CN116640006B - 一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents

一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及陶瓷砖领域，具体是涉及到一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖及其制备方法。本申请公开了一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖及其制备方法，所述陶瓷砖，包括坯体、依次设置在坯体上的面釉层、花色层、抛釉层，在抛釉层上设置有防污组合物。本申请制备得到的陶瓷砖，通过将改性的防污组合物应用于精抛柔光/哑光陶瓷砖的抛釉层上，能有效提升精抛柔光/哑光釉面的抗涂鸦防污性能、以及釉面的韧性和表面耐磨损(耐鞋底踩踏)性能。

Description

一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷砖领域，具体是涉及到一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
近年来，因柔光/哑光产品(光泽度低于15-55°)陶瓷砖产品具有光感柔和、舒适的特点，是一种良好的室内装饰材料，获得了市场的青睐。有很多种技术路径可以实现釉面光感(光泽度)的调控，通过釉料配方技术是其中的一种；通过调整抛釉配方，调控抛釉的乳浊效果和高温流动性，可以直接烧制出不同质感、不同光泽度的釉面。市面上一些釉料公司提供了很多产品，例如“天鹅绒”、“肌肤釉”、“金丝绒”等类型的釉料，也能呈现手感丝滑且光度柔雅的表面。
然而通过釉料配方途径来实现光感的调控，技术手段相对单一，且为实现某种光感进行配方的改变对生产工艺稳定性的影响也更大。相比于釉料配方的调整，通过调整抛光工艺，能够更加精准和便捷地实现一定范围的光泽度调控和实现，对整个生产工艺稳定性的影响更小。同时，抛光工艺制备的柔光/哑光产品特征相对更丰富，光感均匀、平整通透、表面凹凸立体质感强。
早在2018年前，市面上就出现了用磨抛工艺制备的柔光/哑光瓷砖，例如华鹏推出的“55度柔光砖”，之后也陆续见到金意陶、欧文莱等品牌推出不同光度的柔哑光质感产品。近两年来消费市场对柔光/哑光产品的需求较大，亚细亚、依诺、特地、芒果等品牌也陆续出现了很多柔光/哑光质感的产品。但从市场和消费者的反馈中，磨抛工艺制备的柔光/哑光产品普遍存在的防污性能差、耐磨性能差，使用过程中尤其是在下地使用时会出现易污难打理、长期踩踏光感出现不均匀等情况。
开发柔抛柔光/哑光产品的关键，是开发出适合柔抛柔光/哑光产品的耐磨防污材料技术及工艺。从防污原理上可以分为两大类，一类防污材料通过形成致密无缺陷的微米级厚度的低表面能涂层或致密连续的薄膜，从而有效防污；另一类是通过小分子低表能官能团渗透进入吸污表面的缺陷处，形成纳米级低表面改性修饰涂层。形成微米级别的致密涂层通常需要专业的涂层制备设备，如辊涂、喷涂或刮涂等设备，同时微米级的涂层固化条件也极为严苛，例如光固化或热固化，通常热固化时间短则几十分钟，长则需要数小时，而光固化虽然固化时间可以缩短至1分钟左右，但需要现有陶瓷砖成熟的抛光产线进行较大的改动，显然这种热固化、光固化微米级的防污涂层与陶瓷生产的条件无法匹配，设备和生产条件的改动较大，技术无法短时间落地。在众多的防污材料中，室温硫化有机硅防污涂料，由于具有超低表面能、防污性能、透明性好、室温可固化等特点被广泛应用。然而，这种未经改性的防污涂料形成的防污涂层，表面硬度低，容易被硬质材料，如无机粉体或鞋底等材质磨损造成涂层表面被破坏，使得表面的防污性能和光感均受到大的影响。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本发明提供一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖及其制备方法，通过将改性的防污组合物应用于柔抛柔光/哑光陶瓷砖的抛釉层上，能有效提升柔抛柔光/哑光釉面的抗涂鸦防污性能、以及釉面的韧性和表面耐磨损(耐鞋底踩踏)性能。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖，包括坯体、依次设置在坯体上的面釉层、花色层、抛釉层，在抛釉层上设置有防污组合物；
所述防污组合物，以重量份为单位，包括以下原料：
低沸点溶剂：1-10份
中沸点溶剂：40-75份
高沸点溶剂：5-25份
自干型有机硅树脂：10-30份
增硬剂：1-3份
防涂鸦助剂：3-6份
交联剂：5-30份
硅烷偶联剂：2.5-5份
流平剂：0.2-3份
催化剂：0.1-2份
所述低沸点溶剂为无水乙醇、异丙醇、乙酸乙酯中的一种或多种；
所述中沸点溶剂为丙二醇甲醚、正丁醇、乙酸丁酯中的一种或多种；
所述高沸点溶剂为乙二醇丁醚、尼龙酸二甲酯中的一种或两种；
所述自干型有机硅树脂型号为SJ-2200K(枞阳县三金颜料有限责任公司)、FJN-9801(常州市嘉诺有机硅有限公司)或9611(湖北新四海化工股份有限公司)中的一种。
所述流平剂为聚醚改性聚二甲基硅氧烷、烷基改性聚硅氧烷中的一种或两种。
在本申请中，低沸点溶剂挥发快、易干燥、粘度低，有利于表干，适当少量加入调控涂层的表干。过高含量加入，涂层挥发过快，表干过快且固化快的情况下，容易造成抛涂不均，产生桔皮印等；
中沸点溶剂挥发速度适中，在涂层中继低沸点的溶剂挥发后，有利于涂层的流平形成致密的涂层；
高沸点溶剂挥发较慢，既有利于流平，也能防止涂层固化表干过快，形成抛涂不均匀产生桔皮印。通过对低沸点溶剂、中沸点溶剂、高沸点溶剂比例的调控，使得防污蜡配方适配于陶瓷砖的抛涂工艺，形成外观均匀、透明致密的涂层。
在本申请中，自干型有机硅树脂的硬度高、耐磨性好以及具有很好的耐酸耐碱性。
在本申请中，流平剂可以促进涂料在抛涂过程中的流平，利于形成均匀涂层。
优选的，所述防涂鸦助剂为聚甲基氢硅氧烷、三甲基硅氧烷、端羟基聚二甲基硅氧烷一种或多种。
在本申请中，防涂鸦助剂能与自干型有机硅树脂，形成聚合接枝反应，且通常形成低表面能基团易向表面迁移，形成低表面能防涂鸦层。过低含量的防涂鸦助剂的加入，疏水疏油效果较差，过高比例的防涂鸦助剂的加入容易导致相分离，抛涂过程中，形成不均匀的涂层，影响涂层外观和透明度。
优选的，所述交联剂为甲基三丁酮肟基硅烷、乙烯基三丁酮肟基硅烷的一种或两种。
在本申请中，通过调控涂层中交联剂添加量的控制，一方面交联剂可以加速涂层的固化，同时交联剂的添加也能提升涂层的韧性和涂层表面的爽滑性，但是过高的交联剂的加入，会导致涂层的硬度降低，因此优化交联剂的添加量，优化涂层的耐磨耐踩踏性能，同时适用陶瓷产线下线表干要求。
优选的，所述催化剂为二月桂酸二丁基锡、二乙酸二丁基锡、钛酸四丁酯的一种或多种。
在本申请中，催化剂的添加有利于催化涂层加速固化，但过高的催化剂会导致涂层的韧性降低，脆性增大，涂层耐磨耐踩踏性能降低。
优选的，所述增硬剂为正硅酸四乙酯或正硅酸四甲酯。
同样的，本发明也提供了一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1、按照常规方法制备包含砖坯、面釉层、花色层以及抛釉层的陶瓷砖，得到粗品陶瓷砖；
步骤2、根据目标光泽度，对粗品陶瓷砖进行抛光处理，得到抛光后的粗品陶瓷砖；
步骤3、制备防污组合物；
按照防污组合物的原料重量份进行配料，将各个原料进行充分混合后，室温反应2-6小时，得到防污组合物；
步骤4、采用抛涂工艺，对抛光后的粗品陶瓷砖进行防污处理；
步骤5、对防污处理后陶瓷砖进行固化处理，得到柔光/哑光陶瓷砖。
优选的，在步骤4中，抛涂介质采用软海绵或羊毛布，防污组合物滴加量10-20ml/m2。
优选的，在步骤5中，固化处理为：防污处理后陶瓷砖在常温下静置，固化2-7天。
优选的，在步骤2中，采用粗抛工艺、中抛工艺和精抛工艺对粗品陶瓷砖进行抛光，目标光泽度为10-40°。
更优选的，在步骤2中，粗抛工艺采用1000-5000目的弹性磨块，中抛工艺采用200-500目橡胶刷，精抛工艺采用200-500目软纤维刷。
本发明的有益效果是：
1.本申请通过化学改性的方式，制备出常温可固化、表干固化快、生产效率高且与现有陶瓷抛涂工艺产线匹配度高的防污组合物；该防污组合物透明性好，对砖面的光泽度和颜色影响小，硬度高且与陶瓷砖基底结合牢固，涂层耐磨性好，柔韧性好能形成连续均匀的薄涂层；
2.将本申请所述的防污组合物应用于精抛柔光/哑光陶瓷砖釉面，能有效提升精抛柔光/哑光釉面的抗涂鸦防污性能、以及釉面的韧性和表面耐磨损(耐鞋底踩踏)性能。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例对本发明作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本发明的限定。
本发明中的原料均为市购，其中：
各个原料的具体来源\型号等，例如自干型有机硅树脂，选自：SJ-2200K(枞阳县三金颜料有限责任公司)、FJN-9801(常州市嘉诺有机硅有限公司)或9611(湖北新四海化工股份有限公司)；
聚醚改性聚二甲基硅氧烷选自：BYK-333(德国毕克化学)、3233(广州力胜聚合物技术有限公司)；
烷基改性聚硅氧烷为BYK-323(德国毕克化学)；
聚甲基氢硅氧烷，要求：含氢量0.1～0.8％，黏度(25℃，20-300mm2/s)；
端羟基聚二甲基硅氧烷，要求：黏度(25℃；500-2000mm2/s)。
且下述实施例中的抛光处理、抛涂工艺，可以采用现有技术，实现目标光泽度达到10-40°即可。
实施例1
一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1、按照常规方法制备包含砖坯、面釉层、花色层以及抛釉层的陶瓷砖，得到粗品陶瓷砖；
步骤2、根据目标光泽度，对粗品陶瓷砖进行抛光处理，得到抛光后的粗品陶瓷砖；
具体采用粗抛工艺、中抛工艺和中抛工艺对粗品陶瓷砖进行抛光，抛光光度范围10-20°；粗抛工艺采用3000-5000目的弹性磨块进行，中抛工艺采用400-500目橡胶刷进行，精抛工艺采用400-500目软纤维刷进行抛光处理。
步骤3、制备防污组合物；
按照防污组合物的原料重量份进行配料，将各个原料进行充分混合后，室温反应4小时，得到防污组合物；
所述防污组合物，以重量份为单位，包括以下原料：
低沸点溶剂(无水乙醇)：1份
中沸点溶剂(丙二醇甲醚)：40份
高沸点溶剂(乙二醇丁醚)：5份
自干型有机硅树脂(SJ-2200K)：10份
增硬剂(正硅酸四乙酯)：1份
防涂鸦助剂(聚甲基氢硅氧烷)：3份
交联剂(甲基三丁酮肟基硅烷)：5份
流平剂(聚醚改性聚二甲基硅氧烷)：0.2份
硅烷偶联剂(KH-560)：2.5份
催化剂(二月桂酸二丁基锡)：0.1份
步骤4、采用抛涂工艺，对抛光后的粗品陶瓷砖进行防污处理；
抛涂介质采用软海绵或羊毛布，防污组合物滴加量控制在10-15ml/m2。
步骤5、对防污处理后陶瓷砖进行固化处理，固化处理为：防污处理后陶瓷砖在常温下静置，固化2天；得到柔光/哑光陶瓷砖。
实施例2
一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1、按照常规方法制备包含砖坯、面釉层、花色层以及抛釉层的陶瓷砖，得到粗品陶瓷砖；
步骤2、根据目标光泽度，对粗品陶瓷砖进行抛光处理，得到抛光后的粗品陶瓷砖；
具体采用粗抛工艺、中抛工艺和精抛工艺对粗品陶瓷砖进行抛光，抛光光度范围20-30°；粗抛工艺采用3000-4000目的弹性磨块进行，中抛工艺采用300-400目橡胶刷进行，精抛工艺采用300-400目纤维刷进行抛光处理。
步骤3、制备防污组合物；
按照防污组合物的原料重量份进行配料，将各个原料进行充分混合后，室温反应2小时，得到防污组合物；
所述防污组合物，以重量份为单位，包括以下原料：
低沸点溶剂(异丙醇)：7份
中沸点溶剂(正丁醇)：50份
高沸点溶剂(尼龙酸二甲酯)：15份
自干型有机硅树脂(SJ-2200K)：20份
增硬剂(正硅酸四甲酯)：2份
防涂鸦助剂(端羟基聚二甲基硅氧烷)：4份
交联剂(乙烯基三丁酮肟基硅烷)：15份
硅烷偶联剂(KH-560)：3份
流平剂(烷基改性聚硅氧烷)：1.5份
催化剂(二乙酸二丁基锡)：1份
步骤4、采用抛涂工艺，对抛光后的粗品陶瓷砖进行防污处理；
抛涂介质采用软海绵或羊毛布，防污组合物滴加量控制在15-20ml/m2。
步骤5、对防污处理后陶瓷砖进行固化处理，固化处理为：防污处理后陶瓷砖在常温下静置，固化5天；得到柔光/哑光陶瓷砖。
实施例3
一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1、按照常规方法制备包含砖坯、面釉层、花色层以及抛釉层的陶瓷砖，得到粗品陶瓷砖；
步骤2、根据目标光泽度，对粗品陶瓷砖进行抛光处理，得到抛光后的粗品陶瓷砖；
具体采用粗抛工艺、中抛工艺和精抛工艺对粗品陶瓷砖进行抛光，抛光光度范围30-40°；粗抛工艺采用1000-3000目的弹性磨块进行，中抛工艺采用200-300目橡胶刷进行，精抛工艺采用200-300目纤维刷进行抛光处理。
步骤3、制备防污组合物；
按照防污组合物的原料重量份进行配料，将各个原料进行充分混合后，室温反应6小时，得到防污组合物；
所述防污组合物，以重量份为单位，包括以下原料：
低沸点溶剂(乙酸乙酯)：10份
中沸点溶剂(乙酸丁酯)：75份
高沸点溶剂(尼龙酸二甲酯)：25份
自干型有机硅树脂(SJ-2200K)：30份
增硬剂(正硅酸四甲酯)：1-3份
防涂鸦助剂(端羟基聚二甲基硅氧烷)：6份
交联剂(乙烯基三丁酮肟基硅烷)：30份
硅烷偶联剂(KH-560)：5份
流平剂(烷基改性聚硅氧烷)：3份
催化剂(钛酸四丁酯)：2份
步骤4、采用抛涂工艺，对抛光后的粗品陶瓷砖进行防污处理；
抛涂介质采用软海绵或羊毛布，防污组合物滴加量控制在10-15ml/m2。
步骤5、对防污处理后陶瓷砖进行固化处理，固化处理为：防污处理后陶瓷砖在常温下静置，固化7天；得到柔光/哑光陶瓷砖。
实施例4
一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1、按照常规方法制备包含砖坯、面釉层、花色层以及抛釉层的陶瓷砖，得到粗品陶瓷砖；
步骤2、根据目标光泽度，对粗品陶瓷砖进行抛光处理，得到抛光后的粗品陶瓷砖；
具体采用粗抛工艺、中抛工艺和精抛工艺对粗品陶瓷砖进行抛光，抛光光度范围15-25°；粗抛工艺采用3000-5000目的弹性磨块进行，中抛工艺采用300-500目橡胶刷进行，精抛工艺采用300-500目纤维刷进行抛光处理。
步骤3、制备防污组合物；
按照防污组合物的原料重量份进行配料，将各个原料进行充分混合后，室温反应4小时，得到防污组合物；
所述防污组合物，以重量份为单位，包括以下原料：
低沸点溶剂：无水乙醇3份、异丙醇3份；
中沸点溶剂：丙二醇甲醚30份、正丁醇30份；
高沸点溶剂：乙二醇丁醚10份、尼龙酸二甲酯10份；
自干型有机硅树脂：FJN-9801 15份；
增硬剂：正硅酸四乙酯1.5份；
防涂鸦助剂：聚甲基氢硅氧烷2份、三甲基硅氧烷2份；
交联剂：甲基三丁酮肟基硅烷10份、乙烯基三丁酮肟基硅烷10份；
硅烷偶联剂：KH-560 4份；
流平剂：聚醚改性聚二甲基硅氧烷0.5份、烷基改性聚硅氧烷0.5份；
催化剂：二月桂酸二丁基锡0.5份、二乙酸二丁基锡0.5份；
步骤4、采用抛涂工艺，对抛光后的粗品陶瓷砖进行防污处理；
抛涂介质采用软海绵或羊毛布，防污组合物滴加量控制在12-16ml/m2。
步骤5、对防污处理后陶瓷砖进行固化处理，固化处理为：防污处理后陶瓷砖在常温下静置，固化6天；得到柔光/哑光陶瓷砖。
实施例5
一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1、按照常规方法制备包含砖坯、面釉层、花色层以及抛釉层的陶瓷砖，得到粗品陶瓷砖；
步骤2、根据目标光泽度，对粗品陶瓷砖进行抛光处理，得到抛光后的粗品陶瓷砖；
具体采用粗抛工艺、中抛工艺和精抛工艺对粗品陶瓷砖进行抛光，抛光光度范围25-35°；粗抛工艺采用2000-4000目的弹性磨块进行，中抛工艺采用200-300目橡胶刷进行，精抛工艺采用200-300目纤维刷进行抛光处理。
步骤3、制备防污组合物；
按照防污组合物的原料重量份进行配料，将各个原料进行充分混合后，室温反应5小时，得到防污组合物；
所述防污组合物，以重量份为单位，包括以下原料：
低沸点溶剂：无水乙醇3份、异丙醇3份、乙酸乙酯3份；
中沸点溶剂：丙二醇甲醚20份、正丁醇20份、乙酸丁酯20份高沸点溶剂：乙二醇丁醚5份、尼龙酸二甲酯15份；
自干型有机硅树脂：9611自干型有机硅树脂25份；
增硬剂：正硅酸四乙酯3份；
防涂鸦助剂：聚甲基氢硅氧烷2份、三甲基硅氧烷2份、端羟基聚二甲基硅氧烷1份；
交联剂：甲基三丁酮肟基硅烷9份、乙烯基三丁酮肟基硅烷9份；
硅烷偶联剂：KH-560 3.5份；
流平剂：聚醚改性聚二甲基硅氧烷1.5份、烷基改性聚硅氧烷1份；
催化剂：二月桂酸二丁基锡0.3份、二乙酸二丁基锡0.3份、钛酸四丁酯0.3份；
步骤4、采用抛涂工艺，对抛光后的粗品陶瓷砖进行防污处理；
抛涂介质采用软海绵或羊毛布，防污组合物滴加量控制在16-20ml/m2。
步骤5、对防污处理后陶瓷砖进行固化处理，固化处理为：防污处理后陶瓷砖在常温下静置，固化6天；得到柔光/哑光陶瓷砖。
对比例1
在抛釉层上没有设置防污组合物(或者没有设置防污蜡)，其余条件和实施例1一致；
对比例2
在对比例1上的抛釉层上设置市售常见防污蜡(广东纳德新材料有限公司)；
对比例3
在防污组合物中不存在自干型有机硅树脂，其余条件和实施例1一致；
对比例4
在防污组合物中不加入增硬剂，其余条件和实施例1一致；
对比例5
在防污组合物中加入5份增硬剂(增硬剂过量)，其余条件和实施例1一致；
对比例6
在防污组合物中加入15份低沸点溶剂(无水乙醇)，低沸点溶剂过量，其余条件和实施例1一致；
对比例7
在防污组合物中不加入交联剂和催化剂，其余条件和实施例1一致；
将实施例1-5，以及对比例1-7制备得到的陶瓷砖，按照现有标准等进行相应的性能检测，检测结果汇总至下表1。
表1
从表1中可以看出，实施例1-5制备得到的陶瓷砖，外观良好，表干时间1-2min，静摩擦系数0.65-0.73，油性笔可擦除，表现出较好的抗涂鸦、防污性能；通过耐踩踏性能测试。
对比例1，为不做防护的陶瓷砖，外观良好，抗涂鸦、防污性能测试中油性笔不可擦除，不通过耐踩踏性能测试。
对比例2，抛釉层上设置市售常见防污蜡(广东纳德新材料有限公司)；市售防污蜡表干固化速度快，且具有较好的防涂鸦性能，但不通过耐踩踏性能测试；因此对比例2存在其硬度低、耐磨耐踩踏性能差等持久性差的问题。
对比例3，在防污组合物中不存在自干型有机硅树脂，防污组合物中无成膜树脂，因此制备得到的陶瓷砖外观上无法形成连续的涂层，无法对陶瓷砖粗糙釉面进行保护，不通过耐踩踏性能测试。
对比例4，在防污组合物中不加入增硬剂，增硬剂因可在涂层中生成纳米二氧化硅粒子，提升涂层的硬度，因此对涂层的摩擦系数也有较大提升，和对涂层的固化具有明显的促进作用，不加增硬剂涂层中无纳米二氧化硅粒子生成，固化时间过长，下线无法表干固化。
因此对比例4制备得到的陶瓷砖，外观涂层表现良好，表面静摩擦系数为0.60，抗涂鸦、防污性能测试中油性笔可擦除，通过耐踩踏性能测试，但是表干固化时间达到4min。
对比例5，因加入过量增硬剂，增硬剂可明显加速涂层固化，缩短固化时间，且增加涂层摩擦系数，导致涂层表面粗糙度增大，耐磨(耐踩踏)性能变差。
因此对比例5制备得到的陶瓷砖，外观涂层表现良好，表面静摩擦系数为0.78，抗涂鸦、防污性能测试中油性笔可擦除，不通过耐踩踏性能测试。
对比例6，因加入过量低沸点溶剂(无水乙醇)，低沸点溶剂导致溶剂挥发速度太快，涂层均匀铺展前就已表干，导致成膜不均匀。因此对比例6，涂层外观较差，涂层厚薄不均，有明显的橘皮印，表面静摩擦系数为0.66，抗涂鸦、防污性能测试中油性笔在厚处可擦除，薄处不可擦除，不通过耐踩踏性能测试。
对比例7，中未加入交联剂和催化剂，导致固化时间长，下线粘手等问题；因此对比例7制备得到的陶瓷砖，表干时间达到10min，抗涂鸦、防污性能测试中油性笔可擦除，通过耐踩踏性能测试。
上述实施例为本发明较佳的实现方案，除此之外，本发明还可以其它方式实现，在不脱离本发明构思的前提下任何显而易见的替换均在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖，包括坯体、依次设置在坯体上的面釉层、花色层、抛釉层，其特征在于，在所述抛釉层上设置有防污组合物；
所述防污组合物，以重量份为单位，包括以下原料：
低沸点溶剂：1-10份
中沸点溶剂：40-75份
高沸点溶剂：5-25份
自干型有机硅树脂：10-30份
增硬剂：1-3份
防涂鸦助剂：3-6份
交联剂：5-30份
硅烷偶联剂：2.5-5份
流平剂：0.2-3份
催化剂：0.1-2份
所述低沸点溶剂为无水乙醇、异丙醇、乙酸乙酯中的一种或多种；
所述中沸点溶剂为丙二醇甲醚、正丁醇、乙酸丁酯中的一种或多种；
所述高沸点溶剂为乙二醇丁醚、尼龙酸二甲酯中的一种或两种；
所述自干型有机硅树脂为SJ-2200K、FJN-9801或9611中的任一种；
所述防涂鸦助剂为聚甲基氢硅氧烷、三甲基硅氧烷、端羟基聚二甲基硅氧烷一种或多种。
2.根据权利要求1所述的一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖，其特征在于，所述流平剂为聚醚改性聚二甲基硅氧烷、烷基改性聚硅氧烷中的一种或两种。
3.根据权利要求1所述的一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖，其特征在于，所述交联剂为甲基三丁酮肟基硅烷、乙烯基三丁酮肟基硅烷的一种或两种。
4.根据权利要求1所述的一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖，其特征在于，所述催化剂为二月桂酸二丁基锡、二乙酸二丁基锡、钛酸四丁酯的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的一种防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖，其特征在于，所述增硬剂为正硅酸四乙酯或正硅酸四甲酯。
6.一种如上述权利要求1-5任一项所述防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、按照常规方法制备包含砖坯、面釉层、花色层以及抛釉层的陶瓷砖，得到粗品陶瓷砖；
步骤2、根据目标光泽度，对粗品陶瓷砖进行抛光处理，得到抛光后的粗品陶瓷砖；
步骤3、制备防污组合物；
按照防污组合物的原料重量份进行配料，将各个原料进行充分混合后，室温反应2-6小时，得到防污组合物；
步骤4、采用抛涂工艺，对抛光后的粗品陶瓷砖进行防污处理；
步骤5、对防污处理后陶瓷砖进行固化处理，得到柔光/哑光陶瓷砖。
7.根据权利要求6所述的防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在步骤4中，抛涂介质采用软海绵或羊毛布，防污组合物滴加量10-20ml/m2。
8.根据权利要求6所述的防涂鸦、防污柔光/哑光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在步骤5中，固化处理为：防污处理后陶瓷砖在常温下静置，固化2-7天。
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