CN111002446B - 一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖及其制备方法。所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20%、氯化钠10～20%、表面活性剂10～20%、果酸活性肽15～30%、水30～50%。

Description

一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖及 其制备方法
技术领域
本发明属于陶瓷建材领域，尤其涉及一种釉面细腻的防滑防污的全抛釉瓷质砖及其制备方法。
背景技术
随着现在社会的发展，老龄化已经越来越严重，对瓷砖的安全性能要求越来越高，尤其是瓷砖的防滑性能，现在市面上瓷砖的防滑性能与防污或藏污性能两者很难兼具，现在瓷砖的防滑性能普遍采用布施打点釉、高温釉或高温干粒致使烧成后呈现凹凸不平的效果，表面粗糙不够光泽细腻，其次是防污差且容易藏污。市面上生产的抛釉产品表面细腻光滑，防污很好深受用户喜爱，但防滑性能偏低，湿水后防滑性能更是极具下降。
目前市场上的抛釉产品因静摩擦系数远远不能达到防滑的要求，干法静摩擦系数在0.4～0.55之间，其湿法静摩擦系数更低，当静摩擦系数大于0.6时，防滑性能达到“安全”的级别。而目前市场上的防滑砖的静摩擦系数在0.65以上，但其对应的湿法静摩擦系数普遍下降0.1～0.3左右，同时釉面凹凸不平，既容易藏污较难清理的现象，针对这些问题研究一种具有表面细腻，防污和防滑性能的产品，可以广泛运用于豪华高档的宾馆旅店、商厦、泳池，浴室，厨房以及家庭公寓等场所。
发明内容
本发明的目的是提供一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖及其制备方法。
第一方面，本发明提供一种陶瓷抛光防滑蜡，所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20％、氯化钠10～20％、表面活性剂10～20％、果酸活性肽15～30％、水30～50％。
第二方面，本发明还提供上述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖中的应用。所述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖表面的施加量为40～65g/m2，施加时间20～40秒。
第三方面，本发明提供细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法，在抛釉砖的表面依次打磨水性防污蜡、油性防污蜡和上述陶瓷抛光防滑蜡。
较佳地，上述细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法，包括以下步骤：
(1)制作坯体；
(2)在坯体上布施面釉；
(3)在布施面釉后的坯体表面打印喷墨设计图案；
(4)在打印喷墨设计图案后的坯体表面丝网或辊筒印刷布施保护釉；
(5)在布施保护釉后的坯体表面布施抛釉；
(6)烧成；
(7)抛光；
(8)在抛光后的坯体表面依次打磨水性防污蜡和油性防污蜡，冲洗，烘干；
(9)在烘干后的坯体表面打磨陶瓷抛光防滑蜡；
(10)磨边，打包分级。
较佳地，所述抛釉的矿物组成包括5～10％的石英；优选地，所述抛釉的的矿物组成包括：以质量百分比计，钾长石18～26％、钠长石20～30％、高岭土4～7％、石英5～10％、煅烧高岭土7～10％、烧滑石8-12％、方解石6-10％、硅灰石5-8％、碳酸钡4～8％、氧化锌4～6.5％。
较佳地，所述抛釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：51.0～57.0％、Al2O3：11.0～12.5％、Fe2O3：0～0.4％、TiO2：0～0.2％、CaO：5.6～9.8％、MgO：2.6～3.9％、K2O：2.2～4.0％、Na2O：2.6～4.5％、BaO：3.1～6.6％、ZnO：3.6～5.9％、烧失：6.0～8.6％。
较佳地，所述水性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒：40～60％、防冻型溶剂0.3～1％、表面活性剂0.5～2％、碱性腐蚀剂0.6～1.5％、有机硅烷偶联剂0.5～1％、水36～56％。
