CN111906671A - 用于制造显示装置的制造装置和制造显示装置的方法 - Google Patents

用于制造显示装置的制造装置和制造显示装置的方法 Download PDF

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CN111906671A
CN111906671A CN202010377709.9A CN202010377709A CN111906671A CN 111906671 A CN111906671 A CN 111906671A CN 202010377709 A CN202010377709 A CN 202010377709A CN 111906671 A CN111906671 A CN 111906671A
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姜胜培
梁熙星
丁荣镐
朱显
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Abstract

本公开涉及用于制造显示装置的制造装置和制造显示装置的方法。所述用于制造显示装置的制造装置包括:抛光器,在所述抛光器处,抛光材料被供应至所述显示装置的基础构件,并且所述基础构件利用所述抛光材料被抛光以提供具有抛光表面的抛光基础构件;输送器,所述抛光基础构件从所述抛光器被提供至所述输送器,并且所述抛光基础构件从所述输送器被传送至所述制造装置的外部;以及抽吸单元,所述抽吸单元对应于所述输送器设置,并且通过所述抽吸单元,所述输送器周围的压力被提供为低于所述制造装置的其余部分处的压力。

Description

用于制造显示装置的制造装置和制造显示装置的方法
本申请要求于2019年5月8日递交的韩国专利申请第10-2019-0053908号的优先权和从其获得的所有权益,其公开内容通过引用整体并入本文。
技术领域
一个或多个实施例涉及制造装置和使用该制造装置的方法。更具体地,一个或多个实施例涉及制造装置和使用该制造装置制造显示装置的方法。
背景技术
移动电子设备被广泛使用。平板个人计算机(“PC”)以及诸如移动电话的相对小的电子设备被广泛用作移动电子设备。
移动电子设备包括显示装置,以诸如在支持移动电子设备的各种功能方面向用户提供诸如图像的视觉信息。由于用于驱动显示装置的部件已经小型化,所以显示装置在移动电子设备中的使用已经逐渐增加,并且显示装置的结构已经发展成能从显示装置的平坦状态弯折预定角度。
发明内容
本公开的一个或多个实施例包括制造装置和使用该制造装置制造显示装置的方法,其减少或有效地防止在显示装置制造期间,当抛光材料在抛光过程中基板的抛光之后被干燥时在显示装置的基板上产生的污点。
另外的特征将部分地在以下的描述中被阐述,并且部分地将从描述中显而易见,或可通过所提出的实施例的实践而得知。
根据一个或多个实施例,一种用于制造显示装置的制造装置包括:抛光器,在所述抛光器处,抛光材料被供应至所述显示装置的基础构件,并且所述基础构件利用所述抛光材料被抛光以提供具有抛光表面的抛光基础构件;输送器,所述抛光基础构件从所述抛光器被提供至所述输送器,并且所述抛光基础构件从所述输送器被传送至所述制造装置的外部;以及抽吸单元,所述抽吸单元对应于所述输送器设置,并且通过所述抽吸单元,所述输送器周围的压力被提供为低于所述制造装置的其余部分处的压力。
所述制造装置可进一步包括馈送器,利用所述馈送器,所述基础构件被传送至所述抛光器。所述馈送器和所述输送器中的至少一个可包括辊,利用所述辊,所述基础构件能沿着所述制造装置移动。
所述抛光材料可包括液体。
提供至所述输送器的所述抛光基础构件可包括所述抛光材料的一部分,所述抛光材料的所述一部分余留在所述抛光基础构件的所述抛光表面上,并且所述抽吸单元的操作将所述抛光基础构件的所述抛光表面上的所述抛光材料的所述一部分中的所述液体的重量保持在等于或大于所述抛光基础构件上的所述抛光材料的所述一部分的总重量的约90%的水平。
所述制造装置可进一步包括抛光头,所述抛光头对应于所述抛光器设置,并且利用所述抛光头,所述基础构件在所述抛光器处被抛光以提供具有所述抛光表面的所述抛光基础构件。所述抛光器可包括带,利用所述带,所述基础构件能沿着所述制造装置移动以对应于所述抛光头设置。
所述抽吸单元可包括:抽吸管,所述抽吸管与所述输送器间隔开,并且所述输送器处的气体被吸入所述抽吸管中,所述抽吸管包括入口部分,所述输送器处的所述气体通过所述入口部分被吸入所述抽吸管中;以及连接到所述抽吸管的导管。
所述抽吸管的所述入口部分的横截面积可大于所述导管的横截面积。
所述抽吸管的入口部分可对应于所述输送器以及所述抛光器的一部分设置。
所述抽吸管在其入口部分的壁可以是倾斜的。
根据一个或多个实施例,一种制造显示装置的方法包括:在所述显示装置的未被抛光的基础构件上提供抛光材料,未被抛光的所述基础构件的表面处的压力限定大气压;利用所述抛光材料抛光未被抛光的所述基础构件的所述表面以提供抛光基础构件,所述抛光基础构件在抛光表面上具有所述抛光材料;以及在所述抛光基础构件的所述抛光表面处提供不同于所述大气压的压力。
抛光所述基础构件的所述表面可包括通过使用辊将所述基础构件传送至制造装置的抛光器以及将所述抛光基础构件从所述抛光器传送至所述制造装置的外部。
在所述基础构件上提供所述抛光材料可包括将所述基础构件提供在制造装置的带上,利用所述带,所述基础构件能沿着所述制造装置移动。
