CN110649177A - 显示面板的制备方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置。显示面板包括显示区域和非显示区域，非显示区域包括开孔区域及隔离区域。制备方法包括：提供衬底；在衬底上形成位于显示区域的至少一个导电层及位于非显示区域的第一隔离结构，第一隔离结构至少位于隔离区域；第一隔离结构的第一金属膜层与第二金属膜层在衬底上的正投影重合，第一隔离结构与至少一个导电层同时形成；在至少一个导电层上形成电极层，对电极层及第一金属膜层同时进行刻蚀，使电极层图案化，第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构，第二金属膜层在衬底上的正投影覆盖第一金属膜层在衬底上的正投影，第一金属膜层的最大宽度小于第二金属膜层；在开孔区域进行开孔。

Description

显示面板的制备方法、显示面板及显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置。

背景技术

随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，一般通过在显示屏上开孔，在开孔区域内设置摄像头、听筒以及红外感应元件等。

但是开孔的设置会使得显示屏的封装效果变差，空气中的水氧容易通过开孔进入到显示屏内部，可能会造成显示屏失效，影响电子设备的使用寿命。

发明内容

根据本申请实施例的第一方面，提供了一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域包括开孔区域及邻接所述显示区域与所述开孔区域的隔离区域，所述制备方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成位于所述显示区域的至少一个导电层及位于所述非显示区域的第一隔离结构，所述第一隔离结构至少位于所述隔离区域，所述第一隔离结构为环形结构，所述显示区域围绕所述第一隔离结构；所述第一隔离结构包括第一金属膜层及位于所述第一金属膜层上的第二金属膜层，所述第一金属膜层与所述第二金属膜层在所述衬底上的正投影重合，所述第一隔离结构与所述至少一个导电层同时形成；

在所述至少一个导电层上形成电极层，同时对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述电极层图案化，且所述第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构，所述第二隔离结构中所述第二金属膜层在所述衬底上的正投影覆盖所述第一金属膜层在所述衬底上的正投影，且所述第一金属膜层的最大宽度小于所述第二金属膜层的宽度；

在所述开孔区域进行开孔。

在一个实施例中，所述显示区域包括像素电路及数据线，所述像素电路包括晶体管，所述至少一个导电层包括所述晶体管的源极和漏极，或者所述至少一个导电层包括所述数据线，所述至少一个导电层包括第一导电膜层、位于所述第一导电膜层上的第二导电膜层及位于所述第二导电膜层上的第三导电膜层；所述第一金属膜层与所述第二导电膜层位于同一层，所述第二金属膜层与所述第三导电膜层位于同一层；

优选的，所述在所述衬底上形成位于所述显示区域的至少一个导电层和位于所述非显示区域的第一隔离结构，包括：

在所述衬底上形成覆盖所述显示区域及所述非显示区域的所述第一金属层、位于所述第一金属层上的所述第二金属层、及位于所述第二金属层上的第三金属层；

对所述第一金属层、所述第二金属层及所述第三金属层进行图案化，所述显示区中未被刻蚀的第一金属层为所述至少一个导电层的第一导电膜层，所述显示区中未被刻蚀的第二金属层为所述至少一个导电层的第二导电膜层，所述显示区中未被刻蚀的第三金属层为所述至少一个导电层的第三导电膜层，所述非显示区域未被刻蚀的第二金属层和第三金属层分别为所述第一隔离结构的第一金属膜层及第二金属膜层；

优选的，所述第一金属层与所述第三金属层的材质为钛，所述第二金属层的材质为铝。

在一个实施例中，所述显示区域包括多个子像素，所述子像素包括阳极块、位于所述阳极块上的有机发光材料及位于所述有机发光材料上的阴极；

优选的，所述对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述电极层图案化，同时所述第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构，包括：

采用湿刻工艺同时对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述电极层图案化得到多个阳极块，同时所述第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构；

优选的，所述第二隔离结构的数量为两个以上，两个以上所述第二隔离结构在所述非显示区域间隔排布。第二隔离结构的数量为两个以上时，更有利于阻挡空气中的水氧通过开孔区域的有机发光材料进入到显示区域中，提高显示面板的使用寿命。

优选的，所述第二隔离结构的所述第一金属膜层在纵向上的截面呈矩形或倒梯形。第一金属膜层在所述显示面板的层叠方向向上的截面呈倒梯形时，更有利于避免在第一金属膜层的侧部形成有机发光材料。

在一个实施例中，所述制备方法还包括：

在所述第二隔离结构的第二金属膜层上形成无机膜层或有机膜层。通过在第二隔离结构的第二金属膜层上形成有机膜层或者无机膜层，由于封装层与无机膜层或者有机膜层的黏附性较大，可提高非显示区域的封装性能。

优选的，所述无机膜层的材质包括氮化硅或者氧化硅；

优选的，所述显示区域还包括平坦化层，所述有机膜层与所述平坦化层在同一工艺步骤中形成。如此设置，有机膜层的形成不会增加制备工序。

在一个实施例中，所述制备方法还包括：

在所述显示区域邻接所述非显示区域的侧部形成凹陷结构。通过在显示区域邻接非显示区域的侧部形成凹陷结构，有机发光材料会在凹陷结构处断开，也即使凹陷结构的壁上未形成有机发光材料，则空气中的水氧无法通过凹陷结构进入到显示区域中，可进一步改善显示面板的使用寿命。

优选的，所述在所述显示区域的侧部形成凹陷结构，包括：

在所述显示区域的邻接所述非显示区域的边缘区域形成叠层结构，所述叠层结构包括第三金属膜层及位于所述第三金属膜层上的第四金属膜层，所述第三金属膜层与所述第四金属膜层的边缘齐平；所述第三金属膜层、所述第四金属膜层与所述至少一个导电层同时形成；

对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀的同时，对所述第三金属膜层的朝向所述非显示区域的一侧进行刻蚀，以使所述第三金属膜层相对于所述第四金属膜层向背离所述非显示区域的方向凹陷。如此，在形成至少一个导电层与电极块的同时形成凹陷结构，则凹陷结构的形成不会增大制备工序。

根据本申请实施例的第二方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域包括开孔区域及邻接所述显示区域与所述开孔区域的隔离区域，所述隔离区域设有第二隔离结构，所述第二隔离结构围绕所述显示区域；

所述显示面板包括位于所述显示区域及所述隔离区域的衬底，所述显示区域设有位于所述衬底上的至少一个导电层及位于所述至少一个导电层上的电极块，所述第二隔离结构包括第一金属膜层及位于所述第一金属膜层上的第二金属膜层，所述第二金属膜层在所述衬底上的正投影覆盖所述第一金属膜层在所述衬底上的正投影，且所述第一金属膜层的最大宽度小于所述第二金属膜层的宽度；所述第二隔离结构在形成所述至少一个导电层及所述电极块的步骤中形成；

所述显示面板还包括位于所述电极块及所述第二隔离结构上的有机发光材料及位于所述有机发光材料上的封装层，所述有机发光材料在所述第二隔离结构处断开，所述封装层至少覆盖所述第一金属膜层的侧部。

在一个实施例中，所述显示区域包括像素电路及数据线，所述像素电路包括晶体管，所述至少一个导电层包括所述晶体管的源极和漏极，或者所述至少一个导电层包括所述数据线；

所述至少一个导电层包括第一导电膜层、位于所述第一导电膜层上的第二导电膜层及位于所述第二导电膜层上的第三导电膜层；所述第一金属膜层与所述第二导电膜层位于同一层，所述第二金属膜层与所述第三导电膜层位于同一层；

优选的，所述第一导电膜层、所述第三导电膜层及所述第二金属膜层的材质为钛，所述第二导电膜层与所述第一金属膜层的材质为铝；

优选的，所述显示区域包括多个子像素，所述子像素包括阳极块、位于所述阳极块上的有机发光材料及位于所述有机发光材料上的阴极；

优选的，所述第二隔离结构的数量为两个以上，两个以上所述第二隔离结构在所述隔离区域间隔排布。第二隔离结构的数量为两个以上时，更有利于阻挡空气中的水氧通过开孔区域的有机发光材料进入到显示区域中，提高显示面板的使用寿命。

优选的，所述第二隔离结构的所述第一金属膜层在纵向上的截面呈矩形或倒梯形。第一金属膜层在所述显示面板的层叠方向上的截面呈倒梯形时，更有利于避免在第一金属膜层的侧部形成有机发光材料。

在一个实施例中，所述显示面板还包括形成于所述第二隔离结构的所述第二金属膜层上方的无机膜层或有机膜层。通过在第二隔离结构的第二金属膜层上形成无机膜层或者有机膜层，由于封装层与无机膜层或者有机膜层的黏附性较大，可提高非显示区域的封装性能。

优选的，所述无机膜层的材质包括氮化硅或者氧化硅；

优选的，所述显示区域还包括平坦化层，所述有机膜层与所述平坦化层在同一工艺步骤中形成。如此在形成有机膜层时不会增加制备工序。

在一个实施例中，所述显示区域邻接所述非显示区域的侧部设有凹陷结构，所述有机发光材料在所述凹陷结构处断开，所述封装层至少覆盖所述凹陷结构的侧壁。通过在显示区域邻接非显示区域的侧部形成凹陷结构，有机发光材料会在凹陷结构处断开，也即使凹陷结构的壁上未形成有机发光材料，则空气中的水氧无法通过凹陷结构进入到显示区域中，可进一步改善显示面板的使用寿命。

根据本申请实施例的第三方面，提供了一种显示装置，包括：

设备本体；

上述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；以及

发射或者采集光线的感光器件，设置在所述开孔区域。

本申请实施例提供的显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，显示面板的隔离区域形成有第二隔离结构，第二隔离结构的第二金属膜层在衬底上的正投影覆盖第一金属膜层在衬底上的正投影，且第一金属膜层的最大宽度小于第二金属膜层的宽度，则蒸镀有机发光材料时第一金属膜层的侧部不会形成有机发光材料，也即是有机发光材料层在第二隔离结构处断开，则空气中的水氧无法通过开孔区域的有机发光材料进入到显示区域中，有助于改善显示面板的使用寿命。第二隔离结构的制备过程包括制备第一隔离结构及刻蚀第一金属膜层的侧部，第一隔离结构与显示区域的至少一个导电层同时形成，第一金属膜层的侧部的刻蚀与显示区域中电极层的刻蚀同时进行，则第二隔离结构的制备不会增加显示面板的制备工序，可避免第二隔离结构的形成导致显示面板的制备工艺变复杂。

附图说明

图1是本申请实施例提供的一种显示面板的俯视图；

图2是本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图；

图3是图1所示的显示基板的第一中间结构的局部剖视图；

图4是图1所示的显示基板的第二中间结构的局部剖视图；

图5是图1所示的显示基板的第三中间结构的局部剖视图；

图6是图1所示的显示基板的第四中间结构的局部剖视图；

图7是图1所示的显示基板的第五中间结构的局部剖视图；

图8是图1所示的显示基板沿AA直线剖开的一种示意图；

图9是图1所示的显示基板沿AA直线剖开的另一种示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置的例子。

正如背景技术中所言，在显示屏上开孔会使得显示屏的封装效果变差，空气中的水氧容易通过开孔进入到显示屏内部，可能会造成显示屏失效，影响电子设备的使用寿命。一般在开孔周围设置隔离结构，显示屏的有机发光材料在隔离结构处断开，从而可阻隔空气中的水氧通过有机发光材料进入到显示屏的显示区，避免空气中的水氧进入到显示屏的显示区而导致显示屏失效，提高显示屏的使用寿命。但是，发明人发现，隔离结构的设置会增加显示屏的制备工序，导致显示屏的制备工艺变得复杂，使得显示屏的制备成本增加。

为解决上述问题，本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，其能够很好的解决上述问题。

下面结合附图，对本申请实施例中的显示面板的制备方法、显示面板及显示装置进行详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施方式中的特征可以相互补充或相互组合。

本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法。参见图1，所述显示面板100包括显示区域10和非显示区域20，所述非显示区域20包括开孔区域201及邻接所述显示区域10与所述开孔区域201的隔离区域202。参见图2，显示面板的制备方法包括如下步骤110至步骤140。

在步骤110中，提供衬底。

在一个实施例中，衬底可以是柔性衬底，柔性衬底的材料PI(Polyimide，聚酰亚胺)。在其他实施例中，衬底可以是刚性衬底，刚性衬底的材料例如可以为玻璃、金属、塑料等。

在步骤120中，在衬底上形成位于显示区域的至少一个导电层及位于非显示区域的第一隔离结构，第一隔离结构至少位于隔离区域，第一隔离结构为环形结构，显示区域围绕第一隔离结构；第一隔离结构包括第一金属膜层及位于第一金属膜层上的第二金属膜层，第一金属膜层与第二金属膜层在衬底上的正投影重合，第一隔离结构与至少一个导电层同时形成。

由于该步骤中非显示区域20中的第一隔离结构与显示区域10的至少一个导电层同时形成，则第一隔离结构的制备不会增加显示面板的制备工序。

在一个实施例中，所述显示区域10设有多个子像素，每一所述子像素包括阳极块、位于所述阳极块上的有机发光材料及位于所述有机发光材料上的阴极。其中，多个子像素的阴极可为连成一片的面电极。

所述显示区域10还可包括用于驱动子像素的多个像素电路，多个像素电路可与多个子像素一一对应，也即是每一像素电路驱动一个子像素。所述像素电路包括晶体管，晶体管包括栅极、源极和漏极。所述显示区域10还可包括数据线，数据线与像素电路电连接，用于为子像素提供数据信号。数据线可位于晶体管的源极和漏极上方。所述至少一个导电层可包括晶体管的源极和漏极，或者所述至少一个导电层可包括数据线。

所述至少一个导电层包括第一导电膜层、位于所述第一导电膜层上的第二导电膜层及位于所述第二导电膜层上的第三导电膜层。所述第一隔离结构的第一金属膜层与所述第二导电膜层位于同一层，所述第二金属膜层与所述第三导电膜层位于同一层。

在一个实施例中，在所述衬底上形成位于所述显示区域的至少一个导电层和位于所述非显示区域的第一隔离结构的步骤，可通过如下步骤121和步骤122实现。

在步骤121中，在所述衬底上形成覆盖所述显示区域及所述非显示区域的所述第一金属层、位于所述第一金属层上的所述第二金属层、及位于所述第二金属层上的第三金属层。

通过步骤121可得到如图3所示的第一中间结构。参见图3，第一金属层101与第二金属层102的下表面直接接触，第二金属层102的上表面与第三金属层103的下表面直接接触。第一金属层101、第二金属层102与第三金属层103位于衬底31之上，且均覆盖显示区域10及非显示区域20。

在一个实施例中，至少一个导电层包括晶体管的源极和漏极，在步骤121之前，显示面板的制备方法还包括：

在衬底31上形成半导体层114，在半导体层114上形成栅极绝缘层32，在栅极绝缘层32上形成电容下极板121和栅极111，在电容下极板121和栅极111上形成电容绝缘层33，在电容绝缘层33上形成电容上极板122，在电容上极板122上形成层间介质层34。之后，形成穿透栅极绝缘层32、电容绝缘层33和层间介质层34的通孔(未图示)。第一金属层101、第二金属层102与第三金属层103形成于层间介质层34上，且第一金属层101、第二金属层102与第三金属层103部分进入栅极绝缘层32、电容绝缘层33和层间介质层34上设置的通孔中。

在步骤122中，对所述第一金属层、所述第二金属层及所述第三金属层进行图案化，所述显示区中未被刻蚀的第一金属层、第二金属层和第三金属层分别为所述至少一个导电层的第一导电膜层、第二导电膜层及第三导电膜层，所述非显示区域未被刻蚀的第二金属层和第三金属层分别为所述第一隔离结构的第一金属膜层及第二金属膜层。

在一个实施例中，可采用干法刻蚀工艺对第一金属层101、第二金属层102和第三金属层103进行刻蚀。

通过步骤122可得到如图4所示的第二中间结构。图4所示的第二中间结构中，晶体管11包括栅极111、源极112、漏极113和半导体层114，至少一个导电层包括晶体管11的源极112和漏极113。显示区域10中，未被刻蚀掉的第一金属层101为源极112和漏极113的第一导电膜层104，未被刻蚀掉的第二金属层102为源极112和漏极113的第二导电膜层105，未被刻蚀掉的第三金属层103为源极112和漏极113的第三导电膜层106。非显示区20中，未被刻蚀掉的第二金属层102为第一隔离结构21的第一金属膜层211，未被刻蚀掉的第三金属层103为第一隔离结构21的第二金属膜层212，第一金属膜层211与第二金属膜层212在衬底31上的正投影重合。非显示区20中未被刻蚀掉的第一金属层101位于第一隔离结构21下方，且非显示区20中第一金属层101未被刻蚀掉的部分与第二金属膜层212在衬底31上的正投影可重合。

在一个实施例中，所述第一隔离结构21的数量为两个以上，两个以上第一隔离结构21在所述非显示区域20间隔排布。图4所示的第二中间结构中，第一隔离结构21的数量为五个，开孔区域201设有两个第一隔离结构21，隔离区域202设有三个第一隔离结构21。其中，两个以上包括两个及大于两个的情况。在其他实施例中，非显示区域20中设置的第一隔离结构21的数量可不同于五个。在一些实施例中，可仅在隔离区域202设有第一隔离结构21。

在其他实施例中，至少一个导电层也可包括数据线，或者也可包括其他导电膜层，或者至少一个导电层包括两层导电层，其中一层导电层与第一隔离结构21的第一金属膜层211位于同一层，另一导电层与第一隔离结构21的第二金属膜层212位于同一层。

在一个实施例中，所述第一金属层101与所述第三金属层103的材质相同，且第一金属层101与第三金属层103的材质可为钛，所述第二金属层102的材质可为铝。当然，在其他实施例中，第一金属层101、第二金属层102与第三金属层103可采用其他材质。

在步骤130中，在至少一个导电层上形成电极层，同时对电极层及第一金属膜层进行刻蚀，以使电极层图案化，且第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构，第二隔离结构中第二金属膜层在衬底上的正投影覆盖第一金属膜层在衬底上的正投影，且第一金属膜层的最大宽度小于第二金属膜层的宽度。

其中，在垂直于显示面板的叠层方向上，第一金属膜层包括相对的两侧，该相对的两侧即为第一金属膜层的侧部。

在至少一个导电层上形成电极层后，得到如图5所示的第三中间结构。如图5所示，电极层14仅覆盖显示区10，未覆盖非显示区20。之后，在对电极层14及第一金属膜层211进行刻蚀，得到图6所示的第四中间结构。图6所示的第四中间结构中，电极层14进行刻蚀后得到多个阳极块141。在形成电极层14之前，显示面板的制备方法还包括：在源极112和漏极113上形成平坦化层13，平坦化层13仅覆盖显示区10，电极层14形成于平坦化层13之上。

在一个实施例中，对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述电极层图案化，同时所述第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构，可通过如下过程实现：

采用湿刻工艺同时对所述电极层14及所述第一金属膜层211进行刻蚀，以使所述电极层14图案化得到多个阳极块141，同时所述第一金属膜层211的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构22。

由于对非显示区20的第一金属膜层211的刻蚀与对显示区10的电极层14的刻蚀在同一工艺步骤中形成，不会增加显示面板的制备工序。

采用湿刻工艺对导电层21及第一金属膜层211进行刻蚀时，可选择合适的蚀刻液，使蚀刻液仅腐蚀电极层14与第一金属膜层211，但不腐蚀第二金属膜层212。

在一个实施例中，所述第二隔离结构22的数量为两个以上，两个以上所述第二隔离结构22在所述非显示区域20间隔排布。图6所示的第四中间结构中，第二隔离结构22的数量为五个，分布在隔离区域202及开孔区域201。其中，两个以上包括两个及大于两个的情况。第二隔离结构22的数量为两个以上时，更有利于阻挡空气中的水氧通过开孔区域的有机发光材料进入到显示区域中，提高显示面板的使用寿命。当然，第二隔离结构22的数量也可不同于五个。由于开孔区域201中的第二隔离结构22最后会被刻蚀掉，在一些实施例中，也可仅在隔离区域202设有第二隔离结构22。

在一个实施例中，所述第二隔离结构22的第一金属膜层211在纵向上的截面呈矩形或倒梯形。图6所示的第四中间结构中，第二隔离结构22的第一金属膜层211在纵向上的截面为矩形。在其他实施例中，第二隔离结构22的第一金属膜层211在纵向上的截面也可为倒梯形，倒梯形指的是沿由上至下的方向，第一金属膜层211在横向上的尺寸逐渐减小。其中，纵向指的是显示面板的层叠方向。

在步骤130之后，参见图7，显示面板的制备方法还包括：在显示区域10形成设有像素开口的像素限定层15、在显示区域10的像素开口内及非显示区域20形成有机发光材料16、在有机发光材料16上形成阴极层17，在阴极层17上方形成覆盖显示区域10与非显示区域20的封装层35。封装层35可以是薄膜封装层，包括交替叠加设置的有机材料及无极材料。

由于第二隔离结构22的第二金属膜层212在衬底31上的正投影覆盖第一金属膜层211在衬底31上的正投影，且第一金属膜层211的最大宽度小于第二金属膜层212的宽度，则蒸镀有机发光材料16时，第二隔离结构22的第一金属膜层211的侧壁上未形成有机发光材料16，也即是有机发光材料16在第二隔离结构22处断开，而封装层35覆盖第一金属膜层211的侧壁。由于有机发光材料16在第二隔离结构22处断开，且封装层35覆盖第二隔离结构22的第一金属膜层211的侧壁，则空气中的水氧无法通过开孔区域201的有机发光材料16进入到显示区域10中，有助于改善显示面板的使用寿命。

在步骤140中，在开孔区域进行开孔。

通过步骤140可得到如图8所示的显示面板。

在一个实施例中，可采用激光的方式进行开孔，将开孔区域的膜层去除。

图1所示的显示面板100中，开孔区域201的形状为圆形。在其他实施例中，开孔区域201还可以为水滴状、矩形、椭圆形等。此外，图1所示的隔离区域202为闭合环，在其他实施例中，隔离区域202还可以紧邻边框区，此时，在其他实施例中，为非闭合环。

在一个实施例中，显示面板的制备方法还可包括：在所述显示区域10邻接非显示区域20侧部形成凹陷结构。参见图9，显示区域10邻接非显示区域20的侧部形成有凹陷结构19，凹陷结构19可为环形。通过在显示区域10邻接非显示区域20的侧部形成凹陷结构19，有机发光材料16会在凹陷结构19处断开，也即使凹陷结构19的壁上未形成有机发光材料16，则空气中的水氧无法通过凹陷结构19进入到显示区域10中，可进一步改善显示面板的使用寿命。

在一个实施例中，在所述显示区域邻接非显示区域的侧部形成凹陷结构，可通过如下步骤160和步骤170实现。

在步骤160中，在所述显示区域的邻接所述非显示区域的边缘区域形成叠层结构，所述叠层结构包括第三金属膜层及位于所述第三金属膜层上的第四金属膜层，所述第三金属膜层与所述第四金属膜层的边缘齐平；所述第三金属膜层、所述第四金属膜层与所述至少一个导电层同时形成。

步骤160与步骤122同时进行。也即是，对第一金属层101、第二金属层102和第三金属层103进行刻蚀的过程中，同时形成至少一个导电层、第一隔离结构21和叠层结构。参见图9，在显示区域10的中间区域形成至少一个导电层，同时在显示区域10的边缘区域形成叠层结构18，叠层结构18包括第三金属膜层181及位于第三金属膜层181上的第四金属膜层182。

在步骤170中，对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀的同时，对所述第三金属膜层的朝向非显示区域的一侧进行刻蚀，以使所述第三金属膜层相对于所述第四金属膜层向背离非显示区域的方向凹陷。

步骤170与步骤130同时进行。也即是，对电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀的同时，对第三金属膜层的朝向非显示区域的一侧进行刻蚀。

在一个实施例中，显示面板的制备方法还可包括如下步骤150：在所述第二隔离结构的第二金属膜层上形成无机膜层或有机膜层。

步骤150可在步骤120之后，且在步骤130之前完成。

参见图8或图9，第二隔离结构22的第二金属膜层212上形成有膜层23，膜层23可以是有机膜层或者无机膜层。通过在第二隔离结构22的第二金属膜层212上形成机膜层或者无机膜层，由于封装层35与无机膜层或者有机膜层的黏附性较大，可提高非显示区域20的封装性能。并且，有机膜层或者无极膜层与第二金属膜层212之间的黏附力可避免第二金属膜层212坍塌，提高第二隔离结构22的稳定性。

在一个实施例中，在第二隔离结构22的第二金属膜层上形成的膜层23为无机膜层，无机膜层的材质包括氮化硅或者氧化硅。

在另一个实施例中，在第二隔离结构22的第二金属膜层上形成的膜层23为有机膜层。有机膜层可与平坦化层13在同一工艺步骤中形成。如此设置，有机膜层的形成不会增加制备工序。

本申请实施例提供的显示面板的制备方法，隔离区域形成有第二隔离结构，第二隔离结构的第二金属膜层在衬底上的正投影覆盖第一金属膜层在衬底上的正投影，且第一金属膜层的最大宽度小于第二金属膜层的宽度，则蒸镀有机发光材料时第一金属膜层的侧部不会形成有机发光材料，也即是有机发光材料层在第二隔离结构处断开，则空气中的水氧无法通过开孔区域的有机发光材料进入到显示区域中，有助于改善显示面板的使用寿命。第二隔离结构的制备过程包括制备第一隔离结构及刻蚀第一金属膜层的侧部，第一隔离结构与显示区域的至少一个导电层同时形成，第一金属膜层的侧部的刻蚀与显示区域中电极层的刻蚀同时进行，则第二隔离结构的制备不会增加显示面板的制备工序，可避免第二隔离结构的形成导致显示面板的制备工艺变复杂。

本申请实施例还提供了一种显示面板。参见图1，所述显示面板包括显示区域10和非显示区域20，所述非显示区域20包括开孔区域201及邻接所述显示区域10与所述开孔区域201的隔离区域202。参见图8及图9，所述隔离区域202设有第二隔离结构22，所述第二隔离结构22围绕所述开孔区域201。

所述显示面板100包括位于所述显示区域10及所述隔离区域202的衬底31，所述显示区域10设有位于所述衬底31上的至少一个导电层及位于所述至少一个导电层上的电极块，所述第二隔离结构22包括第一金属膜层211及位于所述第一金属膜层211上的第二金属膜层212，所述第二金属膜层212在所述衬底31上的正投影覆盖所述第一金属膜层211在所述衬底31上的正投影，且所述第一金属膜层211的最大宽度小于所述第二金属膜层212的宽度；所述第二隔离结构22在形成所述至少一个导电层及所述电极块的步骤中形成。

所述显示面板100还包括位于所述电极块及所述第二隔离结构上的有机发光材料16及位于所述有机发光材料16上的封装层35，所述有机发光材料16在所述第二隔离结构22处断开，所述封装层35至少覆盖所述第一金属膜层211的侧部。

在一个实施例中，封装层35可覆盖显示区域10及隔离区域202。

在一个实施例中，所述显示区域10包括像素电路及数据线，所述像素电路包括晶体管11，所述至少一个导电层包括所述晶体管11的源极112和漏极113，或者所述至少一个导电层包括所述数据线。

所述至少一个导电层包括第一导电膜层104、位于所述第一导电膜层104上的第二导电膜层105及位于所述第二导电膜层105上的第三导电膜层106；所述第一金属膜层211与所述第二导电膜层105位于同一层，所述第二金属膜层212与所述第三导电膜层106位于同一层。

在一个实施例中，所述第一导电膜层104、所述第三导电膜层106及所述第二金属膜层212的材质为钛，所述第二导电膜层105与所述第一金属膜层211的材质为铝。

在一个实施例中，所述显示区域10包括多个子像素，所述子像素包括阳极块141、位于所述阳极块141上的所述有机发光材料16及位于所述有机发光材料16上的阴极17，所述电极块为所述阳极块141。阳极块141可为叠层结构，包括两层氧化铟锡膜层及位于两层氧化铟锡膜层之间的银膜层。

在一个实施例中，所述第二隔离结构22的数量为两个以上，两个以上所述第二隔离结构22在所述隔离区域202间隔排布。其中，两个以上包括两个及大于两个的情况。

在一个实施例中，所述第二隔离结构22的所述第一金属膜层211在纵向上的截面呈矩形或倒梯形。第一金属膜层211在所述显示面板的层叠方向上的截面呈倒梯形时，更有利于避免在第一金属膜层211的侧部形成有机发光材料。

在一个实施例中，所述显示面板100还包括形成于所述第二隔离结构22的所述第二金属膜层212上方的膜层23，膜层23为无机膜层或有机膜层。

在一个实施例中，膜层23为无机膜层，无机膜层的材质包括氮化硅或者氧化硅；

在一个实施例中，膜层23为有机膜层，所述显示区域10还包括平坦化层13，所述有机膜层与所述平坦化层13在同一工艺步骤中形成。

在一个实施例中，所述显示区域10邻接所述非显示区域20的侧部设有凹陷结构19，所述有机发光材料16在所述凹陷结构19处断开，所述封装层35至少覆盖所述凹陷结构35的侧壁。

在一个实施例中，在形成所述至少一个导电层与所述电极块的同时形成所述凹陷结构19。

对于产品实施例而言，由于其基本对应于制备方法的实施例，所以相关细节及有益效果的描述参见制备方法实施例的部分说明即可，不再进行赘述。

本申请实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括设备本体、上述任一实施例所述的显示面板及感光器件。其中，所述器件区位于显示面板的开孔区域，感光器件能够通过开孔区域进行发射或者采集光线。

其中，所述感光器件可包括摄像头和/或光线感应器。

需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。

在本发明中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本发明的其它实施方案。本发明旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域包括开孔区域及邻接所述显示区域与所述开孔区域的隔离区域，其特征在于，所述制备方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成位于所述显示区域的至少一个导电层及位于所述非显示区域的第一隔离结构，所述第一隔离结构至少位于所述隔离区域，所述第一隔离结构为环形结构，所述显示区域围绕所述第一隔离结构；所述第一隔离结构包括第一金属膜层及位于所述第一金属膜层上的第二金属膜层，所述第一金属膜层与所述第二金属膜层在所述衬底上的正投影重合，所述第一隔离结构与所述至少一个导电层同时形成；

在所述至少一个导电层上形成电极层，同时对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述电极层图案化，且所述第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构，所述第二隔离结构中所述第二金属膜层在所述衬底上的正投影覆盖所述第一金属膜层在所述衬底上的正投影，且所述第一金属膜层的最大宽度小于所述第二金属膜层的宽度；

在所述开孔区域进行开孔。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述显示区域包括像素电路及数据线，所述像素电路包括晶体管，所述至少一个导电层包括所述晶体管的源极和漏极，或者所述至少一个导电层包括所述数据线，所述至少一个导电层包括第一导电膜层、位于所述第一导电膜层上的第二导电膜层及位于所述第二导电膜层上的第三导电膜层；所述第一金属膜层与所述第二导电膜层位于同一层，所述第二金属膜层与所述第三导电膜层位于同一层；

优选的，所述在所述衬底上形成位于所述显示区域的至少一个导电层和位于所述非显示区域的第一隔离结构，包括：

在所述衬底上形成覆盖所述显示区域及所述非显示区域的所述第一金属层、位于所述第一金属层上的所述第二金属层、及位于所述第二金属层上的第三金属层；

对所述第一金属层、所述第二金属层及所述第三金属层进行图案化，所述显示区中未被刻蚀的第一金属层为所述至少一个导电层的第一导电膜层，所述显示区中未被刻蚀的二金属层为所述至少一个导电层的第二导电膜层，所述显示区中未被刻蚀的第三金属层为所述至少一个导电层的第三导电膜层，所述非显示区域未被刻蚀的第二金属层和第三金属层分别为所述第一隔离结构的第一金属膜层及第二金属膜层；

优选的，所述第一金属层与所述第三金属层的材质为钛，所述第二金属层的材质为铝。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述显示区域包括多个子像素，所述子像素包括阳极块、位于所述阳极块上的有机发光材料及位于所述有机发光材料上的阴极；

优选的，所述对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述电极层图案化，同时所述第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构，包括：

采用湿刻工艺同时对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述电极层图案化得到多个阳极块，同时所述第一金属膜层的侧部被刻蚀，得到第二隔离结构；

优选的，所述第二隔离结构的数量为两个以上，两个以上所述第二隔离结构在所述非显示区域间隔排布；

优选的，所述第二隔离结构的所述第一金属膜层在所述显示面板的层叠方向上的截面呈矩形或倒梯形。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

在所述第二隔离结构的第二金属膜层上形成无机膜层或有机膜层；

优选的，所述无机膜层的材质包括氮化硅或者氧化硅；

优选的，所述显示区域还包括平坦化层，所述有机膜层与所述平坦化层在同一工艺步骤中形成。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

在所述显示区域邻接所述非显示区域的侧部形成凹陷结构；

优选的，所述在所述显示区域邻接所述非显示区域的侧部形成凹陷结构，包括：

在所述显示区域的邻接所述非显示区域的边缘区域形成叠层结构，所述叠层结构包括第三金属膜层及位于所述第三金属膜层上的第四金属膜层，所述第三金属膜层与所述第四金属膜层的边缘齐平；所述第三金属膜层、所述第四金属膜层与所述至少一个导电层同时形成；

对所述电极层及所述第一金属膜层进行刻蚀的同时，对所述第三金属膜层的朝向所述非显示区域的一侧进行刻蚀，以使所述第三金属膜层相对于所述第四金属膜层向背离所述非显示区域的方向凹陷。

6.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域包括开孔区域及邻接所述显示区域与所述开孔区域的隔离区域，所述隔离区域设有第二隔离结构，所述第二隔离结构围绕所述开孔区域；

所述显示面板包括位于所述显示区域及所述隔离区域的衬底，所述显示区域设有位于所述衬底上的至少一个导电层及位于所述至少一个导电层上的电极块，所述第二隔离结构包括第一金属膜层及位于所述第一金属膜层上的第二金属膜层，所述第二金属膜层在所述衬底上的正投影覆盖所述第一金属膜层在所述衬底上的正投影，且所述第一金属膜层的最大宽度小于所述第二金属膜层的宽度；所述第二隔离结构在形成所述至少一个导电层及所述电极块的步骤中形成；

所述显示面板还包括位于所述电极块及所述第二隔离结构上的有机发光材料及位于所述有机发光材料上的封装层，所述有机发光材料在所述第二隔离结构处断开，所述封装层至少覆盖所述第一金属膜层的侧部。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示区域包括像素电路及数据线，所述像素电路包括晶体管，所述至少一个导电层包括所述晶体管的源极和漏极，或者所述至少一个导电层包括所述数据线；

所述至少一个导电层包括第一导电膜层、位于所述第一导电膜层上的第二导电膜层及位于所述第二导电膜层上的第三导电膜层；所述第一金属膜层与所述第二导电膜层位于同一层，所述第二金属膜层与所述第三导电膜层位于同一层；

优选的，所述第一导电膜层、所述第三导电膜层及所述第二金属膜层的材质为钛，所述第二导电膜层与所述第一金属膜层的材质为铝；

优选的，所述显示区域包括多个子像素，所述子像素包括阳极块、位于所述阳极块上的有机发光材料及位于所述有机发光材料上的阴极；

优选的，所述第二隔离结构的数量为两个以上，两个以上所述第二隔离结构在所述隔离区域间隔排布；

优选的，所述第二隔离结构的所述第一金属膜层在所述显示面板的层叠方向上的截面呈矩形或倒梯形。

8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括形成于所述第二隔离结构的所述第二金属膜层上方的无机膜层或有机膜层；

优选的，所述无机膜层的材质包括氮化硅或者氧化硅；

优选的，所述显示区域还包括平坦化层，所述有机膜层与所述平坦化层在同一工艺步骤中形成。

9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示区域邻接所述非显示区域的侧部设有凹陷结构，所述有机发光材料在所述凹陷结构处断开，所述封装层至少覆盖所述凹陷结构的侧壁。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：

设备本体；

权利要求6至9任一项所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；以及

发射或者采集光线的感光器件，设置在所述开孔区域。

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