较佳地，所述油性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒30～40％、防冻型溶剂0.3～1％、表面活性剂0.3～1％、有机硅烷偶联剂0.5～1％、二甲基硅油15～25％、含氢硅油42～55％。
较佳地，所述水性防污蜡在陶瓷砖表面的施加量为50～80g/m2，施加时间20～35秒；所述油性防污蜡在陶瓷砖表面的施加量为8～15g/m2，施加时间4～8秒。
第四方面，本发明还提供上述细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖制备方法获得的防滑防污全抛釉瓷质砖。所述瓷质砖的干法静摩擦系数在0.66以上，湿法静摩擦系数在0.6以上。
附图说明
图1为本发明一实施方式防滑防污的全抛釉瓷质砖的工艺流程图。
图2为本发明一实施方式所得细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖的砖面效果图。
图3是普通的防滑砖表面粗糙的砖面效果图。
具体实施方式
以下通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。以下各百分含量如无特别说明均指质量百分含量。在本发明未作具体说明的情况下，“陶瓷抛光防滑蜡”也可以称为“防滑蜡”和“防滑蜡水”。“防污蜡”也可以称为“防污蜡水”。在本发明未作具体说明的情况下，“施加蜡”也可以称为“打磨蜡”。
本发明旨在提供一种适用于细腻面抛釉砖的陶瓷抛光防滑蜡。所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：氟化铵溶液、氯化钠、表面活性剂、果酸活性肽、水。一些实施方式中，所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20％、氯化钠10～20％、表面活性剂10～20％、果酸活性肽15～30％、水30～50％。所述氟化铵溶液可为质量分数30-50％的氟化铵水溶液。本发明使用酸性较弱的果酸活性肽和氟化铵溶液作为主要成分，氟离子以氟化铵溶液形式存在与防滑蜡溶液中，果酸活性肽和氟离子(氟化铵在溶液中产生)作用使防滑蜡的pH值为6左右从而呈现偏弱酸性，解决了现有防滑蜡中经常使用强酸腐蚀造成的环保问题、安全问题以及工业生产的废水处理问题。本发明所述防滑蜡通过防滑蜡中的氟离子与瓷砖表面的二氧化硅或硅酸盐产生化学反应腐蚀表面，在不影响瓷砖细腻手感的基础上，增加瓷砖表面的干法摩擦系数和湿法摩擦系数，形成防滑效果。
一些实施方式中，所述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖表面的施加量为40～65g/m2。防滑蜡的施加量过多，则可能把防污蜡中的纳米级二氧化硅腐蚀掉，影响防污效果，施加量过少则影响导致防滑效果不突出。
本发明还旨在提供一种釉面细腻的防滑防污釉面砖。经烧至后的成品，再抛光后经过水性防污蜡、油性防污蜡和防滑蜡的处理后得到一种细腻且防滑防污的釉面。
以下结合图1具体示出本发明细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法。
首先，原料按照常规的坯体加工方式，将粉料压制成型进行干燥，制备干燥坯体。一些实施方式中，可将坯在干燥窑中干燥。例如干燥温度可为150～250℃，干燥时间可为50～80min，干燥坯水分控制在0.45％以内。一些实施方式中，坯体层厚度可为5mm-30mm。
然后，在坯体上布施面釉。所述面釉的施加方式可为喷釉。该面釉可为常规的全抛釉产品所用的面釉。所述面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～60％、Al2O3：25～33％、K2O：5～7％、Na2O：2～3％、Fe2O3：0.2～0.45％、TiO2：0～0.2％、CaO：0.5～1.0％、MgO：0.15～0.45％、烧失：4～6％。一些实施方式中，面釉的比重为1.42～1.46，施加量为700～800g/m2。一些实施方式中，面釉层的厚度可为0.3mm～0.5mm。
随后，打印喷墨设计图案。可以采用数码喷墨打印机打印图案。使用的陶瓷墨水可有但不限于青色棕色米色黄色等。具体装饰图案、纹理和颜色效果依据设计要求而定。将打印喷墨图案后的坯体干燥。
然后，丝网或辊筒印刷保护釉后再布施抛釉。保护釉可以由抛釉调制而成。保护釉是用抛釉调制而成，其化学成分跟抛釉一样，流速比抛釉高。一些实施方式中，保护釉的流速为20～80s(即釉浆装满7.5mm左右的孔径流速杯后，全部流完所需要的时间)，主要作用通过丝网印刷隔离出抛釉(水性)与墨水(油性)正面接触，保证抛釉的施釉效果。所述保护釉的化学成分可包括，以质量百分比计，SiO2：51.0～57.0％、Al2O3：11.0～12.5％、Fe2O3：0～0.4％、TiO2：0～0.2％、CaO：5.6～9.8％、MgO：2.6～3.9％、K2O：2.2～4.0％、Na2O：2.6～4.5％、BaO：3.1～6.6％，ZnO：3.6～5.9％，烧失：6.0～8.6％。一些实施方式中，保护釉的施加方式为丝网或者辊筒印刷。保护釉的比重为1.33～1.45，重量为60～100g/m2。保护釉的比重和施加量太高或者太低，印花效果越差，导致淋釉效果就差。一些实施方式中，保护釉层厚度可为0.01mm-0.03mm。
随后，在布施保护釉后的坯体表面布施抛釉。本发明在抛釉中通过石英和硅灰石的引入增加其透感和釉面细腻度。所述抛釉的配方的矿物组成可为：钾长石18～26％，钠长石20～30％，高岭土4～7％，石英5～10％，煅烧高岭土7～10％，烧滑石8-12％，方解石6-10％，硅灰石5-8％，碳酸钡4～8％，氧化锌4～6.5％。又，所述抛釉的化学组成可为：SiO2：51.0～57.0％、Al2O3：11.0～12.5％、Fe2O3：0～0.4％、TiO2：0～0.2％、CaO：5.6～9.8％、MgO：2.6～3.9％、K2O：2.2～4.0％、Na2O：2.6～4.5％、BaO：3.1～6.6％，ZnO：3.6～5.9％，烧失：6.0～8.6％。一些实施方式中，所述抛釉采用淋釉方式施釉，淋釉工艺参数可为：比重为1.82～1.88，重量为550～650g/m2。一些实施方式中，抛釉流速可为25～40s(3.5mm左右的孔径杯)。一些实施方式中，抛釉层厚度可为0.4mm～0.6mm。抛釉层需在上述厚度范围内，防止防滑蜡水腐蚀到图案层，影响表面颜色。
本发明抛釉的作用使釉面细腻。本发明的抛釉厚度要比一般的抛釉厚度多20～30％(现有的抛釉一般是为了获得亚光表面，施加量通常在400～500g/m2左右)，因此如果抛釉表面不通透，釉面可能朦胧或透明度不够。本发明采用上述组成的抛釉，使得抛釉的施釉量加大的同时，不至于釉面发蒙，保持良好的通透感。同时一定的抛釉厚度可以保证防滑蜡的腐蚀效果并防止防滑蜡腐蚀到图案层。另外，现有的防滑砖由于表面凹凸不平，砖面通常不平整，很难呈现细腻的砖面效果和手感。本发明通过使用上述抛釉和特殊的防滑防污工艺组合，在具有一定抛釉厚度的基础上，既能保证防滑蜡腐蚀砖面产生特殊的抛釉效果，又可以防止防滑蜡腐蚀到图案层，影响到砖面的装饰效果。
接着进窑烧成，抛光。一些实施方式中，烧成温度为1160～1230℃，烧成时间为65～80min。抛光可使用常规的抛光工艺，例如先粗抛，中抛，精抛，磨边倒角。
最后，防污防滑处理。例如，先打水性防污蜡水再打油性防污蜡水，冲洗后烘干，然后打防滑蜡水，磨边，打包分级。烘干温度可为200～300℃，烘干时间可为0.5～1.5min，烘干的作用是处理表面水分，提高表面温度，加快其防滑蜡与砖面的反应速度。
防污的性能通过依次打磨水性防污蜡水和油性防污蜡水形成。一些实施方式中，所述水性防污蜡的原料组成包括：纳米二氧化硅颗粒，防冻型溶剂，表面活性剂，碱性腐蚀剂，有机硅烷偶联剂，水；所述油性防污蜡包括：纳米二氧化硅颗粒，防冻型溶剂，表面活性剂，有机硅烷偶联剂，二甲基硅油，含氢硅油。
一些实施方式中，所述水性防污蜡的原料组成可包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒：40～60％、防冻型溶剂0.3～1％、表面活性剂0.5～2％、碱性腐蚀剂0.6～1.5％、有机硅烷偶联剂0.5～1％、水36～56％。其中，所述防冻型溶剂包括且不限于乙二醇、丙三醇等；所述表面活性剂的作用是降低液体表面张力，提高组分之间的乳化能力，使得组分之间彼此能更加有效地混合，包括但不限于十二烷基硫酸钠、十二烷基磺酸钠等；所述碱性腐蚀剂包括且不限于碱性硅酸盐、氢氧化钠、碳酸钠等；所述有机硅烷偶联剂包括但不限于KH550、KH560、KH570等。一些实施方式中，水性防污蜡的打磨时间为20～35秒：所述水性防蜡在陶瓷砖表面的施加量为50～80g/m2。又，打磨水性防滑蜡水16～24个磨盘(该磨盘个数指的是打磨使用的工具组数)。防污蜡打磨的过程中，磨盘和砖面的接触介质材质是尼龙。
一些实施方式中，所述油性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒30～40％、防冻型溶剂0.3～1％、表面活性剂0.3～1％、有机硅烷偶联剂0.5～1％、二甲基硅油15～25％、含氢硅油42～55％。其中，所述防冻型溶剂包括且不限于乙二醇、丙三醇等；所述表面活性剂的作用是降低液体表面张力，提高组分之间的乳化能力，使得组分之间彼此能更加有效地混合，包括但不限于十二烷基硫酸钠、十二烷基磺酸钠等；所述有机硅烷偶联剂包括但不限于KH550、KH560、KH570等；所述含氢硅油可为氢含量为0.4-1.0％的含氢硅油。一些实施方式中，油性防污蜡的打磨时间为4～8秒，所述油性防污蜡陶瓷砖表面的施加量为8-15g/m2。又，打磨油性防污蜡水2-4个磨盘。
防滑性能通过打磨防滑蜡水形成。例如防污蜡水可为上述陶瓷抛光防滑蜡。一些实施方式中，所述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖表面的施加量为40～65g/m2，施加时间20～40秒。又，打磨水性防滑蜡水20～28个磨盘。防滑蜡打磨的过程中，磨盘和砖面的接触介质材质是海绵。将打磨的时间控制在上述范围内，磨盘数量的增加可以提高其反应速度并提供其反应时间。
本发明通过在全抛釉产品的基础上，正常的磨边抛光后再打一层水性防污蜡、油性防污蜡和防滑蜡，使其达到防污和防滑的双层效果。防滑蜡水偏弱酸性(PH值为6)，水性防污蜡水偏弱碱性(PH值为8)，容易起化学反应，直接接触会影响其防污效果，需对其添加保护层，含有二甲基硅油(惰性物质)的特殊防污剂可以有效减缓水性防污剂与防滑剂的直接反应，油性防污蜡水偏油性，过多则影响防滑效果，选用水性防污剂与油性防污剂的搭配使用最为合适。
值得注意的是，本发明中需先打磨水性防污蜡水、油性防污蜡水后冲洗再烘干再打磨防滑蜡水，具备防污防滑的双重性能。先打磨防滑蜡水后打磨防污蜡水，防污蜡水的填充使其防滑效果较差，采用后打磨防滑蜡水，由于防污蜡水中的纳米级二氧化硅已经将毛细孔填充，具备良好的防污性能，防滑蜡水腐蚀釉面的方法不会影响防污效果。本发明细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖通过打磨水性防污蜡水、油性防污蜡水与防滑蜡水其干法静摩擦系数可达0.66以上，湿法静摩擦系数0.60以上；耐污染性可达5级，可作为一种装饰效果良好，耐污染性能优异且具有防滑性能的装饰材料，应用领域广泛。
不仅如此，本发明通过抛釉的调试，以及一定厚度的抛釉施釉量使其具有良好的通透感，抛光工艺处理后釉面细腻，再经过防污蜡水的处理工艺，使抛光工艺处理后的毛细孔得以填充形成良好的防污效果，再经防滑蜡水的处理工艺，使其表面腐蚀在保证砖面手感细腻的基础上增加摩擦系数产生防滑的效果。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
在下述示例中，陶瓷砖摩擦系数依据GB/T 4100-2015(附录M)进行；耐污染性依据GB/T3810.14-2016(陶瓷砖试验方法第14部分：耐污染性的测定)进行。
实施例1
细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖制备方法，包括以下步骤：
1.粉料压制成型进行干燥。
2.施面釉。面釉的比重为1.42，施加量为650g/m2。
3.喷墨打印图案，并将打印喷墨图案后的坯体干燥。
4.按照配比制备保护釉，随后印刷保护釉。所述保护釉的化学组成为：SiO2：51.1％，Al2O3：12.5％，Fe2O3：0.4％，TiO2：0.2％，CaO：9.8％，MgO：3.9％，K2O：2.2％，Na2O：4.5％，BaO：3.1％，ZnO：3.6％，烧失：8.6％。保护釉的施加方式为丝网印刷，比重为1.33，施釉量60g/m2。
5.在施加保护釉后的坯体上再布施抛釉。所述抛釉的化学组成为：SiO2：51.1％，Al2O3：12.5％，Fe2O3：0.4％，TiO2：0.2％，CaO：9.8％，MgO：3.9％，K2O：2.2％，Na2O：4.5％，BaO：3.1％，ZnO：3.6％，烧失：8.6％。所述抛釉的施加方式为淋抛釉，比重为1.82，施釉量650g/m2。
6.辊道窑快速烧成，最高烧成温度1230℃，烧成周期65min。
7.抛光。
8.先打磨16个磨盘水性防污蜡水，施加时间25秒，施加量50g/m2，后打磨2个油性防污蜡水，施加时间4秒，施加量8g/m2。所述水性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒：40％，防冻型溶剂1％，表面活性剂1％，碱性腐蚀剂1％，有机硅烷偶联剂1％，水56％。所述油性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒：30％，防冻型溶剂0.3％，表面活性剂0.3％，有机硅烷偶联剂0.5％，二甲基硅油25％，含氢硅油43.9％。
9.冲洗，烘干，温度200℃，时间90秒。
10.打20个磨盘防滑蜡水，施加时间20秒，施加量50g/m2。防滑蜡水的原料组成为：氟化铵溶液20％、氯化钠10％、表面活性剂20％、果酸活性肽20％、水30％。
11.磨边，分级打包。
本实施例所得全抛釉瓷质砖干法静摩擦系数可达0.7，湿法静摩擦系数0.63；耐污染性5级。另外从图2可知，本发明所述制备方法所得防滑防污砖手感细腻，表面光滑，区别于现有常见防滑砖表面手感粗糙(如图3)。
实施例2
与实施例1基本相同，区别在于：
步骤5中，所述抛釉的化学组成为：SiO2：53.4％、Al2O3：11％、Fe2O3：0.1％、TiO2：0.2％、CaO：7.6％、MgO：2.6％、K2O：4％、Na2O：2.6％、BaO：6.6％，ZnO：5.9％，烧失：6％。淋抛釉：比重为1.88，施釉量550g/m2。
步骤8中，所述水性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒60％，防冻型溶剂1％，表面活性剂0.5％，碱性腐蚀剂1.5％，有机硅烷偶联剂0.5％，水36.5％。所述油性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒：38％，防冻型溶剂1％，表面活性剂1％，有机硅烷偶联剂1％，二甲基硅油17％，含氢硅油42％。打磨20个磨盘水性防污蜡水，施加时间28秒，施加量65g/m2，打磨4组油性防污蜡水，施加时间8秒，施加量15g/m2。
步骤9中，冲洗，烘干，温度300℃，时间30秒。
步骤10中，防滑蜡水的原料组成为：氟化铵溶液16％、氯化钠10％、表面活性剂14％、果酸活性肽30％、水30％。打28个磨盘防滑蜡水，施加时间40秒，施加量65g/m2。
本实施例获得的瓷砖砖表面干法静摩擦系数可达0.73，湿法静摩擦系数0.66；耐污染性5级。
实施例3
与实施例1基本相同，区别在于：
步骤5中，所述抛釉的化学组成为：SiO2：57.0％、Al2O3：11.8％、Fe2O3：0.15％、TiO2：0.2％、CaO：5.6％、MgO：3.2％、K2O：3.1％、Na2O：3.3％、BaO：4％，ZnO：4％，烧失：7.6％。淋抛釉：比重为1.85，施釉量600g/m2。
步骤8中，所述水性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒50％，防冻型溶剂0.7％，表面活性剂2％，碱性腐蚀剂0.6％，有机硅烷偶联剂0.7％，水46％。所述油性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒：30％，防冻型溶剂0.8％，表面活性剂0.5％，有机硅烷偶联剂0.7％，二甲基硅油15％，含氢硅油53％。打24个磨盘水性防污蜡水，施加时间35秒，施加量80g/m2，打3个油性防污蜡水，施加时间6秒，施加量12g/m2。
步骤9中，冲洗，烘干，温度250℃，时间60秒。
步骤10中，防滑蜡水的原料组成为：氟化铵溶液10％、氯化钠20％、表面活性剂10％、果酸活性肽15％、水45％。打24个磨盘防滑蜡水，固化时间35秒，施加量40g/m2。
本实施例获得的瓷砖砖表面干法静摩擦系数可达0.68，湿法静摩擦系数0.62；耐污染性5级。
对比例1
与实施例1基本相同，区别仅在于：
步骤8中.打磨16个磨盘水性防污蜡水，施加时间25秒，施加量50g/m2。所述水性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒：40％，防冻型溶剂1％，表面活性剂1％，碱性腐蚀剂1％，有机硅烷偶联剂1％，水56％。
所得全抛釉瓷质砖手感比较粗糙，干法静摩擦系数可达0.80，湿法静摩擦系数0.74；耐污染性3级。
对比例2
与实施例1基本相同，区别在于：
步骤8.打20个磨盘防滑蜡水，施加时间20秒，施加量50g/m2。防滑蜡水的原料组成为：氟化铵溶液20％、氯化钠10％、表面活性剂20％、果酸活性肽20％、水30％。
步骤10.先打磨16个磨盘水性防污蜡水，施加时间25秒，施加量50g/m2，后打磨2个油性防污蜡水，施加时间4秒，施加量8g/m2。所述水性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒：40％，防冻型溶剂1％，表面活性剂1％，碱性腐蚀剂1％，有机硅烷偶联剂1％，水56％。所述油性防污蜡的原料组成为：纳米二氧化硅颗粒：30％，防冻型溶剂0.3％，表面活性剂0.3％，有机硅烷偶联剂0.5％，二甲基硅油25％，含氢硅油43.9％。
所得全抛釉瓷质砖手感细腻，干法静摩擦系数可达0.61，湿法静摩擦系数0.50；耐污染性5级。

Claims (6)

1.细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）制作坯体；
（2）在坯体上布施面釉；
（3）在布施面釉后的坯体表面打印喷墨设计图案；
（4）在打印喷墨设计图案后的坯体表面丝网或辊筒印刷布施保护釉；所述保护釉的化学组成和抛釉相同；所述保护釉的化学成分包括：以质量百分比计，SiO2：51.0～57.0%、Al2O3：11.0～12.5%、 Fe2O3：0～0.4%、TiO2：0～0.2%、CaO：5.6～9.8%、MgO：2.6～3.9%、K2O：2.2～4.0%、Na2O：2.6～4.5%、BaO：3.1～6.6%，ZnO：3.6～5.9%，烧失：6.0～8.6%；所述保护釉的比重为 1.33～1.45，重量为60～100g/m2；
（5）在布施保护釉后的坯体表面采用淋釉方式布施抛釉；所述抛釉的矿物组成包括：以质量百分比计，钾长石18～26%、钠长石20～30%、高岭土4～7%、石英5～10%、煅烧高岭土7～10%、烧滑石8-12%、方解石6-10%、硅灰石5-8%、碳酸钡4～8%、氧化锌4～6.5%；所述抛釉的比重为 1.82～1.88，施釉量为 550～650g/m2；
（6）烧成；
（7）抛光；
（8）在抛光后的坯体表面依次打磨水性防污蜡和油性防污蜡，冲洗，烘干；所述水性防污蜡在陶瓷砖表面的施加量为50～80g/m2，打磨时间为 20～35 秒；所述油性防污蜡在陶瓷砖表面的施加量为8～15g/m2，打磨时间为 4～8 秒；
（9）在烘干后的坯体表面打磨陶瓷抛光防滑蜡；所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20%、氯化钠10～20%、表面活性剂10～20%、果酸活性肽15～30%、水30～50%；所述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖表面的施加量为40～65g/m2，打磨时间为20～40秒；
（10）磨边，打包分级；
所述瓷质砖的干法静摩擦系数在0.66以上，湿法静摩擦系数在0.6以上，耐污染性达5级。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～60%、Al2O3：25～33%、K2O：5～7%、Na2O：2～3%、Fe2O3：0.2～0.45%、TiO2：0～0.2%、CaO：0.5～1.0%、MgO：0.15～0.45%、烧失：4～6%；所述面釉的比重为 1.42～1.46，施加量为 700～800 g/m2。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述抛釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：51.0～57.0%、Al2O3：11.0～12.5%、Fe2O3：0～0.4%、TiO2：0～0.2%、CaO：5.6～9.8%、MgO：2.6～3.9%、K2O：2.2～4.0%、Na2O：2.6～4.5%、BaO：3.1～6.6%、ZnO：3.6～5.9%、烧失：6.0～8.6%。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述水性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒：40～60%、防冻型溶剂0.3～1%、表面活性剂0.5～2%、碱性腐蚀剂0.6～1.5%、有机硅烷偶联剂0.5～1%、水36～56%。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述油性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒30～40%、防冻型溶剂0.3～1%、表面活性剂0.3～1%、有机硅烷偶联剂0.5～1%、二甲基硅油15～25%、含氢硅油42～55%。