所述抛光基础构件的所述抛光表面处的所述压力可低于在未被抛光的所述基础构件的所述表面处限定的所述大气压。
提供所述压力可包括提供制造装置的抽吸管,所述抽吸管面向所述抛光基础构件的其上具有所述抛光材料的所述抛光表面,并且将气体从所述抛光基础构件周围吸入所述抽吸管中以在所述抛光表面处提供不同于所述大气压的所述压力。
所述抽吸管可包括入口部分,所述气体通过所述入口部分从所述抛光基础构件周围被吸入所述抽吸管中,并且所述抽吸管在所述入口部分处的壁可以是倾斜的。
所述抽吸管的所述入口部分的横截面积可大于所述基础构件的总平面面积。
抛光所述基础构件的所述表面可在制造装置的抛光器处进行,所述抛光器沿着所述制造装置在所述抽吸管前,并且所述方法可进一步包括将所述抛光基础构件传送至所述制造装置的外部的区域,该区域在所述抽吸管之后且包括所述大气压。
所述抛光材料可包括液体,并且将所述气体从所述抛光基础构件周围吸入所述抽吸管中以在所述抛光表面处提供不同于所述大气压的所述压力的所述抽吸管可将所述抛光表面上的所述抛光材料中的所述液体的重量保持在等于或大于所述抛光表面上的所述抛光材料的总重量的约90%的水平。
所述抛光材料可包括去离子水、表面活性剂和浆料。
根据一个或多个实施例,一种制造显示装置的方法包括:在制造装置的抛光器处,将抛光材料供应至所述显示装置的基础构件,并且通过使用所述抛光材料来抛光所述基础构件,抛光所述基础构件提供抛光基础构件,所述抛光基础构件在其上具有所述抛光材料;将所述抛光基础构件从所述抛光器传送至所述制造装置的输送器,所述输送器沿着所述制造装置在所述抛光器之后;以及将气体从在所述抛光器和所述输送器处的所述抛光基础构件周围吸入所述制造装置的面向所述抛光器和所述输送器中的每个的抽吸管中,以将所述抛光材料保持在所述抛光器和所述输送器处的所述抛光基础构件上。
本公开的其它特征和优点将从附图、权利要求和详细描述中变得更加显而易见。
这些一般和特定实施例可通过使用***、方法、计算机程序或其组合而被实施。
附图说明
这些和/或其它特征将从结合附图进行的实施例的以下描述变得显而易见并且更容易被理解,其中:
图1为例示用于制造显示装置的装置的实施例的剖视图;
图2为例示图1中的装置的抽吸管和基础构件之间的位置关系的实施例的俯视平面图;
图3至图5为操作图1的用于制造显示装置的装置的方法中的过程的实施例的剖视图;
图6为例示显示装置的实施例的俯视平面图;
图7为例示图6的显示装置的实施例的剖视图;
图8为例示图7的显示装置的放大剖视图;并且
图9为例示图6中的显示装置的另一实施例的剖视图。
具体实施方式
现在将详细参考实施例,实施例的示例在附图中例示,其中相同的附图标记始终指代相同的元件。在这一点上,本实施例可以具有不同的形式,并且不应被解释为限于本文阐述的描述。相应地,实施例在下面仅通过参考图被描述以解释本描述的特征。
将理解,尽管术语“第一”、“第二”等可在本文中使用以描述各种元件,但是这些元件不应受这些术语限制,并且这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。
本文中使用的术语仅为了描述特定实施例的目的,并且不旨在限制。如本文所使用,单数形式的“一”、“一个”和“所述”旨在也包括复数形式,除非上下文另外清楚地指示。如本文所使用的,术语“和/或”包括所关联的列出项目中的一个或多个的任意和所有组合。诸如“……中的至少一个”的表述在一列元件之后时修饰整列元件,而非修饰该列中的单独的元件。
进一步将理解,本文中使用的术语“包括”和/或“包含”指明所述特征或部件的存在,但不排除存在或添加一个或多个其它特征或部件。
将理解,当层、区或元件被称为与另一层、区或元件相关,诸如在另一层、区或元件“上”时,其可直接或间接地在另一层、区或元件上,或在它们之间可存在中间层、区或元件。相比之下,当层、区或元件被称为与另一层、区或元件相关,诸如“直接”在另一层、区或元件“上”时,在它们之间不存在中间层、区或元件。
此外,诸如“下”或“底”以及“上”或“顶”的相对术语可在本文中用于描述如图中所例示的一个元件与另一元件的关系。将理解,相对术语旨在包含除了图中描绘的定向之外的设备的不同定向。例如,如果一个图中的设备被翻转,则描述为在其它元件的“下”侧的元件于是将被定向在其它元件的“上”侧。因此,示例性术语“下”可根据图的特定定向而包含“下”和“上”两种定向。类似地,如果一个图中的设备被翻转,则描述为在其它元件“下方”或“之下”的元件于是将被定向在其它元件“上方”。因此,示例性术语“下方”或“之下”可包含上方和下方两种定向。
如本文所使用的“约”或“大约”包括所述值,并且表示在由本领域普通技术人员考虑所讨论的测量和与特定量的测量相关的误差(即,测量***的限制)所确定的特定值的偏差的可接受范围内。例如,“约”可表示在一个或多个标准偏差内,或在所述值的±30%、20%、10%或5%内。
除非另有限定,本文中使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。进一步将理解,诸如常用词典中限定的那些术语应被解释为具有与它们在相关领域和本公开的语境中的含义一致的含义,并且将不以理想化或过于正式的意义解释,除非本文中明确如此限定。
在本文中参考作为理想化实施例的示意性例示的剖视图描述示例性实施例。这样,应预期到由于例如制造技术和/或公差造成的例示的形状的变化。因此,本文中描述的实施例不应被解释为限于本文所例示的区的特定形状,而是将包括例如由于制造造成的形状的偏差。例如,例示或描述为平坦的区通常可具有粗糙和/或非线性特征。此外,例示的锐角可为圆的。因此,图中例示的区本质上为示意性的,并且它们的形状不旨在例示区的精确形状,并且不旨在限制本权利要求的范围。
在附图中,为了便于解释,元件的尺寸可能被夸大。例如,由于为了便于解释而将附图中的元件的尺寸和厚度任意地例示,所以本公开不限于此。
在以下实施例中,x-轴、y-轴和z-轴不限于直角坐标系的三个轴,并且可以更宽泛的意义解释。例如,x-轴、y-轴和z-轴可彼此垂直,或可表示彼此不垂直的不同方向。
当某一实施例可被不同地实施时,具体过程顺序可不同于所描述的顺序。例如,两个连续描述的过程可基本上同时进行或者以与所描述的顺序相反的顺序进行。
当异物附着到显示装置中使用的基板时,在显示装置中可能出现缺陷。已经研究了与显示装置有关的结构和制造方法,其中异物在显示装置制造期间被移除以减少或有效地防止显示装置中的缺陷。
图1为例示制造显示装置所用的制造装置的实施例的剖视图。图2为例示图1中的制造装置的抽吸管和基础构件之间的位置关系的实施例的俯视平面图。
参见图1和图2,制造显示装置所用的装置100可包括馈送器110、抛光器120、抛光头130、输送器140和抽吸单元150。
基础构件M从装置100的外部被供应并且被安装在馈送器110上。在这种情况下,馈送器110可包括第一支撑件111、第一辊112和第一驱动器113。第一支撑件111可包括彼此连接的多个框架。该多个框架中的一个框架可被固定到诸如地面、建筑物的内表面等,以固定第一支撑件111的位置。
第一辊112可位于第一支撑件111上或连接到第一支撑件111,并且能围绕旋转轴线旋转。第一辊112可被提供为多个(例如,多个第一辊112),并且均可位于第一支撑件111上或连接到第一支撑件111,以沿着第一支撑件111的长度彼此间隔开。第一驱动器113可连接到第一辊112,并且可驱动第一辊112以使第一辊112围绕旋转轴线旋转。
第一驱动器113可连接到多个第一辊112中的第一辊112。在一实施例中,例如,第一驱动器113可包括马达。第一驱动器113可被提供为多个(例如,多个第一驱动器113)以分别对应于第一辊112,而不限于此。在另一实施例中,第一驱动器113可包括连接到多个第一辊112中的每个第一辊112的链条、连接到链条和第一辊112的链轮以及连接到链轮的马达。链条可通过第一驱动器113的致动而能移动。第一驱动器113不限于此,并且可包括连接到多个第一辊112中的每个第一辊112以使第一辊112旋转或连接到多个第一辊112中的一部分或全部以同时驱动并使多个第一辊112旋转的任何设备和结构。然而,为了便于解释,以下描述包括单个第一驱动器113对应于单独的一个第一辊112,并且驱动第一辊112以使第一辊112旋转。
对由馈送器110供应的基础构件M的抛光可在抛光器120处被提供。抛光器120可包括:带121,基础构件M被放置在带121上,并且带121能相对于抛光头130移动;第二辊122;第二辊122被提供为分别位于带121的相对端处(诸如在带121的内侧)的多个(例如,第二辊122);以及用于驱动第二辊122的第二驱动器123。
带121可被卷绕在第二辊122上,并且带121的位置可随着第二辊122旋转而变化。此外,多个第二辊122可被提供,并且可沿着抛光器120的长度彼此间隔开以将带121的张力保持在恒定水平。第二驱动器123可包括马达等,并且可对应于第二辊122定位以驱动并使第二辊122旋转。在这种情况下,第二驱动器123可对应于多个第二辊122中的至少一个。
另外,抛光器120可进一步包括位于带121上的第二支撑件124。在这种情况下,基础构件M可被放置在第二支撑件124上,并且第二支撑件124可在基础构件M的表面抛光期间支撑基础构件M。第二支撑件124可为板型支撑件。
抛光头130可定位为对应于抛光器120。在一实施例中,例如,抛光头130可位于第二支撑件124被提供在其上的带121的表面上方。在这种情况下,抛光头130可在各个方向上能移动。在一实施例中,例如,抛光头130可在图1的X-方向、Y-方向和Z-方向中的至少一个方向上移动。基础构件M的能在抛光器120处抛光的表面可被设置在由X-方向和Y-方向限定的平面中。
抛光头130可包括抛光头主体131、抛光头旋转器132、抛光垫133和抛光驱动器134。抛光头主体131可连接到抛光驱动器134,并且可通过抛光驱动器134的致动而线性移动。此外,抛光头旋转器132可被可旋转地连接到抛光头主体131。在这种情况下,抛光垫133可连接到抛光头旋转器132,并且可通过抛光头旋转器132的旋转而能旋转。抛光垫133可为位于抛光头旋转器132的下表面上且用于抛光基础构件M的表面的板型垫。
抛光驱动器134可包括第一抛光驱动器134A和第二抛光驱动器134B。第一抛光驱动器134A连接到抛光头主体131,并且抛光头旋转器132可通过第一抛光驱动器134A的操作而旋转。第一抛光驱动器134A可延伸到抛光头主体131中和/或穿过抛光头主体131以连接到抛光头旋转器132,而不限于此。第二抛光驱动器134B对应于和/或连接到抛光头主体131,并且抛光头主体131可通过第二抛光驱动器134B的操作而线性移动。
第一抛光驱动器134A可包括马达,该马达连接到抛光头旋转器132,并且利用该马达使抛光头旋转器132旋转。在另一实施例中,第一抛光驱动器134A可包括:马达,该马达连接到抛光头旋转器132,并且利用该马达可使抛光头旋转器132旋转;以及位于马达和抛光头旋转器132之间的减速器。
第二抛光驱动器134B可通过使用各种方法中的任一种使抛光头主体131线性移动。在这种情况下,可提供至少一个第二抛光驱动器134B。在一实施例中,例如,可提供多个第二抛光驱动器134B,并且每个第二抛光驱动器134B可使抛光头主体131在图1的X-方向、Y-方向和Z-方向中的一个方向上线性移动。在这种情况下,第二抛光驱动器134B可具有各种形状中的任一种。在一实施例中,例如,第二抛光驱动器134B可包括气缸。在另一实施例中,第二抛光驱动器134B可包括滚珠丝杠和连接到滚珠丝杠的马达。在另一实施例中,第二抛光驱动器134B可包括线性马达。在这种情况下,第二抛光驱动器134B不限于此,并且可包括连接到抛光头主体131并且抛光头主体131可利用其在各个方向上线性移动的任何设备和结构。在这种情况下,多个第二抛光驱动器134B中的第一个第二抛光驱动器134B可连接到抛光头主体131,并且多个第二抛光驱动器134B中的第二个第二抛光驱动器134B可连接到第二抛光驱动器134B中的连接到抛光头主体131的第一个第二抛光驱动器134B。此外,多个第二抛光驱动器134B中的第三个第二抛光驱动器134B可连接到多个第二抛光驱动器134B中的第二个第二抛光驱动器134B。在这种情况下,每个第二抛光驱动器134B可使抛光头主体131在单个方向上线性移动。
输送器140可与抛光器120间隔开,并且可传送在抛光器120处抛光的基础构件M。输送器140可包括第三支撑件141、第三辊142和第三驱动器143。在这种情况下,第三支撑件141、第三辊142和第三驱动器143可被提供或形成为与馈送器110的第一支撑件111、第一辊112和第一驱动器113相同或相似。
输送器140可从抛光器120传送基础构件M,并且可将基础构件M运送至装置100的外部。沿着装置100(例如,X-方向上的箭头指示的移动方向),馈送器110在抛光器120之前,而输送器140在抛光器120之后,并且装置100外部的区域在输送器140之后。在一实施例中,例如,输送器140可将基础构件M馈送到设置在装置100的外部的外部清洁器(未示出)。
抽吸单元150可面向输送器140。抽吸单元150可包括抽吸管151、连接管(也被称为导管)152、泵153和阀154。
抽吸管151可面向抛光器120和输送器140中的每个的一部分。如图1所例示的,抽吸管151可通向抛光器120的一部分和输送器140的一部分。在这种情况下,如图2所示,沿着X-方向和Y-方向限定的抽吸管151的入口部分151A的平面面积可大于基础构件M的总平面面积。也就是说,在俯视平面图中,抽吸管151的边缘(或端部,由入口部分151A限定的边缘)可围绕基础构件M的边缘,从而基础构件M的边缘的整体可位于抽吸管151的边缘内侧。在这种情况下,抽吸管151的入口部分151A可完全覆盖显示装置的基板21(参见图6-图9)的前表面。
抽吸管151的入口部分151A可从连接管152延伸,并且包括水平部分(例如,沿着图1中的X-方向延伸)以及从水平部分的端部延伸的竖向部分。抽吸管151的在竖向部分处的壁可限定抽吸管151的入口部分151A,并且可以是倾斜的。在一实施例中,例如,抽吸管151的入口部分151A可在高度方向(例如,图1的Z-方向)上倾斜。在这种情况下,抽吸管151的入口部分151A的沿着X-方向的宽度可在朝向连接管152的方向上减小。也就是说,在由X-方向和Y-方向限定的平面中截取的抽吸管151的内部平面面积可从抽吸管151的边缘(例如,在入口部分151A的远端处)沿着抽吸管151的高度方向逐渐减小。
连接管152可连接到抽吸管151。连接管152可与在抛光器120和输送器140处通向抽吸单元150的外部的抽吸管151流体连接。在这种情况下,连接管152可将气体从抽吸管151引导到抽吸单元150和/或装置100的外部。在这种情况下,连接管152的横截面积可小于抽吸管151的横截面积。连接到抽吸管151的连接管152可提供流动通道,材料(例如,固体、气体等)通过该流动通道从入口部分151A被传送到抽吸单元150和/或装置100的外部。
泵153可对应于并且连接到连接管152,诸如与连接管152流体连接。泵153的致动可提供抽吸力以通过抽吸管151从抛光器120和输送器140的一部分的周围吸入诸如气体的材料。在这种情况下,泵153可为各种类型中的任一种。在一实施例中,例如,泵153可调节通过连接管152的气体的流动,以使在抽吸单元150内气体具有恒定的压力。在另一实施例中,泵153可调节通过连接管152的气体的流动,以使在抽吸单元150内气体的压力变化。
阀154可对应于和/或连接到连接管152,诸如与连接管152流体连接。在这种情况下,阀154可位于抽吸管151和泵153之间,或者可位于泵153的后端处。为了便于解释,以下将在阀154位于泵153的后端处的假设下被详细描述。
阀154的致动可打开或关闭连接管152。在这种情况下,阀154可包括根据从抽吸单元150和/或装置100的外部提供的外部信号操作的电磁阀。在一实施例中,例如,阀154可与泵153互操作,并且可在泵153操作时打开连接管152。相比之下,阀154可与泵153互操作,并且可在泵153不操作时不打开连接管152。在另一实施例中,无论泵153的操作如何,阀154的致动可调节连接管152的打开程度以调节连接管152的内部压力。
现在将详细描述装置100的操作。
图3为例示操作图1的用于制造显示装置的装置100的方法中的过程的实施例的剖视图。
参见图3,可通过使用各种方法中的任一种将基础构件M从装置100的外部提供在馈送器110上。在一实施例中,例如,可通过使用机械臂将基础构件M馈送至馈送器110。在另一实施例中,用户可将基础构件M手动供应至馈送器110,诸如通过使用单独的机构。
基础构件M可被直接提供在馈送器110上,或可被安装在提供于馈送器110上的承载构件(未示出)上。在这种情况下,承载构件可为包括玻璃等的板型构件。为了便于解释,以下将在基础构件M被直接提供在馈送器110上的假设下被详细描述。
基础构件M可为各种类型中的任一种。在一实施例中,例如,基础构件M可用于制造单个显示装置(未示出)(例如,对应于单个显示装置)。在另一实施例中,基础构件M可用于制造多个显示装置(例如,对应于多个显示装置)。在这种情况下,在显示装置中的各个显示装置的多个显示单元(未示出)被提供或形成在基础构件M上之后,基础构件M可被分成多个部分,以分别对应于用于多个显示装置的多个显示单元。
基础构件M可包括各种材料。例如,基础构件M可包括玻璃或聚合物树脂。聚合物树脂可包括聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯或醋酸丙酸纤维素。基础构件M可具有包括包含聚合物树脂的层和无机层(未示出)的多层结构。为了便于解释,以下将在基础构件M包括玻璃的假设下被详细描述。
基础构件M可根据第一驱动器113的操作而能移动。在这种情况下,第一辊112可根据每个第一驱动器113的操作而旋转。在这种情况下,诸如橡胶或硅酮的弹性材料可位于第一辊112的外表面上以增加第一辊112相对于基础构件M之间的摩擦力。
图4为例示操作图1的用于制造显示装置的装置100的方法中的另一过程的实施例的剖视图。
参见图4,基础构件M可从馈送器110移动至抛光器120(馈送器110至抛光器120之间的右箭头)。在这种情况下,第一驱动器113和第二驱动器123可彼此互操作。当第二驱动器123操作时,第二辊122可旋转以使带121旋转。第一驱动器113和第二驱动器123的互操作可将基础构件M提供到带121上。
第二驱动器123可操作以使沿着移动方向(例如,X-方向)传送基础构件M的带121旋转,并且将基础构件M提供在沿着抛光器120的预定位置处。在这种情况下,基础构件M可位于抛光头130下面。
第二驱动器123的操作的终止可使带121的移动停止并将基础构件M沿着抛光器120的位置固定。第一抛光驱动器134A和/或第二抛光驱动器134B的操作可使抛光头主体131线性移动以对应于基础构件M的表面。抛光头130可与基础构件M的表面接触以抛光该表面。
在进行抛光的同时或之前,抛光材料P可被供应至基础构件M的表面。在这种情况下,可通过使用各种方法中的任一种供应抛光材料P。在一实施例中,例如,抛光材料P可通过抛光头130被供应至基础构件M。在一实施例中,例如,抛光材料P可从抛光头130的外部通过提供或形成在抛光头130中的流动路径供应至基础构件M。在这种情况下,抛光材料P被供应通过的孔可被提供或形成在抛光垫133中。也就是说,流动路径和抛光垫133中的孔可彼此流体连接。
在另一实施例中,抛光材料P可通过独立于抛光头130提供的抛光材料供应器160被提供至基础构件M的表面。在这种情况下,抛光材料供应器160可为喷嘴型供应器。为了便于解释,以下将在抛光材料供应器160独立于抛光头130提供并且抛光材料P在抛光头130操作之前被供应至基础构件M的假设下被详细描述。
将基础构件M的表面抛光所利用的抛光材料P可包括去离子水(“DIW”)、表面活性剂和浆料。
在一实施例中,在通过使用抛光头130和抛光材料P来抛光基础构件M的表面的同时,基础构件M可由第二支撑件124支撑。也就是说,第二支撑件124可支撑基础构件M,并因此可减少或有效地防止基础构件M在抛光头130的操作期间移动。
在另一实施例中,基础构件M可由与第二支撑件124相似的另一支撑结构暂时支撑。在一实施例中,例如,单独的框架可被暂时支撑在带121和基础构件M之间,或者带121的安装基础构件M的部分可具有与带121的其余部分不同的厚度和硬度,并且可在对基础构件M抛光期间支撑基础构件M。在这种情况下,在对基础构件M抛光期间支撑基础构件M的方法不限于此。可使用用于在由抛光头130抛光基础构件M期间使基础构件M的移动最小化的任何设备和结构,只要在基础构件M的整个表面上由抛光头130提供相同的压力即可。也就是说,在相同的一个基础构件M内,表面的已被抛光的第一部分(例如,抛光后的部分)、表面的正积极地被抛光的第二部分以及表面的尚未被抛光的第三部分(例如,预抛光部分)均由用于使基础构件M在抛光器120处的移动最小化的设备和结构支撑,从而抛光头130在基础构件M的整个表面上施加相同的压力。
当对基础构件M的表面的抛光完成时,抛光材料P的一部分可余留在基础构件M的抛光表面上。在这种情况下,第二驱动器123和第三驱动器143可操作以将其上余留有抛光材料P的一部分的基础构件M馈送至输送器140。
图5为例示操作图1的用于制造显示装置的装置100的方法中的又一过程的实施例的剖视图。
参见图5,馈送至输送器140的基础构件M可在被输送至另一外部装置或设备(例如,装置100外部的清洁器(未示出))之前被提供在输送器140上的静态位置。在这种情况下,基础构件M上余留的抛光材料P可被干燥,并且干燥的抛光材料P可被粘附到基础构件M的表面。特别地,基础构件M上的抛光材料P可通过单独的清洁器而能移除,但是当抛光材料P被干燥时,抛光材料P可能不会从基础构件M完全移除,并且可无法从基础构件M分离。
为了改善被干燥的抛光材料P的移除以促进其从被抛光的基础构件M的完全移除和分离,泵153的操作可减少或有效地防止抛光材料P沿着基础构件M的表面流动并越过其边缘以从基础构件M流下(例如,在重力方向或与图5中的Z-方向相反的方向上)。特别地,泵153可操作以使越过基础构件M的边缘并且沿着基础构件M的侧表面的抛光材料P的液体(例如,去离子水)的流动或蒸发最小化。
详细地,从基础构件M从抛光器120被馈送至输送器140的时间到基础构件M位于输送器140上的时间,抽吸单元150可减少或有效地防止抛光材料P由于上述流动或蒸发而从基础构件M分离。也就是说,当泵153操作时,气体可被吸入抽吸管151中,诸如从其外部的环境。在这种情况下,因为用于制造显示装置的装置100位于大气压状态中,所以可在抽吸管151周围提供或形成不同于大气压的压力。未被抛光的基础构件M的表面处的压力可限定大气压,并且可不同于被抛光的基础构件M的抛光表面处的压力。
在一实施例中,例如,抽吸管151周围的压力(或抽吸管151内部的压力)可低于大气压。在这种情况下,抛光器120的一部分和输送器140周围的压力以及因此在抛光器120的该部分和输送器140处的基础构件M的抛光表面处的压力,可低于装置100的其余部分的压力。也就是说,抛光器120的该部分和输送器140周围的压力可低于大气压。在这种情况下,泵153可使连接管152和抽吸管151内部的压力能够类似于真空状态的压力。也就是说,至少对应于输送器140和抛光器120的一部分设置的抽吸单元150在输送器140周围提供低于装置100的其余部分处的压力(例如,大气压)的压力。
在这种情况下,随着抛光器120的该部分和输送器140周围的气体被吸入抽吸管151中(图5中的抽吸管151内的向上箭头),基础构件M上的抛光材料P可被迫在朝向抽吸管151的方向(例如,沿着Z-方向)上而不被吸入抽吸管151中。此时,由于基础构件M和抛光材料P之间的表面张力,抛光材料P(例如,特别是其液体成分)可不从基础构件M分离。
在这种情况下,泵153和/或阀154可调节连接管152和/或抽吸管151内部的压力。此外,当抽吸管151的在其入口部分151A处的壁如上所述倾斜时,抽吸管151的内部区域可从其进口沿着高度方向逐渐减小,气体通过该进口被引入,并且气体可在基础构件M的整个平面区域上被向上吸入。
抽吸单元150可连续执行抽吸功能,直到基础构件M被提供在抽吸管151的平面区域的外部。
基础构件M可被供应至清洁器(未示出)等,以在输送器140之后移除余留在基础构件M上的抛光材料P。在一实施例中,在输送器140之后将余留在基础构件M上的抛光材料P移除之后,可在被抛光的基础构件M上提供显示单元D和/或显示装置20或20’(如图6至图9所示)的各种层,从而制造显示装置。
在这种情况下,当基础构件M被传送到装置100的外部时,余留在基础构件M上的抛光材料P的去离子水的重量可等于或大于抛光材料P的总重量的约90%。在这种情况下,当余留在基础构件M上的抛光材料P的去离子水的重量小于抛光材料P的总重量的约90%时,余留在基础构件M上的抛光材料P内的浆料在基础构件M的清洁期间可能不被适当地移除,并且因此,可在基础构件M上产生污点或可降低基础构件M的抛光表面的平坦度。也就是说,抽吸单元150的操作将基础构件M的抛光形式的抛光表面上的抛光材料P的余留部分中的液体的重量保持在等于或大于基础构件M的抛光形式的抛光表面上的抛光材料P的余留部分的总重量的约90%的水平。
相应地,由于装置100和使用该装置100制造显示装置的方法的一个或多个实施例减少或有效地防止抛光材料P(例如,特别是其液体成分)从被抛光的基础构件M分离以促进被抛光的基础构件M上余留的抛光材料P的完全移除和分离,所以可避免在抛光之后供应单独的液体来最小化或有效地防止基础构件M上的抛光材料P的干燥。
由于装置100和使该装置100制造显示装置的方法的一个或多个实施例省略了在馈送器110、抛光器120、抛光头130和/或输送器140处移除抛光材料P,所以在诸如通过使用喷嘴等的移除期间抛光材料P分散的可能性被减少或有效地防止。因此,在馈送器110、抛光器120、抛光头130和输送器140之一处由于分散的抛光材料P的污染被减少或有效地防止。
装置100和使用该装置100制造显示装置的方法的一个或多个实施例可在基础构件M被抛光之后提供基础构件M的均匀的平面化表面。
图6为例示显示装置20或20’的实施例的俯视平面图。
参见图6,在显示装置20或显示装置20’中,基板21可包括显示区域DA和在显示区域DA的外部的非显示区域NDA。显示单元D(如图7至图9所示)可位于显示区域DA中,并且电源接线(未示出)可位于非显示区域NDA中。此外,焊盘单元C可位于非显示区域NDA中。图像可在显示区域DA处被显示。图像可通过显示单元D生成和/或显示。电源接线和/或焊盘单元C可被连接到显示单元D,用于驱动显示单元D以生成和/或显示图像。在一个或多个实施例中,基板21可为先前关于装置100描述的基础构件M,而不限于此。
图7为例示显示装置20的实施例的剖视图。图8为图7的显示装置20的显示单元的一部分的实施例的放大剖视图。
参见图7和图8,显示装置20可包括基板21、显示单元D和薄膜封装层E。在这种情况下,显示单元D可包括薄膜晶体管(“TFT”)、钝化膜27和像素电极28-1。
基板21可包括玻璃材料或聚合物树脂。在这种情况下,聚合物树脂可包括聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、醋酸丙酸纤维素或三醋酸纤维素。聚合物树脂可为透明的。在这种情况下,基板21可具有包括聚合物树脂的单层或多层结构。
可通过使用图1至图5的基础构件M提供或形成基板21。在一实施例中,例如,可抛光基础构件M中的一个,并且然后可由基础构件M中的该一个提供或形成基板21中的一个。在另一实施例中,一个基础构件M可被抛光并且然后可被分割,诸如被切割,或者多个显示单元D可被提供或形成在基础构件M上,并且然后可分别从基础构件M的其余部分分离,诸如通过被切割,以提供多个基板21,多个显示装置20由该多个基板21分别提供。
TFT可被提供或形成在基板21上,钝化膜27可被提供或形成以覆盖TFT,并且有机发光器件(“OLED”)28可被提供或形成在钝化膜27上。
包括有机材料和/或无机材料或由有机材料和/或无机材料形成的缓冲层22可进一步被提供或形成在基板21的顶表面上,并且可包括SiOx(x≥1)或SiNx(x≥1)。
以预定图案布置的有源层23被提供或形成在缓冲层22上,有源层23被栅绝缘层24覆盖。有源层23包括源区23-1和漏区23-3,并且进一步包括在源区23-1和漏区23-3之间的沟道区23-2。
有源层23可包括各种材料。在一实施例中,例如,有源层23可包括无机半导体材料,诸如非晶硅或晶体硅。可替代地,有源层23可包括氧化物半导体。可替代地,有源层23可包括有机半导体材料。然而,为了便于解释,以下将在有源层23包括非晶硅或由非晶硅形成的假设下被详细描述。
可通过在缓冲层22上提供或形成非晶硅膜、将非晶硅膜晶化成多晶硅膜并图案化多晶硅膜来限定有源层23。根据TFT的类型,诸如驱动TFT(未示出)或开关TFT(未示出),源区23-1和漏区23-3用杂质掺杂。
对应于有源层23的栅电极25和覆盖栅电极25的层间绝缘层26被提供或形成在栅绝缘层24的顶表面上。
接触孔H1被提供或形成在层间绝缘层26和栅绝缘层24中,源电极27-1和漏电极27-2被提供或形成在层间绝缘层26上以分别接触源区23-1和漏区23-3。
钝化膜27被提供或形成在TFT上,并且OLED 28的像素电极28-1被提供或形成在钝化膜27上。像素电极28-1在提供或形成在钝化膜27中的通孔H2处接触TFT的漏电极27-2。钝化膜27可具有包括无机材料和/或有机材料的单层或多层结构,并且可被提供或形成为具有平坦的顶表面的平坦化膜,无论下面的膜的曲率如何,或者可被提供或形成为根据下面的膜的曲率而弯曲。钝化膜27可包括透明的绝缘材料以实现共振效果。
在像素电极28-1被提供或形成在钝化膜27上之后,通过使用有机材料和/或无机材料提供或形成像素限定膜29,以覆盖像素电极28-1和钝化膜27,并且开口被提供或形成以暴露像素电极28-1。
中间层28-2和对电极28-3被提供或形成在像素电极28-1上,诸如以对应于单个像素电极28-1。在另一实施例中,对电极28-3可被提供或形成在整个显示单元D上,诸如以共有地被提供用于多于一个像素电极28-1。在这种情况下,对电极28-3可被提供或形成在中间层28-2和像素限定膜29上。为了便于解释,以下将在对电极28-3被提供或形成在中间层28-2和像素限定膜29上的假设下被详细描述。
像素电极28-1起到阳极的作用,并且对电极28-3起到阴极的作用,或反之亦然。
像素电极28-1和对电极28-3通过中间层28-2彼此绝缘,并且通过向中间层28-2施加具有不同极性的电压,有机发射层发射光。
中间层28-2可包括有机发射层。作为选择性示例,中间层28-2可包括有机发射层,并且可进一步包括空穴注入层(“HIL”)、空穴传输层(“HTL”)、电子传输层(“ETL”)和电子注入层(“EIL”)中的至少一个。本发明不限于此,并且中间层28-2可包括有机发射层,并且可进一步包括其它各种功能层(未示出)。
多个中间层28-2可作为图案被离散地提供,以形成显示区域DA。特别地,多个中间层28-2可形成具有除了矩形形状或正方形形状之外的形状的显示区域DA。在这种情况下,多个中间层28-2可位于显示区域DA的内部以彼此间隔开。
显示装置20的一个单元像素可包括多个子像素,在该多个子像素处生成和/或发射各种颜色。在一实施例中,例如,该多个子像素可包括发射红光、绿光和蓝光的子像素,和/或可包括发射红光、绿光、蓝光和白光的子像素。
薄膜封装层E可包括多个无机层,或可包括无机层和有机层。
薄膜封装层E的有机层可包括聚合物或由聚合物形成,并且优选地,可具有包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸酯中的一种的单层或多层结构。更优选地,有机层可包括聚丙烯酸酯,并且详细地,可包括聚合单体,该聚合单体包括二丙烯酸酯类单体和三丙烯酸酯类单体。单体可进一步包括单丙烯酸酯类单体。此外,单体可进一步包括任何合适的光引发剂,诸如2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦(“TPO”),但本公开不限于此。
薄膜封装层E的无机层可具有包括金属氧化物或金属氮化物的单层或多层结构。详细地,无机层可包括SiNx、Al2O3、SiO2和TiO2中的一种。
薄膜封装层E的暴露于显示装置20的外部的最上层可为无机层以减少或有效地防止湿气渗透到OLED 28中。
薄膜封装层E可包括至少一个夹层结构,在夹层结构中,至少一个有机层在至少两个无机层之间。可替代地,薄膜封装层E可包括至少一个夹层结构,在夹层结构中,至少一个无机层在至少两个有机层之间。可替代地,薄膜封装层E可包括其中至少一个有机层在至少两个无机层之间的夹层结构和其中至少一个无机层在至少两个有机层之间的夹层结构。
