CN111704480A - 一种石纹线大理石瓷砖的制造方法 - Google Patents
一种石纹线大理石瓷砖的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111704480A CN111704480A CN202010626419.3A CN202010626419A CN111704480A CN 111704480 A CN111704480 A CN 111704480A CN 202010626419 A CN202010626419 A CN 202010626419A CN 111704480 A CN111704480 A CN 111704480A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- ink
- sinking
- marble
- polishing
- tile
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000004579 marble Substances 0.000 claims abstract description 50
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 41
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000007688 edging Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 32
- 238000007665 sagging Methods 0.000 claims description 11
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 claims description 9
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 8
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 6
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 5
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 claims description 4
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 abstract description 20
- 210000003462 vein Anatomy 0.000 abstract description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000007592 spray painting technique Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
本发明是一种石纹线大理石瓷砖的制造方法，包括以下几个步骤：制备坯体层；淋大理石面釉层，喷墨墨水层，抛釉层，保护墨水层；抛光，输送到窑炉高温烧成后，抛光磨边，即可获得成品。本发明使用下陷墨水经窑炉高温烧成后会在瓷砖表面由下陷墨水局部位置产生的细细的凹陷纹理类似石材裂纹石纹，通过电脑根据花纹图案脉络肌理设计线条纹理，通过像素大小，灰度值变化控制喷墨机下陷墨水的喷墨量，有效控制凹陷线条纹理的粗细和深浅，获得接近真正大理石石材裂纹石纹效果，生产高效，质量可靠。
Description
技术领域
本发明属于建筑陶瓷技术领域，具体涉及一种石纹线大理石瓷砖的制造方法。
背景技术
在陶瓷行业不断发展壮大的今天，人们在选购瓷砖时，想要一种靠近真石材类大理石瓷砖产品，现有的全抛釉砖和微粉砖表面没有原大理石石材表面那一种细细的裂纹石纹效果，铺贴时整体效果较单调，不能满足广大用户日益提高的审美需求。
CN107322777A公开了一种通体大理石瓷砖的布料装置及其布料工艺，包括若干储料桶、一级分料器、二级分料器、移动料斗、中转料斗、线条储料桶、线条分料器及线条下料斗，所述若干储料桶分别储存主色粉和线条粉。本技术方案是通过移动料斗的粗细粉管自由摆动使料层形成颜色差异从而形成大理石纹理，也就是通过物理手段来形成大理石纹理。然而，该技术方案将不同颜色粉料送往压机模腔进行布料，由此堆积产生的料层颜色差异形成花纹，难以获得原大理石石材表面的效果。
CN104760130B公开了一种陶瓷砖布料与印刷同步控制***，具体公开了扫描装置，用于扫描天然大理石，得到大理石的颜色参数、层次效果和纹理要点；生成装置，用于根据大理石的颜色参数、层次效果和纹理要点生成釉面特征；布料装置，用于根据颜色参数、层次效果和纹理要点进行布料，得到坯体层；表面处理装置，用于根据釉面特征对所述坯体层进行上釉。该技术方案制作的通体大理石瓷砖不论对其进行切边、拉槽或倒角处理，任何剖面都体现天然大理石纹理。该技术方案通过计算模拟获得大理石的纹理，坯体层的制备和成品的处理还存在改进的地方。
综述所述，现有技术仍缺少一种高效可靠、具有石纹线的大理石瓷砖的制备方法。
发明内容
本发明目的是针对现有技术的不足，提供一种制造石纹线大理石瓷砖方法，有效的控制调整烧成后的瓷砖表面凹陷线条纹理的粗细和深浅，更接近真正大理石石材裂纹石纹效果。本发明的详细技术方案如下所示。
一种石纹线大理石瓷砖的制造方法，包括以下几个步骤：
(1)制备坯体层，将陶瓷原料按配方配比入球磨机制成釉浆，釉浆经喷雾干燥塔制成粉料，粉料经压机压制成生坯入干燥窑干燥为坯体层；
(2)淋大理石面釉层，将大理石面釉料按照一定的比例淋在坯体层；
(3)喷墨墨水层，使用下陷墨水在大理石面釉层通过喷墨打印机打印图案花纹，所述下陷墨水按重量百分比包括55-65％溶剂悬浮剂，30-35％的下陷颗粒，5-10％的分散剂；
(4)淋抛釉层，钟罩淋大理石抛釉，保护墨水层；
(5)抛光，输送到窑炉高温烧成后，抛光磨边，即可获得成品。
由于下陷墨水里面含有的下陷效果的颗粒成分经窑炉高温烧成后会在瓷砖表面由下陷墨水局部位置产生的细细的凹陷纹理类似石材裂纹石纹。通过计算机控制喷墨打印机的打印图案，有效的控制调整烧成后的瓷砖表面凹陷线条纹理的粗细和深浅，更接近真正大理石石材裂纹石纹效果。
作为优选，所述步骤(3)中下陷颗粒为钒化合物和铬化合物的混合，下陷颗粒级的粒径为100-500纳米，溶剂悬浮剂是悬浮剂，分散剂是三聚磷酸钠或磷酸钠。钒化合物，优选为V2O5，一方面它可通过降低熔融釉料的粘度和表面张力导致釉面下凹，另一方面在高温下，V2O5分解产生的O2，气体不断冲破釉面，形成平滑的局部下凹。铬化合物，三氧化二铬，氧化铅、氧化钒均是一种在高温下，具有低表面张力的氧化物，所以由以上组分制得的釉陶瓷喷绘墨水的表面张力低，施于釉面上，在烧结过程中会受到表面张力高于其的釉面拉扯，进而形成凹陷效果。
作为优选，所述步骤(3)中下陷颗粒还包括铅化合物。PbO等强助熔效果氧化物的低温熔块，其始熔点低，能与未烧的釉面充分熔融产生相对大的烧成收缩；铅是重金属，现在下陷墨水一般不含铅，以氧化钒为主。氧化钒含量越多相对下陷效果越好，氧化钒含量越少相对下陷效果越差。但是要考虑墨水的性能，比如固相颗粒含量多了容易沉淀，颗粒级配粒径大了容易堵喷墨机喷头等。
作为优选，所述步骤(3)中下陷颗粒为钒化合物、铬化合物、铅化合物的一种或多种的混合，下陷颗粒级的粒径为100-500纳米。下陷颗粒级的粒径为100-500纳米，溶剂悬浮剂是悬浮剂，分散剂是三聚磷酸钠或磷酸钠。
作为优选，所述步骤(3)中喷墨打印的方法为运用计算机Photoshop软件调试好花色图案纹理和下陷线条纹理，经转换成适合喷墨机打印的格式保存，保存好的图案传输到喷墨花机，喷墨花机依所调试的图案将图案花纹喷印到坯体面釉上。
下陷墨水纹理通过电脑根据花纹图案脉络肌理设计线条纹理，比较方便控制修改位置，减少或增加线条的数量。
作为优选，通过下陷纹理线条的像素大小，调整大理石瓷砖烧成抛光后瓷砖表面凹陷线条纹理的粗细，通过灰度值变化控制喷墨机下陷墨水的喷墨量，调整大理石瓷砖烧成抛光后瓷砖表面凹陷线条纹理的深浅。本发明是获得一种石纹线的大理石瓷砖，关于下陷墨水的效果是根据瓷砖抛光后瓷砖表面以人肉眼来看凹陷线条的粗细，以及手触摸凹陷线条的深浅手感。手会感觉粗了或者细了，粗细受窑炉温度和抛光的压力大小有影响，窑炉温度高温区波动降温则瓷砖烧成后砖面下陷效果表现变细一点，窑炉温度高温区波动升温则瓷砖烧成后砖面下陷效果表现***一点；在抛光这块，抛光磨头压力大抛的重点则瓷砖砖面下陷效果表现变细一点，抛光磨头压力小抛的轻点则瓷砖砖面下陷效果表现***一点，相对抛光这块对瓷砖表面下陷效果影响较小。调整瓷砖表面下陷效果的粗细通过电脑Photoshop cs6软件，选中做好的下陷效果线条的通道，运用高斯模糊、色阶、曲线工具来调整：1.手感可以时，增加线条的像素值表现为线条变宽，在喷墨完瓷砖烧成后瓷砖表面下陷效果***，2.手感可以时，减少线条的像素值表现为线条变窄，在喷墨完瓷砖烧成后瓷砖表面下陷效果变细，3.粗细可以时，增加线条的灰度值表现在喷墨机喷印下陷墨水的墨水量增加，瓷砖烧成抛光后下陷效果凹陷更深触摸手感更强烈，4.粗细可以时，降低线条的灰度值表现在喷墨机喷印下陷墨水的墨水量减少，瓷砖烧成抛光后下陷效果凹陷更浅触摸手感平平，5.根据实际瓷砖表面下陷效果情况可同时调整下陷线条的像素值和灰度值。
作为优选，所述纹理的粗细是具体通过下述方法调整的：增加线条的像素值表现为线条变宽，在喷墨完瓷砖烧成后瓷砖表面下陷效果***，减少线条的像素值表现为线条变窄，在喷墨完瓷砖烧成后瓷砖表面下陷效果变细。所述纹理的深浅是具体通过下述方法调整的：增加线条的灰度值，喷墨机喷印下陷墨水的墨水量增加，瓷砖烧成抛光后下陷效果凹陷更深触摸手感更强烈，降低线条的灰度值，喷墨机喷印下陷墨水的墨水量减少，瓷砖烧成抛光后下陷效果凹陷更浅。
