CN110967915A - 掩膜版 - Google Patents
掩膜版 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110967915A CN110967915A CN201911290041.8A CN201911290041A CN110967915A CN 110967915 A CN110967915 A CN 110967915A CN 201911290041 A CN201911290041 A CN 201911290041A CN 110967915 A CN110967915 A CN 110967915A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mask
- sub
- edge
- reticle
- width
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
本发明提供一种掩膜版,其包括至少一组掩膜版组,掩膜版组包括第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版;第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版的长相同,存在至少两组不同的倍数,使得中间子掩膜版的宽与之相乘后,与第一边缘子掩膜版的宽和第二边缘子掩膜版的宽相加之和,分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同;中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区,第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区,半掩膜区的尺寸相同。本发明将掩膜版设置为多个小尺寸的子掩膜版,通过子掩膜版平移,实现大尺寸显示面板的图案化,缓解了现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域,尤其涉及一种掩膜版。
背景技术
掩膜版是显示面板制备工艺中用来确定面板设计图案的重要工具。随着半导体显示技术往大型化发展,制作更大的显示面板也需要更大尺寸的掩膜版,而大尺寸掩膜版的制造会使成本呈量级增加。
因此,现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题,需要解决。
发明内容
本发明提供一种掩膜版,以缓解现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题。
为解决以上问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明提供一种掩膜版,其包括至少一组掩膜版组,所述掩膜版组包括:
第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版;所述第一边缘子掩膜版、所述第二边缘子掩膜版和所述中间子掩膜版的一组对边长度相同,记该对边边长为子掩膜版的长,另一对边边长为所述子掩膜版的宽;存在至少两组不同的倍数,使得所述中间子掩膜版的宽与之相乘后,与所述第一边缘子掩膜版的宽和所述第二边缘子掩膜版的宽相加之和,分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同;且所述中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区,所述第一边缘子掩膜版、所述第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区,所述半掩膜区的尺寸相同。
在本发明提供的掩膜版中,所述第一边缘子掩膜版的宽和所述第二边缘子掩膜版的宽相等。
在本发明提供的掩膜版中,所述第一边缘子掩膜版的宽和所述第二边缘子掩膜版的宽不相等。
在本发明提供的掩膜版中,所述掩膜版仅包括一组掩膜版组。
在本发明提供的掩膜版中,所述掩膜版组仅包括一个中间子掩膜版。
在本发明提供的掩膜版中,所述第一边缘子掩膜版靠近中间子掩膜版的宽所对应的一条边上设置有半掩膜区,所述第二边缘子掩膜版靠近中间子掩膜版的宽所对应的一条边上设置有半掩膜区,所述中间子掩膜版的宽所对应的两条边上均设置有半掩膜区;且所述半掩膜区的尺寸都相同。
在本发明提供的掩膜版中,所述掩膜版包括第一掩膜版组、第二掩膜版组和第三掩膜版组。
在本发明提供的掩膜版中,所述第一掩膜版组、所述第二掩膜版组、所述第三掩膜版组都仅包括一个中间子掩膜版。
在本发明提供的掩膜版中,同一研磨组内各子掩膜版的长均相等;不同掩膜版组内的所述第一边缘子掩膜版的宽均相等,所述第二边缘子掩膜版的宽均相等,所述中间子掩膜版的宽均相等。
在本发明提供的掩膜版中,所述第一掩膜版组内,所述子掩膜版的宽所对应的一条边上设置有半掩膜区;所述第二掩膜版组内,所述子掩膜版的宽所对应的两条边上均设置有半掩膜区;所述第三掩膜版组内,所述子掩膜版的宽所对应的一条边上设置有半掩膜区;且宽度相等的子掩膜版的所述半掩膜区的尺寸相同。
本发明提供一种掩膜版,其包括至少一组掩膜版组,掩膜版组包括第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版;第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版的一组对边长度相同,记该对边边长为子掩膜版的长,另一对边边长为所述子掩膜版的宽;存在至少两组不同的倍数,使得中间子掩膜版的宽与之相乘后,与第一边缘子掩膜版的宽和第二边缘子掩膜版的宽相加之和,分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同;且中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区,第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区,半掩膜区的尺寸相同。本发明通过将掩膜版设置为多个小尺寸的子掩膜版,通过小尺寸子掩膜版的平移,从而实现大尺寸显示面板的图案化处理,缓解了现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本发明实施例提供的掩膜版的第一种结构图。
图2为本发明实施例提供的掩膜版的第一种结构图所适用的显示面板的尺寸图。
图3为本发明实施例提供的掩膜版的第二种结构图。
图4为本发明实施例提供的掩膜版的第二种结构图所适用的显示面板的尺寸图。
具体实施方式
下面将结合本发明的具体实施方案,对本发明实施方案和/或实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显而易见的,下面所描述的实施方案和/或实施例仅仅是本发明一部分实施方案和/或实施例,而不是全部的实施方案和/或实施例。基于本发明中的实施方案和/或实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方案和/或实施例,都属于本发明保护范围。
本发明所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[左]、[右]、[前]、[后]、[内]、[外]、[侧]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明和理解本发明,而非用以限制本发明。术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或是暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
针对现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题,本发明提供一种掩膜版可以缓解这个问题。
在一种实施例中,如图1和图3所示,本发明实施例提供的掩膜版包括至少一组掩膜版组,掩膜版组包括:
第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版;第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版的一组对边长度相同,记该对边边长为子掩膜版的长,另一对边边长为所述子掩膜版的宽;存在至少两组不同的倍数,使得中间子掩膜版的宽与之相乘后,与第一边缘子掩膜版的宽和第二边缘子掩膜版的宽相加之和,分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同;且中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区,第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区,半掩膜区的尺寸相同。
本实施例将掩膜版设置为至少一组掩膜版组,掩膜版组包括第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版,通过中间子掩膜版的平移,对第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版的组合光罩,从而实现大尺寸显示面板的图案化处理,缓解了现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题。
本发明提供的掩膜版可以仅包括一组掩膜版组,也可以包括多组掩膜版组,在掩膜版组内可以仅包括一个中间子掩膜版,也可以包括多个中间子掩膜版,下面将结合具体实施例对本发明提供的掩膜版进行详细介绍。
在一种实施例中,如图1所示,图1为本发明实施例提供的掩膜版的第一种结构图。在本实施例中,掩膜版仅包括一组掩膜版组100,掩膜版组100包括第一边缘子掩膜版110、第二边缘子掩膜版120和中间子掩膜版130。
第一边缘子掩膜版110的形状为矩形,包括第一边111、第二边112、第三边113和第四边114,其中第一边111和第三边113为长,第二边112和第四边114为宽;第二边缘子掩膜版120的形状为矩形,包括第五边121、第六边122、第七边123和第八边124,其中第五边121和第七边123为长,第六边122和第八边124为宽;中间子掩膜版130的形状也为矩形,包括第九边131、第十边132、第十一边133和第十二边134,其中第九边131和第十一边133为长,第十边132和第十二边134为宽。
第一边111、第三边113、第五边121、第七边123、第九边131和第十一边133的长度均为928.26mm,第二边112和第四边114的长度为51.57mm,第七边123和第八边124的长度为515.7mm,第十边132和第十二边134的长度为51.57mm。在其他实施方案中,也可以将第二边112和第十边132的长度设置的不同,如第二边112和第四边114的长度为41.57mm,第十边132和第十二边134的长度为61.57mm。
第三边113上设置有第一半掩膜区115,第五边121上设置有第二半掩膜区125,第七边123上设置有第三半掩膜区126,第九边131上设置有第四半掩膜区135。第一半掩膜区115的尺寸、第二半掩膜区125的尺寸、第三半掩膜区126的尺寸和第四半掩膜区135的尺寸均相同。第一半掩膜区115和第三半掩膜区126的透过率相等,第二半掩膜区125和第四半掩膜区135的透过率相等,且第一半掩膜区115和第二半掩膜区125的总透过率与非半掩膜区的透过率相等。半掩膜区可以是马赛克区域、半遮光区域或光栅区域中的任意一种。
本实施了提供的掩膜版可以用于对下表中的显示面板进行曝光处理,这些显示面板分别包括37寸、44寸、58寸、75寸和93寸的显示面板,各显示面板所对应的具体数据如表1所示。
面板编号 | Ⅰ | Ⅱ | Ⅲ | Ⅳ | Ⅴ |
面板尺寸 | 37寸 | 44寸 | 58寸 | 75寸 | 93寸 |
长(mm) | 928.26 | 928.26 | 928.26 | 928.26 | 928.26 |
宽(mm) | 103.14 | 618.84 | 1134.54 | 1650.24 | 2165.94 |
长宽比 | 1:9 | 6:9 | 11:9 | 16:9 | 21:9 |
分辨率 | 240×2160 | 1440×2160 | 2640×2160 | 3840×2160 | 5040×2160 |
曝光次数 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 |
表1
请参照图2并结合表1,图2为本实施例提供的掩膜版所适用的显示面板的尺寸图。37寸的显示面板Ⅰ的长为928.26mm,宽为103.14mm;103.14mm等于第一边缘子掩膜版110的宽51.57mm和第二边缘子掩膜版130的宽51.57mm之和。因此显示面板Ⅰ可以由第一边缘子掩膜版110和第二边缘子掩膜版130进行组合曝光处理。
具体的,将待曝光的显示面板Ⅰ放置在曝光机台上,并对显示面板Ⅰ进行对位;将第一边缘掩膜版110未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅰ的上边缘对其,将第一边缘掩膜版110的宽所在的两条边与显示面板Ⅰ的两侧边对齐,对显示面板Ⅰ进行第一次曝光处理;将第二边缘掩膜版130未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅰ的下边缘对齐,将第二边缘掩膜版130的宽所在的两条边与显示面板Ⅰ的两侧边对齐,将第二边缘掩膜版130的半掩膜区与显示面板Ⅰ的半曝光区对齐,对显示面板Ⅰ进行第二次曝光处理。即采用两次曝光,完成了整个显示面板Ⅰ的曝光过程。
44寸的显示面板Ⅱ的长为928.26mm,宽为618.84mm;618.84mm等于第一边缘子掩膜版110的宽51.57mm,第二边缘子掩膜版130的宽51.57mm,和中间子掩膜版120的宽515.7mm之和。因此显示面板Ⅱ可以由第一边缘子掩膜版110、第二边缘子掩膜版130、以及中间子掩膜版120进行组合曝光处理。
具体的,将待曝光的显示面板Ⅱ放置在曝光机台上,并对显示面板Ⅱ进行对位;将第一边缘掩膜版110未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅱ的上边缘对其,将第一边缘掩膜版110的宽所在的两条边与显示面板Ⅱ的两侧边对齐,对显示面板Ⅰ进行第一次曝光处理;将中间子掩膜版120的第二半掩膜区125,置于上一曝光过程中第一边缘掩膜版110的第一半掩膜区115所在的位置,将中间子掩膜版120的宽所在的两条边与显示面板Ⅱ的两侧边对齐,对显示面板Ⅱ进行第二次曝光处理;将第二边缘掩膜版130的第四半掩膜区135,置于上一曝光过程中中间子掩膜版120的第三半掩膜区126所在的位置,将第二边缘掩膜版130的宽所在的两条边与显示面板Ⅱ的两侧边对齐,将第二边缘掩膜版130未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅱ的下边缘对齐,对显示面板Ⅱ进行第三次曝光处理。即采用三次曝光,完成了整个显示面板Ⅱ的曝光过程。
58寸的显示面板Ⅲ的长为928.26mm,宽为1134.54mm;1134.54mm等于第一边缘子掩膜版110的宽51.57mm,第二边缘子掩膜版130的宽51.57mm,和2倍的中间子掩膜版120的宽515.7mm之和。因此显示面板Ⅲ可以由第一边缘子掩膜版110、第二边缘子掩膜版130、以及中间子掩膜版120进行组合曝光处理。
具体的,将待曝光的显示面板Ⅲ放置在曝光机台上,并对显示面板Ⅲ进行对位;将第一边缘掩膜版110未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅲ的上边缘对其,将第一边缘掩膜版110的宽所在的两条边与显示面板Ⅱ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第一次曝光处理;将中间子掩膜版120的第二半掩膜区125,置于上一曝光过程中第一边缘掩膜版110的第一半掩膜区115所在的位置,将中间子掩膜版120的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第二次曝光处理;将中间子掩膜版120向下平移,将中间子掩膜版120的第二半掩膜区125,置于上一曝光过程中中间子掩膜版120的第三半掩膜区126所在的位置,将中间子掩膜版120的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第三次曝光处理;将第二边缘掩膜版130的第四半掩膜区135,置于上一曝光过程中中间子掩膜版120的第三半掩膜区126所在的位置,将第二边缘掩膜版130的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,将第二边缘掩膜版130未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅲ的下边缘对齐,对显示面板Ⅲ进行第四次曝光处理。即采用四次曝光,完成了整个显示面板Ⅲ的曝光过程。
75寸的显示面板Ⅳ的长为928.26mm,宽为1650.24mm;1650.24mm等于第一边缘子掩膜版110的宽51.57mm,第二边缘子掩膜版130的宽51.57mm,和3倍的中间子掩膜版120的宽515.7mm之和。因此显示面板Ⅲ可以由第一边缘子掩膜版110、第二边缘子掩膜版130、以及中间子掩膜版120进行组合曝光处理。
具体的,将待曝光的显示面板Ⅲ放置在曝光机台上,并对显示面板Ⅲ进行对位;将第一边缘掩膜版110未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅲ的上边缘对其,将第一边缘掩膜版110的宽所在的两条边与显示面板Ⅱ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第一次曝光处理;将中间子掩膜版120的第二半掩膜区125,置于上一曝光过程中第一边缘掩膜版110的第一半掩膜区115所在的位置,将中间子掩膜版120的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第二次曝光处理;将中间子掩膜版120向下平移,将中间子掩膜版120的第二半掩膜区125,置于上一曝光过程中中间子掩膜版120的第三半掩膜区126所在的位置,将中间子掩膜版120的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第三次曝光处理;重复上一步骤,对显示面板Ⅲ进行第四次曝光处理;将第二边缘掩膜版130的第四半掩膜区135,置于上一曝光过程中中间子掩膜版120的第三半掩膜区126所在的位置,将第二边缘掩膜版130的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,将第二边缘掩膜版130未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅲ的下边缘对齐,对显示面板Ⅲ进行第五次曝光处理。即采用五次曝光,完成了整个显示面板Ⅲ的曝光过程。
93寸的显示面板Ⅴ的长为928.26mm,宽为2165.94mm;2165.94mm等于第一边缘子掩膜版110的宽51.57mm,第二边缘子掩膜版130的宽51.57mm,和4倍的中间子掩膜版120的宽515.7mm之和。因此显示面板Ⅲ可以由第一边缘子掩膜版110、第二边缘子掩膜版130、以及中间子掩膜版120进行组合曝光处理。
具体的,将待曝光的显示面板Ⅲ放置在曝光机台上,并对显示面板Ⅲ进行对位;将第一边缘掩膜版110未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅲ的上边缘对其,将第一边缘掩膜版110的宽所在的两条边与显示面板Ⅱ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第一次曝光处理;将中间子掩膜版120的第二半掩膜区125,置于上一曝光过程中第一边缘掩膜版110的第一半掩膜区115所在的位置,将中间子掩膜版120的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第二次曝光处理;将中间子掩膜版120向下平移,将中间子掩膜版120的第二半掩膜区125,置于上一曝光过程中中间子掩膜版120的第三半掩膜区126所在的位置,将中间子掩膜版120的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,对显示面板Ⅲ进行第三次曝光处理;两次重复上一步骤,对显示面板Ⅲ分别进行第四次和第五次曝光处理;将第二边缘掩膜版130的第四半掩膜区135,置于上一曝光过程中中间子掩膜版120的第三半掩膜区126所在的位置,将第二边缘掩膜版130的宽所在的两条边与显示面板Ⅲ的两侧边对齐,将第二边缘掩膜版130未设置半掩膜区的一边与显示面板Ⅲ的下边缘对齐,对显示面板Ⅲ进行第六次曝光处理。即采用六次曝光,完成了整个显示面板Ⅲ的曝光过程。
在一种实施例中,如图3所示,图3为本发明实施例提供的掩膜版的第二种结构图。在本实施例中,掩膜版包括三组掩膜版组,包括第一掩膜版组310、第二掩膜版组320和第三掩膜版组330,第一掩膜版组310包括第一边缘子掩膜版311、第二边缘子掩膜版313和第一中间子掩膜版312,第二掩膜版组320包括第三边缘子掩膜版321、第四边缘子掩膜版323和第二中间子掩膜版322,第三掩膜版组330包括第五边缘子掩膜版331、第六边缘子掩膜版333和第三中间子掩膜版332。
第一边缘子掩膜版311、第二边缘子掩膜版313和第一中间子掩膜版312的长为20.2mm,第三边缘子掩膜版321、第四边缘子掩膜版323和第二中间子掩膜版322的长为887.86mm,第五边缘子掩膜版331、第六边缘子掩膜版333和第三中间子掩膜版332的长为20.2mm。第一边缘子掩膜版311、第三边缘子掩膜版321、第五边缘子掩膜版331的宽为51.57mm,第二边缘子掩膜版313、第四边缘子掩膜版323和第六边缘子掩膜版333的宽也为51.57mm,第一中间子掩膜版312、第二中间子掩膜版322和第三中间子掩膜版332的宽为515.7mm。
第一掩膜版组310内,第一边缘子掩膜版311在靠近第一中间子掩膜版312的边上设置有第一半掩膜区3111,在靠近第三边缘子掩膜版321的边上设置有第二半掩膜区3112;第一中间子掩膜版312在靠近第一边缘子掩膜版311的边上设置有第三半掩膜区3121,在靠近第二中间子掩膜版322的边上设置有第四半掩膜区3122,在靠近第二边缘子掩膜版313的边上设置有第五半掩膜区3123;第二边缘子掩膜版313在靠近第一中间子掩膜版312的边上设置有第六半掩膜区3131,在靠近第四边缘子掩膜版323的边上设置有第七半掩膜区3132。
第二掩膜版组320内,第三边缘子掩膜版321在靠近第二中间子掩膜版322的边上设置有第八半掩膜区3211,在靠近第一边缘子掩膜版311的边上设置有第九半掩膜区3212,在靠近第五边缘子掩膜版331的边上设置有第十半掩膜区3213;第二中间子掩膜版322在靠近第三边缘子掩膜版321的边上设置有第十一半掩膜区3221,在靠近第一中间子掩膜版312的边上设置有第十二半掩膜区3222,在靠近第四边缘子掩膜版323的边上设置有第十三半掩膜区3223,在靠近第三中间子掩膜版332的边上设置有第十四半掩膜区3224;第四边缘子掩膜版323在靠近第二中间子掩膜版322的边上设置有第十五半掩膜区3231,在靠近第二边缘子掩膜版313的边上设置有第十六半掩膜区3232,在靠近第六边缘子掩膜版333的边上设置有第十七半掩膜区3233。
第三掩膜版组330内,第五边缘子掩膜版331在靠近第三中间子掩膜版332的边上设置有第十八半掩膜区3311,在靠近第三边缘子掩膜版321的边上设置有第十九半掩膜区3312;第三中间子掩膜版332在靠近第五边缘子掩膜版331的边上设置有第二十半掩膜区3321,在靠近第二中间子掩膜版322的边上设置有第二十一半掩膜区3322,在靠近第六边缘子掩膜版33的边上设置有第二十二半掩膜区3323;第六边缘子掩膜版333在靠近第三中间子掩膜版332的边上设置有第二十三半掩膜区3331,在靠近第四边缘子掩膜版323的边上设置有第二十四半掩膜区3332。
第一半掩膜区3111、第三半掩膜区3121、第五半掩膜区3123、第六半掩膜区3131的尺寸相同,第一半掩膜区3111和第五半掩膜区3123的透过率相等,第三半掩膜区3121和第六半掩膜区3131的透过率相等,且第一半掩膜区3111和第三半掩膜区3121的总透过率与非半掩膜区的透过率相等。
第八半掩膜区3211、第十一半掩膜区3221、第十五半掩膜区3223、第十七半掩膜区3231的尺寸相同,第八半掩膜区3211和第十五半掩膜区3223的透过率相等,第十一半掩膜区3221和第十七半掩膜区3231的透过率相等,且第八半掩膜区3211和第十一半掩膜区3221的总透过率与非半掩膜区的透过率相等。
第十八半掩膜区3311、第二十半掩膜区3221、第二十二半掩膜区3323、第二十三半掩膜区3331的尺寸相同,第十八半掩膜区3311和第二十二半掩膜区3323的透过率相等,第二十半掩膜区3221和第二十三半掩膜区3331的透过率相等,且第十八半掩膜区3311和第二十半掩膜区3221的总透过率与非半掩膜区的透过率相等。
第二半掩膜区3112、第九半掩膜区3212、第十半掩膜区3213、第十九半掩膜区3213的尺寸相同,第二半掩膜区3112和第十半掩膜区3213的透过率相等,第九半掩膜区3212和第十九半掩膜区3213的透过率相等,且第二半掩膜区311和第九半掩膜区3212的总透过率与非半掩膜区的透过率相等。
第四半掩膜区3122、第十二半掩膜区3222、第十四半掩膜区3224、第二十一半掩膜区3322的尺寸相同,第四半掩膜区3122和第十四半掩膜区3224的透过率相等,第十二半掩膜区3222和第二十一半掩膜区3322的透过率相等,且第四半掩膜区3122和第十二半掩膜区3222的总透过率与非半掩膜区的透过率相等。
第七半掩膜区3132、第十六半掩膜区3232、第十七半掩膜区3233、第二十四半掩膜区3332的尺寸相同,第七半掩膜区3132和第十七半掩膜区3233的透过率相等,第十六半掩膜区3232和第二十四半掩膜区3332的透过率相等,且第七半掩膜区3132和第十六半掩膜区3232的总透过率与非半掩膜区的透过率相等。
上述半掩膜区可以是马赛克区域、半遮光区域或光栅区域中的任意一种。
本实施了提供的掩膜版可以用于对下表中的显示面板进行曝光处理,包括65寸和75寸的显示面板,各显示面板所对应的具体数据如表2所示。
面板编号 | ⅰ | ⅱ |
面板尺寸 | 65寸 | 75寸 |
长(mm) | 40.4 | 928.26 |
宽(mm) | 1650.24 | 1650.24 |
长宽比 | 长条屏 | 9:16 |
分辨率 | 3840×94 | 3840×2160 |
曝光次数 | 10 | 15 |
表2
请参照图4并结合表2,图4为本实施例提供的掩膜版所适用的显示面板的尺寸图。显示面板ⅰ的长为40.4mm,宽为1650.24mm;40.4mm等于第一掩膜版组310的长20.2mm和第三掩膜版组330的长20.2mm之和;1650.24mm等于第一边缘子掩膜版311的宽51.57mm、第二边缘子掩膜版313的宽51.57mm和3倍第一中心子掩膜版的宽51.57mm之和。因此显示面板ⅰ可以由第一掩膜版组310和第三掩膜版组330进行组合曝光处理。
其具体曝光方法与上述实施例中显示面板Ⅲ的曝光方法类似,通过一次第一边缘子掩膜版311曝光,三次第一中间子掩膜版312曝光,一次第二边缘子掩膜版313曝光,一次第五边缘子掩膜版331曝光,三次第三中间子掩膜版332曝光,一次第六边缘子掩膜版333曝光,共十次曝光完成整个显示面板ⅰ的曝光过程。
不同之处在于,采用第一边缘子掩膜版311、第二边缘子掩膜版313和第一中间子掩膜版312在进行曝光时,子掩膜版左侧的宽与显示面板的左侧边对齐,子掩膜版右侧的宽无对齐要求;第五边缘子掩膜版331、第六边缘子掩膜版333和第三中间子掩膜版332在进行曝光时,子掩膜版右侧的宽与显示面板的右侧边对齐,子掩膜版左侧的半掩膜区,分别与第一掩膜版组内相对应的子掩膜版,在上一曝光过程中的半掩膜区所在的位置重合。具体参照上述实施例,在此不再赘述。
显示面板ⅱ的长为928.26mm,宽为1650.24mm;928.26mm等于第一掩膜版组310的长20.2mm、第二掩膜版组320的长887.86mm和第三掩膜版组330的长20.2mm之和;1650.24mm等于第一边缘子掩膜版311的宽51.57mm、第二边缘子掩膜版313的宽51.57mm和3倍第一中心子掩膜版的宽51.57mm之和。因此显示面板ⅱ可以由第一掩膜版组310、第二掩膜版组320和第三掩膜版组330进行组合曝光处理。具体曝光方法与上述实施例中显示面板ⅰ的曝光方法类似,具体可参照上述实施例,在此不再赘述。
根据上述实施例可知:
本发明实施例提供了一种掩膜版,该掩膜版包括至少一组掩膜版组,掩膜版组包括第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版;第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版的一组对边长度相同,记该对边边长为子掩膜版的长,另一对边边长为所述子掩膜版的宽;存在至少两组不同的倍数,使得中间子掩膜版的宽与之相乘后,与第一边缘子掩膜版的宽和第二边缘子掩膜版的宽相加之和,分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同;且中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区,第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区,半掩膜区的尺寸相同。本发明实施例通过将掩膜版设置为多个小尺寸的子掩膜版,通过小尺寸子掩膜版的平移,从而实现大尺寸显示面板的图案化处理,缓解了现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种掩膜版,其特征在于,包括至少一组掩膜版组,所述掩膜版组包括:
第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版;所述第一边缘子掩膜版、所述第二边缘子掩膜版和所述中间子掩膜版的一组对边长度相同,记该对边边长为子掩膜版的长,另一对边边长为所述子掩膜版的宽;存在至少两组不同的倍数,使得所述中间子掩膜版的宽与之相乘后,与所述第一边缘子掩膜版的宽和所述第二边缘子掩膜版的宽相加之和,分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同;且所述中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区,所述第一边缘子掩膜版、所述第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区,所述半掩膜区的尺寸相同。