薄膜封装层E可包括顺序堆叠在显示单元D的OLED 28上的第一无机层I-1、第一有机层O-1和第二无机层I-2。
可替代地,薄膜封装层E可包括顺序堆叠在显示单元D的OLED 28上的第一无机层I-1、第一有机层O-1、第二无机层I-2、第二有机层和第三无机层。
可替代地,薄膜封装层E可包括顺序堆叠在显示单元D的OLED 28上的第一无机层I-1、第一有机层O-1、第二无机层I-2、第二有机层、第三无机层和第四无机层。
封盖层CP可被形成在OLED 28和第一无机层I-1之间。封盖层CP可包括LiF。可替代地,封盖层CP可包括无机绝缘材料,诸如氮化硅,和/或可包括有机绝缘材料。在实施例中,封盖层CP可被省略。
尽管在图7和图8中未示出,但是第一有机层O-1可具有小于第二无机层I-2的平面面积的平面面积,并且第二有机层可具有小于第三无机层的平面面积的平面面积。
相应地,显示装置20可显示精确图像。
图9为例示显示装置20’的实施例的剖视图。
参见图9,显示装置20’可包括基板21、显示单元D、封装基板40和密封部分30。在这种情况下,基板21和显示单元D与上面描述的那些相同或相似,并因此将不给出其详细解释。
封装基板40可面向基板21。在这种情况下,封装基板40可包括与基板21的材料相同或相似的材料。
密封部分30可位于封装基板40和基板21之间。在这种情况下,密封部分30可被硬化,并且然后可在能量被供应时熔化以将封装基板40固定至基板21。
根据显示装置20或显示装置20’的一个或多个实施例,从各种层被提供在其上的基板21省略污点。
根据装置和使用该装置制造显示装置20或显示装置20’的方法的一个或多个实施例,可制造基板21,该基板21沿着其表面具有均匀的质量。
根据装置和使用该装置制造显示装置20或显示装置20’的方法的一个或多个实施例,基板21的缺陷率可被最小化。
根据装置和使用该装置制造显示装置20或显示装置20’的方法的一个或多个实施例,装置的外周设备或单元在显示装置20或显示装置20’的制造期间的污染可被最小化。
根据装置和使用该装置制造显示装置20或显示装置20’的方法的一个或多个实施例,由于在基板21抛光之后不将单独的液体供应至基板21上余留的抛光材料P,所以可减小装置100的尺寸并且可减少制造显示装置20或显示装置20’中的过程的数量。
应该理解,本文中描述的实施例应仅在描述性意义上考虑,而不是为了限制的目的。每个实施例中的特征的描述通常应该被认为可用于其它实施例中的其它相似特征。虽然已经参考图描述了一个或多个实施例,但是本领域普通技术人员将理解,在不脱离如由所附权利要求限定的精神和范围的情况下,可在其中做出形式和细节上的各种改变。

Claims (10)

1.一种用于制造显示装置的制造装置,所述制造装置包括:
抛光器,在所述抛光器处,抛光材料被供应至所述显示装置的基础构件,并且所述基础构件利用所述抛光材料被抛光以提供具有抛光表面的抛光基础构件;
输送器,所述抛光基础构件从所述抛光器被提供至所述输送器,并且所述抛光基础构件从所述输送器被传送至所述制造装置的外部;以及
抽吸单元,所述抽吸单元对应于所述输送器设置,并且通过所述抽吸单元,所述输送器周围的压力被提供为低于所述制造装置的其余部分处的压力。
2.根据权利要求1所述的制造装置,进一步包括馈送器,利用所述馈送器,所述基础构件被传送至所述抛光器,
其中所述馈送器和所述输送器中的至少一个包括辊,利用所述辊,所述基础构件能沿着所述制造装置移动。
3.根据权利要求1所述的制造装置,其中所述抛光材料包括液体。
4.根据权利要求3所述的制造装置,其中
提供至所述输送器的所述抛光基础构件包括所述抛光材料的一部分,所述抛光材料的所述一部分余留在所述抛光基础构件的所述抛光表面上,并且
所述抽吸单元的操作将所述抛光基础构件的所述抛光表面上的所述抛光材料的所述一部分中的所述液体的重量保持在等于或大于所述抛光基础构件上的所述抛光材料的所述一部分的总重量的90%的水平。
5.根据权利要求1所述的制造装置,进一步包括抛光头,所述抛光头对应于所述抛光器设置,并且利用所述抛光头,所述基础构件在所述抛光器处被抛光以提供具有所述抛光表面的所述抛光基础构件;
其中所述抛光器包括带,利用所述带,所述基础构件能沿着所述制造装置移动以对应于所述抛光头设置。
6.根据权利要求1所述的制造装置,其中所述抽吸单元包括:
抽吸管,所述抽吸管与所述输送器间隔开,并且所述输送器处的气体被吸入所述抽吸管中,所述抽吸管包括入口部分,所述输送器处的所述气体通过所述入口部分被吸入所述抽吸管中;以及
连接到所述抽吸管的导管。
7.根据权利要求6所述的制造装置,其中由所述抽吸管的所述入口部分限定的横截面积大于所述导管的横截面积。
8.根据权利要求6所述的制造装置,其中所述抽吸管的所述入口部分对应于所述输送器以及所述抛光器的一部分设置。
9.根据权利要求6所述的制造装置,其中所述抽吸管在其所述入口部分的壁是倾斜的。
10.一种制造显示装置的方法,所述方法包括:
在所述显示装置的未被抛光的基础构件上提供抛光材料,未被抛光的所述基础构件的表面处的压力限定大气压;
利用所述抛光材料抛光未被抛光的所述基础构件的所述表面以提供抛光基础构件,所述抛光基础构件在抛光表面上具有所述抛光材料;以及
在所述抛光基础构件的所述抛光表面处提供不同于所述大气压的压力。
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