作为优选，所述步骤(2)中面釉料比重控制在1.88g/ml-1.92g/ml，流速50s-70s,细度0.7％-0.9％。
作为优选，所述步骤(4)中淋大理石抛釉，拋釉比重控制在1.88g/ml-1.92g/ml,流速50s-70s,细度0.4％-0.6％。
作为优选，所述步骤(5)中窑炉高温烧成为一次烧成，烧成温度为1100-1200℃。
本发明还保护根据所述的制备方法制备的石纹线大理石瓷砖。
本发明的有益效果有：
(1)本发明使用下陷墨水经窑炉高温烧成后会在瓷砖表面由下陷墨水局部位置产生的细细的凹陷纹理类似石材裂纹石纹，比较方便控制修改位置，更接近真正大理石石材裂纹石纹效果；
(2)本发明通过电脑根据花纹图案脉络肌理设计线条纹理，通过像素大小，灰度值变化控制喷墨机下陷墨水的喷墨量，有效控制凹陷线条纹理的粗细和深浅；
(3)本发明操作简单，能够根据客户的需求按需定制，充分满足大理石的陶瓷的高端消费需求。
附图说明
图1实施例1成品图；
图2实施例2成品图；
图3实施例3成品图；
图4实施例4成品图；
图5对比实施例1成品图；
图6对比实施例2成品图；
图7对比实施例3成品图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步说明：
实施例1
(1)制备坯体层，将陶瓷原料入球磨机制成釉浆，釉浆经喷雾干燥塔制成粉料，粉料经压机压制成生坯入干燥窑干燥为坯体层；
(2)淋大理石面釉层，面釉料比重控制为1.92g/ml，流速70s,细度0.9％；
(3)喷墨墨水层，将粒径为400nm的10g Cr2O3、粒径为300mm的20gV2O5和粒径为400nm的5gPbO作为下线颗粒，膨润土作为悬浮剂，磷酸钠作为分散剂，在搅拌下混合均匀，制备下陷墨水备用。使用下陷墨水在大理石面釉层通过喷墨打印机打印图案花纹，打开Photoshop或其它制图软件，这里以Photoshop cs6为例，点击文件夹所需要的文件，双击鼠标左键打开，在打开的窗口文件中把多通道按所需要色系进行配色，配好后转RGB格式，再转配置文件ICC曲线，运用色阶、曲线、应用图像里的正片叠底和滤色、通道混合器、亮度对比度等工具来调整颜色和版面层次，然后根据设计图案类型找个线条层次比较分明的通道，通过色阶、应用图像里的正片叠底和滤色、曲线等工具把线条拉实100％灰度，再通过选区、橡皮擦、色阶等工具调整到需要的像素大小和灰度值，本实施例中线条的像素值设置为6个像素，灰度值在60％，处理好后保存，裁剪900mm*900mm尺寸需要打印的图案大小，另存为TIFF格式，再转换成适合喷墨花机所适应的格式，并载入喷墨打印机打印；
(4)淋大理石抛釉，拋釉比重控制在1.92g/ml,流速70s,细度0.6％；
(5)抛光，淋完后经皮带输送到窑炉高温1195度一次烧成后，经抛光磨边打包后为成品。成品如图1所示。
实施例2
本实施例与实施例1不同之处在于，步骤(3)中线条的像素值不同，电脑上下陷线条的像素值12，灰度值60％，本实施例成品如图2所示。
实施例3
本实施例与实施例1不同之处在于，步骤(3)中线条的像素值不同，电脑上下陷线条的像素值4，灰度值60％，本实施例成品如图3所示。
实施例4
本实施例与实施例1不同之处在于，步骤(3)中下陷墨水不同，下陷墨水不含铅，将粒径为400nm的10g Cr2O3、粒径为300mm的25gV2O5作为下线颗粒，本实施例成品如图4所示。
对比实施例1
如图5所示，自然界大理石纹理的外观。
对比实施例2
本实施例与实施例1不同之处在于，步骤(3)中下陷墨水不同，下陷墨水不含钒化合物，将粒径为400nm的30g Cr2O3和粒径为400nm的5gPbO作为下线颗粒，本实施例成品如图6所示，下陷墨水的效果较差。
对比实施例3
本实施例与实施例1不同之处在于，步骤(3)中下陷墨水不同，下陷墨水不含铬，将粒径为300mm的30gV2O5和粒径为400nm的5gPbO作为下线颗粒，本实施例成品如图7所示，下陷墨水的效果较差。
通过图1、图2、图3与自然大理石图5对比，本发明的制备的大理石瓷砖，具有与自然大理石高度相似的大理石的纹理，制备方法成熟可靠。图4也获得了大理石的纹理，但是纹理太深，效果反而不够好，说明含有铅和钒，是有助于提升下陷效果的。图1、图2、图3相互对比可知，本发明通过控制打印参数，如控制像素值的增加，使得线条变宽，能够更加高效控制大理石纹理的效果。
通过图1、图2、图3与图6、图7对比，下陷颗粒为钒化合物和铬化合物的混合时，下陷效果较好。
根据上述说明书的揭示和教导，本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对发明的一些修改和变更也应当落入本发明的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本发明构成任何限制。
Claims (10)
1.一种石纹线大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，包括以下几个步骤：
(1)制备坯体层；
(2)淋大理石面釉层：将大理石面釉料淋在坯体层；
(3)喷墨墨水层：使用下陷墨水在大理石面釉层通过喷墨打印机打印图案花纹，所述下陷墨水按重量百分比包括55-65％溶剂悬浮剂，30-35％的下陷颗粒，5-10％的分散剂；
(4)淋抛釉层，保护墨水层；
(5)抛光，输送到窑炉高温烧成后，抛光磨边，即可获得成品。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(3)中下陷颗粒为钒化合物和铬化合物的混合，下陷颗粒级的粒径为100-500纳米，溶剂悬浮剂是悬浮剂，分散剂是三聚磷酸钠或磷酸钠。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(3)中下陷颗粒还包括铅化合物。
4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(3)中喷墨打印的方法为运用计算机Photoshop软件调试好花色图案纹理和下陷线条纹理，经转换成适合喷墨机打印的格式保存，保存好的图案传输到喷墨花机，喷墨花机依所调试的图案将图案花纹喷印到坯体面釉上。
5.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，通过下陷纹理线条的像素大小，调整大理石瓷砖烧成抛光后瓷砖表面凹陷线条纹理的粗细，通过灰度值变化控制喷墨机下陷墨水的喷墨量，调整大理石瓷砖烧成抛光后瓷砖表面凹陷线条纹理的深浅。
6.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述纹理的粗细是具体通过下述方法调整的：增加线条的像素值表现为线条变宽，在喷墨完瓷砖烧成后瓷砖表面下陷效果***，减少线条的像素值表现为线条变窄，在喷墨完瓷砖烧成后瓷砖表面下陷效果变细，所述纹理的深浅是具体通过下述方法调整的：增加线条的灰度值，喷墨机喷印下陷墨水的墨水量增加，瓷砖烧成抛光后下陷效果凹陷更深触摸手感更强烈，降低线条的灰度值，喷墨机喷印下陷墨水的墨水量减少，瓷砖烧成抛光后下陷效果凹陷更浅。
7.根据权利要求2或4所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(2)中面釉料比重控制在1.88g/ml-1.92g/ml，流速50s-70s,细度0.7％-0.9％。
8.根据权利要求2或4所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(4)中淋大理石抛釉，拋釉比重控制在1.88g/ml-1.92g/ml,流速50s-70s,细度0.4％-0.6％。
9.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(5)中窑炉高温烧成为一次烧成，烧成温度为1100-1200℃。
10.一种石纹线大理石瓷砖，其特征在于，所述石纹线大理石瓷砖根据权利要求1-9任一项所述的制备方法制备得到。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010626419.3A CN111704480A (zh) | 2020-07-01 | 2020-07-01 | 一种石纹线大理石瓷砖的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010626419.3A CN111704480A (zh) | 2020-07-01 | 2020-07-01 | 一种石纹线大理石瓷砖的制造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111704480A true CN111704480A (zh) | 2020-09-25 |
Family
ID=72544803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010626419.3A Pending CN111704480A (zh) | 2020-07-01 | 2020-07-01 | 一种石纹线大理石瓷砖的制造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111704480A (zh) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113183292A (zh) * | 2021-04-25 | 2021-07-30 | 广东家美陶瓷有限公司 | 数控模具效果陶瓷砖的制备方法 |
| CN113789928A (zh) * | 2021-11-18 | 2021-12-14 | 广东简一(集团)陶瓷有限公司 | 一种具有波光粼粼装饰效果的陶瓷砖及其制备方法 |
| CN114276718A (zh) * | 2022-01-21 | 2022-04-05 | 山东国瓷康立泰新材料科技有限公司 | 一种下陷墨水用效果粉体及其制备方法和应用 |
| EP4086235A1 (en) * | 2021-05-04 | 2022-11-09 | Flooring Industries Limited, SARL | A method and a line for manufacturing ceramic tiles |
| CN116253583A (zh) * | 2021-12-10 | 2023-06-13 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺 |
| CN116655405A (zh) * | 2023-05-29 | 2023-08-29 | 广东天弼陶瓷有限公司 | 一种具有自然孔洞纹理的洞石砖及其制备工艺 |
| CN116253583B (zh) * | 2021-12-10 | 2024-06-25 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105418162A (zh) * | 2015-12-14 | 2016-03-23 | 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 | 一种具有立体石纹纹理的通体抛釉瓷质砖及其制造方法 |
| CN106336247A (zh) * | 2016-08-24 | 2017-01-18 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种釉面具有凹线条线抛光瓷片的制造方法 |
| CN107555790A (zh) * | 2017-09-07 | 2018-01-09 | 广东汇亚陶瓷有限公司 | 一种16度哑光大理石瓷砖的生产工艺 |
| CN108129026A (zh) * | 2018-01-08 | 2018-06-08 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖及其制备方法 |
| CN109707127A (zh) * | 2019-01-25 | 2019-05-03 | 信益陶瓷(中国)有限公司 | 一种具天然石材裂纹质感的大理石瓷砖 |
-
2020
- 2020-07-01 CN CN202010626419.3A patent/CN111704480A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105418162A (zh) * | 2015-12-14 | 2016-03-23 | 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 | 一种具有立体石纹纹理的通体抛釉瓷质砖及其制造方法 |
| CN106336247A (zh) * | 2016-08-24 | 2017-01-18 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种釉面具有凹线条线抛光瓷片的制造方法 |
| CN107555790A (zh) * | 2017-09-07 | 2018-01-09 | 广东汇亚陶瓷有限公司 | 一种16度哑光大理石瓷砖的生产工艺 |
| CN108129026A (zh) * | 2018-01-08 | 2018-06-08 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖及其制备方法 |
| CN109707127A (zh) * | 2019-01-25 | 2019-05-03 | 信益陶瓷(中国)有限公司 | 一种具天然石材裂纹质感的大理石瓷砖 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 黄惠宁等: "《陶瓷墙地砖数字喷墨印刷技术与设备应用》", 31 May 2018, 中国建材工业出版社 * |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113183292A (zh) * | 2021-04-25 | 2021-07-30 | 广东家美陶瓷有限公司 | 数控模具效果陶瓷砖的制备方法 |
| EP4086235A1 (en) * | 2021-05-04 | 2022-11-09 | Flooring Industries Limited, SARL | A method and a line for manufacturing ceramic tiles |
