CN110867470A - 一种显示面板、制备方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板、制备方法及显示装置。该显示面板包括：显示区，显示区包括第一显示区和光感元件设置区；衬底基板；像素限定层，像素限定层位于衬底基板的一侧；像素限定层包括多个像素开口，像素开口包括第一像素开口和第二像素开口，第一像素开口位于第一显示区，第二像素开口位于光感元件设置区，其中，第二像素开口的侧壁为凹面结构。本发明实施例显示面板可以实现全面屏显示，且能提升光感元件设置区的显示效果。

Description

一种显示面板、制备方法及显示装置

技术领域

本发明实施例涉及显示技术，尤其涉及一种显示面板、制备方法及显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，具有高屏占比的显示屏越来越受欢迎。屏占比指的是屏幕面积与整机面积的比例，高屏占比具有更好的视觉效果和用户体验。

以手机为例，由于手机正面需要放置摄像头、光线传感器等部件，现有的解决方案一般是在屏幕顶端设计一个非显示区，例如现在被广泛采用的“刘海屏”、“水滴屏”、“挖孔屏”等解决方案。随着技术发展，使摄像头设置区域像素密度降低，从而增加显示面板透光率，是一种全面屏的实现方案，但像素密度降低，会导致显示亮度降低，显示效果变差，影响用户体验。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板、制备方法及显示装置，该显示面板可以实现全面屏显示，且能提升光感元件设置区的显示效果。

第一方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括：

显示区，所述显示区包括第一显示区和光感元件设置区；

衬底基板；

像素限定层，所述像素限定层位于所述衬底基板的一侧；

所述像素限定层包括多个像素开口，所述像素开口包括第一像素开口和第二像素开口，所述第一像素开口位于所述第一显示区，所述第二像素开口位于所述光感元件设置区，其中，所述第二像素开口的侧壁为凹面结构。

第二方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括显示区，所述显示区包括第一显示区和光感元件设置区，其特征在于，所述制备方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板一侧形成像素限定层；

在所述像素限定层上形成多个像素开口，所述像素开口包括第一像素开口和第二像素开口，所述第一像素开口位于所述第一显示区，所述第二像素开口位于所述光感元件设置区；

在所述第二像素开口的侧壁上形成凹面结构。

第三方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述任意一种显示面板，还包括：

光感元件，设置于所述显示面板的光感元件设置区，且位于所述衬底基板背离所述显示面板出光面的一侧，所述光感元件的感光面朝向所述显示面板。

本发明实施例提供的显示面板，包括显示区，显示区包括第一显示区和光感元件设置区；衬底基板；像素限定层，像素限定层位于衬底基板的一侧；像素限定层包括多个像素开口，像素开口包括第一像素开口和第二像素开口，第一像素开口位于第一显示区，第二像素开口位于光感元件设置区，其中，第二像素开口的侧壁为凹面结构。通过在显示面板的显示区设置光感元件设置区，从而将光感元件(例如摄像头)设置在显示面板的显示区下方，实现全面屏显示效果；通过像素限定层的像素开口限定出显示区的像素单元，其中第一像素开口位于第一显示区，第二像素开口位于光感元件设置区，通过设置第二像素开口的侧壁为凹面结构，光感元件设置区内像素单元出射的斜向光线会在第二像素开口的侧壁发生反射，从而从第二像素开***出，增加光感元件设置区的出光效率，提升光感元件设置区的显示效果。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为沿图1中剖线A-A'的一种剖面结构示意图；

图3为沿图1中剖线A-A'的另一种剖面结构示意图；

图4为沿图1中剖线A-A'的又一种剖面结构示意图；

图5为沿图1中剖线A-A'的又一种剖面结构示意图；

图6为沿图1中剖线A-A'的又一种剖面结构示意图；

图7和图8分别为沿图1中剖线A-A'的又一种剖面结构示意图；

图9为本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；

图10～图12分别为本发明实施例中S141～S143对应的显示面板的结构示意图；

图13为本发明实施例提供的一种掩膜板的结果示意图；

图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程示意图；

图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。需要注意的是，本发明实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本发明实施例的限定。此外在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件被形成在另一个元件“上”或“下”时，其不仅能够直接形成在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接形成在另一元件“上”或者“下”。术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

图1所示为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，图2所示为沿图1中剖线A-A'的一种剖面结构示意图。参考图1，本实施例提供的显示面板包括显示区10，显示区10包括第一显示区11和光感元件设置区12；参考图2，该显示面板包括衬底基板100；像素限定层200，像素限定层200位于衬底基板100的一侧；像素限定层200包括多个像素开口210，像素开口210包括第一像素开口211和第二像素开口212，第一像素开口211位于第一显示区11，第二像素开口212位于光感元件设置区12，其中，第二像素开口212的侧壁为凹面结构。

可以理解的是，本发明实施例提供的显示面板适用于需要在屏下设置光感元件的显示装置，其中光感元件可以为摄像头、红外探测器等其他具体的光感元件，以下均以光感元件为摄像头为例进行说明。由于摄像头对光线要求较高，现有技术一般通过在显示区边缘或内部设置一个挖空区域，挖空区域无法显示，很难实现真正全面屏设计。现有的摄像头接收光线的孔径一般设置为圆形，因此图1中示例性的示出光感元件设置区12为圆形区域。在其他实施例中，光感元件设置区12可以为一个或多个，例如设置多个光感元件时可以设置多个光感元件设置区12。并且，光感元件设置区12可以为连续的区域，也可以为不连续的区域，这可以根据实际应用环境来设计确定，在此不作限定。在某些实施过程中，可以将光感元件设置区12设置在显示面板显示区的边缘，也可以将光感元件设置区12设置在显示面板显示区的内部，如图1所示。比如，可以将光感元件设置区12设置在第一显示区11的左上角、右上角或者中间区域。在实际应用中，光感元件设置区12的具***置可以根据实际应用环境来设计确定，本发明实施例对此不作限定。

在具体实施过程中，可以将光感元件设置区12的形状设置为规则的形状，比如矩形、圆角矩形、圆形、椭圆形等，还可以将光感元件设置区12的形状设置为不规则的形状，比如水滴形。当然，在实际应用中，对光感元件设置区12的形状可以根据光感元件设置区12内设置的元件的形状进行设计，在此不作限定。

在本发明实施例中，对第一显示区11和光感元件设置区12的相对位置关系以及形状不作限定，具体可以根据显示装置的屏幕设计来设置。以手机为例，可以将光感元件设置区12设置在显示区的左上角或右上角，将摄像头设置于边角，可以利用光感元件设置区12进行显示时间、天气、信息提醒等简易快捷功能服务。

本发明实施例提供的显示面板包括衬底基板100，衬底基板100可以为刚性基板，例如玻璃基板，也可以为柔性基板，例如聚酰亚胺基板。像素限定层200包括多个像素开口210，每个像素开口210内可以设置一个发光元件300，发光元件300可以为有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)。可以理解的是，为了保证摄像头的成像效果，提升光感元件设置区12的透光性能，可选的，可以设置第一显示区11的像素密度大于光感元件设置区12的像素密度，即第一像素开口211的密度大于第二像素开口212的密度，这样会导致正常显示时光感元件设置区12的发光亮度偏低，影响显示效果。本实施例中，设置第二像素开口212的侧壁为凹面结构，该凹面可以为圆弧面。参考图2，凹面结构向像素限定层200内部凹陷，即第二像素开口212形成类似于紧口碗的形状，以提升光感元件设置区12的出光效率。

图2中还示例性示出第一像素开口211和第二像素开口212内的发光元件300的出光示意图，第一像素开口211内的发光元件300出射的部分光线会入射进像素限定层200内部，在各膜层吸收、反射等作用下不能从显示面板的出光面出射，第二像素开口212内的发光元件300出射的部分光线入射到第二像素开口212侧壁的凹面结构会发生反射，然后从第二像素开口212出射，从而提高发光元件300的出光效率，从而弥补第二像素开口212密度降低导致的亮度降低，提升光感元件设置区12的显示效果。

需要说明的是，衬底基板100与像素限定层200之间还包括像素驱动电路中的薄膜晶体管、多条走线、各种绝缘层以及平坦层等结构，图2中未示出。

本发明实施例的技术方案，通过在显示面板的显示区设置光感元件设置区，从而将光感元件(例如摄像头)设置在显示面板的显示区下方，实现全面屏显示效果；通过像素限定层的像素开口限定出显示区的像素单元，其中第一像素开口位于第一显示区，第二像素开口位于光感元件设置区，通过设置第二像素开口的侧壁为凹面结构，光感元件设置区内像素单元出射的斜向光线会在第二像素开口的侧壁发生反射，从而从第二像素开***出，增加光感元件设置区的出光效率，提升光感元件设置区的显示效果。可选的，第一像素开口211的侧壁为平面结构。

在上述实施例的基础上，图3所示为沿图1中剖线A-A'的另一种剖面结构示意图。可选的，参考图3，第一像素开口211的侧壁为凹面结构。

可以理解的是，在其他实施例中，也可以将第一像素开口211的侧壁设置为凹面结构，从而提升第一显示区11的出光效率。另外需要说明的是，参考图3，在具体实施时，可以设置第一像素开口211的侧壁凹面结构的曲率半径大于第二像素开口212的侧壁凹面结构的曲率半径，即设置第二像素开口212的侧壁凸度较大，以保证第二像素开口212出的出光效率大于第一像素开口211的出光效率。

图4所示为沿图1中剖线A-A'的又一种剖面结构示意图。参考图4，可选的，第二像素开口212的侧壁表面设置有增反膜213。

可以理解的是，通过在第二像素开口212的侧壁表面设置增反膜，可以增加第二像素开口212侧壁的反射率，进一步提高光感元件设置区12的出光效率。可选的，增反膜213至少包括第一功能膜层，第一功能膜层的折射率大于像素限定层200的折射率。

可以理解的是，在第二像素开口212侧壁表面镀一层折射率大于像素限定层的四分之一波长膜，膜的上下表面反射的光干涉相长，实现增加反射率的效果。增反膜的材料可以采用合适的无机材料或者有机材料，具体实施时可以根据实际条件选择。而且通过设置第一功能层的折射率大于像素限定层200的折射率，入射角较大(大于临界角)的光线在第一功能层和像素限定层200的交界面还可以发生全反射，进一步提升反射率。由于在实际中，可能难以找到折射率比像素限定层的折射率大得多的功能层材料，因此在具体实施时，增反膜可以设置为高低折射率交替的多层叠层结构，本发明实施例对增反膜的膜层数量不作限制，具体实施时可以根据实际工艺条件选择。可选的，不在第一像素开口的侧壁表面设置增反膜。

在其他实施例中，还可以在第一像素开口的侧壁表面设置增反膜，而且可以设置第一像素开口侧壁表面的增反膜的反射率小于第二像素开口侧壁表面增反膜的反射率。

图5所示为沿图1中剖线A-A'的又一种剖面结构示意图。参考图5，可选的，本实施例提供的显示面板还包括：多个发光元件300，发光元件300包括依次层叠的第一电极301、发光层302以及第二电极303，其中，第一电极301位于第二电极303与衬底基板100之间；在第二像素开口212内，第一电极301背离衬底基板100一侧表面设置有凹槽结构。

可以理解的是，在本实施例中，第一电极301为发光元件300的反射电极，第二电极203为出射电极。本实施例中发光元件300为顶发光结构仅是示例性的，在其他实施例中，也可以设计为底发光结构。通过在第二像素开口212内的第一电极301背离衬底基板100一侧表面设置凹槽结构，可以在相同大小的发光元件300的条件下，增加发光层的体积或发光面积，从而提高光感元件设置区12内发光元件300的发光亮度，提升显示效果。

继续参考图5，可选的，在第二像素开口212内，发光层302凹陷贴靠于第一电极301背离衬底基板100的一侧，第二电极303凹陷贴靠于发光层302背离第一电极301的一侧。

通过设置发光层302和第二电极303均向下凹陷，从而使第二像素开口212内发光层302的发光面积大于第一像素开口211内发光层302的发光面积，提高光感元件设置区12内发光元件300的亮度。进一步的，可以设置第二像素开口212内发光层302凹陷的曲率与开口侧壁的曲率相匹配，以使更多入射到开口侧壁的斜向光线可以反射后出射，从而提高光感元件设置区12的出光效率，增强显示效果。可选的，设置第二像素开口212内发光层302凹陷的曲率与开口侧壁的曲率相等。

图6所示为沿图1中剖线A-A'的又一种剖面结构示意图。参考图6，可选的，在第二像素开口212内，发光层302贴靠于第一电极301背离衬底基板100的一侧，其中，发光层302背离第一电极301的一侧表面为平面结构。

通过在第二像素开口212内第一电极301背离衬底基板100的一侧设置凹槽结构，发光层302背离第一电极301的一侧表面为平面结构，可以使第二像素开口212内的发光层302的发光面积大于第一像素开口211内的发光元件300的发光层302的发光面积，提高光感元件设置区12的发光亮度，增强显示效果。

可选的，继续参考图5或图6，凹槽结构包括弧面结构。

可以理解的是，第一电极301的凹槽结构可以通过刻蚀形成，在刻蚀时控制不同区域的刻蚀速度，从而形成弧面结构。凹槽设置为弧面还可以与第二像素开口212侧壁的凹面结构匹配，使发光层302出射的光线经过侧壁反射后从开口出射。

图5和图6所示的实施例中，第一电极301设置于像素限定层200的下方，在其他实施例中，还可以设置第一电极301位于像素限定层200上方。示例性的，图7和图8所示分别为沿图1中剖线A-A'的又一种剖面结构示意图。参考图7和图8中，第一电极301设置于像素限定层200上方，其中图8中第一电极301完全覆盖像素限定层200的像素开口210，这样第一电极301还可以起到增反膜的功能，减少工艺难度。

需要说明的是，图7和图8中示出第二像素开口212内的发光层302和第二电极303设置有凹陷仅是示意性的，在其他实施例中，其发光层302和第二电极303的上表面也可以设置为平面结构。当第一电极301完全覆盖像素限定层200的像素开口210，第一还需要在第二电极303两端设置绝缘层(例如可以利用薄膜封装层的结构作为绝缘层以简化工艺)，以避免第一电极301和第二电极303直接电连接。

图9所示为本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图，本实施例提供的制备方法用于制备上述实施例提供的显示面板，该显示面板包括显示区，显示区包括第一显示区和光感元件设置区，本实施例提供的制备方法包括：

步骤S110、提供一衬底基板。

其中，衬底基板可以为刚性基板，例如玻璃基板，也可以为柔性基板，例如聚酰亚胺基板，本实施例对衬底基板的具体材质不作限定。

步骤S120、在衬底基板一侧形成像素限定层。

可以理解的是，在形成像素限定层之前，还包括在衬底基板与像素限定层之间还形成像素驱动电路中的薄膜晶体管、多条走线、各种绝缘层以及平坦层等结构，具体结构和工艺可以参照现有技术中的步骤执行。

步骤S130、在像素限定层上形成多个像素开口，像素开口包括第一像素开口和第二像素开口，第一像素开口位于第一显示区，第二像素开口位于光感元件设置区。

步骤S140、在第二像素开口的侧壁上形成凹面结构。

其中，凹面结构向像素限定层内部凹陷，即第二像素开口形成类似于紧口碗的形状，以提升光感元件设置区的出光效率。

本发明实施例提供的制备方法制备的显示面板，通过在显示面板的显示区设置光感元件设置区，从而将光感元件(例如摄像头)设置在显示面板的显示区下方，实现全面屏显示效果；通过像素限定层的像素开口限定出显示区的像素单元，其中第一像素开口位于第一显示区，第二像素开口位于光感元件设置区，通过设置第二像素开口的侧壁为凹面结构，光感元件设置区内像素单元出射的斜向光线会在第二像素开口的侧壁发生反射，从而从第二像素开***出，增加光感元件设置区的出光效率，提升光感元件设置区的显示效果。

可选的，在第二像素开口的侧壁上形成凹面结构，包括：

步骤S141、在像素限定层背离衬底基板的一侧表面形成光刻胶；

步骤S142、利用掩膜板对光刻胶进行曝光、显影处理；

步骤S143、刻蚀像素限定层，在第二像素开口内形成凹面结构；

其中，掩膜板包括多个与第二像素开口对应的预设通光孔，预设通光孔的透过率从中心向边缘逐渐降低。

图10～图12所示分别为本发明实施例中S141～S143对应的显示面板的结构示意图。本实例中，可以用光刻工艺形成第二像素开口侧壁的凹面结构。参考图10，先在像素限定层200背离衬底基板100的一侧表面形成光刻胶400，参考图11，然后利用掩膜板500覆盖光刻胶400，并对光刻胶400进行曝光、显影处理，第二像素开口的形状转移至像素限定层200，参考图12，最后刻蚀像素限定层200，在第二像素开口内形成凹面结构。

图13所示为本发明实施例提供的一种掩膜板的结果示意图。参考图13，掩膜板包括多个与第二像素开口对应的预设通光孔501，预设通光孔501的透过率从中心向边缘(图13中箭头方向)逐渐降低。

可以理解的是，图13所示的掩膜板仅示出了光感元件设置区对应区域的部分结构，对于第一显示区对应部分，可以与现有技术中的掩膜板设置同样的结构，也可以设置为类似光感元件设置区的通光孔。

图14所示为本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程示意图。参考图14，可选的，在第二像素开口的侧壁上形成凹面结构之后，还包括：

步骤S150、在第二像素开口的侧壁表面形成增反膜。

通过在第二像素开口的侧壁表面设置增反膜，可以增加第二像素开口侧壁的反射率，进一步提高光感元件设置区的出光效率。可选的，增反膜至少包括第一功能膜层，第一功能膜层的折射率大于像素限定层的折射率。

可选的，在衬底基板一侧形成像素限定层之前，还包括：

在像素开口区域内形成第一电极；刻蚀光感元件设置区内的第一电极形成凹槽结构。

可选的，在衬底基板一侧形成像素限定层之前，还包括：

在像素开口区域内形成第一电极；在第二像素开口的侧壁上形成凹面结构之后，还包括：

刻蚀光感元件设置区内的第一电极形成凹槽结构。

可以理解的是，参考图5和图6所示的显示面板，第一电极301可以设置于像素限定层200下方，即第一电极301所在膜层在像素限定层200之前形成，在制备显示面板的过程中，可以先形成第一电极301的凹槽结构，也可以先形成第二像素开口212侧壁的凹面结构，本实施例对其顺序不作限定。在制作发光层等膜层时，可以通过蒸镀工艺形成，通过控制镀膜速度使上表面形成凹槽结构或平面结构。

可选的，在第二像素开口的侧壁上形成凹面结构之前，还包括：

在像素开口内形成第一电极；刻蚀光感元件设置区内的第一电极形成凹槽结构。

可选的，在第二像素开口的侧壁上形成凹面结构之后，还包括：

在像素开口内形成第一电极；刻蚀光感元件设置区内的第一电极形成凹槽结构。

可以理解的是，参考图7和图8所示的显示面板，第一电极301可以设置于像素限定层200上方，即第一电极301所在膜层在像素限定层200之后形成，在制备显示面板的过程中，可以先形成第一电极301的凹槽结构，也可以先形成第二像素开口212侧壁的凹面结构，本实施例对其顺序不作限定。

可选的，本实施例提供的制备方法还包括：

在第一像素开口的侧壁上形成凹面结构。

参考图3，除在第二像素开口212的侧壁形成凹面结构外，还可以在第一像素开口211的侧壁形成凹面结构，从而提升第一显示区11的出光效率。另外需要说明的是，在具体实施时，可以设置第一像素开口211的侧壁凹面结构的曲率半径大于第二像素开口212的侧壁凹面结构的曲率半径，即设置第二像素开口212的侧壁凸度较大，以保证第二像素开口212出的出光效率大于第一像素开口211的出光效率。

图15所示为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。参考图15，该显示装置1包括上述实施例提供的任意一种显示面板2，还包括：光感元件3，设置于显示面板2的光感元件设置区，且位于衬底基板背离显示面板出光面的一侧，光感元件3的感光面朝向显示面板2。该显示装置1具体可以为手机、平板电脑以及智能可穿戴设备等。

可以理解的是，光感元件3可以为摄像头。由于本发明实施例提供的显示装置包括上述实施例提供的任意一种显示面板，具有相同与相应的技术效果。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (18)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

显示区，所述显示区包括第一显示区和光感元件设置区；

衬底基板；

像素限定层，所述像素限定层位于所述衬底基板的一侧；

所述像素限定层包括多个像素开口，所述像素开口包括第一像素开口和第二像素开口，所述第一像素开口位于所述第一显示区，所述第二像素开口位于所述光感元件设置区，其中，所述第二像素开口的侧壁为凹面结构。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素开口的侧壁表面设置有增反膜。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述增反膜至少包括第一功能膜层，所述第一功能膜层的折射率大于所述像素限定层的折射率。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：

多个发光元件，所述发光元件包括依次层叠的第一电极、发光层以及第二电极，其中，所述第一电极位于所述第二电极与所述衬底基板之间；

在所述第二像素开口内，所述第一电极背离所述衬底基板一侧表面设置有凹槽结构。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，在所述第二像素开口内，所述发光层凹陷贴靠于所述第一电极背离所述衬底基板的一侧，所述第二电极凹陷贴靠于所述发光层背离所述第一电极的一侧。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，在所述第二像素开口内，所述发光层贴靠于所述第一电极背离所述衬底基板的一侧，其中，所述发光层背离所述第一电极的一侧表面为平面结构。

7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽结构包括弧面结构。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素开口密度大于所述第二像素开口密度。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素开口的侧壁为凹面结构。

10.一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括显示区，所述显示区包括第一显示区和光感元件设置区，其特征在于，所述制备方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板一侧形成像素限定层；

在所述像素限定层上形成多个像素开口，所述像素开口包括第一像素开口和第二像素开口，所述第一像素开口位于所述第一显示区，所述第二像素开口位于所述光感元件设置区；

在所述第二像素开口的侧壁上形成凹面结构。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第二像素开口的侧壁上形成凹面结构，包括：

在所述像素限定层背离所述衬底基板的一侧表面形成光刻胶；

利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光、显影处理；

刻蚀所述像素限定层，在所述第二像素开口内形成所述凹面结构；

其中，所述掩膜板包括多个与所述第二像素开口对应的预设通光孔，所述预设通光孔的透过率从中心向边缘逐渐降低。

12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第二像素开口的侧壁上形成凹面结构之后，还包括：

在所述第二像素开口的侧壁表面形成增反膜。

13.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板一侧形成像素限定层之前，还包括：

在像素开口区域内形成第一电极；

刻蚀所述光感元件设置区内的所述第一电极形成凹槽结构。

14.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板一侧形成像素限定层之前，还包括：

在像素开口区域内形成第一电极；

所述在所述第二像素开口的侧壁上形成凹面结构之后，还包括：

刻蚀所述光感元件设置区内的所述第一电极形成凹槽结构。

15.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第二像素开口的侧壁上形成凹面结构之前，还包括：

在所述像素开口内形成第一电极；

刻蚀所述光感元件设置区内的所述第一电极形成凹槽结构。

16.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第二像素开口的侧壁上形成凹面结构之后，还包括：

在所述像素开口内形成第一电极；

刻蚀所述光感元件设置区内的所述第一电极形成凹槽结构。

17.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，还包括：

在所述第一像素开口的侧壁上形成凹面结构。

18.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～9任一所述的显示面板，还包括：

光感元件，设置于所述显示面板的光感元件设置区，且位于所述衬底基板背离所述显示面板出光面的一侧，所述光感元件的感光面朝向所述显示面板。

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