6.权利要求1～5中任一项所述的细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖制备方法获得的防滑防污全抛釉瓷质砖。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112299885B (zh) * 2020-12-21 2021-04-13 佛山欧神诺陶瓷有限公司 一种高光泽度、防滑防污的陶瓷砖及其制备方法
CN113698190B (zh) * 2021-03-16 2022-08-16 亚细亚建筑材料股份有限公司 一种干粒半抛砖制备工艺
CN113480174B (zh) * 2021-07-27 2022-12-16 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用
CN113582730A (zh) * 2021-07-27 2021-11-02 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种蜡质细腻质感抛釉及其在陶瓷板中的应用
CN113773113A (zh) * 2021-09-16 2021-12-10 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种酸洗磨砂面止滑陶瓷砖及其制备方法
CN115028440B (zh) * 2022-05-30 2023-06-30 河北浩锐陶瓷制品有限公司 一种耐污染瓷砖及其生产工艺
CN116640006B (zh) * 2023-05-15 2024-06-11 清远市简一陶瓷有限公司 一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6709717B2 (en) * 1998-06-09 2004-03-23 Margrace Enterprises, Inc. Method for making polymer surfaced composites
CN108558448A (zh) * 2018-01-10 2018-09-21 佛山市简陶瓷有限公司 一种大理石瓷砖的防滑处理方法
CN108863444A (zh) * 2018-08-07 2018-11-23 佛山市大幸新材料有限公司 一种瓷砖防污防滑处理工艺
CN110003699A (zh) * 2019-04-17 2019-07-12 深圳市盛广天下科技有限公司 一种绿色无害的瓷砖防滑剂
CN110423140A (zh) * 2019-06-26 2019-11-08 景德镇欧神诺陶瓷有限公司 一种使用喷墨打印生产黑金花的工艺方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107586096B (zh) * 2017-09-11 2019-11-26 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种全抛结晶釉仿古砖及其制备方法
CN109081592A (zh) * 2018-10-23 2018-12-25 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种微晶石厚抛釉及其制备方法和在瓷砖中的使用方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6709717B2 (en) * 1998-06-09 2004-03-23 Margrace Enterprises, Inc. Method for making polymer surfaced composites
CN108558448A (zh) * 2018-01-10 2018-09-21 佛山市简陶瓷有限公司 一种大理石瓷砖的防滑处理方法
CN108863444A (zh) * 2018-08-07 2018-11-23 佛山市大幸新材料有限公司 一种瓷砖防污防滑处理工艺
CN110003699A (zh) * 2019-04-17 2019-07-12 深圳市盛广天下科技有限公司 一种绿色无害的瓷砖防滑剂
CN110423140A (zh) * 2019-06-26 2019-11-08 景德镇欧神诺陶瓷有限公司 一种使用喷墨打印生产黑金花的工艺方法

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