2.如权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一边缘子掩膜版的宽和所述第二边缘子掩膜版的宽相等。
3.如权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一边缘子掩膜版的宽和所述第二边缘子掩膜版的宽不相等。
4.如权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜版仅包括一组掩膜版组。
5.如权利要求4所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜版组仅包括一个中间子掩膜版。
6.如权利要求5所述的掩膜版,其特征在于,所述第一边缘子掩膜版靠近中间子掩膜版的宽所对应的一条边上设置有半掩膜区,所述第二边缘子掩膜版靠近中间子掩膜版的宽所对应的一条边上设置有半掩膜区,所述中间子掩膜版的宽所对应的两条边上均设置有半掩膜区;且所述半掩膜区的尺寸都相同。
7.如权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜版包括第一掩膜版组、第二掩膜版组和第三掩膜版组。
8.如权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,所述第一掩膜版组、所述第二掩膜版组、所述第三掩膜版组都仅包括一个中间子掩膜版。
9.如权利要求8所述的掩膜版,其特征在于,同一研磨组内各子掩膜版的长均相等;不同掩膜版组内的所述第一边缘子掩膜版的宽均相等,所述第二边缘子掩膜版的宽均相等,所述中间子掩膜版的宽均相等。
10.如权利要求9所述的掩膜版,其特征在于,所述第一掩膜版组内,所述子掩膜版的宽所对应的一条边上设置有半掩膜区;所述第二掩膜版组内,所述子掩膜版的宽所对应的两条边上均设置有半掩膜区;所述第三掩膜版组内,所述子掩膜版的宽所对应的一条边上设置有半掩膜区;且宽度相等的子掩膜版的所述半掩膜区的尺寸相同。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911290041.8A CN110967915A (zh) | 2019-12-16 | 2019-12-16 | 掩膜版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911290041.8A CN110967915A (zh) | 2019-12-16 | 2019-12-16 | 掩膜版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110967915A true CN110967915A (zh) | 2020-04-07 |
Family
ID=70034435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201911290041.8A Pending CN110967915A (zh) | 2019-12-16 | 2019-12-16 | 掩膜版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110967915A (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101986206A (zh) * | 2010-07-30 | 2011-03-16 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法 |
WO2014040304A1 (zh) * | 2012-09-12 | 2014-03-20 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 掩膜及其制造方法 |
CN104570611A (zh) * | 2013-10-21 | 2015-04-29 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 掩模板及其改善拼接曝光姆拉现象的方法 |
CN106200254A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-12-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版及掩膜曝光***、拼接曝光方法、基板 |
CN107390478A (zh) * | 2017-08-25 | 2017-11-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 改善拼接曝光姆拉现象的方法 |
-
2019
- 2019-12-16 CN CN201911290041.8A patent/CN110967915A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101986206A (zh) * | 2010-07-30 | 2011-03-16 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法 |
WO2014040304A1 (zh) * | 2012-09-12 | 2014-03-20 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 掩膜及其制造方法 |
CN104570611A (zh) * | 2013-10-21 | 2015-04-29 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 掩模板及其改善拼接曝光姆拉现象的方法 |
CN106200254A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-12-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版及掩膜曝光***、拼接曝光方法、基板 |
CN107390478A (zh) * | 2017-08-25 | 2017-11-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 改善拼接曝光姆拉现象的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0002199B1 (de) | Belichtungsmaske und Projektionsbelichtungssystem | |
CN110471259B (zh) | 芯片拼接方法 | |
CN106200254B (zh) | 掩膜版及掩膜曝光***、拼接曝光方法、基板 | |
CN100561339C (zh) | 光掩模及薄膜晶体管基板的制造方法 | |
US11169438B2 (en) | Mask, exposure method and touch display panel | |
CN110333642B (zh) | 一种光罩 | |
US6146796A (en) | Liquid crystal display and a manufacturing method thereof | |
CN101477318B (zh) | 光掩模对位曝光方法及光掩模组件 | |
US6576378B2 (en) | Photomask and exposure method for large scaled LCD device | |
CN110967915A (zh) | 掩膜版 | |
CN116560193A (zh) | 掩膜版和芯片的形成方法 | |
JP4229834B2 (ja) | 液晶表示装置製造用露光マスクとこれを用いた液晶表示装置製造での基板露光方法 | |
US20040263768A1 (en) | Liquid crystal panel and method of exposing the same | |
CN107390478B (zh) | 改善拼接曝光姆拉现象的方法 | |
TWI398737B (zh) | 光罩對位曝光方法及光罩組件 | |
US5817439A (en) | Method of blind border pattern layout for attenuated phase shifting masks | |
US9519167B2 (en) | Method of forming patterns and methods of manufacturing display panels using methods of forming patterns | |
US5853927A (en) | Method of aligning a mask in photolithographic process | |
CN115616854A (zh) | 一种掩膜版、掩膜版的使用方法及封框胶固化方法 | |
US5451488A (en) | Reticle having sub-patterns and a method of exposure using the same | |
US20030181058A1 (en) | Photoresist removal from alignment marks through wafer edge exposure | |
JP2624570B2 (ja) | 固体撮像素子の製造方法 | |
JP3898772B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3710964B2 (ja) | ディスプレイデバイスのレイアウト設計方法 | |
TW201935759A (zh) | 天線單元、成卷的天線組件及天線的製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |