CN111952481B - 显示面板及电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示面板及电子设备。该显示面板包括：阵列基板；发光元件层，包括阵列排布的多个发光元件，发光元件层包括彼此间隔的多个发光区域和位于相邻的发光区域之间的非发光区域，且发光区域与发光元件一一对应；封装层，位于发光元件层背离阵列基板的一侧，封装层至少包括依次设置的第一有机层、第一无机层和第二有机层，第一无机层包括第一区域，第一区域在发光元件层上的正投影至少覆盖发光区域与非发光区域的衔接处，第一区域朝向阵列基板的一侧与第一有机层接触，第一区域背离阵列基板的一侧与第二有机层接触，并且沿发光区域指向非发光区域的方向，第一区域靠近阵列基板设置。本发明降低了显示面板的反射率。

Description

显示面板及电子设备

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及电子设备。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板具有结构简单、响应速度快、主动发光、低功耗等优点，在手机、平板电脑、电视等电子设备的显示领域已经有了广泛的应用。

但是，现有有机发光显示面板的像素电路中的一些膜层以及发光单元的阴极和/或阳极采用金属等具有反射特性的材料形成，使得外界光进入到有机发光显示面板上以后，部分光线被反射回来进入人眼，影响用户的视觉体验。

发明内容

本发明的目的是提供一种显示面板及电子设备，该显示面板可以降低反射率。

第一方面，本发明提出了一种显示面板，包括：阵列基板；发光元件层，位于阵列基板上，发光元件层包括多个发光区域和非发光区域，多个发光区域阵列排布，非发光区域位于相邻发光区域之间；封装层，位于发光元件层背离阵列基板的一侧，封装层至少包括依次设置的第一有机层、第一无机层和第二有机层，第一无机层包括第一区域，第一区域在发光元件层上的正投影至少覆盖发光区域与非发光区域的衔接处，第一区域朝向阵列基板的一侧与第一有机层接触，第一区域背离阵列基板的一侧与第二有机层接触，并且沿发光区域指向非发光区域的方向，第一区域朝向靠近阵列基板的方向倾斜设置。

第二方面，本发明还提供了一种电子设备，包括如前所述的显示面板。

本发明提供的一种显示面板及电子设备，该显示面板在封装层内设置有包括第一有机层、第一无机层的第一区域和第二有机层的光波导结构，其中，第一区域在发光元件层上的正投影至少覆盖发光元件层的发光区域与非发光区域的衔接处，第一区域朝向阵列基板的一侧与第一有机层接触，第一区域背离阵列基板的一侧与第二有机层接触，并且沿发光区域指向非发光区域的方向，第一区域靠近阵列基板设置，使得入射进第一区域的光线在第一区域与第一有机层及第二有机层的边界发生全反射，从而将入射至发光区域的光线引导至相邻的非发光区域，防止光线入射至发光区域的像素电路中的金属层，降低了显示面板的反射率。

附图说明

下面将参考附图来描述本发明示例性实施例的特征、优点和技术效果。在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例绘制。

图1示出根据本发明一种实施例的显示面板的俯视结构示意图；

图2示出图1所示的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图；

图3示出图2中的区域A的一种局部放大结构示意图；

图4示出图2中的区域A的另一种局部放大结构示意图；

图5示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图；

图6示出根据本发明一种实施例的显示面板的俯视结构示意图；

图7示出图6所示的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图；

图8示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图；

图9示出图8中的区域B的局部放大结构示意图；

图10示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图；

图11示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图；

图12示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本发明的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本发明造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。

下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向，并不是对本发明的具体结构进行限定。在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸式连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

发明人经过研究发现：OLED显示面板中的偏光片(Polarizer，POL)能够有效地降低强光下的反射率，但却损失了接近58％的出光，极大地增加了OLED显示面板的寿命负担。另外，偏光片厚度较大、材质脆，不利于动态弯折产品的开发。现有技术中一般使用彩色滤光片(Color Filter，CF)替代偏光片，不仅能将功能层的厚度从100μm降低至5μm，而且能够将出光率从42％提高至60％。彩色滤光片结构一般包括红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻以及设置于各色阻之间的黑矩阵。基于OLED自发光的特点，色阻需要分别与OLED的红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素对应，形成彩膜功能层。对于旋涂或喷墨打印后的彩膜，由于其自身的性质，仍然对环境光存在较高的反射作用，降低了OLED显示面板的视觉性能。

另外，OLED显示面板需要设置透光显示区，并将诸如前置摄像头、红外光传感器、接近光传感器等感光组件设置在透光显示区背面，在保证感光组件正常工作的情况下，实现显示面板的全面屏显示。其中，像素电路的一些膜层以及发光单元的阴极和/或阳极采用具有反射特性的金属材料形成，尤其为了提高透光区的透光率，透光区对应的像素电路也铺设于阵列基板对应的正常显示区，反射率也会有一定程度的增大，使得外界光线进入到有机发光显示面板上以后，部分光线被反射回来进入人眼，影响用户的视觉体验。

为解决上述问题，本发明实施例提供了一种显示面板及电子设备，以下将结合附图对各实施例进行说明。本发明实施例提供的显示面板可以是OLED显示面板。

图1示出根据本发明一种实施例的显示面板的俯视结构示意图，图2示出图1所示的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图，图3示出图2中的区域A的一种局部放大结构示意图。

请一并参阅图1至图3，本发明实施例提供的一种显示面板包括：阵列基板1、发光元件层2和封装层3。

发光元件层2位于阵列基板1上，包括依次设置的多个第一电极21、电致发光层和第二电极层23。电致发光层包括阵列排布的多个发光结构22。第二电极层23位于电致发光层背离阵列基板1的一侧。第一电极21、第二电极层23中的任一者为阳极，另一者为阴极。本文中，以第一电极21为阳极、第二电极层23为阴极为例进行说明。

在一些实施例中，第一电极21为透光电极。在一些实施例中，第一电极21包括氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)层或氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)层。在一些实施例中，第一电极21为反射电极，使得形成的发光元件的显示效果更佳。反射电极包括第一透光导电层、位于第一透光导电层上的反射层以及位于反射层上的第二透光导电层。其中第一透光导电层、第二透光导电层可以是ITO、IZO等，反射层可以是金属层，例如是银材质制成。

第二电极层23的材料可以为导体电极材料(Conductor Electrode Materials，CEM)等类金属材料，例如是镁银合金。第二电极层2b为公共电极，包括用于每个发光元件的阴极，即所有发光元件的阴极电连接成为整体，从而第二电极层23可以采用通用金属掩膜板整面蒸镀的方式来制备，以降低蒸镀成本。

每个第一电极21与对应的发光结构22以及该发光结构22对应区域的第二电极层23形成一个发光元件，该发光元件可以为OLED发光元件，多个发光元件阵列排布于阵列基板1上。根据发光结构22的设计需要，发光结构22还可以包括空穴注入层(Hole InjectLayer，HIL)、空穴传输层(Hole Transport Layer，HTL)、电子注入层(Electron InjectLayer，EIL)或电子传输层(Electron Transport Layer，ETL)中的至少一种。

可选地，发光元件层2还包括像素定义层24。像素定义层24包括多个像素开口241，发光结构22位于像素开口241内，第一电极21为对应于像素开口241设置的岛状或块状结构。阵列基板1上设置有像素电路，像素电路与每个像素开口241限定的发光元件电连接，以驱动发光元件发光，使得每个发光元件相当于一个最小的发光单元，以形成图1所示的发光区域LA，相邻的像素开口241限定的发光元件之间形成图1所示的非发光区域NA。

也就是说，发光元件层2包括多个发光区域LA和非发光区域NA，多个发光区域LA阵列排布，非发光区域NA位于相邻发光区域LA之间。发光区域LA与阵列基板1上设置的发光元件一一对应，相邻的发光元件之间的区域为非发光区域NA。

封装层3位于发光元件层2背离阵列基板1的一侧，封装层3至少包括依次设置的第一有机层31、第一无机层33和第二有机层32，第一无机层33包括第一区域331，第一区域331在发光元件层2上的正投影至少覆盖发光区域LA与非发光区域NA的衔接处，第一区域331朝向阵列基板1的一侧与第一有机层31接触，第一区域331背离阵列基板1的一侧与第二有机层32接触，并且沿发光区域LA指向非发光区域NA的方向，第一区域331朝向靠近阵列基板1的方向倾斜设置。

由于发光区域LA对应的发光元件的第一电极21和第二电极层23铺设有金属材料，如果外界光线射入发光区域LA对应的发光元件上，将会发生反射进入人眼。第一无机层33的第一区域331在发光元件层2上的正投影至少覆盖发光区域LA与非发光区域NA的衔接处，使得第一区域331夹设于第一有机层31与第二有机层32之间而形成光波导结构。光波导结构可以将进入发光区域LA的光线导向非发光区域NA，从而有效解决了显示面板的反射率高的问题。

下面结合图3详细描述光波导结构的工作原理。

如图3所示，第一无机层33的第一区域331夹设于第一有机层31与第二有机层32之间形成光波导结构。当外界入射光线a沿箭头方向穿过不同折射率的其它膜层时发生折射，折射光线b沿箭头方向朝向发光区域LA射到第一有机层31与第一区域331之间的分界面上时，由于第一有机层31与第一区域331具有不同的折射率，且一般无机材料的折射率大于有机材料的折射率，故折射光线b将在该分界面上发生全反射或者大部分光被反射，发生全反射的光线如图3中的全反射光线c所示。全反射光线c沿箭头方向射到第一区域331与第二有机层32之间的分界面上，由于第二有机层31的折射率小于第一区域331的折射率，全反射光线c将在该分界面上继续发生全反射，如图3中的全反射光线d所示，全反射光线d沿箭头方向再次射到第一有机层31与第一区域331之间的分界面上发生全反射，如图3中的全反射光线e所示，全反射光线e最终从第一区域331的底部导向非发光区域NA。

由此，外界射向发光区域LA的折射光线进入由第一有机层31、第一区域331及第二有机层32三者形成的光波导结构中，在第一有机层31与第一区域331的分界面以及第二有机层31与第一区域331的分界面上分别发生全反射，从而使光线仅局限在第一区域331内传播而不会透过第一无机层33进入发光区域LA，最终将射向发光区域LA的光线导向非发光区域NA，进而降低了显示面板的反射率。

本发明实施例提供的一种显示面板，在封装层3内设置有包括第一有机层31、第一无机层33的第一区域331和第二有机层32的光波导结构，其中，第一区域331在发光元件层2上的正投影至少覆盖发光元件层2的发光区域LA与非发光区域NA的衔接处，第一区域331朝向阵列基板1的一侧与第一有机层31接触，第一区域331背离阵列基板1的一侧与第二有机层32接触，并且沿发光区域LA指向非发光区域NA的方向，第一区域331靠近阵列基板1设置，使得入射进第一区域331的光线在第一区域331与第一有机层31及第二有机层32的边界发生全反射，从而将入射至发光区域LA的光线引导至相邻的非发光区域NA，防止光线入射至发光区域的像素电路中的金属层，降低了显示面板的反射率。

再次参阅图2和图3，第一有机层31在发光元件层2上的正投影覆盖发光区域LA，第二有机层32在发光元件层2上的正投影覆盖非发光区域NA，第一有机层31在第一区域331的正投影与第二有机层32在第一区域331的正投影交叠。

在一些实施例中，第一区域331包括内轮廓P1和外轮廓P2，内轮廓P1在发光元件层2上的正投影位于发光区域LA，外轮廓P2在发光元件层2上的正投影位于非发光区域NA。

可选地，第一区域的外轮廓P2为第一无机层33的边缘，第一无机层33在发光元件层2上的正投影至少覆盖发光区域LA。进一步地，第一无机层33在发光元件层2上的正投影至少覆盖第一电极21，以确保射向发光区域LA的光线通过光波导结构导向非发光区域NA，防止光线射向第一电极21发生反射，降低显示面板的反射率。

第一有机层31和第二有机层32的材质可以为透明的有机导电树脂，具体包括透明基体树脂、导电分子和/或导电离子，例如可以为有机酸掺杂的聚苯胺、交联单体、甲苯等搅拌完全溶解后形成的透明导电树脂；或者，在上述透明导电树脂中添加导电分子，如聚苯胺等；或者，在上述透明导电树脂中添加导电离子，如纳米级掺锑SiO2，还可以采用纳米级氧化铟锡或者纳米银等纳米级导电离子，一般导电离子尺寸为20nm-100nm。第一有机层31和第二有机层32可以通过喷墨打印(Ink-Jet Printing，IJP)工艺或者光刻工艺形成。

第一无机层33可以为透明的无机膜层，其材质可以包括以下材料中的一种或多种：Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂、MgO、HFO₂、Ta₂O₅、Si₃N₄、AlN、SiN、SiNO、SiO、SiO₂、SiC、SiCN_x、ITO、IZO。这些无机材料既具有良好的透光性能，又具有很好的水氧阻挡性能。第一无机层33可以通过化学气相淀积(Chemical Vapor Deposition，CVD)形成。

如图3所示，在一些实施例中，第一有机层31包括朝向阵列基板1的底面311、背离阵列基板1的第一顶面312以及连接于底面311和第一顶面312之间的侧面313，第一区域331与侧面313接触。

如前所述，第一区域331朝向靠近阵列基板1的方向倾斜设置，则侧面313为一倾斜面，可选地，侧面313与底面311之间的夹角α的取值范围为：30°≤α≤75°。需要理解的，这里所说的底面311指第一有机层31朝向阵列基板1且平行于显示面板所在平面的表面。

根据相对折射率的计算公式：n2/n1＝sinθ1/sinθ2，其中，n1为第一种介质的折射率，n2为第二种介质的折射率，θ1为光线从第一介质进入第二介质时的入射角，θ2为光线从而第二介质后的折射角。入射角θ1的大小与入射面有关，且第一区域331与侧面313接触，故入射角θ1的大小与第一有机层31的侧面313的倾斜角度α有关。

具体来说，入射角θ1越大，倾斜角度α越大。另外，第一有机层31的折射率与第一区域331的折射率相差越大，或者第二有机层32的折射率与第一区域331的折射率相差越大，为了使入射光线在第一区域331内发生全反射，则需要的侧面313的倾斜角度α越小。

可选地，第一有机层31或者第二有机层32的折射率的取值范围为1.5～1.7。可选地，第一无机层33的折射率的取值范围为1.7～2。具体根据实际选择的第一有机层31、第二有机层32及第一无机层33的材质而定，根据光波导结构各膜层的折射率大小可以确定侧面313的倾斜角度α，进而确定第一无机层33的第一区域331的形状及结构。

在一些实施例中，如图2所示，第一有机层31包括背离阵列基板1的一侧的第一顶面312，第二有机层32包括背离阵列基板1的一侧的第二顶面321，第二顶面321低于第一顶面312的最高点。

可选地，第二顶面321和第一顶面312均为平面。由于第二顶面321低于第一顶面312，第一顶面312与第二顶面321之间的高度差与第一区域331形成了入射光线进入第一区域331的窗口，即外界光线a透过封装层3的第一区域331上方的各膜层发生折射后，折射光线b通过该窗口进入第一区域331，进而在第一区域331内部发生全反射并进行传播。

可以理解的是，通过该窗口进入第一区域331的折射光线有多束，图3仅示出了其中一束折射光线b，不再赘述。

图4示出图2中的区域A的另一种局部放大结构示意图。如图4所示，该封装层3的结构与图3所示的封装层3的结构类似，不同之处在于，封装层3的第一有机层31背离阵列基板1一侧的第一顶面312的最高点与第二有机层32背离阵列基板1一侧的第二顶面321对齐设置。也就是说，由于第二顶面321和第一顶面312均为平面，第一有机层31的第一顶面312与第二有机层32的第二顶面321位于平行于显示面板所在平面的同一面上，即第一顶面312与第二顶面321共面。

由于第一区域331为倾斜面，第一区域331的位于第一顶面312与第二顶面321之间的部分区域形成了入射光线进入第一区域331的较小窗口，外界光线a透过封装层3的第一区域331上方的各膜层发生折射后，折射光线b通过该较小窗口进入第一区域331，进而在第一区域331内部发生全反射并进行传播。

可以理解的是，通过该较小窗口进入第一区域331的折射光线有多束，图4仅示出了其中一束折射光线b，不再赘述。

进一步地，在一些实施例中，第一有机层31的数量为多个，多个第一有机层31阵列排布。第一有机层31与图1所示的发光区域LA一一对应，并覆盖发光区域LA。第一无机层33包括多个无机单元，每个无机单元覆盖对应的一个第一有机层31。每个无机单元包括与第一有机层31的侧面313接触的第一区域331和与第一有机层31的第一顶面312接触的第二区域332，第一区域331和第二区域332一体成型为一个无机单元，以覆盖一个第一有机层31。

进一步地，封装层3还包括第二无机层4和第三无机层5。第二无机层4位于发光元件层2背离阵列基板1的一侧，且位于第一有机层31、第二有机层32及第一无机层33朝向阵列基板1的一侧。第三无机层5覆盖第一有机层31、第二有机层32及第一无机层33设置。

第二无机层4和第三无机层5的材质与第一无机层33的材质类似，均可以为透明的无机膜层，其材质可以包括以下材料中的一种或多种：Al2O3、TiO2、ZrO2、MgO、HFO2、Ta2O5、Si3N4、AlN、SiN、SiNO、SiO、SiO2、SiC、SiCNx、ITO、IZO。这些无机材料既具有良好的透光性能，又具有很好的水氧阻挡性能。可选地，第二无机层4和第三无机层5的折射率的取值范围为1.7～2。第二无机层4和第三无机层5可以通过CVD工艺形成。

第二无机层4和第三无机层5完全覆盖整个发光元件层2，可以防止水汽从侧面入侵影响发光元件层2的电气性能。第一有机层31、第二有机层32和第一无机层33的第一区域33形成的光波导结构夹设于第二无机层4和第三无机层5之间，第一有机层31和第二有机层32使得光波导结构具有较高的弹性，既可以抑制无机薄膜开裂，释放无机物之间的应力，还可以在提高整个封装层3的柔韧性，从而实现可靠的柔性封装。

在一些实施例中，如图2所示，显示面板还包括位于封装层3背离阵列基板1一侧的触控层6。触控层6的折射率大于第一有机层31的折射率，以使从触控层6进入第一有机层31的光线发生折射进入显示面板背面，防止发生反射，降低显示面板的反射率。

另外，在一些实施例中，显示面板还包括位于触控层6背离阵列基板1一侧依次设置的过滤层7、光学胶层8和盖板9。其中，过滤层7替代现有技术中的偏光片，不仅可以减小功能层的厚度，还可以提高显示面板的出光率。过滤层7一般包括红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻以及设置于各色阻之间的黑矩阵。基于OLED自发光的特点，色阻需要分别与OLED的红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素对应，形成彩膜功能层。尽管旋涂或喷墨打印后的彩膜由于自身性质对环境光存在较高的反射作用，但由于本发明实施例提供的光波导结构，以及触控层6的折射率低于第一有机层31的折射率，从一定程度上有利于降低OLED显示面板的反射率，提高显示面板的视觉性能。

图5示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图。该显示面板的封装层3的结构与图2所示的显示面板的封装层3的结构类似，不同之处在于，该封装层3的第一无机层33整面覆盖多个第一有机层31设置。

具体来说，如图1和图5所示，第一有机层31的数量为多个，多个第一有机层31阵列排布。第一有机层31与图1所示的发光区域LA一一对应，并覆盖发光区域LA。第一无机层33包括与第一有机层31的侧面313接触的第一区域331、与第一有机层31的第一顶面312接触的第二区域332，以及与第一区域331靠近阵列基板1的一侧连接的第三区域333，第三区域333将相邻的第一无机层33的第一区域331连接为一体，形成为覆盖多个第一有机层31的整面膜层。第二有机层32位于第三区域333背离阵列基板1的一侧。

第一无机层33为整面膜层时，可以通过CVD制程直接一体成型，相对于图2所示的包括多个无机单元的第一无机层33来说，不需要额外增加光罩板制程，有利于节约工艺成本和时间成本。

图6示出根据本发明一种实施例的显示面板的俯视结构示意图；

图7示出图6所示的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图。该显示面板的封装层3的结构与图2所示的显示面板的封装层3的结构类似，不同之处在于，发光元件层2的第二电极层23的结构有所不同。

具体来说，如图6所示，第二电极层23包括镂空部231，第一区域331的靠近阵列基板1的一侧在阵列基板1上的正投影与镂空部231在阵列基板1上的正投影部分交叠。即图3所示的第一区域331的外轮廓P2在阵列基板1上的正投影与镂空部231在阵列基板1上的正投影部分交叠。第二无机层4对应于镂空部231的位置填充该镂空部231。镂空部231可以为贯通第二电极层23的通槽，也可以为部分镂空的盲槽，镂空部231的形状不限，可以为圆形、椭圆形、长条形、多边形、不规则形状等。

如前所述，第二电极层23铺设有具有反射特性的金属层，设置镂空部231可以确保所有发光元件的阴极电连接的同时使光线避开金属层而进入显示面板背面，进一步降低显示面板的反射率。

可选地，镂空部231的数量为多个，多个镂空部231沿环绕发光区域LA的方向间隔分布。由此既可以使更多光线穿过镂空部231而降低显示面板的反射率，又不影响发光元件的电气性能。

进一步地，发光元件层2还包括像素定义层24，像素定义层24包括多个像素开口241，发光结构22位于像素开口241内。第一区域331在阵列基板1上的正投影与像素开口241在阵列基板1上的正投影部分重叠。像素开口241以内的发光结构22对应发光区域LA，像素开口241外的区域对应非发光区域NA，由于第一区域331在发光元件层2上的正投影至少覆盖发光区域LA与非发光区域NA的衔接处，故第一区域331在阵列基板1上的正投影与像素开口241在阵列基板1上的正投影部分重叠。

可以理解的是，本实施例在第二电极层23设置镂空部231的技术方案同样适用于图5所示的显示面板，即封装层3的第一无机层33整面覆盖多个第一有机层31的结构中，对应的第二电极层23也可以设置镂空部231，以进一步降低显示面板的反射率，不再赘述。

图8示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图，图9示出图8中的区域B的局部放大结构示意图。该显示面板的结构与图2至图7所示的显示面板的结构类似，不同之处在于，封装层3的光波导结构有所不同。

具体来说，如图9所示，封装层3的第一有机层31包括朝向阵列基板1的底面311以及背离阵列基板1的第一顶面312，第一顶面312为曲面，第一区域331与部分第一顶面312接触。可选地，第一顶面312为弧形曲面、椭圆形曲面或者其它函数型光滑曲面。

由此，第一无机层33的第一区域331为曲面结构，其夹设于第一有机层31与第二有机层32之间形成光波导结构。该曲面型光波导结构的工作原理与前述图2至图7所示的显示面板的光波导结构的工作原理类似，如图8中的入射光线a、折射光线b、全反射光线c、d和e所示，最终通过光波导结构将入射进发光区域LA的光线由第一区域331的底部导向非发光区域NA。

其中，第一区域331与第一顶面312接触的部分的任一位置的切平面与阵列基板1所在平面之间的夹角β的取值范围为：30°≤β≤75°。第一区域331与第一顶面312接触的部分的某一位置的切平面如图9中的虚线所示，如前所述，入射角的大小与入射面有关，且第一区域331与第一顶面312接触，故入射角的大小与第一顶面312上与第一区域331接触的位置的切平面的倾斜程度有关。

具体来说，入射角越大，倾斜角度β越大。另外，第一有机层31的折射率与第一区域331的折射率相差越大，或者第二有机层32的折射率与第一区域331的折射率相差越大，为了使入射光线在第一区域331内发生全反射，则需要的倾斜角度β越小。

在一些实施例中，如图8和图9所示，第二有机层32包括背离阵列基板1的一侧的第二顶面321，第二顶面321低于第一顶面312的最高点。

由于第二顶面321低于第一顶面312的最高点，第一顶面312与第二顶面321的最高点之间的高度差与第一区域331形成了入射光线进入第一区域331的窗口，即外界光线a透过封装层3的第一区域331上方的各膜层发生折射后，折射光线b通过该窗口进入第一区域331，进而在第一区域331内部发生全反射并进行传播。

可以理解的是，通过该窗口进入第一区域331的折射光线有多束，图9仅示出了其中一束折射光线b，不再赘述。

图10示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图。如图10所示，该显示面板的结构与图8所示的显示面板的结构类似，不同之处在于，封装层3的第一有机层31的第一顶面312的最高点与第二有机层32的第二顶面321对齐设置。

第一区域331的位于第一顶面312与第二顶面321之间的部分区域形成了入射光线进入第一区域331的较小窗口W，外界光线a透过封装层3的第一区域331上方的各膜层发生折射后，折射光线b通过该较小窗口W进入第一区域331，进而在第一区域331内部发生全反射并进行传播，不再赘述。

作为一种可选的实施方式，第一有机层31的数量为多个，多个第一有机层31阵列排布。第一有机层31与图1所示的发光区域LA一一对应，并覆盖发光区域LA。第一无机层33包括多个无机单元，每个无机单元覆盖对应的一个第一有机层31。

图11示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图。如图11所示，第一有机层31与图1所示的发光区域LA一一对应，并覆盖发光区域LA。第一无机层33包括与第一有机层31的部分第一顶面312接触的第一区域331及与第一区域331靠近阵列基板1的一侧连接的第三区域333，第三区域333将相邻的第一无机层33的第一区域331连接为一体，形成为覆盖多个第一有机层31的整面膜层。第二有机层32位于第三区域333背离阵列基板1的一侧。

第一无机层33为整面膜层时，可以通过CVD制程直接一体成型，相对于图10所示的包括多个无机单元的第一无机层33来说，不需要额外增加光罩板制程，有利于节约工艺成本和时间成本。

图12示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿O-O方向的剖面结构示意图。如图12所示，该显示面板的结构与图10所示的显示面板的结构类似，不同之处在于，发光元件层2的第二电极层23的结构有所不同。

具体来说，如图12所示，第二电极层23包括镂空部231，第一区域331的靠近阵列基板1的一侧在阵列基板1上的正投影与镂空部231在阵列基板1上的正投影部分交叠。即图3所示的第一区域331的外轮廓P2在阵列基板1上的正投影与镂空部231在阵列基板1上的正投影部分交叠。第二无机层4对应于镂空部231的位置填充该镂空部231。镂空部231可以为贯通第二电极层23的通槽，也可以为部分镂空的盲槽，镂空部231的形状不限，可以为圆形、椭圆形、长条形、多边形、不规则形状等。

如前所述，第二电极层23铺设有具有反射特性的金属层，设置镂空部231可以确保所有发光元件的阴极电连接的同时使光线避开金属层而进入显示面板背面，进一步降低显示面板的反射率。

可选地，镂空部231的数量为多个，多个镂空部231沿环绕发光区域LA的方向间隔分布。由此既可以使更多光线穿过镂空部231而降低显示面板的反射率，又不影响发光元件的电气性能。

进一步地，发光元件层2还包括像素定义层24，像素定义层24包括多个像素开口241，发光结构22位于像素开口241内。第一区域331在阵列基板1上的正投影与像素开口241在阵列基板1上的正投影部分重叠。像素开口241以内的发光结构22对应发光区域LA，像素开口241外的区域对应非发光区域NA，由于第一区域331在发光元件层2上的正投影至少覆盖发光区域LA与非发光区域NA的衔接处，故第一区域331在阵列基板1上的正投影与像素开口241在阵列基板1上的正投影部分重叠。

可以理解的是，本实施例在第二电极层23设置镂空部231的技术方案同样适用于图11所示的显示面板，即封装层3的第一无机层33整面覆盖多个第一有机层31的结构中，对应的第二电极层23也可以设置镂空部231，以进一步降低显示面板的反射率，不再赘述。

另外，本发明实施例还提供了一种电子设备，包括如前所述的任一种显示面板。该电子设备例如但不限于手机、平板电脑、可穿戴式设备、车载显示面板等。

虽然已经参考优选实施例对本发明进行了描述，但在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本发明并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (14)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板；

发光元件层，位于所述阵列基板上，所述发光元件层包括多个发光区域和非发光区域，所述多个发光区域阵列排布，所述非发光区域位于相邻发光区域之间；

封装层，位于所述发光元件层背离所述阵列基板的一侧，所述封装层至少包括依次设置的第一有机层、第一无机层和第二有机层，所述第一无机层包括第一区域，所述第一区域在所述发光元件层上的正投影至少覆盖所述发光区域与所述非发光区域的衔接处，所述第一区域朝向所述阵列基板的一侧与所述第一有机层接触，所述第一区域背离所述阵列基板的一侧与所述第二有机层接触，并且沿所述发光区域指向所述非发光区域的方向，所述第一区域朝向靠近所述阵列基板的方向倾斜设置；

所述第一有机层或所述第二有机层的折射率与所述第一区域的折射率之差越大，所述第一区域与所述第一有机层接触的一面与所述阵列基板的所在平面之间的夹角越小。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机层在所述发光元件层上的正投影覆盖所述发光区域；所述第二有机层在所述发光元件层上的正投影覆盖所述非发光区域，所述第一有机层在所述第一区域的正投影与所述第二有机层在所述第一区域的正投影交叠；

所述第一区域包括内轮廓和外轮廓，所述内轮廓在所述发光元件层上的正投影位于所述发光区域；所述外轮廓在所述发光元件层上的正投影位于所述非发光区域。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一区域的所述外轮廓为所述第一无机层的边缘，所述第一无机层在所述发光元件层上的正投影至少覆盖所述发光区域。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，第一有机层包括朝向所述阵列基板的底面、背离所述阵列基板的第一顶面以及连接于所述底面和所述第一顶面之间的侧面，所述第一区域与所述侧面接触；

所述侧面与所述底面之间的夹角α的取值范围为：30°≤α≤75°。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，第一有机层包括朝向所述阵列基板的底面以及背离所述阵列基板的第一顶面，所述第一顶面为曲面，所述第一区域与部分所述顶面接触；

所述第一区域与所述第一顶面接触的部分的任一位置的切平面与所述阵列基板所在平面之间的夹角β的取值范围为：30°≤β≤75°。

6.根据权利要求4或5所述的显示面板，其特征在于，所述第二有机层包括背离所述阵列基板的一侧的第二顶面，所述第二顶面低于所述第一顶面的最高点；或者所述第二顶面与所述第一顶面的最高点平齐设置。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机层的数量为多个，多个所述第一有机层阵列排布；

所述第一无机层整面覆盖多个所述第一有机层设置。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机层的数量为多个，多个所述第一有机层阵列排布；

所述第一无机层包括多个无机单元，每个所述无机单元覆盖对应的一个所述第一有机层。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述封装层还包括：

第二无机层，位于所述发光元件层背离所述阵列基板的一侧，且位于所述第一有机层、所述第二有机层及所述第一无机层朝向所述阵列基板的一侧；

第三无机层，覆盖所述第一有机层、所述第二有机层及所述第一无机层设置。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光元件层包括：

多个第一电极，位于所述阵列基板上；

电致发光层，包括阵列排布的多个发光结构，所述发光结构与所述发光区域一一对应；

第二电极层，位于所述电致发光层背离所述阵列基板的一侧；

其中，所述第二电极层包括镂空部，所述第一区域的靠近所述阵列基板的一侧在所述阵列基板上的正投影与所述镂空部在所述阵列基板上的正投影部分交叠。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述镂空部的数量为多个，多个所述镂空部沿环绕所述发光区域的方向间隔分布。

12.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述发光元件层还包括像素定义层，所述像素定义层包括多个像素开口，所述发光结构位于所述像素开口内；

所述第一区域在所述阵列基板上的正投影与所述像素开口在所述阵列基板上的正投影部分重叠。

13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机层的折射率的取值范围为1.5～1.7；

和/或，所述第二有机层的折射率的取值范围为1.5～1.7；

和/或，所述第一无机层的折射率的取值范围为1.7～2。

14.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求1至13任一项所述的显示面板。

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