CN111304637A - 镀膜生产设备 - Google Patents

镀膜生产设备 Download PDF

Info

Publication number
CN111304637A
CN111304637A CN202010188797.8A CN202010188797A CN111304637A CN 111304637 A CN111304637 A CN 111304637A CN 202010188797 A CN202010188797 A CN 202010188797A CN 111304637 A CN111304637 A CN 111304637A
Authority
CN
China
Prior art keywords
vacuum
heating
cavity
conveying
loading
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202010188797.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111304637B (zh
Inventor
梁建军
朱海剑
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Changzhou Jiejiachuang Precision Machinery Co Ltd
Original Assignee
Changzhou Jiejiachuang Precision Machinery Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Changzhou Jiejiachuang Precision Machinery Co Ltd filed Critical Changzhou Jiejiachuang Precision Machinery Co Ltd
Priority to CN202010188797.8A priority Critical patent/CN111304637B/zh
Publication of CN111304637A publication Critical patent/CN111304637A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111304637B publication Critical patent/CN111304637B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4581Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber characterised by material of construction or surface finish of the means for supporting the substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54Apparatus specially adapted for continuous coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供了一种镀膜生产设备,镀膜生产设备包括:进载腔,进载腔上设置有第一真空泵;加热组件,加热组件的进料端与进载箱相连接,加热组件包括至少两个真空加热装置;出载腔,与加热组件的出料端相连接,出载腔上设置有第二真空泵;传送组件,与进载腔,加热组件和出载腔相连接;其中,传送组件被配置为适于将进载腔中的至少两个工件分别传送至至少两个真空加热装置中加热,以及将完成加热的至少两个工件由真空加热装置传送至出载腔。使镀膜生产设备可以在单次抽真空‑回填大气循环中同时加热多个工件,以大幅度提升加工效率。进而实现优化镀膜生产设备结构,提升镀膜生产设备生产效率,降低产品生产成本的技术效果。

Description

镀膜生产设备
技术领域
本发明涉及镀膜生产技术领域,具体而言,涉及一种镀膜生产设备。
背景技术
太阳能电池片生产过程中,PECVD(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition,等离子体增强化学的气象沉积法)镀膜设备的产能直接影响着电池片的成本,传统的PECVD设备,由于每块载板每次进出真空腔体都需要花费很多的时间进行抽真空回填大气,同时为了工艺反应时硅片的温度均匀,需要很多个腔体均放置加热器并且花费很多的时间给硅片辐射加热,这样就导致设备成本大大提高、单位时间的产能受到很大的约束。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
为此,本发明提出一种镀膜生产设备。
有鉴于此,本发明的提供了一种镀膜生产设备,镀膜生产设备包括:进载腔,进载腔上设置有第一真空泵;加热组件,加热组件的进料端与进载箱相连接,加热组件包括至少两个真空加热装置;出载腔,与加热组件的出料端相连接,出载腔上设置有第二真空泵;传送组件,与进载腔,加热组件和出载腔相连接;其中,传送组件被配置为适于将进载腔中的至少两个工件分别传送至至少两个真空加热装置中加热,以及将完成加热的至少两个工件由真空加热装置传送至出载腔。