| WO2022234352A1 (en) * | 2021-05-04 | 2022-11-10 | Flooring Industries Limited, Sarl | A method and a line for manufacturing ceramic tiles, and ceramic tiles |
| CN113789928A (zh) * | 2021-11-18 | 2021-12-14 | 广东简一(集团)陶瓷有限公司 | 一种具有波光粼粼装饰效果的陶瓷砖及其制备方法 |
| CN113789928B (zh) * | 2021-11-18 | 2022-02-22 | 广东简一(集团)陶瓷有限公司 | 一种具有波光粼粼装饰效果的陶瓷砖及其制备方法 |
| CN116253583A (zh) * | 2021-12-10 | 2023-06-13 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺 |
| CN116253583B (zh) * | 2021-12-10 | 2024-06-25 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺 |
| CN114276718A (zh) * | 2022-01-21 | 2022-04-05 | 山东国瓷康立泰新材料科技有限公司 | 一种下陷墨水用效果粉体及其制备方法和应用 |
| CN116655405A (zh) * | 2023-05-29 | 2023-08-29 | 广东天弼陶瓷有限公司 | 一种具有自然孔洞纹理的洞石砖及其制备工艺 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111704480A (zh) | 一种石纹线大理石瓷砖的制造方法 | |
| CN113666774B (zh) | 具有模具效果的柔光大理石瓷砖及其制备方法 | |
| CN109553299B (zh) | 一种结合喷墨效果的通体瓷质砖及其制备方法 | |
| CN107963814A (zh) | 复合釉料、复合釉浆以及4-8度柔面耐磨瓷质仿古砖 | |
| CN111960673B (zh) | 一种釉面白度70度大理石瓷砖的制造方法 | |
| CN110746203A (zh) | 一种数码工艺制作模具效果纹理的陶瓷制品及其制作方法 | |
| CN112830774A (zh) | 一种数码釉瓷砖及其生产方法 | |
| CN114276121B (zh) | 一种具有星光立体效果的瓷砖及其制备方法 | |
| CN107685383A (zh) | 一种仿古砖陶瓷的生产工艺 | |
| CN106003374A (zh) | 超薄面料通体瓷质砖生产工艺及生产设备 | |
| CN113860887B (zh) | 一种陶瓷板及其制备方法 | |
| CN113619321A (zh) | 一种3d数码雕刻模具面效果的陶瓷岩板及其制备方法 | |
| CN116395968B (zh) | 一种功能性墨水陶瓷产品的釉料、陶瓷产品及其制备方法和应用 | |
| CN106396738A (zh) | 一种柔光釉面砖的制造方法 | |
| CN109516691A (zh) | 一种深色图案的全抛光面陶瓷制品及其制备方法 | |
| CN109456035B (zh) | 一种具有亮哑效果的陶瓷砖及其制备方法 | |
| CN106083212B (zh) | 一种渗透墨水大理石陶瓷制品及其制作方法 | |
| CN110790507A (zh) | 一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法 | |
| CN108117413A (zh) | 陶瓷砖的制造方法及一种陶瓷砖 | |
| CN111960861A (zh) | 一种丝网类石纹线大理石瓷砖的制造方法 | |
| CN108467261B (zh) | 一种艺术瓷板画及其生产工艺 | |
| CN113978171B (zh) | 一种高耐磨、具有立体模具效果的薄型陶瓷板及其制备方法 | |
| CN110423140A (zh) | 一种使用喷墨打印生产黑金花的工艺方法 | |
| CN112429967B (zh) | 一种用于陶瓷砖的超平釉、陶瓷砖及其制造方法 | |
| CN113372098A (zh) | 一种3d精雕艺术瓷砖的制造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200925 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |