CN110968218B - 触控显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种触控显示面板及其制备方法，该显示面板包括发光显示层和与发光显示层层叠设置的触控层，发光显示层包括多个阵列设置的发光器件；触控层包括多个桥接部、多个同层设置的第一触控电极和第二触控电极、以及位于第一触控电极、第二触控电极与桥接部之间的绝缘层；其中，绝缘层为黑色遮光层。通过上述方式，本申请能够减薄触控显示面板的厚度，同时能够减少反射，提高显示面板的对比度。
Description
技术领域
本申请涉及半导体技术领域，特别是涉及触控显示面板及其制备方法。
背景技术
随着显示技术的快速发展，有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示器因具有自发光的特性，已逐渐成为主流显示器。其中，主动驱动即有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix Organic Light Emitting Diode，AMOLED)显示器具有反应速度快、对比度高、低功耗、高色域等特性，已作为新一代显示方式，广泛应用于手机屏幕、电脑显示器、全彩电脑等。
随着触控技术的发展，出现了更多带触控功能的显示器。根据结构不同可以将触控显示面板分为外挂式和嵌入式两种，嵌入式触控显示面板又可以分为将触控电路覆盖于面板上的盒上式(On Cell)以及将触控电路内嵌在面板内的内嵌式(In Cell)。随着人们对轻薄化的需求，如何能够在保证触控显示面板的性能前提下，尽量降低触控显示面板的厚度是亟待解决的技术问题。
发明内容
本申请主要解决的技术问题是提供一种触控显示面板及其制备方法，能够减薄触控显示面板的厚度，同时能够减少反射，提高显示面板的对比度。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种触控显示面板，该显示面板包括发光显示层和与发光显示层层叠设置的触控层，发光显示层包括多个阵列设置的发光器件；触控层包括多个桥接部、多个同层设置的第一触控电极和第二触控电极、以及位于第一触控电极、第二触控电极与桥接部之间的绝缘层；其中，第一触控电极、第二触控电极纵横交错设置，在交错处第一触控电极具有断口，以供第二触控电极穿过，绝缘层为黑色遮光层，绝缘层对应断口的两侧设置有两过孔；桥接部位于绝缘层背对第一触控电极、第二触控电极一侧，且对应断口位置设置，桥接部两端分别通过两过孔连接断口两侧的第一触控电极。
其中，绝缘层背对第一触控电极、第二触控电极一侧具有凹槽，桥接部填充于凹槽中，且表面与绝缘层齐平。
其中，触控显示面板还包括多个与发光显示层层叠且与触控层同层设置的偏光部，多个偏光部分别对应多个发光器件，偏光部允许透过光线的颜色与对应的发光器件的发光颜色相同。
其中，触控显示面板还包括与发光显示层层叠设置的平坦化层，平坦化层覆盖触控层和多个偏光部，其中，平坦化层的材料为透明高分子材料。
其中，第一触控电极、第二触控电极和桥接部中的至少一者包括依序层叠设置的减反射金属层、第二金属层、触控金属层和第三金属层。
其中，减反射金属层包括层叠设置的两层第一金属层。
其中，靠近发光显示层一侧的第一金属层的折射率小于远离发光显示层一侧的第一金属层的折射率。
其中，第一金属层的材料为氧化钼或氧化钼铌；第二金属层、第三金属层的材料为钼或钼铌合金；触控金属层的材料为铝或铝钕合金。
为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种触控显示面板的制备方法，该方法包括在发光显示层上形成第一触控金属层，图案化第一触控金属层形成触控电极/桥接部；利用黑色遮光材料在第一触控金属层上形成绝缘层，并在绝缘层上形成过孔；在绝缘层上形成第二触控金属层，图案化第二触控金属层形成桥接部/触控电极。
其中，在绝缘层上形成第二触控金属层之前还包括：在发光显示层上形成第一偏光层，图案化第一偏光层形成第一偏光部，第一偏光部对应第一发光器件；在发光显示层上形成第二偏光层，图案化第二偏光层形成第二偏光部，第二偏光部对应第二发光器件；在发光显示层上形成第三偏光层，图案化第三偏光层形成第三偏光部，第三偏光部对应第三发光器件。
本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请利用黑色遮光层来制作触控金属层之间的绝缘层，能够在起到绝缘作用的同时，遮挡覆盖金属电极，减小金属电极对光的反射，还能够吸收部分进入显示面板内部的外界环境光，进一步降低出射反射光的强度，提高显示面板的对比度。
附图说明
图1是本申请一实施方式中触控显示面板的俯视结构示意图；
图2是图1中触控显示面板沿A-A’方向的桥接点处的剖面结构示意图；
图3是图1中触控显示面板沿C-C’方向的局部区域的剖面结构示意图；
图4是本申请一实施方式中触控显示面板中触控金属层的结构示意图；
图5是本申请另一实施方式中触控显示面板中触控金属层的结构示意图；
图6是本申请一实施方式中触控显示面板的制备方法的流程示意图；
图7是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中提供显示基板的示意图；
图8是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成桥接部的示意图；
图9是本申请一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成绝缘层的示意图；
图10是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成偏光部的示意图；
图11是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成触控电极的示意图；
图12是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成平坦化层的示意图。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本申请进一步详细说明。
本申请提供一种触控显示面板，该触控显示面板可用于多种显示方式，例如OLED显示、量子点显示，Micro-LED显示等。这里以AMOLED显示为例进行说明，但不限于该显示方式。
请结合参阅图1和图2，图1是本申请一实施方式中触控显示面板的俯视结构示意图，图2是图1中触控显示面板沿A-A’方向的桥接点处的剖面结构示意图。该实施方式中，触控显示面板包括发光显示层10和与发光显示层10层叠设置的触控层20。
发光显示层10包括多个阵列设置的发光器件110。
在一实施方式中，发光显示层10具体包括阵列基板、设置于阵列基板上的发光器件和覆盖发光器件的封装层。阵列基板包括衬底基板和像素电路阵列；发光器件包括阳极层、有机发光层和阴极层等；封装层包括层叠设置的无机薄膜封装层和有机薄膜封装层。本申请中对发光显示层的具体结构、材料不做限定，可根据显示面板的显示方式设置。
触控层20包括多个桥接部230，多个同层设置的第一触控电极210和第二触控电极220、以及位于第一触控电极210、第二触控电极220与桥接部230之间的绝缘层240。
其中，同层的第一触控电极210、第二触控电极220纵横交错设置，在交错处第一触控电极210具有断口，以供第二触控电极220穿过。部分断口位置设置有桥接部230，以连接断口两侧的第一触控电极210，绝缘层240对应断口的两侧设置有两过孔241，桥接部230位于绝缘层240背对第一触控电极210、第二触控电极220一侧，桥接部230两端分别通过两过孔241连接断口两侧的第一触控电极210。其中，桥接点D间隔设置(图中横向标识为第一触控电极，纵向标识为第二触控电极，两者同层设置，不同颜色填充仅是为了区别示意桥接点的位置)，桥接点的间隔约4mm。
该实施方式中，绝缘层240为黑色遮光层，能够在起到绝缘作用的同时，遮挡覆盖金属电极，减小金属电极对光的反射，还能够吸收部分进入显示面板内部的外界环境光，进一步降低出射反射光的强度，提高显示面板的对比度。
在一实施方式中，触控层具体包括靠近发光显示层的第一触控金属层和远离发光显示层的第二触控金属层。可以是桥接部位于第一触控金属层，第一触控电极和第二触控电极位于第二触控金属层；也可以是第一触控电极和第二触控电极位于第一触控金属层，桥接部位于第二触控金属层。其中，桥接部、第一触控电极、第二触控电极在发光显示层上的正投影不应与发光器件有重叠，以避免遮挡光线出射，影响显示效果。绝缘层应完全覆盖包裹第一触控电极、第二触控电极或桥接部，以避免金属之间发生短路。如所形成的结构可以是绝缘层背对第一触控电极、第二触控电极一侧具有凹槽，桥接部填充于凹槽中，且表面与绝缘层齐平。
请参阅图3，图3是图1中触控显示面板沿C-C’方向的局部区域的剖面结构示意图。该实施方式中，触控显示面板还包括多个与发光显示层10层叠且与触控层20同层设置的偏光部30。多个偏光部30分别对应多个发光器件110，且偏光部30允许透过光线的颜色与对应的发光器件110的发光颜色相同。通过设置偏光部能够阻止外界环境光进入显示面板，以减少外界环境光进入显示面板内部；同时偏光部只允许透过与发光器件相同颜色的光，因此即使有外界环境光进入显示面板，其反射出的光也只有部分光线能透过，能够减少反射光，提高对比度。
该实施方式中，偏光部30与触控层20同层设置，即偏光部30设置在触控层20内部，具体可以将偏光部30设置在绝缘层的间隔内。不再需要单独设置偏光片层，可以减薄显示面板的厚度。另一方面，该实施方式中的偏光部是对应发光器件的阵列排布的多个小块，相对现有方案的整层偏光片，能够提高显示面板的耐弯折性。
请继续参阅图3，触控显示面板还包括与发光显示层10层叠设置的平坦化层40，平坦化层40覆盖触控层20和多个偏光部30。
平坦化层40的设置不仅能够起到平坦作用，还可以作为触控层20和多个偏光部30的保护层，对触控层20和偏光部30进行保护。可以不再需要单独为触控层20和偏光部30设置保护层，进一步减薄显示面板的厚度。
在一实施方式中，平坦化层40的材料为透明高分子材料，如可以是透明光刻胶OC、硅系高分子透明材料、亚克力系透明高分子材料等。具体可以是乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯、二甲基-甲基-苯乙基(硅氧烷与聚硅氧烷)、2-[[3-[(烯丙酰基)氧]-2,2-双[[(烯丙酰基)氧]甲基]丙氧基]甲基]-2-[[(烯丙酰基)氧]-1,3-丙二醇二丙烯酸酯。
请参阅图4，图4是本申请一实施方式中触控显示面板中触控金属层的结构示意图。该实施方式中，第一触控电极、第二触控电极和桥接部中的至少一者包括依序层叠设置的减反射金属层51、第二金属层52、触控金属层53和第三金属层54。
其中，金属层材料不仅本身不透明，在外界环境光的照射下，其还会反射光线，导致金属网格容易被肉眼发现，从而影响触摸屏的显示效果。传统的工艺中，往往通过采用黑化靶材的方式来减少金属网格的反射现象的发生，然而，黑化靶材成本高会导致产品成本上升。本申请中对金属层进行了处理，增加了减反射层，能够减少金属层的反射。
请参阅图5，图5是本申请另一实施方式中触控显示面板中触控金属层的结构示意图。在该实施方式中，减反射金属层51包括层叠设置的两层第一金属层511和512，且两层第一金属层511和512的折射率不同。其中，靠近发光显示层一侧的第一金属层512的折射率小于远离发光显示层10一侧的第一金属层511的折射率。通过搭配不同折射率的第一金属层，能够降低减反射金属层的反射率，起到减反射作用。
在一实施方式中，第一金属层的材料可以为氧化钼(MoO)或氧化钼铌(MoNbO)，通过调整MoO和MoNbO中的含氧量能够调整该材料的折射率。第二金属层、第三金属层的材料可以为钼(Mo)或钼铌合金(MoNb)。触控金属层的材料可以为铝(Al)或铝钕合金(AlNd)。
请参阅图6，图6是本申请一实施方式中触控显示面板的制备方法的流程示意图。该实施方式中，触控显示面板的制备方法包括：
S610：在发光显示层上形成第一触控金属层，图案化第一触控金属层形成触控电极/桥接部。
其中，可以根据显示面板设计，选择在靠近发光显示层一侧的触控电极上制作桥接部。
S620：利用黑色遮光材料在第一触控金属层上形成绝缘层，并在绝缘层上形成过孔。
黑色遮光材料可以是不透光的有机材料，如可以是黑色光阻、掺入黑色颜料的丙烯酸酯或掺入黑色颜料的聚酰亚胺等，在此不做限定。
S630：在绝缘层上形成第二触控金属层，图案化第二触控金属层形成桥接部/触控电极。
请结合参阅图7-12，该实施方式中，触控显示面板的制备方法包括：
请参阅图7，图7是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中提供显示基板的示意图。该实施方式中，发光显示层10是预先制备好的显示基板，显示基板包括阵列基板，设置于阵列基板上的发光器件110，覆盖发光器件的封装层。阵列基板包括衬底基板和像素电路阵列；发光器件包括阳极层、有机发光层和阴极层等；封装层包括层叠设置的无机薄膜封装层和有机薄膜封装层。显示基板10可以是柔性基板。
请参阅图8，图8是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成桥接部的示意图。在发光显示层10上形成第一触控金属层。具体地，依次沉积溅射第三金属层、触控金属层、第二金属层、第一层第一金属层和第二层第一金属层形成触控金属层。可以利用化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、原子层沉积(ALD)等方法沉积金属层。图案化第一触控金属层形成桥接部230。
请参阅图9，图9是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成绝缘层的示意图。在桥接部230上形成绝缘层240，并在绝缘层240上刻蚀出过孔241。
请参阅图10，图10是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成偏光部的示意图。依次在发光显示层10对应发光器件的区域形成多个偏光部。
具体地，可以是先在发光显示层10上形成第一偏光层，图案化第一偏光层形成第一偏光部301，第一偏光部301对应第一发光器件；再在发光显示层上形成第二偏光层，图案化第二偏光层形成第二偏光部302，第二偏光部302对应第二发光器件。形成偏光部的材质可以是聚乙烯醇或液晶材料等。
请参阅图11，图11是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成触控电极的示意图。在发光显示层10上形成第二触控金属层，图案化第二触控金属层，形成第一触控电极(图未示)和第二触控电极220。同样地，第二触控金属层也是由多层金属层组成。
请参阅图12，图12是本申请另一实施方式中触控显示面板的制备方法中形成平坦化层的示意图。在发光显示层10上形成平坦化层40，覆盖保护触控层和偏光部30。
以上方案，所得触控显示面板通过设置偏光部能够减少外界环境光进入显示面板内部，并能够阻止进入显示面板内部的外界环境光反射到显示面板外，减少反射光，通过将偏光部与触控层同层设置，可以减薄显示面板的厚度。利用黑色遮光材料制作绝缘层，能够吸收部分外界环境光，提高对比度。同时不再需要单独制备绝缘层和保护层，能够节约制备工艺流程，只需要6道Mask工艺即可。
以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。
Claims (8)
1.一种触控显示面板，其特征在于，包括：
发光显示层，包括多个阵列设置的发光器件；
触控层，包括桥接部、第一触控电极和第二触控电极、以及位于所述第一触控电极、所述第二触控电极与所述桥接部之间的绝缘层；
多个偏光部，与所述触控层同层设置，多个所述偏光部分别对应多个所述发光器件，所述偏光部允许透过光线的颜色与对应的发光器件的发光颜色相同，其中，所述偏光部设置在所述绝缘层的间隔内；
其中，所述第一触控电极与所述第二触控电极交错设置，在该交错处所述第一触控电极具有断口，以供所述第二触控电极穿过；所述绝缘层为黑色遮光层，所述绝缘层对应所述断口的两侧设置有两过孔；所述桥接部位于所述绝缘层背对所述第一触控电极、所述第二触控电极一侧，且对应所述断口位置设置，所述桥接部两端分别通过所述两过孔连接断口两侧的所述第一触控电极。
2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，
所述绝缘层背对所述第一触控电极、所述第二触控电极一侧具有凹槽，所述桥接部填充于所述凹槽中，且所述桥接部的表面与所述绝缘层齐平。
3.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，还包括：
平坦化层，与所述发光显示层层叠设置，并覆盖所述触控层和多个所述偏光部，其中，所述平坦化层的材料为透明高分子材料。
4.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，
所述第一触控电极、所述第二触控电极和所述桥接部中的至少一者包括依序层叠设置的减反射金属层、第二金属层、触控金属层和第三金属层。
5.根据权利要求4所述的触控显示面板，其特征在于，所述减反射金属层包括层叠设置的两层第一金属层。
6.根据权利要求5所述的触控显示面板，其特征在于，
靠近所述发光显示层一侧的所述第一金属层的折射率小于远离所述发光显示层一侧的所述第一金属层的折射率。
7.根据权利要求5所述的触控显示面板，其特征在于，
所述第一金属层的材料为氧化钼或氧化钼铌；
所述第二金属层、所述第三金属层的材料为钼或钼铌合金；
所述触控金属层的材料为铝或铝钕合金。
8.一种如权利要求1-7任一项所述的触控显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在发光显示层上形成第一触控金属层，图案化所述第一触控金属层形成触控电极/桥接部；
利用黑色遮光材料在所述第一触控金属层上形成绝缘层，并在所述绝缘层上形成过孔；
在所述发光显示层上形成第一偏光层，图案化所述第一偏光层形成第一偏光部，所述第一偏光部对应第一发光器件；
在所述发光显示层上形成第二偏光层，图案化所述第二偏光层形成第二偏光部，所述第二偏光部对应第二发光器件；
在所述发光显示层上形成第三偏光层，图案化所述第三偏光层形成第三偏光部，所述第三偏光部对应第三发光器件；
在所述绝缘层上形成第二触控金属层，图案化所述第二触控金属层形成桥接部/触控电极。
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