜12放大引脚301的在光敏电阻13上的投影。
工作原理：该电解电容器加工拨正用辅助装置，在工作时，通过传送带2在支撑架1上运输电容3，当传送带2上的电容3移动到气孔104的上方时，通过供气装置4和气管5对电容3进行吹气，气管5与气孔104连通，且其均对称分布在检测装置101的两侧，从而保证电容3受到的气体吹动的合力方向向上，这一结构不仅达到清除电容3上灰尘的效果，且使得电容3在竖直方向上存在向下很小的合力，从而保证电容3在拨正转动时与传送带2摩擦力非常小。
通过检测装置101前后侧设置的电板11对电容3上的引脚301进行吸附，这一结构利用电能的吸附性来完成对引脚301的无接触控制，从而避免外部设置的机械机构进行拨正，不仅减小了空间的占用，且避免了接触磨损。
通过电容3抵住定位轮7，电容3上的引脚301在照明灯10的作用下通过凸面镜12放大在光敏电阻13上的投影，拨正前的投影如图9所示，拨正后的投影如图7或8所示，图中7内的加上传送带2的投影总范围大于图9中加上传送带2的投影总范围，从而光敏电阻13上接受的光照强度不同，此时，当引脚301拨正后，与光敏电阻13的线圈9通电产生的磁场减弱，此时，在线圈9产生的磁场与相对面的磁杆6的磁极相同，在弹簧8的作用下拉动磁杆6带动定位轮7脱离电容3的下部，从而保证拨正后的电容3进入下一道工序，综合以上结构之间的配合，本发明解决了现有电容引脚拨正装置易使得电容磨损、自动化程度低、工人工作强度大和引脚易弯折的问题。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (1)

1.一种电解电容器加工拨正用辅助装置，包括支撑架（1），其特征在于：所述支撑架（1）的上部右侧固定连接有检测装置（101），检测装置（101）的内部开设有圆形槽（102），检测装置（101）的内部且在圆形槽（102）的下部前后两侧均设置有导向块（103），检测装置（101）的下部且在导向块（103）的左侧开设有气孔（104），支撑架（1）的上部设置有传送带（2），传送带（2）的上部设置有电容（3），电容（3）的右侧设置有引脚（301），检测装置（101）的内部前后两侧均设置有供气装置（4），供气装置（4）的下端固定连接有与气孔（104）对应的气管（5），检测装置（101）的内部且在导向块（103）内均滑动连接有磁杆（6），磁杆（6）的里侧端均转动连接有定位轮（7），磁杆（6）的下端固定连接有弹簧（8），弹簧（8）的下侧且在检测装置（101）内设置有线圈（9），检测装置（101）的内部且在圆形槽（102）的内壁上端固定连接有照明灯（10），检测装置（101）的内部且在圆形槽（102）的前后侧壁均固定连接有电板（11），检测装置（101）的内部且在圆形槽（102）的下侧设置有与照明灯（10）对应的凸面镜（12），凸面镜（12）的下侧设置有光敏电阻（13）；所述圆形槽（102）的下侧开设有与传送带（2）对应的凹槽；所述传送带（2）的上部设置有与电容（3）对应的弧形槽；所述气管（5）与气孔（104）连通，且其均对称分布在检测装置（101）的两侧；所述线圈（9）产生的磁场与相对面的磁杆（6）的磁极相同；所述照明灯（10）宽度与传送带（2）的宽度相对应；所述电板（11）的水平中心线与电容（3）的轴线在同一水平面；所述凸面镜（12）的弧面与光敏电阻（13）的弧面同心。
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