CN114163225B - 一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤（1）陶瓷坯体的制备；（2）面釉的涂覆；（3）喷墨打印；（4）干粒釉的涂覆；（5）干燥、烧成。干粒A的软化温度为1150℃～1190℃，干粒B的软化温度为1010℃～1070℃，通过2种不同温度干粒的搭配，改变两种干粒的组成比例可调整干粒釉层整体的熔融温度，进而调整釉面的光泽度、手感和防污性能，在保证良好细滑手感和优秀的防污性能的同时，深色产品光泽度能在0～1度，浅色产品能在1～3度；干粒釉含有2种不同熔融温度范围的细干粒，可以通过配方调节适应较大范围的烧成温度，在烧成周期50～70min，烧成温度1190～1226℃下得到此效果，解决了亚光砖的光泽度不够低，手感差且不易清洁的难题。

Description

一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷瓷砖的制备技术领域，具体涉及一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法。
背景技术
陶瓷一般由坯体和釉料两部分组成，坯体是陶瓷的主要部分，用于烧制成型，具有高抗压强度；釉料是覆盖在坯体表面的玻璃质薄层，具有高硬度、高耐磨度，同时起到美化陶瓷表面的效果。陶瓷釉面的性能是决定陶瓷产品在行业中是否具有竞争力的体现，美观、洁净、耐用、廉价的陶瓷往往成为消费者心中的首选，而釉面能给消费者提供最直观的感受。亚光瓷砖是指反光率比较低的瓷砖。亚光瓷砖的表面仍然是比较平的，并没有显著的凹凸纹理，防滑效果与抛光砖无明差别。
中国专利CN201810979553.4公开了一种哑光干粒釉面砖的制备方法，使用120目~200目的细干粒、保护釉和悬浮剂制成干粒釉。喷淋在砖坯表面，经过烧成后得到一种防污性能好的哑光干粒釉面砖。但其釉面的光泽度较高，均在25度以上，不符合当今对哑光砖哑光的概念。中国专利CN202011153711.4 公开了一种无光干粒釉、无光干粒釉面效果的瓷砖，通过使用析晶面釉和加有40～45%析晶保护釉的干粒釉来实现釉面的无光效果，但该工艺对面釉和保护釉都有析晶要求，析晶的釉料发色差，体现不出颜色丰富的图案设计，釉面可见析出的细小晶体，影响釉面美观。同时该工艺中的干粒釉中含有大比例的保护釉，烧成后釉面会缺少干粒釉的颗粒手感。中国专利CN111116238A公开了一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖的制备方法，是通过数码胶水粘哑光干粒，再喷上一层消光保护釉的方式达到哑光效果，该方式工艺复杂，且数码胶水的成本高，不利于大规模的量产。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明的目的是提供一种工艺简单、成品具有超低光泽度、防污性能好，拥有细腻颗粒手感、止滑效果好的超亚光效果陶瓷砖的制备方法。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
（1）陶瓷坯体的制备：将制成陶瓷坯体的坯料压制成型，干燥，得到陶瓷坯体；
（2）面釉的涂覆：将面釉均匀涂覆在步骤（1）制备得到的陶瓷坯体上，得到施加面釉的陶瓷坯体；
（3）喷墨打印：在步骤（2）制备得到的施加面釉的陶瓷坯体表面喷墨打印图案，干燥，得到喷有图案的陶瓷坯体；
（4）干粒釉的涂覆：在步骤（3）制备得到的喷有图案的陶瓷坯体表面施干粒釉，得到施加干粒釉的陶瓷坯体；
（5）干燥、烧成：干燥步骤（4）制备得到的施加干粒釉的陶瓷坯体，并送入辊道窑中烧成，烧成温度为1190～1226℃，烧成周期为50～70min，即得所述超亚光效果陶瓷砖；所述超亚光效果陶瓷砖从下至上依次是坯体、面釉层、图案层、干粒釉层；
其中，所述干粒釉按重量百分比计,包括: 干粒A：15～32%、干粒B:2～10%、水：20～25%，余量为胶水；所述干粒A的软化温度为1150℃～1190℃，干粒B的软化温度为1010℃～1070℃。
进一步地，所述步骤（1）中将制成陶瓷坯体的坯料压制成型，放入干燥窑，在温度为130～150℃条件下干燥40～60min，坯体水分控制在0.3%以内，得到陶瓷坯体。
进一步地，所述步骤（2）中采用喷釉柜喷面釉时，面釉比重可为1.43～1.48，淋釉量可为450g～550g/m2；面釉烧后的光泽度控制在3～5度。
进一步地，所述步骤（3）中在步骤（2）制备得到的施加面釉的陶瓷坯体表面喷墨打印图案，放入干燥窑，在温度为130～150℃条件下干燥50～80s，得到喷有图案的陶瓷坯体。
进一步地，所述步骤（4）中采用喷釉柜喷干粒釉时，干粒釉的比重：1.28～1.35，施釉量：220～275g/m2；喷釉柜为高压喷釉柜，喷嘴大小为0.36mm，喷嘴角度为110°，喷釉柜釉泵压力为9～13MPa。
进一步地，所述步骤（4）中干粒釉的的固相成分为超细干粒，超细干粒的颗粒级配为：200目以上：<1%，200～250目：5%～15%，250～325目：35～45%， 325目以下：45～55%。
进一步地，所述步骤（4）中超细干粒的化学组成为：按质量百分比计，烧失0.4～0.8%、SiO2：60.00～65.00%、Al2O3：11.00～16.00%、CaO：10.00～12.00%、MgO：0.50～1.50%、K2O：4.00～6.00%、Na2O：0.50～2.50%、ZnO：4.50～5.00%、BaO：0.1.～0.30%。
进一步地，所述干粒釉按重量百分比计,包括: 干粒A：25～32%、干粒B:2～10%、水：20～25%，余量为胶水；所述干粒A的软化温度为1150℃～1190℃，干粒B的软化温度为1010℃～1070℃。
进一步地，所述干粒A的化学组成为：SiO2：62.80～63.62%、Al2O3：14.84～15.68%、CaO：9.98～10.83%、MgO：0.95～1.07%、K2O：4.10～4.90%、Na2O：0.59～0.68%、 ZnO：4.30～4.63%、BaO：0.21～0.32%；所述干粒B的化学组成：SiO2：62.01～63.12%、Al2O3：10.72～11.324%、CaO：11.11～12.23%、MgO：0.89～1.02%、K2O：5.30～6.21%、Na2O：1.65～2.21%、ZnO：4.76～5.24%、BaO：0.09～0.16%。
进一步地，所述胶水的流速为70～90s，比重为1.01～1.08、在干粒釉中起悬浮剂的作用。
本发明一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，与现有的众多发明专利（如中国专利CN201810979553.4和中国专利CN202011153711.4）不同的是，该发明的干粒釉中不引入保护釉来填补高温干粒的空隙以提高防污能力，起到防止保护釉熔融盖住干粒，不影响干粒的颗粒手感；该干粒釉中含有超细的低温干粒，能够填补高温干粒之间的缝隙，达到不藏污的效果，防污性能好，且保留了原汁原味的纯干粒手感；更具体地，干粒A的软化温度为1150℃～1190℃，干粒B的软化温度为1010℃～1070℃，通过2种不同温度干粒的搭配，改变两种干粒的组成比例可调整干粒釉层整体的熔融温度，进而调整釉面的光泽度、手感和防污性能，该方式可以使干粒釉可在不同的烧成制度中，生产出类似的釉面效果；市场上现有的哑光砖光泽度能达5～10度，通常是使用哑光干粒和提高釉料的烧结温度使其处于欠烧状态或者诱发釉层生成结晶，普通的哑光干粒手感粗糙干涩，容易藏污，欠烧的釉面手感和防污性能也较差，结晶釉的釉面结晶点影响美观，本发明通过选用特殊调配的超细干粒做出干粒釉陶瓷产品，在保证良好细滑手感和优秀的防污性能的同时，深色产品光泽度能在0～1度，浅色产品能在1～3度。
本发明一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，通过选用超细干粒和胶水和水配成的的干粒釉，喷淋在喷墨打印好图案的砖坯上，喷淋量为220～275 g/㎡。经过最高温度1190～1226℃的烧结，得到光泽度在0～3度，手感细腻止滑，防污性能好，易清洁的哑光止滑陶瓷砖。该发明工艺简单，实用性强，且由于该干粒釉含有2种不同熔融温度范围的细干粒，故该亚光止滑釉可以通过配方的调节适应较大范围的烧成温度，可在烧成周期50～70min，烧成温度1190～1226℃下得到此效果。该发明通过选用调配超细干粒釉的方式做出的哑光砖产品，解决了市场上哑光砖产品光泽度不够低，手感差且不易清洁的难题。
附图说明
图1为本发明的超亚光效果陶瓷砖截面层状结构示意图。
图2为本发明实施例1制备得到的光泽度为1度的超亚光效果陶瓷砖产品图片。
具体实施方式
下面的实施例可以帮助本领域的技术人员更全面地理解本发明，但不可以以任何方式限制本发明。
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，陶瓷坯体可由公知的陶瓷原料按常规方法制备，也可由本申请限定的制成陶瓷坯体的粉料制成，对陶瓷原料或制成陶瓷坯体的粉料进行球磨、喷粉造粒、压坯干燥等步骤可制备得到陶瓷坯体；具体地，下述实施例中陶瓷坯体所用的陶瓷原料按重量百分比计,包括以下化学组分：Si02：67%、A12O3：21.5%、K20：3.5%、Na20：2%、MgO：0.5%、CaO：0.3%、Fe2O3：0.5%、IL：4.7%；制成全抛砖坯体的粉料过250目筛余0.6～0.8%。
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，面釉的涂覆方式可为钟罩或喷釉柜施面釉或喷墨打印数码面釉等，面釉釉料没有特别限定，面釉烧后光泽度需控制在3～5度。采用喷釉柜喷面釉时，面釉比重可为1.43～1.48，淋釉量可为450g～550g/m2。这种施釉方式操作简单，不易产生釉面缺陷，在最近流行的岩板、大版生产线中，也最作为首选使用。下述实施方式中，面釉的矿物组成为：钾、钠长石：30～50%、石英：12～18%、霞石：6～12%、高岭土8～20%、氧化铝：15～25%；面釉的化学组成可为：按质量计，烧失：1.60～2.20%、SiO2：53.00～56.00%、Al2O3：27.00～33.00%、Fe2O3：0.15～0.25%、TiO2：0.08～0.15%、CaO：0.30～0.50%、MgO：0.20～0.50%、K2O：1.00～3.00%、Na2O：3.50～4.50%、P2O5：0.1～0.3%，ZrO2：5.00～6.00%。
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，进行喷墨打印图案，可采用行业内最普遍的喷墨打印机打印方式。使用的陶瓷墨水可为蓝色、棕色、桔色、黄色、黑色、红色等。打印时可同时打印亮光、哑光等效果墨水，改变局部图案的光泽度，增加图案的层次；喷墨打印后，干燥温度在130～150℃，干燥时间在50～80s；主要作用为烘干墨水，减少不同墨水之间排斥和减少墨水油性对面釉的排釉影响。
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，为了保证喷淋良好的雾化程度，要求采用高压喷釉柜，喷嘴大小为0.36mm，喷嘴角度为110°，喷釉柜釉泵压力为9～13MPa。
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，所述胶水采用行业内常用的釉料胶水，其主要由黄原胶、羧甲基纤维素钠、乙二醇、消泡剂、排墨剂和水组成，在干粒釉中起悬浮剂的作用。超细干粒悬浮分散在胶水中，不发生沉淀结团；胶水中含有排墨剂，且其表面张力接近墨水，故其不易与喷墨打印的墨水发生排斥反应，施釉时釉面会更均匀平整。
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，研制的超哑光效果陶瓷砖，其表面在保证良好细滑手感和优秀的防污性能的同时，釉面具有很低的光泽度，深色产品光泽度能在0～1度，浅色产品能在1～3度。超哑光的效果能大大提升陶瓷砖的装饰效果，结合对应的设计图案，能用陶瓷砖模仿出更多哑光材料的观感和质感；采用干粒釉作为保护釉，由于干粒透感强，发色好，胶水作为悬浮剂其不易与油性墨水层发生排斥反应。装饰图案即使选用墨量大的深色设计，烧出来的釉面效果和发色也不受影响；可在图案打印环节，打印亮光、哑光等效果墨水，增加图案的层次。也可以在干粒釉层中加入闪光干粒、金属干粒、有色干粒等效果干粒，增加釉面层的装饰效果；通过超细干粒的选用和配方调试，做出的陶瓷砖具有优秀的防污性能，容易清洁。陶瓷行业中对于仿古砖的防污测试通常是用三种颜色的油性笔在在砖面的不同地方画上大圆点，静置5分钟后用水和除蜡粉混合擦拭。本发明所做出的陶瓷砖釉面只需要用水就能轻松把油性笔所画的记号擦拭干净，与行业内的哑光砖相比，具有优秀的防污性能；采用的保护釉料为超细干粒配成的干粒釉，烧成后釉面有细小的颗粒手感，其表面有无数细小的凹凸形状，根据摩擦力的原理，其与接触物体接触的表面积更大，更容易较大的摩擦助力和吸附力，因此本发明的陶瓷砖具有良好的止滑性能。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，步骤如下：
（1）普通陶瓷坯体的压制。
（2）干燥窑干燥，干燥时间50min,温度130～150℃，干燥坯体水分在0.3%以内。
（3）喷釉柜施面釉，面釉比重1.45，淋釉量450g/m2。面釉的化学组成为：按质量计，烧失：1.82%、SiO2：53.14%、Al2O3：32.04%、Fe2O3：0.25%、TiO2：0.13%、CaO：0.42%、MgO：0.35%、K2O：2.29%、Na2O：4.32%、ZrO2：5.24%。
（4）喷墨打印图案。打印平均灰度在45%的黑色设计图案。
（5）干燥窑干燥，干燥温度130～150℃，干燥时间60s。
（6）喷干粒釉，干粒釉的比重：1.32，施釉量：250 g/m2，喷釉柜，喷嘴大小为0.36mm，喷嘴角度为110°，喷釉柜釉泵压力为12MPa。
干粒釉中含有：干粒A：27%，干粒B:3%，胶水：50%，水：20%。
干粒A的化学组成：烧失0.46%、SiO2：63.12%、Al2O3：15.21%、CaO：10.33%、MgO：1.03%、K2O：4.45%、Na2O：0.66%、 ZnO：4.49%、BaO：0.25%。
干粒B的化学组成：烧失0.53%、SiO2：62.93%、Al2O3：11.12%、CaO：11.59%、MgO：0.96%、K2O：5.83%、Na2O：2.02%、ZnO：4.89%、BaO：0.13%。
干粒A的颗粒级配为：200目到250目：6.70%.250目到325目：39.94%，325目下：53.36%。B的颗粒级配为：200目以上：0.85%，200目到250目：12.81%，250目到325目：44.63%，325目以下：41.71%。
（7）干燥，干燥温度130～150℃。入窑前的砖坯水分控制在0.6%以下。
（8）辊道窑烧成，烧成周期55min，最高烧成温度：1226℃。
本实施例制备得到的超亚光效果陶瓷砖干粒釉面细腻，有超细的颗粒感，有止滑效果，防污性能好，釉面光泽度为1度。
实施例2
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，步骤如下：
（1）普通陶瓷坯体的压制。
（2）干燥窑干燥，干燥时间50min,温度130～150℃，干燥坯体水分在0.3%以内。
（3）喷釉柜施面釉，面釉比重1.45，淋釉量450g/m2。面釉的化学组成为：按质量计，烧失：1.82%、SiO2：53.14%、Al2O3：32.04%、Fe2O3：0.25%、TiO2：0.13%、CaO：0.42%、MgO：0.35%、K2O：2.29%、Na2O：4.32%、ZrO2：5.24%。
（4）喷墨打印图案。打印平均灰度在45%的黑色设计图案。
（5）干燥窑干燥，干燥温度130～150℃，干燥时间60s。
（6）喷干粒釉，干粒釉的比重：1.32，施釉量：200 g/m2，喷釉柜，喷嘴大小为0.36mm，喷嘴角度为110°，喷釉柜釉泵压力为12MPa。
干粒釉中含有：干粒A：27%，干粒B:3%，胶水：50%，水：20%。
干粒A的化学组成：烧失0.46%、SiO2：63.12%、Al2O3：15.21%、CaO：10.33%、MgO：1.03%、K2O：4.45%、Na2O：0.66%、 ZnO：4.49%、BaO：0.25%。
干粒B的化学组成：烧失0.53%、SiO2：62.93%、Al2O3：11.12%、CaO：11.59%、MgO：0.96%、K2O：5.83%、Na2O：2.02%、ZnO：4.89%、BaO：0.13%。
干粒A的颗粒级配为：200目到250目：6.70%.250目到325目：39.94%，325目下：53.36%。B的颗粒级配为：200目以上：0.85%，200目到250目：12.81%，250目到325目：44.63%，325目以下：41.71%。
（7）干燥，干燥温度130～150℃。入窑前的砖坯水分控制在0.6%以下。
（8）辊道窑烧成，烧成周期55min，最高烧成温度：1226℃。
实施例2与实施例1的不同之处在于：干粒釉的比重：1.32，施釉量：200 g/m2。
实施例2制备得到的超亚光效果陶瓷砖与实施例1的成品相比，超亚光效果陶瓷砖干粒釉面略涩，颗粒感较强，止滑效果更好，防污性能不如实施例1，釉面光泽度为0.5度。
实施例3
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，步骤如下：
（1）普通陶瓷坯体的压制。
（2）干燥窑干燥，干燥时间50min,温度130～150℃，干燥坯体水分在0.3%以内。
（3）喷釉柜施面釉，面釉比重1.45，淋釉量450g/m2。面釉的化学组成为：按质量计，烧失：1.82%、SiO2：53.14%、Al2O3：32.04%、Fe2O3：0.25%、TiO2：0.13%、CaO：0.42%、MgO：0.35%、K2O：2.29%、Na2O：4.32%、ZrO2：5.24%。
（4）喷墨打印图案。打印平均灰度在45%的黑色设计图案。
（5）干燥窑干燥，干燥温度130～150℃，干燥时间60s。
（6）喷干粒釉，干粒釉的比重：1.32，施釉量：300 g/m2，喷釉柜，喷嘴大小为0.36mm，喷嘴角度为110°，喷釉柜釉泵压力为12MPa。
干粒釉中含有：干粒A：27%，干粒B:3%，胶水：50%，水：20%。
干粒A的化学组成：烧失0.46%、SiO2：63.12%、Al2O3：15.21%、CaO：10.33%、MgO：1.03%、K2O：4.45%、Na2O：0.66%、 ZnO：4.49%、BaO：0.25%。
干粒B的化学组成：烧失0.53%、SiO2：62.93%、Al2O3：11.12%、CaO：11.59%、MgO：0.96%、K2O：5.83%、Na2O：2.02%、ZnO：4.89%、BaO：0.13%。
干粒A的颗粒级配为：200目到250目：6.70%.250目到325目：39.94%，325目下：53.36%。B的颗粒级配为：200目以上：0.85%，200目到250目：12.81%，250目到325目：44.63%，325目以下：41.71%。
（7）干燥，干燥温度130～150℃。入窑前的砖坯水分控制在0.6%以下。
（8）辊道窑烧成，烧成周期55min，最高烧成温度：1226℃。
实施例3制备得到的超亚光效果陶瓷砖与实施例1的成品相比，干粒釉面较柔，颗粒感较弱，止滑效果略差，防污性能较好，釉面光泽度为2度。
对比例1
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，步骤如下：
（1）普通陶瓷坯体的压制。
（2）干燥窑干燥，干燥时间50min,温度130～150℃，干燥坯体水分在0.3%以内。
（3）喷釉柜施面釉，面釉比重1.45，淋釉量450g/m2。面釉的化学组成为：按质量计，烧失：1.82%、SiO2：53.14%、Al2O3：32.04%、Fe2O3：0.25%、TiO2：0.13%、CaO：0.42%、MgO：0.35%、K2O：2.29%、Na2O：4.32%、ZrO2：5.24%。
（4）喷墨打印图案。打印平均灰度在45%的黑色设计图案。
（5）干燥窑干燥，干燥温度130～150℃，干燥时间60s。
（6）喷干粒釉，干粒釉的比重：1.32，施釉量：250 g/m2，喷釉柜，喷嘴大小为0.36mm，喷嘴角度为110°，喷釉柜釉泵压力为12MPa。
干粒釉中含有：干粒A：30%，胶水：50%，水：20%。
干粒A的化学组成：烧失0.46%、SiO2：63.12%、Al2O3：15.21%、CaO：10.33%、MgO：1.03%、K2O：4.45%、Na2O：0.66%、 ZnO：4.49%、BaO：0.25%。
干粒A的颗粒级配为：200目到250目：6.70%.250目到325目：39.94%，325目下：53.36%。（7）干燥，干燥温度130～150℃。入窑前的砖坯水分控制在0.6%以下。
（8）辊道窑烧成，烧成周期55min，最高烧成温度：1226℃。
本对比例制备得到的陶瓷砖干粒釉面的哑光干粒手感干涩，容易藏污,防污性能差，釉面光泽度为0.5度。
对比例2
一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，步骤如下：
（1）普通陶瓷坯体的压制。
（2）干燥窑干燥，干燥时间50min,温度130～150℃，干燥坯体水分在0.3%以内。
（3）喷釉柜施面釉，面釉比重1.45，淋釉量450g/m2。面釉的化学组成为：按质量计，烧失：1.82%、SiO2：53.14%、Al2O3：32.04%、Fe2O3：0.25%、TiO2：0.13%、CaO：0.42%、MgO：0.35%、K2O：2.29%、Na2O：4.32%、ZrO2：5.24%。
（4）喷墨打印图案。打印平均灰度在45%的黑色设计图案。
（5）干燥窑干燥，干燥温度130～150℃，干燥时间60s。
（6）喷干粒釉，干粒釉的比重：1.32，施釉量：250 g/m2，喷釉柜，喷嘴大小为0.36mm，喷嘴角度为110°，喷釉柜釉泵压力为12MPa。
干粒釉中含有：干粒B:30%，胶水：50%，水：20%。
干粒B的化学组成：烧失0.53%、SiO2：62.93%、Al2O3：11.12%、CaO：11.59%、MgO：0.96%、K2O：5.83%、Na2O：2.02%、ZnO：4.89%、BaO：0.13%。
B的颗粒级配为：200目以上：0.85%，200目到250目：12.81%，250目到325目：44.63%，325目以下：41.71%。
（7）干燥，干燥温度130～150℃。入窑前的砖坯水分控制在0.6%以下。
（8）辊道窑烧成，烧成周期55min，最高烧成温度：1226℃。
本对比例制备得到的陶瓷砖干粒釉面的哑光干粒手感较平，缺乏颗粒手感,釉面光泽度为15度。
防污性能测试：用马克笔涂覆在实施例1-3及对比例1-2制备得到的超亚光效果陶瓷砖表面进行防污性能测试，防污性能测试方法为：用三种颜色的油性笔在在砖面的不同地方画上大圆点，静置5分钟后用水和除蜡粉混合擦拭；实施例1-3制出的超亚光效果陶瓷砖进行防污性能测试时，只需要用水就能轻松把油性笔所画的记号擦拭干净，与行业内的哑光砖相比，具有优秀的防污性能；对比例1-2制出的超亚光效果陶瓷砖进行防污性能测试时，用水擦拭，污渍很难去除，污渍残留明显，对比例1-2制出的超亚光效果陶瓷砖的防污性能较差。
由上述实验结果可知，本发明一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，干粒A的软化温度为1150℃～1190℃，干粒B的软化温度为1010℃～1070℃，通过2种不同温度干粒的搭配，改变两种干粒的组成比例可调整干粒釉层整体的熔融温度，进而调整釉面的光泽度、手感和防污性能，在保证良好细滑手感和优秀的防污性能的同时，深色产品光泽度能在0～1度，浅色产品能在1～3度；由于该干粒釉含有2种不同熔融温度范围的细干粒，故该亚光止滑釉可以通过配方的调节适应较大范围的烧成温度，可在烧成周期50～70min，烧成温度1190～1226℃下得到此效果，解决了市场上亚光砖的光泽度不够低，手感差且不易清洁的难题。
虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施方案对本发明作了详尽的描述，但在本发明基础上，可以对之做一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本发明要求保护的范围。

Claims (9)

1.一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）陶瓷坯体的制备：将制成陶瓷坯体的坯料压制成型，干燥，得到陶瓷坯体；
（2）面釉的涂覆：将面釉均匀涂覆在步骤（1）制备得到的陶瓷坯体上，得到施加面釉的陶瓷坯体；
（3）喷墨打印：在步骤（2）制备得到的施加面釉的陶瓷坯体表面喷墨打印图案，干燥，得到喷有图案的陶瓷坯体；
（4）干粒釉的涂覆：在步骤（3）制备得到的喷有图案的陶瓷坯体表面施干粒釉，得到施加干粒釉的陶瓷坯体；
（5）干燥、烧成：干燥步骤（4）制备得到的施加干粒釉的陶瓷坯体，并送入辊道窑中烧成，烧成温度为1190～1226℃，烧成周期为50～70min，即得所述超亚光效果陶瓷砖；所述超亚光效果陶瓷砖从下至上依次是坯体、面釉层、图案层、干粒釉层；
其中，所述干粒釉按重量百分比计,包括: 干粒A：15～32%、干粒B:2～10%、水：20～25%，余量为胶水；所述干粒A的软化温度为1150℃～1190℃，干粒B的软化温度为1010℃～1070℃；所述干粒釉的固相成分为超细干粒，超细干粒的颗粒级配为：200目以上：<1%，200～250目：5%～15%，250～325目：35～45%， 325目以下：45～55%。
2.根据权利要求1所述的一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中的干燥工艺为：在温度为130～150℃条件下干燥40～60min，坯体水分控制在0.3%以内，得到陶瓷坯体。
3.根据权利要求1所述的一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤（2）中面釉的涂覆方式为：喷釉柜喷涂；采用喷釉柜喷涂面釉时，面釉比重可为1.43～1.48，淋釉量可为450g～550g/m2；面釉烧后的光泽度控制在3～5度。
4.根据权利要求1所述的一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤（3）中的干燥工艺为：在温度为130～150℃条件下干燥50～80s，得到喷有图案的陶瓷坯体。
5.根据权利要求1所述的一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤（4）中干粒釉的涂覆方式为：喷釉柜喷涂；采用喷釉柜喷涂干粒釉时，干粒釉的比重：1.28～1.35，施釉量：220～275g/m2；喷釉柜为高压喷釉柜，喷嘴大小为0.36mm，喷嘴角度为110°，喷釉柜釉泵压力为9～13MPa。
6.根据权利要求1所述的一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述超细干粒的化学组成为：按质量百分比计，烧失0.4～0.8%、SiO2：60.00～65.00%、Al2O3：11.00～16.00%、CaO：10.00～12.00%、MgO：0.50～1.50%、K2O：4.00～6.00%、Na2O：0.50～2.50%、ZnO：4.50～5.00%、BaO：0.10～0.30%。
7.根据权利要求1所述的一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述干粒釉按重量百分比计，包括：干粒A：25～32%、干粒B：2～10%、水：20～25%，余量为胶水；所述干粒A的软化温度为1150℃～1190℃，干粒B的软化温度为1010℃～1070℃。
8.根据权利要求1所述的一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述干粒A的化学组成为：SiO2：62.80～63.62%、Al2O3：14.84～15.68%、CaO：9.98～10.83%、MgO：0.95～1.07%、K2O：4.10～4.90%、Na2O：0.59～0.68%、 ZnO：4.30～4.63%、BaO：0.21～0.32%；所述干粒B的化学组成：SiO2：62.01～63.12%、Al2O3：10.72～11.324%、CaO：11.11～12.23%、MgO：0.89～1.02%、K2O：5.30～6.21%、Na2O：1.65～2.21%、ZnO：4.76～5.24%、BaO：0.09～0.16%。
9.根据权利要求1所述的一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述胶水的流速为70～90s，比重为1.01～1.08，在干粒釉中起悬浮剂的作用。
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