在该技术方案中,镀膜生产设备包括进载腔、加热组件、出载腔和传送组件。进载腔与加热组件的进料端相连接,用于向加热组件输送待加工的工件,加热组件用于加热工件,以满足用户的工艺需求。出载腔与加热组件的出料端相连接,用于接收已完成加热的工件,并将已完成加热的工件集中输送出镀膜生产设备。根据工件的工艺需求,在进载腔上设置有第一真空泵,在加热组件内设置至少两个真空加热装置,在出载腔上设置第二真空泵,从而使进载腔可以与真空加热装置同步气压后向真空加热装置中进载工件,相应的使出载腔可以与真空加热装置同步气压后由真空加热装置接收完成加工的工件,从而保证真空加热装置的真空环境不被破坏,确保加工出的工件的质量稳定可靠。传送组件与进载腔、加热组件和出载腔相连接,传送组件可以同时将至少两个工件由进载腔分别传送至加热装置中的至少两个真空加热装置中以供加热,并且传送组件还可以同时将至少两个真空加热装置中的工件由加热组件传送至出载腔内。
通过在镀膜生产设备上设置至少两个真空加热装置,以及设置可同时向至少两个真空加热装置输送和输出工件的传送组件,使镀膜生产设备可以执行一次抽真空循环时,同时完成多个工件的加热工艺,从而避免每个工件在进出进载腔、加热组件和出载腔时均需要执行一次抽真空和回填大气的步骤,使镀膜生产设备可以在单次抽真空-回填大气循环中同时加热多个工件,以大幅度提升加工效率。进而实现优化镀膜生产设备结构,提升镀膜生产设备生产效率,降低产品生产成本的技术效果。
另外,本发明提供的上述镀膜生产设备还可以具有如下附加技术特征:
上述技术方案中,至少两个真空加热装置串接。
在该技术方案中,对真空加热装置的设置方式做出了具体限定。至少两个真空加热装置相串接,传送组件依次与相串接的真空加热装置相连接。通过将至少两个真空加热装置串接在一起,可以减少传送组件的支路数目,使单条传送组件可以在一个抽真空-回填大气循环内依次完成至少两个真空加热装置的工件进载和工件出载。从而实现优化加热组件结构,简化传送组件结构,提升镀膜生产设备产能,降低镀膜生产设备成本的技术效果。
上述任一技术方案中,传送组件包括:传送轮组,传送轮组包括:多个传送轮,多个传送轮分别设置于进载腔,出载腔和真空加热装置中;载板,设置于传送轮组上,传送轮转动以带动载板在传送轮组上行进,载板被配置为适于承载工件。
在该技术方案中,对传送组件的结构做出了具体限定。传送组件包括传送轮组和载板,传送轮组为传送组件的输送结构,由多个传送轮组成,多个传送轮分别设置在进载腔、真空加热装置和出载腔中。载板为传送组件的定位承载结构,载板放置在传送轮组上,并在传送轮组的带动下在传送轮组上运动,其中工件被定位在载板上随同载板一同运动。工作过程中,装有工件的载板放入进载腔,并在传送轮组的驱动下运动至真空加热装置中,在真空加热装置完成对载板上的工件的加热后,传送轮组将载板传输至出载腔中,以使完成加热的工件可进入下个加工环节。其中,传送轮组和载板为分体式结构,用户可直接将完成装载的载板放置在传送轮组上,以尽快进入加热环节,同理在出载时,用户可直接将承载已完成加热的工件的载板由传送轮组上拆卸下来,并快速进入下一个加热循环,从而大幅度提升了工件在传送组件上的装卸速率,进而实现优化传送组件结构,提升传送组件工作效率,提升镀膜生产设备产能的技术效果。
上述任一技术方案中,传送轮组的数量与真空加热装置的数量相同,不同的传动轮组位于不同的平面上;载板的数量与真空加热装置的数量相同,每个传送轮组上均设置有一个载板。
在该技术方案中,对传送轮组的结构做出了进一步限定。传送轮组的数量与真空加热装置的数量相同,多个传送轮组一一对应多个真空加热装置,并且不同的传送轮组分布在不同的平面上,以避免干涉。其中,载板的数量同样与真空加热装置的数量相同,多个载板一一对应多个真空加热装置和多个传送轮组,以在多个传送轮组的驱动下通过多个载板同时为多个真空加热装置输送和输出工件。工作过程中,不同的载板分别在不同的平面上运动,当载板运动至对应的真空加热装中停止运动并执行加热工序,完成加热后,多个载板一同运动至出载腔中,并由出载腔输出。通过设置与真空加热装置数目对应的传送轮组和载板,使传送组件可以同时为多个真空加热装置输送和输出工件,从而使镀膜生产设备可以在一次抽真空-大气回填的循环内加热尽可能多的工件。进而实现优化传送组件结构,提升镀膜生产设备的生产效率,大幅度提升产能,降低生产成本的技术效果。
上述任一技术方案中,真空加热装置包括:加热箱;加热器,设置于加热箱内;升降装置,设置于加热箱上,与加热器相连接,升降装置升高或降低加热器。
在该技术方案中,真空加热装置包括加热箱、加热器和升降装置。加热箱围合限定出加热腔室。加热器设置在加热箱内,以提供用户加热工件的热量。升降装置设置在加热箱底部,与加热器相连接,升降装置可以带动加热器升高或降低,以使加热器可以在需要加热工件时靠近工件,完成加热后脱离工件。通过设置与升降装置相连接的加热器,使加热装置可以近距离加热工件,一方面大幅度提升了加热效率,另一方面通过近距离接触加热避免出现工件加热不均的现象,进而实现了优化加热装置结构,提升加热装置可靠性,提升镀膜生产设备的生产精度的技术效果。
上述任一技术方案中,传送轮组还包括:伸缩装置,设置于进载腔,出载腔和真空加热装置上,与传送轮相连接。
在该技术方案中,传送轮组上还设置有伸缩装置,伸缩装置与传送轮对应设置在进载腔、真空加热装置和出载腔中,其中伸缩装置的伸缩端与传送轮相连接,以带动传送轮伸出或回缩。工作过程中,承载待加热的工件的载板移动至目标加热箱内后停止运动,其后不负责运动该真空加热装置的传送轮组上的传送轮在伸缩装置带动下回缩,随后升降装置带动加热器上升,以使载板上的工件可以与加热器相贴合,保证加热器可以接触加热工件,完成加热后升降装置带动加热器复位,伸缩装置带动回缩的传送轮伸出。通过设置伸缩装置可以避免在设置在真空加热装置中的多个传送轮组对升降装置产生干涉,保证每个真空加热装置中的加热器均可以与对应的载板上的工件相接触。进而实现了优化传送轮组结构,提升镀膜生产设备的实用性与可靠性的技术效果。
上述任一技术方案中,载板上设置有格栅,工件嵌设在格栅上;加热器上设置有与格栅对应的沟槽,升高中的加热器与工件接触后,格栅落入沟槽内。
在该技术方案中,载板上设置有与工件外形相适配的格栅,工件嵌设在格栅上,以通过格栅定位工件。同时,加热器上设置有与格栅形状相对应的沟槽,使升降装置在带动加热器上升后,载板可以落入至沟槽内,以使工件可以脱离载板并与加热器相接触,在完成加热后,升降装置带动加热器下降,工件再次落入至载板的格栅上。通过在载板和加热器上设置对应的格栅和沟槽,使工件可以在加热过程中脱离载板并与加热器相接触,从而保证工件的加热效率和加热效果,避免出现加热不均,加热不完全的技术问题,进而提升镀膜生产设备的可靠性与稳定性。
上述任一技术方案中,镀膜生产设备还包括:第一真空门阀,第一真空门阀的一端与进载腔相连接,第一真空门阀的另一端与进料端相连接;第二真空门阀,第二真空门阀的一端与出载腔相连接,第二真空门阀的另一端与出料端相连接;第三真空门阀,第三真空门阀的两端分别与不同的真空加热装置相连接。
在该技术方案中,镀膜生产设备上还设置有第一真空门阀、第二真空门阀和第三真空门阀。第一真空门阀连通进载腔和真空加热装置,当进载腔需要向加热组件输送工件时,第一真空门阀开启,其后关闭第一真空门阀并加热工件,通过设置第一真空门阀一方面可以保证真空加热组件内的气压稳定,另一方面可以避免热量散失。第二真空门阀连通真空加热装置和出载腔,完成工件的加热后,第二真空门阀开启,当全部载板进入出载腔后,关闭第二真空门阀,第二真空门阀和第一真空门阀相配合,以保证真空加热装置内的气压稳定,从而免去了频繁的抽取真空加热装置内部空气的步骤,进而提升生产效率,缩减生产成本。第三真空门阀联通相邻的两个不同的真空加热装置,进载和出载工件时第三真空门阀开启,通过设置第三真空门阀,可以使每个真空加热装置独立加热工件,从而提升镀膜生产设备的适用范围,提升产品的实用性。
上述任一技术方案中,镀膜生产设备还包括:第三真空泵,与真空加热装置相连接,第三真空泵被配置为抽取真空加热装置中的气体。
在该技术方案中,镀膜生产设备上还设置有第三真空泵,第三真空泵与真空加热装置相连接,用于抽取真空加热装置内的气体,从而满足真空状态下的加热工艺,以得到符合要求的工件。
上述任一技术方案中,镀膜生产设备还包括:第一大气门阀,设置于进载腔上,第一大气门阀开启或关闭进载腔上的进料口;第二大气门阀,设置于出载腔上,第二大气门阀开启或关闭出载腔上的出料口。
在该技术方案中,镀膜生产设备上还设置有第一大气门阀和第二大气门阀,第一大气门阀设置在进载腔上,用于开关进载腔的进料口,第二大气门阀设置在出载腔上,用于开关出载腔上的出料口。工作过程中,工件全部放入进载腔后,第一大气门阀关闭,第一真空泵抽取进载腔内的气体,以平衡进载腔和真空加热装置的气压。待完成加热的工件全部进入出载腔后,第二大气门阀开启,以将工件运送出镀膜生产设备。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1示出了根据本发明的一个实施例的镀膜生产设备的结构示意图;
图2示出了根据本发明的一个实施例的镀膜生产设备的另一个结构示意图;
图3示出了根据本发明的另一个实施例的镀膜生产设备的结构示意图;
图4示出了根据本发明的再一个实施例的镀膜生产设备的结构示意图;
图5示出了根据本发明的再一个实施例的镀膜生产设备的结构示意图;
图6示出了根据本发明的再一个实施例的镀膜生产设备的结构示意图。
其中,图1至图6中的附图标记与部件名称之间的对应关系为:
1镀膜生产设备,10进载腔,102第一真空泵,104第一大气门阀,20真空加热装置,202加热箱,204加热器,206沟槽,208升降装置,210第三真空泵,30出载腔,302第二真空泵,304第二大气门阀,40传送组件,402传送轮,404载板,406格栅,50第一真空门阀,60第二真空门阀,70第三真空门阀。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点,下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明,但是,本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施,因此,本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
下面参照图1至图6描述根据本发明一些实施例所述的镀膜生产设备1。
如图1和图2所示,在本发明第一方面的实施例中,提供了一种镀膜生产设备1,镀膜生产设备1包括:进载腔10,进载腔10上设置有第一真空泵102;加热组件,加热组件的进料端与进载箱相连接,加热组件包括至少两个真空加热装置20;出载腔30,与加热组件的出料端相连接,出载腔30上设置有第二真空泵302;传送组件40,与进载腔10,加热组件和出载腔30相连接;其中,传送组件40被配置为适于将进载腔10中的至少两个工件分别传送至至少两个真空加热装置20中加热,以及将完成加热的至少两个工件由真空加热装置20传送至出载腔30。
