CN110783483B - 显示面板及其制作方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了显示面板及其制作方法和显示装置，其中显示面板至少包括第一显示区，第一显示区具有第一子像素，第一显示区包括：第一基底；位于第一基底一侧的第一电极，以及位于第一电极远离第一基底一侧的第一像素限定层，第一像素限定层包括第一像素开口，第一像素开口内包括第一发光层；位于第一发光层远离第一基底一侧的第二电极；第一显示区还包括隔离柱，隔离柱设置于第一像素限定层远离第一基底的一侧；隔离柱远离第一基底一侧的表面在第一基底上的正交投影的尺寸大于隔离柱靠近第一基底一侧的表面在第一基底上的正交投影的尺寸，且隔离柱远离基底一侧的表面具有凹陷结构，可以减小光线穿过隔离柱时的光程差，进而减弱衍射现象。

Description

显示面板及其制作方法和显示装置

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及显示面板及其制作方法和显示装置。

背景技术

随着显示终端的快速发展，用户对屏幕占比的要求越来越高，使得显示终端的全面屏显示受到业界越来越多的关注。现有技术中的全面屏多为开槽或开孔的方式，如刘海屏等，均是在摄像头、传感器等元件对应的显示屏区域开槽或开孔。在实现拍照功能时，外部光线通过显示屏上的槽或孔射入显示屏下方的摄像头，从而实现拍照。但是，不论是刘海屏还是打孔屏，均不是真正的全面屏，因此，业界急需研发出真正的全面屏。

发明内容

基于此，有必要针对上述问题，有必要提供一种基于全面屏的显示面板及其制作方法和显示装置。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，显示面板至少包括第一显示区，第一显示区具有第一子像素，第一显示区包括：

第一基底，第一基底为透光基底；位于第一基底一侧的第一电极，以及位于第一电极远离第一基底一侧的第一像素限定层，第一像素限定层包括第一像素开口，第一像素开口内包括第一发光层；位于第一发光层远离第一基底一侧的多个第二电极；第一子像素包括第一电极、第一发光层和第二电极；

第一显示区还包括隔离柱，隔离柱设置于第一像素限定层远离第一基底的一侧，且隔离柱用于隔断相邻第二电极；隔离柱远离第一基底一侧的表面在第一基底上的正交投影的尺寸大于隔离柱靠近第一基底一侧的表面在第一基底上的正交投影的尺寸，且隔离柱远离基底一侧的表面具有凹陷结构。

可选的，隔离柱呈倒梯形，凹陷结构呈正梯形、倒梯形或矩形。

可选的，凹陷结构呈倒梯形，隔离柱包括相对设置的第一侧壁、第二侧壁，以及连接第一侧壁和第二侧壁的底部，隔离柱的侧壁厚度与底部的厚度一致。

可选的，第一子像素为被动驱动方式发光；各第一电极沿第一方向延伸，各第二电极沿第二方向延伸，第一方向和第二方向相交；隔离柱沿第二方向延伸，且隔离柱设置于相邻第二电极之间。

可选的，沿第一方向，不同隔离柱与同侧相邻的第一像素开口边缘的距离不同。

可选的，显示面板还包括封装层，封装层设置于第二电极和隔断层远离第一基底的一侧，封装层填充凹陷结构；

优选地，封装层包括层叠设置的至少一层有机层和至少一层无机层，有机层填充凹陷结构。

可选的，显示面板还包括第二显示区，第二显示区具有第二子像素，第二显示区包括：

第二基底，位于第二基底一侧的第三电极，以及位于第三电极远离第二基底一侧的第二像素限定层，第二像素限定层包括第二像素开口，第二像素开口内包括第二发光层，第二发光层远离第二基底的一侧包括第四电极；第二子像素包括第三电极、第四电极以及第三电极和第四电极之间的第二发光层；

优选地，第二子像素为主动驱动方式发光，第三电极为块状结构；

优选地，第三电极为块状结构，第四电极为面电极；

优选地，第二显示区完全或部分围绕第一显示区；

优选地，第一显示区和第二显示区的部分膜层位于同一层，其中，第一显示区和第二显示区的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：第一电极和第三电极位于同一层，第一像素限定层和第二像素限定层位于同一层，第一发光层和第二发光层位于同一层，第二电极和第四电极位于同一层；

优选地，透明显示区的透光率大于70％；

优选地，第一电极为透明电极，透明电极的材料包括铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂银的铟锡氧化物及掺杂银的铟锌氧化物中的至少一种；

优选地，显示面板还包括至少位于第二显示区的偏光片，偏光片位于第二电极远离第二基底的一侧。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：

设备本体，具有器件区；

以及第一方面提供的显示面板，显示面板覆盖在设备本体上；

其中，器件区位于显示面板的第一显示区下方，且器件区中设置有透过第一显示区发射或者采集光线的感光器件。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，包括：

提供第一基底，第一基底为透光基底；

在第一基底一侧形成第一电极；

在第一电极的一侧形成第一像素限定层，第一像素限定层包括第一像素开口；

在第一像素开口内形成第一发光层；在第一像素限定层远离第一基底的一侧形成预成型隔离柱，预成型隔离柱远离第一基底一侧表面在第一基底上的正交投影的尺寸大于预成型隔离柱靠近第一基底一侧表面在第一基底上的正交投影的尺寸；

图形化预成型隔离柱远离第一基底一侧的表面，形成远离第一基底一侧的表面包括凹陷结构的隔离柱；

蒸镀导电材料层，导电材料层由隔离柱隔断形成第二电极。

可选的，在第一像素限定层远离第一基底的一侧形成预成型隔离柱，包括：

在第一像素限定层远离第一基底的一侧形成牺牲层；

对牺牲层进行图形化，以使牺牲层形成第一凹槽；

在第一凹槽中填充隔断层材料，形成预成型隔离柱；

优选地，在图形化预成型隔离柱远离第一基底一侧的表面，形成远离第一基底一侧的表面包括凹陷结构的隔离柱之后，还包括：

采用湿法刻蚀去除牺牲层；

优选地，牺牲层的材料为氧化铟锡(ITO)或铟镓锌氧化物(IGZO)，湿法刻蚀的刻蚀液包括草酸；

优选地，牺牲层的材料为钼或钛，湿法刻蚀的刻蚀液包括硝酸、醋酸和磷酸的混合液。

本发明实施例提供了显示面板及其制作方法和显示装置，通过设置第一显示区包括隔离柱，隔离柱设置于第一像素限定层远离第一基底的一侧，且隔离柱用于隔断相邻第二电极；隔离柱远离第一基底一侧的表面在第一基底上的正交投影的尺寸大于隔离柱靠近第一基底一侧的表面在第一基底上的正交投影的尺寸，且隔离柱远离基底一侧的表面具有凹陷结构，使得隔离柱可以在隔断第二电极，避免发生短路的基础上，减小光线穿过隔离柱时的光程差，进而减弱衍射现象，并且将感光器件设置于本发明实施例提供的显示面板下方时，可以使得图像清晰度更高，避免拍照模糊的问题。

附图说明

图1是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图；

图2是沿图1中剖面线A-A’剖切得到的剖视图；

图3是图2的局部放大图；

图4是本发明实施例提供的光线穿过两种隔离柱的对比图一；

图5是本发明实施例提供的光线穿过两种隔离柱的对比图二；

图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图；

图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图；

图8是本发明实施例提供的显示面板中隔离柱的结构示意图；

图9是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图；

图10是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图；

图11是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图；

图12是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图；

图13是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图；

图14是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；

图15是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；

图16是本发明实施例提供的制作显示面板时的一种中间结构图；

图17是本发明实施例提供的制作显示面板时的另一种中间结构图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

正如背景技术中所述，现有技术中不论是刘海屏还是打孔屏，均无法实现真正的全面屏。经发明人研究发现，若要实现全面屏，需要将显示面板直接覆盖在摄像头等感光器件上，这就要求位于摄像头等感光器件上方的显示面板具有高透光率，但是，发明人进一步发现，将摄像头等感光器件设置在透明显示面板下方时，拍照得到的照片模糊。进一步的，发明人研究发现，出现这个问题的根本原因在于，由于显示屏内存在图案化的膜层结构，外部光线穿过这些图案化的膜层结构后，由于光程差的差异，发生衍射，进而导致拍照模糊，图像失真。

基于上述问题，本发明实施例提供一种显示面板，图1是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图，图2是沿图1中剖面线A-A’剖切得到的剖视图。参考图1和图2，该显示面板至少包括第一显示区1a，第一显示区1a具有第一子像素170，第一显示区1a包括：

第一基底110，第一基底110为透光基底；位于第一基底110一侧的第一电极120，以及位于第一电极120远离第一基底110一侧的第一像素限定层130，第一像素限定层130包括第一像素开口131，第一像素开口131内包括第一发光层140；位于第一发光层140远离第一基底110一侧的第二电极150；第一子像素170包括第一电极120、第一发光层140和第二电极150；

第一显示区1a还包括隔离柱160，隔离柱160设置于第一像素限定层130远离第一基底110的一侧，且隔离柱160用于隔断相邻第二电极150；隔离柱160远离第一基底110一侧的表面在第一基底110上的正交投影的尺寸大于隔离柱160靠近第一基底110一侧的表面在第一基底110上的正交投影的尺寸，且隔离柱160远离基底一侧的表面具有凹陷结构。

具体的，第一基底110可以为显示装置提供缓冲、保护或支撑等作用。第一基底110可以是柔性基底，柔性基底的材料可以是聚酰亚胺(PI)材料。第一基底110也可以为硬质基底，硬质基底的材料可以是玻璃等透光材料。

其中，第一电极120可以为阳极与阴极二者中的一个，第二电极150为另一个。第一电极120和第二电极150的材料可采用透光材料，例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(ITO)、掺杂银的铟锡氧化物或掺杂银的铟锌氧化物等。第一发光层140可以为有机发光层，其中，有机发光层可以只包括单层结构，例如只包括发光材料层；有机发光层还可以包括多层结构，例如第一电极120为阳极，第二电极150为阴极时，有机发光层可以包括自第一电极120至第二电极150依次设置的空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子注入层、电子传输层等功能膜层。参考图2，第一发光层140可以包括红色发光层141、绿色发光层142和蓝色发光层143，且红色发光层141、绿色发光层142和蓝色发光层143交替分布。其它可选方案中，第一发光层140还可以红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层，且红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层交替分布；另外，第一发光层140也可只包括单色的发光层，本发明实施例在此不做具体限定。

参考图2，第一子像素170包括第一电极120、第二电极150以及第一电极120和第二电极150之间的第一发光层140，第一子像素170的第一电极120和第二电极150之间施加驱动电压时，第一子像素170发光，第一显示区1a执行显示功能；各第一子像素170的第一电极120与第二电极150之间未施加驱动电压时，第一显示区1a执行透光功能，用于位于其下方的感光器件的感光，进而可实现全面屏显示。

第一子像素170的发光可以为主动驱动方式(AM)或被动驱动方式(PM)。当为主动驱动方式时，第一子像素170的第一电极120与第二电极150可以均为电极块，或其中一个为电极块，另一个为整面的面电极。当为被动驱动方式时，第一电极120与第二电极150可以均为电极条，第一子像素170阵列排布，第一电极120和第二电极150分别沿第一子像素170列方向y和第一子像素170行方向x延伸，第一子像素170位于第一电极120和第二电极150的交叉点。

图1和图2所示显示面板为被动驱动方式发光。图1和图2中，位于一列(列所在方向为图1中y方向)的各个第一子像素170的第一电极120可以连接在一起，位于一行(行所在方向为图1中x方向)的各个第一子像素170的第二电极150可以连接在一起。参考图2，显示面板中还包括隔离柱160，隔离柱160设置于像素限定层远离第一基底110的一侧，用来隔断相邻的第二电极150，进而使得相邻的第二电极150之间无法导通。图3是图2的局部放大图，可选的，在各个第一子像素170列所在方向上，即y方向，隔离柱160远离第一基底110一侧的表面在第一基底110上的正交投影的尺寸大于隔离柱160靠近第一基底110一侧的表面在正交投影的尺寸，例如隔离柱160可以为倒梯形结构。定义隔离柱160远离第一基底110一侧的表面为第一表面，隔离柱160靠近第一基底110一侧的表面为第二表面，因在各个第一子像素170列所在方向上，即y方向，第一表面在第一基底110上的正交投影的尺寸大于第二表面在第一基底110上的正交投影的尺寸，即在y方向上，第一表面相对凸出第二表面，进而使得形成第二电极150时，第二电极150可以在第一表面凸出第二表面的对应位置处，第二电极150被隔离柱160隔断，防止第二电极150联结发生短路。可选的，隔离柱160的材料可以是有机胶。

如上所述，由于显示面板内存在图案化的膜层结构，外部光线穿过这些图案化的膜层结构后，由于光程差的差异，发生衍射，导致拍照模糊。经发明人的进一步研究发现，光线经过显示面板中隔离柱160是产生的光程差是导致衍射现象发生的重要原因。参考图2和图3，因此，本实施例提供的显示面板中，在隔离柱160远离第一基底110一侧的表面具有凹陷结构，相比与现有显示面板远离第一基底110一侧的表面为平面的显示面板来说，在显示面板厚度方向，即图2和图3中z方向上隔离柱160的厚度差异减小，光线穿过隔离柱160时，光程差减小，减弱衍射现象，进而提高图像清晰度。

以下以图4和图5所示出情况进行具体说明。图4是本发明实施例提供的光线穿过两种隔离柱的对比图一，图5是本发明实施例提供的光线穿过两种隔离柱的对比图二。参考图4和图5，其中，为使光线穿过隔离柱160时的光程更加清晰，图4和图5中仅示出了隔离柱结构，并且，图4和图5中第一表面具有凹陷结构的隔离柱为本实施例提供的显示面板中的隔离柱，第一表面为平面的隔离柱为现有技术中显示面板中的隔离柱，并以现有技术中显示面板中隔离柱为倒梯形进行了示意。图4中示意性地示出了两条不同的光线，分别记为第一光线S1和第二光线S2穿过两种隔离柱160时的示意图，参考图4，其中第一光线S1未穿过本发明实施例提供的显示面板中隔离柱160的凹陷结构部分，其光程为b11，第二光线S2穿过本发明实施例提供的显示面板中隔离柱160的凹陷结构部分，其光程为b12；第一光线S1穿过现有技术显示面板中隔离柱时光程为b21，第二光线S2穿过现有技术显示面板中隔离柱时光程为b22，由图4可知，b11＝b21，b12<b22，因此，b12-b11<b22-b21。

参考图5，图5中示意性地示出了两条不同的光线，分别记为第三光线S3和第四光线S4穿过两种隔离柱时的示意图，其中第三光线S3未穿过本发明实施例提供的显示面板中隔离柱的凹陷结构部分，其光程为c11，第四光线S4穿过本发明实施例提供的显示面板中隔离柱的凹陷结构部分，其光程为c12；第三光线S3穿过现有技术显示面板中隔离柱时光程为c21，第四光线S4穿过现有技术显示面板中隔离柱时光程为c22，由图4可知，c11＝c21，c12<c22，因此，c12-c11<c22-c21。

因此，相对于现有显示面板，本发明实施例提供的显示面板可以使得部分光线穿过隔离柱160时，光程差减小，进而减弱衍射现象，将感光器件设置于本发明实施例提供的显示面板下方时，可以使得图像清晰度更高，避免拍照模糊的问题。

本实施例提供的显示面板，通过设置第一显示区包括隔离柱，隔离柱设置于第一像素限定层远离第一基底的一侧，且隔离柱用于隔断相邻第二电极；隔离柱远离第一基底一侧的表面在第一基底上的正交投影的尺寸大于隔离柱靠近第一基底一侧的表面在第一基底上的正交投影的尺寸，且隔离柱远离基底一侧的表面具有凹陷结构，使得隔离柱可以在隔断第二电极，避免发生短路的基础上，减小光线穿过隔离柱时的光程差，进而减弱衍射现象，并且将感光器件设置于本发明实施例提供的显示面板下方时，可以使得图像清晰度更高，避免拍照模糊的问题。

在上述技术方案的基础上，可选的，隔离柱160呈倒梯形，凹陷结构呈正梯形、倒梯形或矩形。

具体的，隔离柱160呈倒梯形，凹陷结构呈倒梯形的显示面板的结构示意图可参见图2和图3。图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图，参考图6，图6所示显示面板中隔离柱160整体结构呈正梯形，凹陷结构呈正梯形。图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图，参考图7，图7所示显示面板中隔离柱160整体结构呈正梯形，凹陷结构呈矩形。图6和图7所示显示面板中，因隔离柱160远离第一基底110一侧的表面包括凹陷结构，相比与现有显示面板远离第一基底110一侧的表面为平面的显示面板来说，在显示面板厚度方向，即图2和图3中z方向上隔离柱160的厚度差异较小，光线穿过隔离柱160时，光程差减小，减弱衍射现象，将感光器件设置于实施例提供的显示面板下方时，可以使得图像清晰度更高，避免拍照模糊的问题。

需要说明的是，凹陷结构的形状并不限于本实施例提供的正梯形、倒梯形或矩形，凹陷结构的表面也可以是弧面，即凹陷结构的截面可以呈圆形或椭圆形，本发明在此不做具体限定。

图8是本发明实施例提供的显示面板中隔离柱的结构示意图，参考图8，可选的，凹陷结构呈倒梯形，隔离柱包括相对设置的第一侧壁161、第二侧壁162，以及连接第一侧壁161和第二侧壁162的底部163，隔离柱的侧壁厚度与底部163的厚度一致。

具体的，凹陷结构的形状与隔离柱的整体形状相同，都为倒梯形，可以使得隔离柱可以形成第一侧壁161、第二侧壁162和底部163厚度一致的结构，进而整个隔离柱的厚度均匀，光线穿过隔离柱时，光程差可以进一步减小，进而进一步减弱衍射现象。

图9是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图，参考图9，可选的，第一子像素170为被动驱动方式发光；各第一电极120沿第一方向y延伸，各第二电极150沿第二方向x延伸，第一方向y和第二方向x相交；隔离柱160沿第二方向x延伸，且隔离柱160设置于相邻两第二电极150之间。

参考图9，其中，第一方向y可以是第一子像素170排布的列方向，第二方向x可以是第一子像素170排布的行方向，第一方向y与第二方向x相交，第一子像素170形成在第一电极120和第二电极150的交叉点。第二电极150沿第二方向x延伸，因此在同一行的子像素的第二电极150相互连接在一起，形成第二电极150条，隔离柱160的延伸方向与第二电极150的延伸方向相同，并设置于相邻两第二电极150之间，因此可以将相邻的第二电极150有效隔断，避免第二电极150相互连接造成的短路，保证显示面板良好的显示效果，以及保证显示面板的可靠性。

需要说明的是，图1和图9中仅以显示面板中第一电价120和第二电极150为条形进行了示意，其中，第一电价120和第二电极150的边缘还可以是波浪形，进而减弱水平方向上的衍射效应。

图10是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图，参考图10，可选的，沿第一方向y，不同隔离柱160与同侧相邻的第一像素开口131边缘的距离不同。

具体的，沿第一方向y，每个隔离柱160包括位于隔离柱160两侧的第一像素开口131，图10中示例性地示出了三个隔离柱160，参考图10，每个隔离柱160包括左右两侧的第一像素开口131，三个隔离柱160与各自左侧相邻的第一像素开口131边缘的距离分别为e1、e2和e3，其中e1、e2和e3的大小不同，并且，可选的，每个隔离柱160与其右侧相邻的第一像素开口131边缘的距离也不相同。设置沿第一方向y，不同隔离柱160与同侧相邻的第一像素开口131边缘的距离不同，可以使得隔离柱160呈不规律排布，可以减弱光线经过隔离柱160时的周期性相干，进而减弱光线的干涉和衍射现象，进而将感光器件设置于本实施例提供的显示面板下方时，可以使得图像清晰度更高，进一步避免拍照模糊的问题。

图11是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图，参考图11，该显示面板还包括封装层180，封装层180设置于第二电极150和隔断层远离第一基底110的一侧，封装层180填充凹陷结构；

优选地，封装层180包括层叠设置的至少一层有机层181和至少一层无机层182，有机层181填充凹陷结构。

具体的，封装层180可以是柔性封装层和硬质封装层。凹陷结构中填充封装层180，进而增加封装层180与隔离柱160的接触面积，有助于增强封装层180与隔离柱160的粘附力，可以使得整个显示面板的结构更加紧凑牢固，并且因封装层180的作用可以使得第二电极150与第一发光层140之间接合地更加牢固，进而保证良好的显示效果，提高显示面板的可靠性。

其中，封装层180为柔性封装层时，具体可以是薄膜封装层。薄膜封装层包括层叠设置的至少一层有机层181和至少一层无机层182，图11示意性的示出了薄膜封装层180包括一层有机层181和一层无机层182的结构，其中，有机层181与隔离柱160接触，并填充隔离柱160的凹陷结构。有机层181的柔性较好，因此有机层181填充凹陷结构，使得显示面板的柔性较好，有利于弯折；并且，有机层181常常采用喷墨打印的方式形成，而无机层182通常采用沉积的方式形成，因此，相对于无机层182，有机层181更容易形成对凹陷结构的填充。

图12是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图，图13是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图，参考图12，该显示面板还包括第二显示区1b，其中，图13可对应图12所示显示面板中部分第二显示区1b的剖视图，参考图12和图13，其中，第二显示区1b具有第二子像素270，第二显示区1b包括：

第二基底210，位于第二基底210一侧的第三电极220，以及位于第三电极220远离第二基底210一侧的第二像素限定层230，第二像素限定层230包括第二像素开口231，第二像素开口231内包括第二发光层240，第二发光层240远离第二基底210的一侧包括第四电极250；第二子像素270包括第三电极220、第四电极250以及第三电极220和第四电极250之间的第二发光层240；

优选地，第二子像素270为主动驱动方式发光，第三电极220为块状结构；

优选地，第三电极220为块状结构，第四电极250为面电极；

优选地，第二显示区1b完全或部分围绕第一显示区1a；

优选地，第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层，其中，第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：第一电极和第三电极220位于同一层，第一像素限定层和第二像素限定层230位于同一层，第一发光层140和第二发光层240位于同一层，第二电极150和第四电极250位于同一层；

优选地，第一显示区1a为透明显示区；透明显示区的透光率大于70％；以保证设置于透明显示区的感光器件的感光效果。优选地，第一电极为透明电极，所述透明电极的材料包括铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂银的铟锡氧化物及掺杂银的铟锌氧化物中的至少一种。

优选地，显示面板还包括至少位于第二显示区1b的偏光片290，偏光片290位于第二电极150远离第二基底210的一侧。

其中，第二基底210可以是柔性基底，也可以是硬质基底，并且可以透光基底，也可为非透光基底。并且可选的，第二基底210和第二基底210可为一体结构，也可以是不同的基底结构，在形成整个显示面板结构时，再进行拼接。第三电极220可以是阳极和阴极二者中的一个，第四电极250为二者中的另一个。并且，可选的，第三电极220与第一显示区1a的第一电极同为阳极或阴极，第四电极250和第一显示区1a的第二电极同为阴极或阳极。可选的，第三电极220为阳极，第四电极250为阴极，第二发光层240为有机发光层。参考图13，第二发光层240可以包括红色发光层241、绿色发光层242和蓝色发光层243，且红色发光层241、绿色发光层242和蓝色发光层243交替分布。其它可选方案中，第二发光层240还可以红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层，且红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层交替分布；另外，第二发光层240也可只包括单色的发光层，本发明实施例在此不做具体限定。

第三电极220、第四电极250以及第三电极220和第四电极250之间的第二发光层240组成第二子像素270，第二子像素270可以为AM驱动，也可以为PM驱动。当为AM驱动时，第三电极220为块状电极。当为PM驱动时，第三电极220为条状电极，沿行(或列)方向延伸，对应地，第四电极250也为条状电极，沿列(或行)方向延伸，其中，行方向可以是第二子像素270排布的行方向，列方向可以是第二子像素270排布的列方向，第三电极220和第四电极250交叉点形成第二子像素270。

当为AM驱动时，第四电极250可以为面电极，以简化第四电极250的图案结构，提高透光率。

一个可选方案中，如图12所示，第一显示区1a具有隔离带1c，隔离带1c的纵剖面可以呈倒梯形或者T字形，隔离带1c为一体成型结构，用于蒸镀导电材料层时，自动隔断第二电极与第四电极250。上述方案可以简化蒸镀第二电极与第四电极250的掩模板的开口图案。具体地，隔离带1c可以与第一显示区1a中的隔离柱160同时制作，也可以分别制作。

并且，可选的，第二显示区1b可以完全围绕第一显示区1a，或者部分围绕第一显示区1a，在第二显示区1b完全围绕第一显示区1a时，隔离带1c为闭合环；在第二显示区1b部分围绕第一显示区1a，隔离带1c为非闭合环，图12所示显示面板示意性的示出了第二显示区1b部分围绕第一显示区1a的情况。

第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层，且第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：第一电极和第三电极220位于同一层，第一像素限定层和第二像素限定层230位于同一层，第一发光层和第二发光层240位于同一层，第二电极和第四电极250位于同一层。将第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层设置于同一层，在制作显示面板时，第一显示区1a和第二显示区1b中位于同一层的膜层可以同时制作，形成一体结构的显示面板，进而简化工艺步骤，降低制备成本。并且，第一显示区1a和第二显示区1b同时制作时，在制作显示面板的阵列基板时，阵列基板中的平坦化层和无机层等可以同时制作，以使得第一显示区1a和第二显示区1b的整体膜层高度相匹配。第一显示区1a和第二显示区1b的各个膜层也可分开制作，使得第一显示区1a和第二显示区1b可以制作成更加灵活的形状，然后将第一显示区1a和第二显示区1b拼接在一起，例如第一显示区1a可以是图12所示的矩形，还可以是水滴形，圆形，梯形，条形，或者与显示面板显示时状态栏的形状大小相切合，本发明在此不做具体限定。本实施例提供的显示面板，可实现全面屏显示。

可选的，第一显示区1a还可以包括第二电极远离基底一侧的依次设置的封装层、偏光片和盖板，第二显示区1b和第四电极250远离基底一侧的依次设置的封装层280(图13示例性示出了封装层包括一层有机层281和一层无机层282的情况)、偏光片290和盖板。其中，偏光片290可以去除第一显示区1a对应的区域，仅在第二显示区1b设置。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置可为手机、电脑、智能手表、智能手环等设备。图14是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，参考图14，该显示装置10包括：

设备本体20，具有器件区21；

以及本发明任意实施例提供是显示面板1，显示面板1覆盖在设备本体20上；

其中，器件区21位于显示面板1的第一显示区1a下方，且器件区21中设置有透过第一显示区1a发射或者采集光线的感光器件211。

可选的，感光器件211包括：摄像头和/或光线感应器；光线感应器包括：虹膜识别传感器以及指纹识别传感器中的一种或组合。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，图15是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图，参考图15，该显示面板的制作方法包括：

步骤310、提供第一基底，第一基底为透光基底；

步骤320、在第一基底一侧形成第一电极；

步骤330、在第一电极的一侧形成第一像素限定层，第一像素限定层包括第一像素开口；

步骤340、在第一像素开口内形成第一发光层；在第一像素限定层远离第一基底的一侧形成预成型隔离柱，预成型隔离柱远离第一基底一侧表面在第一基底上的正交投影的尺寸大于预成型隔离柱靠近第一基底一侧表面在第一基底上的正交投影的尺寸；

步骤350、图形化预成型隔离柱远离第一基底一侧的表面，形成远离第一基底一侧的表面包括凹陷结构的隔离柱；

步骤360、蒸镀导电材料层，导电材料层由隔离柱隔断形成第二电极。

图16是本发明实施例提供的制作显示面板时的一种中间结构图。图16所示中间结构图可对应步骤340中，在第一像素限定层130远离第一基底110的一侧形成预成型隔离柱后的结构，参考图16，图16以预成型隔离柱为倒梯形进行了示意，其中，预成型隔离柱远离第一基底110一侧的表面为平面，该预成型隔离柱远离第一基底110一侧表面尺寸大于预成型隔离柱靠近第一基底110一侧表面的尺寸，具体是在第一方向y上，预成型隔离柱远离第一基底110一侧表面的尺寸大于预成型隔离柱靠近第一基底110一侧表面的尺寸，进而保证形成隔离柱160后隔离柱160可以将第二电极隔断。

本实施例提供的显示面板的制作方法，通过在第一像素限定层远离第一基底的一侧形成预成型隔离柱，隔离柱远离第一基底一侧表面在第一基底上的正交投影的尺寸大于隔离柱靠近第一基底一侧表面在第一基底上的正交投影的尺寸；图形化预成型隔离柱远离第一基底一侧的表面，形成远离第一基底一侧的表面包括凹陷结构的隔离柱；蒸镀导电材料层，导电材料层由隔离柱隔断形成第二电极，进而避免发生短路的基础上，减小光线穿过隔离柱时的光程差，进而减弱衍射现象，并且将感光器件设置于本发明实施例提供的显示面板下方时，可以使得图像清晰度更高，避免拍照模糊的问题。

在上述技术方案的基础上，可选的，在第一像素限定层远离第一基底的一侧形成预成型隔离柱，包括：

在第一像素限定层远离第一基底的一侧形成牺牲层；

对牺牲层进行图形化，以使牺牲层形成第一凹槽；

在第一凹槽中填充隔断层材料，形成多个预成型隔离柱；

优选地，在图形化预成型隔离柱远离第一基底一侧的表面，形成远离第一基底一侧的表面包括凹陷结构的隔离柱之后，还包括：

采用湿法刻蚀去除牺牲层；

优选地，牺牲层的材料为ITO或IGZO，湿法刻蚀的刻蚀液包括草酸；

优选地，牺牲层的材料为钼或钛，湿法刻蚀的刻蚀液包括硝酸、醋酸和磷酸的混合液。

图17是本发明实施例提供的制作显示面板时的另一种中间结构图。图17可对应牺牲层162形成第一凹槽163后的结构图。牺牲层162的材料可以为ITO和/或IGZO、金属钼或钛。对于无机的ITO和/或IGZO、金属钼或钛，采用物理气相沉积或化学气相沉积法形成。隔离柱160的材料可以为无机透明材质或有机透明材质。隔离柱160的材料与牺牲层162的材料不同。

当隔离柱160的材料为无机透明材质时，可以为二氧化硅、氮化硅等。各个隔离柱160可以通过光刻、干法刻蚀或湿法腐蚀形成。

当隔离柱160的材料为有机透明材质时，优选为有机透明胶。有机透明胶由固化液态有机材料得来，而液态有机材料的流动性强、填充效果好，因而有机透明胶的填充效果也好。其中，形成隔离柱160的材料优选为光敏胶，光敏胶可以是正性胶或负性胶。其中，光敏胶为正性胶时，可在预成型隔离柱之前，在第一像素限定层130远离基底一侧的表面形成与预成型隔离柱相适应的第一凹槽163，然后通过在第一凹槽163内填充正性胶形成预成型隔离柱。当光敏胶为负性胶时，可直接通过整面涂覆光敏胶后，通过光刻形成预成型隔离柱。

当牺牲层162的材料为ITO和/或IGZO时，采用草酸去除。需要说明的是，虽然第一电极120的材料也为ITO，但第一电极120的ITO经高温退火处理。草酸仅可以腐蚀未经高温退火处理的ITO，无法腐蚀经高温退火处理的ITO，因而，去除牺牲层162时，不影响第一电极120的性能。

当牺牲层162的材料为金属钼或钛时，采用硝酸、醋酸、磷酸的混合液去除。

采用湿法刻蚀图案化牺牲层162，且去除剩余牺牲层162，可有效防止过刻。

本实施例提供的显示面板的制作方法，通过对牺牲层进行图形化，以使牺牲层形成第一凹槽；在第一凹槽中填充隔断层材料，形成预成型隔离柱，可以使得隔离柱的形状固定，避免后续显示面板制作过程中进行烘烤时隔离柱发生形变，进而保证隔离柱对第二电极良好的隔断作用。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (20)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板至少包括第一显示区，所述第一显示区为透明显示区，所述第一显示区执行透光功能，所述第一显示区具有第一子像素，所述第一显示区包括：

第一基底，所述第一基底为透光基底；位于所述第一基底一侧的第一电极，以及位于所述第一电极远离所述第一基底一侧的第一像素限定层，所述第一像素限定层包括第一像素开口，所述第一像素开口内包括第一发光层；位于所述第一发光层远离所述第一基底一侧的第二电极；所述第一子像素包括所述第一电极、所述第一发光层和所述第二电极；

所述第一显示区还包括隔离柱，所述隔离柱设置于所述第一像素限定层远离所述第一基底的一侧，且所述隔离柱用于隔断相邻所述第二电极；所述隔离柱远离所述第一基底一侧的表面在所述第一基底上的正交投影的尺寸大于所述隔离柱靠近所述第一基底一侧的表面在所述第一基底上的正交投影的尺寸，且所述隔离柱远离所述基底一侧的表面具有凹陷结构；

所述凹陷结构呈倒梯形，所述隔离柱包括相对设置的第一侧壁、第二侧壁，以及连接所述第一侧壁和第二侧壁的底部，所述第一侧壁、所述第二侧壁和所述底部厚度一致。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱呈倒梯形，所述凹陷结构呈正梯形、倒梯形或矩形。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一子像素为被动驱动方式发光；各所述第一电极沿第一方向延伸，各所述第二电极沿第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交；所述隔离柱沿所述第二方向延伸，且所述隔离柱设置于相邻的所述第二电极之间。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，沿所述第一方向，不同所述隔离柱与同侧相邻的所述第一像素开口边缘的距离不同。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括封装层，所述封装层设置于所述第二电极和隔断层远离所述第一基底的一侧，所述封装层填充所述凹陷结构。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述封装层包括层叠设置的至少一层有机层和至少一层无机层，所述有机层填充所述凹陷结构。

7.根据权利要求1-6任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括第二显示区，所述第二显示区具有第二子像素，所述第二显示区包括：

第二基底，位于所述第二基底一侧的第三电极，以及位于所述第三电极远离所述第二基底一侧的第二像素限定层，所述第二像素限定层包括第二像素开口，所述第二像素开口内包括第二发光层，所述第二发光层远离所述第二基底的一侧包括第四电极；所述第二子像素包括所述第三电极、所述第四电极以及所述第三电极和所述第四电极之间的第二发光层。

8.根据权利要求7所述的显示面板，所述第二子像素为主动驱动方式发光，所述第三电极为块状结构。

9.根据权利要求7所述的显示面板，所述第三电极为块状结构，所述第四电极为面电极。

10.根据权利要求7所述的显示面板，所述第二显示区完全或部分围绕所述第一显示区。

11.根据权利要求7所述的显示面板，所述第一显示区和所述第二显示区的部分膜层位于同一层，其中，所述第一显示区和所述第二显示区的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：所述第一电极和所述第三电极位于同一层，所述第一像素限定层和所述第二像素限定层位于同一层，所述第一发光层和所述第二发光层位于同一层，所述第二电极和所述第四电极位于同一层。

12.根据权利要求1所述的显示面板，所述透明显示区的透光率大于70％。

13.根据权利要求7所述的显示面板，所述第一电极为透明电极，所述透明电极的材料包括铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂银的铟锡氧化物及掺杂银的铟锌氧化物中的至少一种。

14.根据权利要求7所述的显示面板，所述显示面板还包括至少位于所述第二显示区的偏光片，所述偏光片位于所述第二电极远离所述第二基底的一侧。

15.一种显示装置，其特征在于，包括：

设备本体，具有器件区；

以及权利要求1-14任一项所述的显示面板，所述显示面板覆盖在所述设备本体上；

其中，所述器件区位于所述显示面板的第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区发射或者采集光线的感光器件。

16.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供第一基底，所述第一基底为透光基底；

在所述第一基底一侧形成第一电极；

在所述第一电极的一侧形成第一像素限定层，所述第一像素限定层包括第一像素开口；

在所述第一像素开口内形成第一发光层；在所述第一像素限定层远离所述第一基底的一侧形成预成型隔离柱，所述预成型隔离柱远离所述第一基底一侧表面在所述第一基底上的正交投影的尺寸大于所述预成型隔离柱靠近所述第一基底一侧表面在所述第一基底上的正交投影的尺寸；

图形化所述预成型隔离柱远离所述第一基底一侧的表面，形成远离所述第一基底一侧的表面包括凹陷结构的隔离柱；

蒸镀导电材料层，所述导电材料层由所述隔离柱隔断形成第二电极；

所述凹陷结构呈倒梯形，所述隔离柱包括相对设置的第一侧壁、第二侧壁，以及连接所述第一侧壁和第二侧壁的底部，所述第一侧壁、所述第二侧壁和所述底部厚度一致。

17.根据权利要求16所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一像素限定层远离所述第一基底的一侧形成预成型隔离柱，包括：

在所述第一像素限定层远离所述第一基底的一侧形成牺牲层；

对所述牺牲层进行图形化，以使所述牺牲层形成第一凹槽；

在所述第一凹槽中填充隔断层材料，形成所述预成型隔离柱。

18.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法，在图形化所述预成型隔离柱远离所述第一基底一侧的表面，形成远离所述第一基底一侧的表面包括凹陷结构的隔离柱之后，还包括：

采用湿法刻蚀去除所述牺牲层。

19.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述牺牲层的材料为氧化铟锡或铟镓锌氧化物，湿法刻蚀的刻蚀液包括草酸。

20.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述牺牲层的材料为钼或钛，湿法刻蚀的刻蚀液包括硝酸、醋酸和磷酸的混合液。

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