在该实施例中,镀膜生产设备1包括进载腔10、加热组件、出载腔30和传送组件40。进载腔10与加热组件的进料端相连接,用于向加热组件输送待加工的工件,加热组件用于加热工件,以满足用户的工艺需求。出载腔30与加热组件的出料端相连接,用于接收已完成加热的工件,并将已完成加热的工件集中输送出镀膜生产设备1。根据工件的工艺需求,在进载腔10上设置有第一真空泵102,在加热组件内设置至少两个真空加热装置20,在出载腔30上设置第二真空泵302,从而使进载腔10可以与真空加热装置20同步气压后向真空加热装置20中进载工件,相应的使出载腔30可以与真空加热装置20同步气压后由真空加热装置20接收完成加工的工件,从而保证真空加热装置20的真空环境不被破坏,确保加工出的工件的质量稳定可靠。传送组件40与进载腔10、加热组件和出载腔30相连接,传送组件40可以同时将至少两个工件由进载腔10分别传送至加热装置中的至少两个真空加热装置20中以供加热,并且传送组件40还可以同时将至少两个真空加热装置20中的工件由加热组件传送至出载腔30内。
通过在镀膜生产设备1上设置至少两个真空加热装置20,以及设置可同时向至少两个真空加热装置20输送和输出工件的传送组件40,使镀膜生产设备1可以执行一次抽真空循环时,同时完成多个工件的加热工艺,从而避免每个工件在进出进载腔10、加热组件和出载腔30时均需要执行一次抽真空和回填大气的步骤,使镀膜生产设备1可以在单次抽真空-回填大气循环中同时加热多个工件,以大幅度提升加工效率。进而实现优化镀膜生产设备1结构,提升镀膜生产设备1生产效率,降低产品生产成本的技术效果。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图2所示,至少两个真空加热装置20串接。
在该实施例中,对真空加热装置20的设置方式做出了具体限定。至少两个真空加热装置20相串接,传送组件40依次与相串接的真空加热装置20相连接。通过将至少两个真空加热装置20串接在一起,可以减少传送组件40的支路数目,使单条传送组件40可以在一个抽真空-回填大气循环内依次完成至少两个真空加热装置20的工件进载和工件出载。从而实现优化加热组件结构,简化传送组件40结构,提升镀膜生产设备1产能,降低镀膜生产设备1成本的技术效果。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图2所示,传送组件40包括:传送轮402组,传送轮402组包括:多个传送轮402,多个传送轮402分别设置于进载腔10,出载腔30和真空加热装置20中;载板404,设置于传送轮402组上,传送轮402转动以带动载板404在传送轮402组上行进,载板404被配置为适于承载工件。
在该实施例中,对传送组件40的结构做出了具体限定。传送组件40包括传送轮402组和载板404,传送轮402组为传送组件40的输送结构,由多个传送轮402组成,多个传送轮402分别设置在进载腔10、真空加热装置20和出载腔30中。载板404为传送组件40的定位承载结构,载板404放置在传送轮402组上,并在传送轮402组的带动下在传送轮402组上运动,其中工件被定位在载板404上随同载板404一同运动。工作过程中,装有工件的载板404放入进载腔10,并在传送轮402组的驱动下运动至真空加热装置20中,在真空加热装置20完成对载板404上的工件的加热后,传送轮402组将载板404传输至出载腔30中,以使完成加热的工件可进入下个加工环节。其中,传送轮402组和载板404为分体式结构,用户可直接将完成装载的载板404放置在传送轮402组上,以尽快进入加热环节,同理在出载时,用户可直接将承载已完成加热的工件的载板404由传送轮402组上拆卸下来,并快速进入下一个加热循环,从而大幅度提升了工件在传送组件40上的装卸速率,进而实现优化传送组件40结构,提升传送组件40工作效率,提升镀膜生产设备1产能的技术效果。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图2所示,传送轮402组的数量与真空加热装置20的数量相同,不同的传动轮组位于不同的平面上;载板404的数量与真空加热装置20的数量相同,每个传送轮402组上均设置有一个载板404。
在该实施例中,对传送轮402组的结构做出了进一步限定。传送轮402组的数量与真空加热装置20的数量相同,多个传送轮402组一一对应多个真空加热装置20,并且不同的传送轮402组分布在不同的平面上,以避免干涉。其中,载板404的数量同样与真空加热装置20的数量相同,多个载板404一一对应多个真空加热装置20和多个传送轮402组,以在多个传送轮402组的驱动下通过多个载板404同时为多个真空加热装置20输送和输出工件。工作过程中,不同的载板404分别在不同的平面上运动,当载板404运动至对应的真空加热装中停止运动并执行加热工序,完成加热后,多个载板404一同运动至出载腔30中,并由出载腔30输出。通过设置与真空加热装置20数目对应的传送轮402组和载板404,使传送组件40可以同时为多个真空加热装置20输送和输出工件,从而使镀膜生产设备1可以在一次抽真空-大气回填的循环内加热尽可能多的工件。进而实现优化传送组件40结构,提升镀膜生产设备1的生产效率,大幅度提升产能,降低生产成本的技术效果。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图1所示,真空加热装置20包括:加热箱202;加热器204,设置于加热箱202内;升降装置208,设置于加热箱202上,与加热器204相连接,升降装置208升高或降低加热器204。
在该实施例中,真空加热装置20包括加热箱202、加热器204和升降装置208。加热箱202围合限定出加热腔室。加热器204设置在加热箱202内,以提供用户加热工件的热量。升降装置208设置在加热箱202底部,与加热器204相连接,升降装置208可以带动加热器204升高或降低,以使加热器204可以在需要加热工件时靠近工件,完成加热后脱离工件。通过设置与升降装置208相连接的加热器204,使加热装置可以近距离加热工件,一方面大幅度提升了加热效率,另一方面通过近距离接触加热避免出现工件加热不均的现象,进而实现了优化加热装置结构,提升加热装置可靠性,提升镀膜生产设备1的生产精度的技术效果。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图1所示,传送轮402组还包括:伸缩装置,设置于进载腔10,出载腔30和真空加热装置20上,与传送轮402相连接。
在该实施例中,传送轮402组上还设置有伸缩装置,伸缩装置与传送轮402对应设置在进载腔10、真空加热装置20和出载腔30中,其中伸缩装置的伸缩端与传送轮402相连接,以带动传送轮402伸出或回缩。工作过程中,承载待加热的工件的载板404移动至目标加热箱202内后停止运动,其后不负责运动该真空加热装置20的传送轮402组上的传送轮402在伸缩装置带动下回缩,随后升降装置208带动加热器204上升,以使载板404上的工件可以与加热器204相贴合,保证加热器204可以接触加热工件,完成加热后升降装置208带动加热器204复位,伸缩装置带动回缩的传送轮402伸出。通过设置伸缩装置可以避免在设置在真空加热装置20中的多个传送轮402组对升降装置208产生干涉,保证每个真空加热装置20中的加热器204均可以与对应的载板404上的工件相接触。进而实现了优化传送轮402组结构,提升镀膜生产设备1的实用性与可靠性的技术效果。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图1所示,载板404上设置有格栅406,工件嵌设在格栅406上;加热器204上设置有与格栅406对应的沟槽206,升高中的加热器204与工件接触后,格栅406落入沟槽206内。
在该实施例中,载板404上设置有与工件外形相适配的格栅406,工件嵌设在格栅406上,以通过格栅406定位工件。同时,加热器204上设置有与格栅406形状相对应的沟槽206,使升降装置208在带动加热器204上升后,载板404可以落入至沟槽206内,以使工件可以脱离载板404并与加热器204相接触,在完成加热后,升降装置208带动加热器204下降,工件再次落入至载板404的格栅406上。通过在载板404和加热器204上设置对应的格栅406和沟槽206,使工件可以在加热过程中脱离载板404并与加热器204相接触,从而保证工件的加热效率和加热效果,避免出现加热不均,加热不完全的技术问题,进而提升镀膜生产设备1的可靠性与稳定性。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图2所示,镀膜生产设备1还包括:第一真空门阀50,第一真空门阀50的一端与进载腔10相连接,第一真空门阀50的另一端与进料端相连接;第二真空门阀60,第二真空门阀60的一端与出载腔30相连接,第二真空门阀60的另一端与出料端相连接;第三真空门阀70,第三真空门阀70的两端分别与不同的真空加热装置20相连接。
在该实施例中,镀膜生产设备1上还设置有第一真空门阀50、第二真空门阀60和第三真空门阀70。第一真空门阀50连通进载腔10和真空加热装置20,当进载腔10需要向加热组件输送工件时,第一真空门阀50开启,其后关闭第一真空门阀50并加热工件,通过设置第一真空门阀50一方面可以保证真空加热组件内的气压稳定,另一方面可以避免热量散失。第二真空门阀60连通真空加热装置20和出载腔30,完成工件的加热后,第二真空门阀60开启,当全部载板404进入出载腔30后,关闭第二真空门阀60,第二真空门阀60和第一真空门阀50相配合,以保证真空加热装置20内的气压稳定,从而免去了频繁的抽取真空加热装置20内部空气的步骤,进而提升生产效率,缩减生产成本。第三真空门阀70联通相邻的两个不同的真空加热装置20,进载和出载工件时第三真空门阀70开启,通过设置第三真空门阀70,可以使每个真空加热装置20独立加热工件,从而提升镀膜生产设备1的适用范围,提升产品的实用性。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图1所示,镀膜生产设备1还包括:第三真空泵210,与真空加热装置20相连接,第三真空泵210被配置为抽取真空加热装置20中的气体。
在该实施例中,镀膜生产设备1上还设置有第三真空泵210,第三真空泵210与真空加热装置20相连接,用于抽取真空加热装置20内的气体,从而满足真空状态下的加热工艺,以得到符合要求的工件。
在本发明的一个实施例中,进一步地,如图2所示,镀膜生产设备1还包括:第一大气门阀104,设置于进载腔10上,第一大气门阀104开启或关闭进载腔10上的进料口;第二大气门阀304,设置于出载腔30上,第二大气门阀304开启或关闭出载腔30上的出料口。
在该实施例中,镀膜生产设备1上还设置有第一大气门阀104和第二大气门阀304,第一大气门阀104设置在进载腔10上,用于开关进载腔10的进料口,第二大气门阀304设置在出载腔30上,用于开关出载腔30上的出料口。工作过程中,工件全部放入进载腔10后,第一大气门阀104关闭,第一真空泵102抽取进载腔10内的气体,以平衡进载腔10和真空加热装置20的气压。待完成加热的工件全部进入出载腔30后,第二大气门阀304开启,以将工件运送出镀膜生产设备1。
在本发明的一个具体实施例中:
本发明设计带有铝制凸台的加热器204,工艺腔(真空加热装置20)内的升降动作,使硅片(工件)可以自动脱离载板404,直接接触落在带有均匀高温的凸台面上,形成高效的热传导加热方式,进行工艺反应;工艺结束,工艺腔内的升降动作,使硅片自动落在载板404上,和加热器204脱离,继续后续载板404传输。
在进载腔10和出载腔30设置双层传送轮402组,两块载板404可以同时进出进载腔10和出载腔30,同时进行抽真空和回填大气,然后每块载板404各进入一个工艺腔体内的工艺反应工位同时进行硅片镀膜工艺,大大的提高了设备的产能,改善了频繁抽真空回填大气带来的能耗问题。
载板404为镂空载板404,使用碳纤维材料制作耐高温;加热器204有多个凸台,凸台间有凹槽(沟槽206),载板404的实体部分可以落至加热器204的凹槽中。
在本发明的另一个具体实施例中:
如图2所示,两个载板404通过上下两排传送轮402组进入进载腔10,然后第一大气门阀104关闭,开始抽真空,到达要求的真空压力,和真空加热装置20中的压力保持一致;此时真空加热装置20中的加热器204已经经过长时间加热,加热器204上的凸台上表面已达到要求的均匀高温。
如图3所示,第一真空门阀50和第三真空门阀70打开,两个载板404通过传送轮402组,分别传输至两个真空加热装置20中。
如图4所示,真空加热装置20中的升降装置208分别上升,载板404上的硅片(工件)分别落加热器204的凸台上,同时载板404落至凸台间的凹槽(沟槽206)里,继续上升使载板404和传送轮402组脱离,硅片经过热传导方式快速加热;升降装置208带着载板404、和硅片上升至要求的位置,进行工艺反应。
如图5所示,工艺结束后,真空加热装置20中的升降装置208分别下降,两个载板404分别落至两个传送轮402组上,升降装置208继续下降,使加热器204凸台上的每个硅片四周落至载板404上对应的硅片区域(格栅406),同时硅片和加热器204上的凸台面分离。
如图6所示,真第二真空门阀60打开,载板404带着硅片,通过传送轮402组传输至出载腔30,第二真空门阀60关闭,进行回填大气,再打开第二大气门阀304,载板404通过传送轮402组传输出出载腔30。
硅片、载板404和加热器204间的接触导热、分离传输,简单高效,相比于传统方式,整个节拍花费的时间大大降低,同时很好地保证了硅片的加热均匀性,产能大幅提高,成本和能耗得到很好地控制。
本发明的描述中,术语“多个”则指两个或两个以上,除非另有明确的限定,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所述的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制;术语“连接”、“安装”、“固定”等均应做广义理解,例如,“连接”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明的描述中,术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本发明中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且,描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种镀膜生产设备,其特征在于,包括:
进载腔,所述进载腔上设置有第一真空泵;
加热组件,所述加热组件的进料端与所述进载箱相连接,所述加热组件包括至少两个真空加热装置;
出载腔,与所述加热组件的出料端相连接,所述出载腔上设置有第二真空泵;
传送组件,与所述进载腔,所述加热组件和所述出载腔相连接;
其中,所述传送组件被配置为适于将进载腔中的至少两个工件分别传送至至少两个所述真空加热装置中加热,以及将完成加热的所述至少两个工件由所述真空加热装置传送至所述出载腔。
2.根据权利要求1所述的镀膜生产设备,其特征在于,至少两个所述真空加热装置串接。
3.根据权利要求2所述的镀膜生产设备,其特征在于,所述传送组件包括:
传送轮组,所述传送轮组包括:
多个传送轮,多个所述传送轮分别设置于所述进载腔,所述出载腔和所述真空加热装置中;
载板,设置于所述传送轮组上,所述传送轮转动以带动所述载板在所述传送轮组上行进,所述载板被配置为适于承载所述工件。
4.根据权利要求3所述的镀膜生产设备,其特征在于,所述传送轮组的数量与所述真空加热装置的数量相同,不同的所述传动轮组位于不同的平面上;
所述载板的数量与所述真空加热装置的数量相同,每个所述传送轮组上均设置有一个所述载板。
5.根据权利要求4所述的镀膜生产设备,其特征在于,所述真空加热装置包括:
加热箱;
加热器,设置于所述加热箱内;
升降装置,设置于所述加热箱上,与所述加热器相连接,所述升降装置升高或降低所述加热器。
6.根据权利要求4所述的镀膜生产设备,其特征在于,所述传送轮组还包括:
伸缩装置,设置于所述进载腔,所述出载腔和所述真空加热装置上,与所述传送轮相连接。
7.根据权利要求5所述的镀膜生产设备,其特征在于,所述载板上设置有格栅,所述工件嵌设在所述格栅上;
所述加热器上设置有与所述格栅对应的沟槽,升高中的所述加热器与所述工件接触后,所述格栅落入所述沟槽内。
8.根据权利要求3至7中任一项所述的镀膜生产设备,其特征在于,还包括:
第一真空门阀,所述第一真空门阀的一端与所述进载腔相连接,所述第一真空门阀的另一端与所述进料端相连接;
第二真空门阀,所述第二真空门阀的一端与所述出载腔相连接,所述第二真空门阀的另一端与所述出料端相连接;
第三真空门阀,所述第三真空门阀的两端分别与不同的所述真空加热装置相连接。
9.根据权利要求3至7中任一项所述的镀膜生产设备,其特征在于,还包括:
第三真空泵,与所述真空加热装置相连接,所述第三真空泵被配置为抽取所述真空加热装置中的气体。
10.根据权利要求3至7中任一项所述的镀膜生产设备,其特征在于,还包括:
第一大气门阀,设置于所述进载腔上,所述第一大气门阀开启或关闭所述进载腔上的进料口;
第二大气门阀,设置于所述出载腔上,所述第二大气门阀开启或关闭所述出载腔上的出料口。
CN202010188797.8A 2020-03-17 2020-03-17 镀膜生产设备 Active CN111304637B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010188797.8A CN111304637B (zh) 2020-03-17 2020-03-17 镀膜生产设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010188797.8A CN111304637B (zh) 2020-03-17 2020-03-17 镀膜生产设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111304637A true CN111304637A (zh) 2020-06-19
CN111304637B CN111304637B (zh) 2024-04-12

Family

ID=71149749

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010188797.8A Active CN111304637B (zh) 2020-03-17 2020-03-17 镀膜生产设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111304637B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112226745A (zh) * 2020-10-29 2021-01-15 常州捷佳创精密机械有限公司 硅片处理设备
CN112626485A (zh) * 2020-12-31 2021-04-09 广东谛思纳为新材料科技有限公司 一种pvd连续镀膜设备及镀膜方法
CN114774890A (zh) * 2022-04-13 2022-07-22 江苏微导纳米科技股份有限公司 薄膜沉积装置及其支撑机构
CN115852335A (zh) * 2022-10-17 2023-03-28 江苏微导纳米科技股份有限公司 镀膜设备及镀膜方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970063482A (ko) * 1996-02-16 1997-09-12 시바타 쇼타로 반도체 제조장치의 기판 가열장치
JPH09307128A (ja) * 1996-05-20 1997-11-28 Fuji Electric Co Ltd 薄膜光電変換素子の製造装置および製造方法
CN101768731A (zh) * 2008-12-29 2010-07-07 K.C.科技股份有限公司 原子层沉积装置
CN101851748A (zh) * 2009-04-03 2010-10-06 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 全自动大型平板pecvd氮化硅覆膜制备***
CN102741975A (zh) * 2010-04-30 2012-10-17 应用材料公司 双腔室处理***
DE102013106825A1 (de) * 2013-06-28 2014-12-31 Von Ardenne Gmbh Flächenheizer aus einer Vielzahl von Heizsegmenten
CN104269369A (zh) * 2014-08-29 2015-01-07 沈阳拓荆科技有限公司 一种通过真空装载腔为晶圆预热的装置及方法
CN106165081A (zh) * 2014-04-02 2016-11-23 应用材料公司 基板处理***、用于基板处理***的真空旋转模块以及用于操作基板处理***的方法
US20170198391A1 (en) * 2016-01-08 2017-07-13 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus
CN109576679A (zh) * 2018-12-24 2019-04-05 上海治臻新能源装备有限公司 一种燃料电池双极板碳涂层连续沉积***及其应用
CN211999911U (zh) * 2020-03-17 2020-11-24 常州捷佳创精密机械有限公司 镀膜生产设备

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970063482A (ko) * 1996-02-16 1997-09-12 시바타 쇼타로 반도체 제조장치의 기판 가열장치
JPH09307128A (ja) * 1996-05-20 1997-11-28 Fuji Electric Co Ltd 薄膜光電変換素子の製造装置および製造方法
CN101768731A (zh) * 2008-12-29 2010-07-07 K.C.科技股份有限公司 原子层沉积装置
CN101851748A (zh) * 2009-04-03 2010-10-06 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 全自动大型平板pecvd氮化硅覆膜制备***
CN102741975A (zh) * 2010-04-30 2012-10-17 应用材料公司 双腔室处理***
DE102013106825A1 (de) * 2013-06-28 2014-12-31 Von Ardenne Gmbh Flächenheizer aus einer Vielzahl von Heizsegmenten
CN106165081A (zh) * 2014-04-02 2016-11-23 应用材料公司 基板处理***、用于基板处理***的真空旋转模块以及用于操作基板处理***的方法
CN104269369A (zh) * 2014-08-29 2015-01-07 沈阳拓荆科技有限公司 一种通过真空装载腔为晶圆预热的装置及方法
US20170198391A1 (en) * 2016-01-08 2017-07-13 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus
CN109576679A (zh) * 2018-12-24 2019-04-05 上海治臻新能源装备有限公司 一种燃料电池双极板碳涂层连续沉积***及其应用
CN211999911U (zh) * 2020-03-17 2020-11-24 常州捷佳创精密机械有限公司 镀膜生产设备

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112226745A (zh) * 2020-10-29 2021-01-15 常州捷佳创精密机械有限公司 硅片处理设备
CN112626485A (zh) * 2020-12-31 2021-04-09 广东谛思纳为新材料科技有限公司 一种pvd连续镀膜设备及镀膜方法
CN114774890A (zh) * 2022-04-13 2022-07-22 江苏微导纳米科技股份有限公司 薄膜沉积装置及其支撑机构
CN115852335A (zh) * 2022-10-17 2023-03-28 江苏微导纳米科技股份有限公司 镀膜设备及镀膜方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN111304637B (zh) 2024-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111304637A (zh) 镀膜生产设备
CN102498558B (zh) 将基板放置在处理腔室中的设备和让处理腔室中的基板朝向中心的方法
CN101622703B (zh) 基板支持框架及基板处理设备和以此设备装卸基板的方法
JP2007242648A (ja) 基板の処理装置
CN101248215B (zh) 批式沉积工具及压缩晶舟
KR101630804B1 (ko) 기판처리시스템 및 기판처리시스템의 언로드락모듈
KR20110006091A (ko) 기판처리 장치 및 방법과, 이를 포함한 인라인 처리 시스템 및 방법
CN211999911U (zh) 镀膜生产设备
CN101621021A (zh) 基板支撑框架及包含该框架的基板处理设备
CN110408914B (zh) 管式沉积***
CN111696882A (zh) 腔室及半导体加工设备
US20140165910A1 (en) Apparatus for large-area atomic layer deposition
CN112234021A (zh) 载板升降装置和硅片处理设备
CN206742216U (zh) 基板传送装置及包含该基板传送装置的基板处理***
CN110735125A (zh) 用于制造异质结太阳能电池的pecvd设备及镀膜方法
CN212517147U (zh) Pecvd设备无载板硅片传送机构及与该传送机构配合的工艺腔室
CN108682715B (zh) 一种太阳能电池表面钝化膜生产设备
CN111863699B (zh) 承载装置及工艺腔室
TWI673815B (zh) 基板處理系統、基板傳送裝置和傳送方法
CN208649462U (zh) 一种镀膜***
KR101651164B1 (ko) 기판처리시스템, 그에 사용되는 기판처리시스템의 공정모듈
CN212270220U (zh) 传送载板及真空镀膜设备
CN111809167B (zh) Pecvd设备及其所用的pecvd镀膜方法
CN218932303U (zh) 超大产能真空镀膜腔及用于异质结技术的真空镀膜设备
CN214327880U (zh) 下电极底座装置及真空镀膜腔***

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant