CN110199211B - 防污性膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。本发明的防污性膜具备:基材;以及聚合物层,其配置于上述基材的表面上,在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构,在上述防污性膜中,上述聚合物层是聚合性组合物的固化物,上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~90重量%的具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯、5~25重量%的单官能酰胺单体、0.5~10重量%的氟系脱模剂,并且上述多官能丙烯酸酯中的上述环氧乙烷基和上述单官能酰胺单体总计含有40~65重量%。

Description

防污性膜
技术领域
本发明涉及防污性膜。更详细地,涉及具有纳米尺寸的凹凸结构的防污性膜。
背景技术
对于具有防反射性的光学膜,已进行了各种研究(例如,参照专利文献1~6)。特别是,已知具有纳米尺寸的凹凸结构(纳米结构)的光学膜具有优异的防反射性。根据这种凹凸结构,由于折射率从空气层到基材连续地变化,所以能显著地减少反射光。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:特开2015-129947号公报
专利文献2:特开2013-18910号公报
专利文献3:特开2013-39711号公报
专利文献4:特开2013-252689号公报
专利文献5:特许第5573836号公报
专利文献6:特许第5951165号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,在这种光学膜中,虽然具有优异的防反射性,但另一方面,由于其表面的凹凸结构,所以当指纹(皮脂)等污垢附着时,附着的污垢易于扩展,而且,有时难以将进入到凸部之间的污垢擦除。另外,附着的污垢由于其反射率与光学膜的反射率大不相同,因此,易于被看到。因此,已要求在表面具有纳米尺寸的凹凸结构且对污垢的擦除性(例如指纹擦除性)即防污性优异的功能性膜(防污性膜)。
对此,本发明的发明人们进行了研究,发现在构成光学膜的凹凸结构的聚合物层中,通过钻研其构成材料,能实现除了防污性以外各种特性也提高了的防污性膜。具体地,发现作为聚合物层的构成材料,若配合氟系脱模剂,则防污性会提高,通过调整其配合量,能防止高温/高湿的环境下的渗出,可靠性也会提高。另外发现,作为聚合物层的构成材料,若配合单官能酰胺单体,则防污性膜的聚合物层与基材的紧贴性会提高。而且发现,作为聚合物层的构成材料,若配合具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯,则耐擦性会提高。
但是,本发明的发明人们经进一步研究发现,当在擦除了附着于聚合物层(凹凸结构)的表面的指纹后将防污性膜放置在高湿下时,擦除后的指纹的痕迹看上去浮现出来。特别是,在作为聚合物层的构成材料而配合了氟系脱模剂的情况下,由于附着的指纹难以扩展,所以擦除后的指纹的痕迹看上去显著地浮现出来。
如上所示,针对以往的防污性膜,存在提高防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性并且抑制高湿下的指纹的浮现的问题。但是,仍未找到解决上述问题的方案。例如,在上述专利文献1~6中,没有与高湿下的指纹的浮现有关的记载,存在改善的余地。
本发明是鉴于上述现状而完成的,其目的在于提供防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。
用于解决问题的方案
本发明的发明人们针对防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜进行了各种研究,并找到了作为聚合物层的构成材料,按照规定的比例使用具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯、单官能酰胺单体以及氟系脱模剂,将多官能丙烯酸酯中的环氧乙烷基和单官能酰胺单体的总量设为规定的范围。由此,想到能圆满地解决上述问题而完成了本发明。
即,本发明的一个方式可以是一种防污性膜,具备:基材;以及聚合物层,其配置于上述基材的表面上,在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构,上述聚合物层是聚合性组合物的固化物,上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~90重量%的具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯、5~25重量%的单官能酰胺单体、0.5~10重量%的氟系脱模剂,并且上述多官能丙烯酸酯中的上述环氧乙烷基和上述单官能酰胺单体总计含有40~65重量%。
也可以是,上述多官能丙烯酸酯包含:2官能的第一多官能丙烯酸酯,其按每1官能基具有2~7个环氧乙烷基;以及3~6官能的第二多官能丙烯酸酯,其按每1官能基具有1~2个环氧乙烷基,上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~65重量%的上述第一多官能丙烯酸酯、10~70重量%的上述第二多官能丙烯酸酯。
也可以是,上述单官能酰胺单体包含N,N-二甲基丙烯酰胺。
也可以是,上述氟系脱模剂具有全氟聚醚基。
也可以是,十六烷相对于上述聚合物层的表面的接触角是60°以上。
也可以是,上述聚合物层的厚度是5.0μm以上、20.0μm以下。
也可以是,上述多个凸部的平均间距是100nm以上、400nm以下。
也可以是,上述多个凸部的平均高度是50nm以上、600nm以下。
也可以是,上述多个凸部的平均高宽比是0.8以上、1.5以下。
发明效果
根据本发明,能提供防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。
附图说明
图1是表示实施方式的防污性膜的截面示意图。
图2是表示图1中的聚合物层的俯视示意图。
图3是用于说明实施方式的防污性膜的制造方法例的截面示意图。
具体实施方式
以下举出实施方式,并参照附图更具体地说明本发明,但本发明不限于该实施方式。另外,实施方式的各构成在不脱离本发明的宗旨的范围内既可以适当地组合也可以变更。
在本说明书中,“X~Y”是指“X以上、Y以下”。
[实施方式]
下面参照图1和图2说明实施方式的防污性膜。图1是表示实施方式的防污性膜的截面示意图。图2是表示图1中的聚合物层的俯视示意图。
防污性膜1具备基材2和配置于基材2的表面上的聚合物层3。
作为基材2的材料,例如可举出三乙酰纤维素(TAC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)等树脂。基材2除了上述材料以外,也可以适当地包含增塑剂等添加剂。基材2的表面(聚合物层3侧的表面)也可以被实施过易粘接处理,例如,能使用实施了易粘接处理的三乙酰纤维素膜。另外,基材2的表面(聚合物层3侧的表面)也可以被实施过皂化处理,例如能使用实施了皂化处理的三乙酰纤维素膜。在防污性膜1是安装到液晶显示装置等具备偏振板的显示装置的防污性膜的情况下,基材2也可以构成偏振板的一部分。
从确保透明性和加工性的观点来看,优选基材2的厚度是50μm以上、100μm以下。
聚合物层3在表面具有按可见光的波长(780nm)以下的间距(相邻的凸部4的顶点间的距离)P设置多个凸部(突起)4的凹凸结构、即蛾眼结构(蛾子的眼睛状的结构)。因而,防污性膜1能表现出基于蛾眼结构的优异的防反射性(低反射性)。
从使后述的氟系脱模剂中的氟原子以高浓度在聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)上取向的观点来看,优选聚合物层3的厚度T薄。具体地,聚合物层3的厚度T优选是5.0μm以上、20.0μm以下,更优选是8.0μm以上、12.0μm以下。如图1所示,聚合物层3的厚度T是指从基材2侧的表面到凸部4的顶点的距离。
作为凸部4的形状,例如可举出由柱状的下部和半球状的上部构成的形状(吊钟状)、锥体状(锥状、圆锥状)等向顶端变细的形状(锥形形状)。图1中相邻的凸部4的间隙的底边为倾斜的形状,但也可以不倾斜而是水平的形状。
从充分地防止莫尔纹、彩虹状不均等光学现象的发生的观点来看,多个凸部4的平均间距优选是100nm以上、400nm以下,更优选是100nm以上、200nm以下。多个凸部4的平均间距具体地是指用扫描型电子显微镜拍摄到的平面照片的1μm见方的区域内的、所有相邻的凸部的间距的平均值。
从兼顾后述的多个凸部4的优选的平均高宽比的观点来看,多个凸部4的平均高度优选是50nm以上、600nm以下,更优选是100nm以上、300nm以下。多个凸部4的平均高度具体地是指用扫描型电子显微镜拍摄到的截面照片中的连续排列的10个凸部的高度的平均值。不过,在选择10个凸部时,将有发生了缺损或变形的部分(在准备测定用试样时发生了变形的部分等)的凸部除外。
多个凸部4的平均高宽比优选是0.8以上、1.5以下,更优选是1.0以上、1.3以下。在多个凸部4的平均高宽比不到0.8的情况下,无法充分地防止莫尔纹、彩虹状不均等光学现象的发生,有时无法得到优异的防反射性。在多个凸部4的平均高宽比大于1.5的情况下,凹凸结构的加工性下降,有时会发生粘连,或者在形成凹凸结构时的转印状况恶化(后述的模具6有时会堵塞或者缠绕等)。多个凸部4的平均高宽比是指上述的多个凸部4的平均高度与平均间距之比(高度/间距)。
凸部4既可以随机地配置,也可以规则(周期性地)配置。凸部4的配置也可以有周期性,但从不产生由其周期性所致的不必要的衍射光等优点来看,如图2所示,优选凸部4的配置没有周期性(是随机的)。
聚合物层3是聚合性组合物的固化物。作为聚合物层3,例如可举出活性能量射线固化性的聚合性组合物的固化物、热固化性的聚合性组合物的固化物等。在此,活性能量射线是指紫外线、可见光线、红外线、等离子体等。聚合物层3优选是活性能量射线固化性的聚合性组合物的固化物,其中,更优选是紫外线固化性的聚合性组合物的固化物。
聚合性组合物以有效成分换算含有20~90重量%的具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯(以下也称为成分A。)、5~25重量%的单官能酰胺单体(以下也称为成分B。)、0.5~10重量%的氟系脱模剂(以下也称为成分C。),并且多官能丙烯酸酯(成分A)中的环氧乙烷基和单官能酰胺单体(成分B)总计含有40~65重量%。
聚合性组合物的有效成分(成分A~C的有效成分)是指固化后成为聚合物层3的构成成分的部分,将无助于固化反应(聚合反应)的成分(例如溶剂)除外。例如,成分C的有效成分是指在分子内含有氟原子的化合物。
聚合性组合物只要按上述的比例含有成分A~C即可,也可以含有其它成分。
下面说明成分A~C。
<成分A>
根据成分A,聚合物层3的交联密度会提高,被赋予适度的硬度(弹性),因此,耐擦性提高。而且,由于环氧乙烷基的高极性,与基材2的相互作用提高,因此,紧贴性提高。耐擦性被认为与聚合物层3的交联密度和玻璃化转变温度相关,若提高交联密度并且降低玻璃化转变温度,则能显著地提高耐擦性。例如,若聚合性组合物含有具有环氧丙烷基的多官能丙烯酸酯,则与含有具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯的情况相比,玻璃化转变温度会变高。其原因是,分子运动被环氧丙烷基所具有的分支状的-CH3束缚。另外,环氧丙烷基(烃基也同样)与环氧乙烷基相比极性较低,与基材2的相互作用下降,因此,紧贴性下降。因此,在本实施方式中,从耐擦性和紧贴性的观点来看,选择了环氧乙烷基。在此,多官能丙烯酸酯是指每1分子具有2个以上的丙烯酰基的丙烯酸酯。
聚合性组合物中的成分A的含有率以有效成分换算是20~90重量%,优选是25~85重量%,更优选是30~80重量%。在成分A的含有率以有效成分换算不到20重量%的情况下,聚合物层3的弹性不足(玻璃化转变温度变高),因此,耐擦性下降。在成分A的含有率以有效成分换算高于90重量%的情况下,聚合物层3的交联密度变得过低,因此,耐擦性下降。在聚合性组合物含有多种成分A的情况下,多个成分A的含有率的总计以有效成分换算只要是上述范围内即可。
成分A包含:2官能的第一多官能丙烯酸酯,其按每1官能基具有2~7个环氧乙烷基;以及3~6官能的第二多官能丙烯酸酯,其按每1官能基具有1~2个环氧乙烷基,优选聚合性组合物以有效成分换算含有20~65重量%的第一多官能丙烯酸酯、10~70重量%的第二多官能丙烯酸酯。作为成分A,若将第一多官能丙烯酸酯和第二多官能丙烯酸酯组合使用,则紧贴性和耐擦性会进一步提高,能进一步抑制高湿下的指纹的浮现。在此,多官能丙烯酸酯的官能基数是指每1分子的丙烯酰基的个数。另外,每1官能基的环氧乙烷基的个数是指(每1分子的环氧乙烷基的个数)/(每1分子的丙烯酰基的个数)。
在第一多官能丙烯酸酯的含有率以有效成分换算不到20重量%的情况下,有时无法抑制聚合性组合物的固化收缩,紧贴性会下降。在第一多官能丙烯酸酯的含有率以有效成分换算高于65重量%的情况下,有时聚合物层3的交联密度不会提高,硬度变得过低,因此,耐擦性有时难以提高。聚合性组合物中的第一多官能丙烯酸酯的含有率以有效成分换算更优选是25~55重量%,进一步优选是30~45重量%。
在第二多官能丙烯酸酯的含有率以有效成分换算不到10重量%的情况下,有时聚合物层3的交联密度不会提高,硬度变得过低,因此,耐擦性有时难以提高。在第二多官能丙烯酸酯的含有率以有效成分换算高于70重量%的情况下,有时无法抑制聚合性组合物的固化收缩,紧贴性下降。另外,聚合物层3的交联密度有时变得过低(玻璃化转变温度变得过高),耐擦性难以提高。聚合性组合物中的第二多官能丙烯酸酯的含有率以有效成分换算更优选是15~65重量%,进一步优选是20~60重量%。
在第一多官能丙烯酸酯和第二多官能丙烯酸酯中,若环氧乙烷基的个数过少,则聚合物层3的弹性有时会不足,因此耐擦性有时难以提高。另一方面,若环氧乙烷基的个数过多,则交联点间分子量变多,吸湿性有时变得过高,因此,有时难以抑制高湿下的指纹的浮现。
作为成分A,例如可举出聚乙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇三丙烯酸酯、乙氧基化甘油三丙烯酸酯、烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯。作为聚乙二醇二丙烯酸酯的公知例,可举出新中村化学工业公司制造的“NK酯A-200”(官能基数:2、环氧乙烷基的个数:每1官能基为2个、环氧乙烷基的重量比例:0.57)、“NK酯A-400”(官能基数:2、环氧乙烷基的个数:每1官能基为4.5个、环氧乙烷基的重量比例:0.78)、“NK酯A-600”(官能基数:2、环氧乙烷基的个数:每1官能基为7个、环氧乙烷基的重量比例:0.87)等。作为乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯的公知例,可举出新中村化学工业公司制造的“NK酯ATM-35E”(官能基数:4、环氧乙烷基的个数:每1官能基为8.75个、环氧乙烷基的重量比例:0.81)、“NK酯ATM-4E”(官能基数:4、环氧乙烷基的个数:每1官能基为1个、环氧乙烷基的重量比例:0.33)等。作为乙氧基化季戊四醇三丙烯酸酯的公知例,可举出新中村化学工业公司制造的“NK酯A-TMPT-3EO”(官能基数:3、环氧乙烷基的个数:每1官能基为1个、环氧乙烷基的重量比例:0.31)等。作为乙氧基化甘油三丙烯酸酯的公知例,可举出新中村化学工业公司制造的“NK酯A-GLY-3E”(官能基数:3、环氧乙烷基的个数:每1官能基为1个、环氧乙烷基的重量比例:0.34)等。作为烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯的公知例,可举出日本化药公司制造的“KAYARAD(注册商标)DPEA-12”(官能基数:6、环氧乙烷基的个数:每1官能基为2个、环氧乙烷基的重量比例:0.48)等。
<成分B>
根据成分B,成分A、C的相溶性会提高,因此耐擦性提高。而且,会抑制聚合性组合物的固化收缩,与基材2的凝聚力提高,因此,紧贴性提高。成分C有时具有长链结构,与成分A的相溶性低。因此,成分B不仅起到提高与基材2的凝聚力的作用,还起到成分A、C的反应性稀释剂(相溶化剂)的作用。在此,单官能酰胺单体是指具有酰胺基并且每1分子具有1个丙烯酰基的丙烯酸酯。
聚合性组合物中的成分B的含有率以有效成分换算是5~25重量%,优选是7.5~20重量%,更优选是10~15重量%。即,相对于聚合性组合物的、成分B中的酰胺基的含有率是0.5~2.5mmol/g,优选是0.75~2.0mmol/g,更优选是1.0~1.5mmol/g。在成分B的含有率以有效成分换算不到5重量%的情况下,光滑性下降,其结果是,耐擦性下降。另外,无法抑制聚合性组合物的固化收缩,紧贴性下降。在成分B的含有率以有效成分换算高于25重量%的情况下,聚合物层3的交联密度变得过低(玻璃化转变温度变得过高),因此,耐擦性下降。在聚合性组合物含有多种成分B的情况下,多个成分B的含有率的总计以有效成分换算只要是上述范围内即可。
作为成分B,例如可举出N,N-二甲基丙烯酰胺、N-丙烯酰吗啉、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-(2-羟乙基)丙烯酰胺、双丙酮丙烯酰胺、N-正丁氧基甲基丙烯酰胺等。作为N,N-二甲基丙烯酰胺的公知例,可举出KJ CHEMICALS公司制造的“DMAA(注册商标)”等。作为N-丙烯酰吗啉的公知例,可举出KJ CHEMICALS公司制造的“ACMO(注册商标)”等。作为N,N-二乙基丙烯酰胺的公知例,可举出KJCHEMICALS公司制造的“DEAA(注册商标)”等。作为N-(2-羟乙基)丙烯酰胺的公知例,可举出KJ CHEMICALS公司制造的“HEAA(注册商标)”等。作为双丙酮丙烯酰胺的公知例,可举出日本化成公司制造的“DAAM(注册商标)”等。作为N-正丁氧基甲基丙烯酰胺的公知例,可举出MRC Unitech公司制造的“NBMA”等。
优选成分B包含N,N-二甲基丙烯酰胺。根据这种构成,成分B的粘度变低,与成分A、C的相溶性进一步提高。另外,即使基材2是三乙酰纤维素膜,紧贴性也会提高。
<成分C>
根据成分C,氟原子会在聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)取向,聚合物层3的表面自由能量变低,因此,防污性提高。而且,光滑性提高,其结果是,耐擦性提高。在此,氟系脱模剂是指包含在分子内含有氟原子的化合物作为有效成分的脱模剂。
聚合性组合物中的成分C的含有率以有效成分换算是0.5~10重量%,优选是1~5重量%,更优选是1.5~3重量%。在成分C的含有率以有效成分换算不到0.5重量%的情况下,在聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)取向的氟原子的量变得过少,因此,防污性下降。另外,光滑性下降,其结果是,耐擦性下降。在成分C的含有率以有效成分换算高于10重量%的情况下,与成分A、B的相溶性变得过低,氟原子在聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)上不均匀地取向,因此,防污性和耐擦性下降。另外,在高温/高湿的环境下变得易于渗出,光学特性(可靠性)下降。在聚合性组合物含有多种成分C的情况下,多个成分C的含有率的总计以有效成分换算只要是上述范围内即可。
成分C既可以具有全氟聚醚基,也可以具有全氟烷基,但优选具有全氟聚醚基。根据具有全氟聚醚基的脱模剂,与不具有全氟聚醚基的脱模剂(例如具有全氟烷基的脱模剂、硅系脱模剂等)相比,防污性和耐擦性进一步提高。
作为成分C的公知例,可举出索尔维公司制造的“Fomblin(注册商标)MT70”、“FomblinAD1700”、大金工业公司制造的“Optool(注册商标)DAC”、“Optool DAC-HP”等。
在聚合性组合物中,以有效成分换算,成分A中的环氧乙烷基和成分B总计含有40~65重量%,优选含有45~60重量%,更优选含有50~55重量%。在成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算不到40重量%的情况下,紧贴性或者耐擦性下降。在成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算高于65重量%的情况下,吸湿性变得过高,因此无法抑制高湿下的指纹的浮现。
本发明的发明人们认为在高湿下指纹浮现的机理如下。首先,当想要擦除附着于聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)的指纹时,虽然能擦除附着于凸部4附近的指纹,但进入到相邻的凸部4的间隙中的指纹和渗透到聚合物层3的内部的指纹无法被擦除而残存。然后,当将防污性膜1以该状态放置在高湿下时,由于在未残存有指纹的部分与残存有指纹的部分之间吸湿性不同,所以折射率的差变大,其结果是,残存有指纹的部分看上去浮现出来。在此,成分A中的环氧乙烷基和成分B中的酰胺基的极性均高,因此吸湿性高。因此,在构成聚合物层3的聚合性组合物含有成分A和成分B的情况下,高湿下的指纹的浮现变得显著。对此,在本实施方式中,通过将成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计设为规定的范围,从而提高了防污性、紧贴性以及耐擦性,并且抑制了高湿下的指纹的浮现。
聚合性组合物也可以还含有聚合引发剂。由此,聚合性组合物的固化性提高。
作为聚合引发剂,例如可举出光聚合引发剂、热聚合引发剂等,其中,优选光聚合引发剂。光聚合引发剂相对于活性能量射线是活性的,是为了开始使单体聚合的聚合反应而添加的。
作为光聚合引发剂,例如可举出自由基聚合引发剂、阴离子聚合引发剂、阳离子聚合引发剂等。作为这种光聚合引发剂,例如可举出对叔丁基三氯苯乙酮、2,2'-二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等苯乙酮类;二苯甲酮、4,4'-双二甲氨基二苯甲酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等酮类;苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚等安息香醚类;苄基二甲基缩酮、羟基环己基苯基酮等苄基缩酮类;2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等酰基氧化膦类;1-羟基-环己基-苯基-酮等烷基苯酮类等。作为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦的公知例,可举出IGM Resins公司制造的“LUCIRIN(注册商标)TPO”、“IRGACURE(注册商标)TPO”等。作为双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦的公知例,可举出IGM Resins公司制造的“IRGACURE 819”等。作为1-羟基-环己基-苯基-酮的公知例,可举出IGM Resins公司制造的“IRGACURE 184”等。
聚合性组合物也可以还含有溶剂(有效成分以外的成分)。在该情况下,既可以在成分A~C中与有效成分一起含有溶剂,也可以与成分A~C分开地含有溶剂。
作为溶剂,例如可举出醇(碳数为1~10:例如甲醇、乙醇、正或异丙醇、正、仲或叔丁醇、苄醇、辛醇等)、酮(碳数为3~8:例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、二丁基酮、环己酮等)、酯或醚酯(碳数为4~10:例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等)、γ-丁内酯、乙二醇单甲基乙酸酯、丙二醇单甲基乙酸酯、醚(碳数为4~10:例如EG单甲醚(甲基溶纤剂)、EG单***(乙基溶纤剂)、二乙二醇单丁醚(丁基溶纤剂)、丙二醇单甲醚等)、芳香族烃(碳数为6~10:例如苯、甲苯、二甲苯等)、酰胺(碳数为3~10:例如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等)、卤代烃(碳数为1~2:例如二氯甲烷、二氯乙烷等)、石油系溶剂(例如石油醚、石脑油等)等。
从防污性的观点来看,优选十六烷相对于聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)的接触角是60°以上。
防污性膜1的用途若是活用其优异的防污性的用途,则没有特别限定,例如可以是防反射膜等光学膜用途。这种防反射膜通过安装于显示装置的内部或者外部,从而有助于视认性的提高。
防污性膜1的防污性既可以是指能容易地除去附着于聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)的污垢,也可以是指污垢不易附着于聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)。另外,根据防污性膜1,通过蛾眼结构所带来的效果,能得到比具有平坦面等通常的表面的现有的含氟膜高的防污性。
防污性膜1例如能通过以下的制造方法来制造。图3是用于说明实施方式的防污性膜的制造方法例的截面示意图。
(工序1)
如图3的(a)所示,将聚合性组合物5涂敷到基材2的表面上。
作为聚合性组合物5的涂敷方法,例如可举出通过喷涂方式、凹版印刷方式、缝模方式、棒涂方式等进行涂敷的方法。作为聚合性组合物5的涂敷方法,从使膜厚变得均匀并提高生产性的观点来看,优选用凹版印刷方式或者缝模方式进行涂敷的方法。
聚合性组合物5按照上述的比例含有成分A~C。在此,在聚合性组合物5还含有溶剂(有效成分以外的成分)的情况下,也可以在聚合性组合物5的涂敷之后,进行将溶剂除去的加热处理(干燥处理)。优选以溶剂的沸点以上的温度进行加热处理。
(工序2)
如图3的(b)所示,在将聚合性组合物5夹在中间的状态下将基材2按压到模具6。其结果是,凹凸结构被形成于聚合性组合物5的表面(与基材2相反的一侧的表面)。
(工序3)
使在表面具有凹凸结构的聚合性组合物5固化。其结果是,如图3的(c)所示,形成聚合物层3。
作为聚合性组合物5的固化方法,例如可举出基于活性能量射线的照射、加热等的方法。聚合性组合物5的固化优选通过活性能量射线的照射进行,其中,更优选通过紫外线的照射进行。活性能量射线的照射既可以从聚合性组合物5的基材2侧进行,也可以从聚合性组合物5的模具6侧进行。另外,对聚合性组合物5照射活性能量射线的次数既可以是仅1次,也可以是多次。聚合性组合物5的固化(上述工序3)也可以按与向聚合性组合物5形成凹凸结构(上述工序2)相同的定时进行。
(工序4)
如图3的(d)所示,将模具6从聚合物层3剥离。其结果是,完成防污性膜1。
在本制造方法例中,例如若将基材2设为辊状,则能连续并且高效地进行上述工序1~4。
关于上述工序1、2,在本制造方法例中,示出了在将聚合性组合物5涂敷到基材2的表面上后,在将聚合性组合物5夹在中间的状态下将基材2按压到模具6的工序,但也可以是在将聚合性组合物5涂敷到模具6的表面上后,在将聚合性组合物5夹在中间的状态下将基材2按压到模具6的工序。
作为模具6,例如能使用通过下述的方法制作的模具。首先,在支撑基材的表面上通过溅射法使成为模具6的材料的铝成膜。接着,对成膜后的铝层交替地反复进行阳极氧化和蚀刻,由此能制作蛾眼结构的阴模(模具6)。此时,通过调整进行阳极氧化的时间和进行蚀刻的时间,能使模具6的凹凸结构变化。
作为支撑基材的材料,例如可举出:玻璃;不锈钢、镍等金属;聚丙烯、聚甲基戊烯、环状烯烃系高分子(代表性的是作为降冰片烯系树脂等的日本瑞翁公司制造的“ZEONOR(注册商标)”、JSR公司制造的“ARTON(注册商标)”)等聚烯烃系树脂;聚碳酸酯树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素等树脂等。另外,也可以代替在支撑基材的表面上使铝成膜而使用铝制的基材。
作为模具6的形状,例如可举出平板状、辊状等。
优选模具6的表面被实施了脱模处理。由此,能将模具6容易地从聚合物层3剥离。另外,模具6的表面自由能量变低,因此在上述工序2中,在将基材2按压到模具6时,能使成分C中的氟原子均匀地在聚合性组合物5的表面(与基材2相反的一侧的表面)上取向。而且,能防止在使聚合性组合物5固化之前,成分C中的氟原子从聚合性组合物5的表面(与基材2相反的一侧的表面)分离。其结果是,在防污性膜1中,能使成分C中的氟原子在聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)均匀地取向。
作为在模具6的脱模处理中使用的材料,例如可举出氟系材料、硅系材料、磷酸酯系材料等。作为氟系材料的公知例,可举出大金工业公司制造的“Optool DSX”、“OptoolAES4”等。
[实施例和比较例]
以下举出实施例和比较例更具体地说明本发明,但本发明不限于这些例子。
在实施例和比较例中,为了制造防污性膜而使用的材料如下所示。
<基材>
使用富士胶片公司制造的“TAC-TD80U”,其厚度是80μm。
<模具>
使用了通过下述的方法制作的模具。首先,在10cm见方的玻璃基板上通过溅射法使成为模具的材料的铝成膜。成膜后的铝层的厚度是1.0μm。接着,对成膜后的铝层交替地反复进行阳极氧化和蚀刻,由此,形成了设置有多个微小的孔(相邻的孔(凹部)的底点之间的距离为可见光的波长以下)的阳极氧化层。具体地,通过按顺序进行阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻以及阳极氧化(阳极氧化:5次、蚀刻:4次),从而形成多个具有朝向铝层的内部变细的形状(锥形形状)的微小的孔(凹部),其结果是,得到了具有凹凸结构的模具。阳极氧化是使用草酸(浓度:0.03重量%)并在液温5℃、施加电压80V的条件下进行的。进行1次阳极氧化的时间设为25秒。蚀刻是使用磷酸(浓度:1mol/l)并在液温30℃的条件下进行的。进行1次蚀刻的时间设为25分。用扫描型电子显微镜观察了模具,凹部的深度是290nm。此外,在模具的表面通过大金工业公司制造的“Optool AES4”事先实施了脱模处理。
<聚合性组合物>
使用了如表1~8所示的组成的聚合性组合物R1~R22和r1~r13。表1~8中的数值表示各成分的配合量(单位:重量份)。各成分的简称如下所示。
(多官能丙烯酸酯)
·“ATM-35E”
新中村化学工业公司制造的“NK酯ATM-35E”
官能基数:4
环氧乙烷基的个数:每1官能基为8.75个
环氧乙烷基的重量比例:0.81
有效成分:100重量%
·“A-200”
新中村化学工业公司制造的“NK酯A-200”
官能基数:2
环氧乙烷基的个数:每1官能基为2个
环氧乙烷基的重量比例:0.57
有效成分:100重量%
·“A-400”
新中村化学工业公司制造的“NK酯A-400”
官能基数:2
环氧乙烷基的个数:每1官能基为4.5个
环氧乙烷基的重量比例:0.78
有效成分:100重量%
·“A-600”
新中村化学工业公司制造的“NK酯A-600”
官能基数:2
环氧乙烷基的个数:每1官能基为7个
环氧乙烷基的重量比例:0.87
有效成分:100重量%
·“A-TMPT-3EO”
新中村化学工业公司制造的“NK酯A-TMPT-3EO”
官能基数:3
环氧乙烷基的个数:每1官能基为1个
环氧乙烷基的重量比例:0.31
有效成分:100重量%
·“A-GLY-3E”
新中村化学工业公司制造的“NK酯A-GLY-3E”
官能基数:3
环氧乙烷基的个数:每1官能基为1个
环氧乙烷基的重量比例:0.34
有效成分:100重量%
·“ATM-4E”
新中村化学工业公司制造的“NK酯ATM-4E”
官能基数:4
环氧乙烷基的个数:每1官能基为1个
环氧乙烷基的重量比例:0.33
有效成分:100重量%
·“DPEA-12”
日本化药公司制造的“KAYARAD DPEA-12”
官能基数:6
环氧乙烷基的个数:每1官能基为2个
环氧乙烷基的重量比例:0.48
有效成分:100重量%
·“U”
新中村化学工业公司制造的“U-10HA”
环氧乙烷基:不具有
有效成分:100重量%
·“A-DPH”
新中村化学工业公司制造的“NK酯A-DPH”
环氧乙烷基:不具有
有效成分:100重量%
·“A-TMPT”
新中村化学工业公司制造的“NK酯A-TMPT”
环氧乙烷基:不具有
有效成分:100重量%
·“APG-400”
新中村化学工业公司制造的“NK酯APG-400”
环氧乙烷基:不具有
有效成分:100重量%
·“APG-700”
新中村化学工业公司制造的“NK酯APG-700”
环氧乙烷基:不具有
有效成分:100重量%
·“ATM-4PL”
新中村化学工业公司制造的“NK酯ATM-4PL”
环氧乙烷基:不具有
有效成分:100重量%
·“DPCA-60”
日本化药公司制造的“KAYARAD DPCA-60”
环氧乙烷基:不具有
有效成分:100重量%
·“DPCA-120”
日本化药公司制造的“KAYARAD DPCA-120”
环氧乙烷基:不具有
有效成分:100重量%
(单官能酰胺单体)
·“DM”
KJ CHEMICALS公司制造的“DMAA”
有效成分:100重量%
(脱模剂)
·“MT70”
索尔维公司制造的“FomblinMT70”
全氟聚醚基:具有(氟系脱模剂)
有效成分:80重量%
·“BYK”
毕克化学日本公司制造的“BYK(注册商标)-UV3570”
全氟聚醚基:不具有(硅系脱模剂)
有效成分:70重量%
(聚合引发剂)
·“TPO”
IGM Resins公司制造的“LUCIRIN TPO”
有效成分:100重量%
[表1]
Figure BDA0002133283940000191
[表2]
Figure BDA0002133283940000201
[表3]
Figure BDA0002133283940000211
[表4]
Figure BDA0002133283940000221
[表5]
Figure BDA0002133283940000231
[表6]
Figure BDA0002133283940000241
[表7]
Figure BDA0002133283940000251
[表8]
Figure BDA0002133283940000261
将对下述(1)~(4)进行了有效成分换算后的值在表9~16中示出。
(1)成分A~C相对于聚合性组合物的含有率(表中的“成分A的含有率”、“成分B的含有率”以及“成分C的含有率”)
(2)成分A中的环氧乙烷基相对于聚合性组合物的含有率(表中的“EO基的含有率”)
(3)成分B中的酰胺基相对于聚合性组合物的含有率(表中的“酰胺基的含有率”)
(4)成分A中的环氧乙烷基和成分B相对于聚合性组合物的含有率的总计(表中的“EO基和成分B的含有率的总计”)
[表9]
Figure BDA0002133283940000271
[表10]
Figure BDA0002133283940000272
[表11]
Figure BDA0002133283940000281
[表12]
Figure BDA0002133283940000282
[表13]
Figure BDA0002133283940000291
[表14]
Figure BDA0002133283940000292
[表15]
Figure BDA0002133283940000301
[表16]
Figure BDA0002133283940000302
(实施例1)
通过以下的制造方法制造实施例1的防污性膜。
(工序1)
将聚合性组合物R1以带状进行涂敷。聚合性组合物R1的涂敷是按照在基材2的表面上涂敷时(以下也称为规格1。)和在模具6的端部的表面上涂敷时(以下也称为规格2。)这2个规格进行的。之后,将涂敷了聚合性组合物R1的状态的构件(基材2和模具6)放入烘箱,以温度80℃进行1分钟加热处理,使溶剂从聚合性组合物R1挥发。
(工序2)
在将聚合性组合物R1(溶剂挥发后)夹在中间的状态下,将基材2用手压辊按压到模具6。其结果是,凹凸结构被形成于聚合性组合物R1的表面(与基材2相反的一侧的表面)。
(工序3)
从基材2侧对在表面具有凹凸结构的聚合性组合物R1照射紫外线(照射量:1J/cm2)而使其固化。其结果是,形成了聚合物层3。
(工序4)
将模具6从聚合物层3剥离。其结果是,完成了防污性膜1。聚合物层3的厚度T在上述的规格1和规格2这两者中是9.8μm。
防污性膜1的表面规格在上述的规格1和规格2这两者中如下所示。
凸部4的形状:吊钟状
凸部4的平均间距:200nm
凸部4的平均高度:200nm
凸部4的平均高宽比:1.0
防污性膜1的表面规格的评价是使用日立高新技术公司制造的扫描型电子显微镜“S-4700”进行的。此外,在评价时,使用Meiwafosis公司制造的锇涂敷机“Neoc-ST”,在聚合物层3的表面(与基材2相反的一侧的表面)上涂敷了和光纯药工业公司制造的氧化锇VIII(厚度:5nm)。
(实施例2~22和比较例1~13)
除了变更为表17~24所示的组成以外,与实施例1同样地制造了各例的防污性膜。
[评价]
针对各例的防污性膜进行了以下的评价。将结果在表17~24中示出。
<防污性>
作为防污性,针对上述的规格1中的各例的防污性膜评价了疏水性、疏油性以及指纹擦除性。
(疏水性)
对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材相反的一侧的表面)滴下水,测定了刚滴下后的接触角。
(疏油性)
对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材相反的一侧的表面)滴下十六烷,测定了刚滴下后的接触角。
作为接触角,示出了使用协和界面科学公司制造的便携式接触角仪“PCA-1”并用θ/2法(θ/2=arctan(h/r)、θ:接触角、r:液滴的半径、h:液滴的高度)测定出的3个部位的接触角的平均值。在此,第1个部位的测定点选择各例的防污性膜的中央部分,第2个部位和第3个部位的测定点选择离第1个部位的测定点20mm以上并且处于相对于第1个部位的测定点相互点对称的位置的2个点。
(指纹擦除性)
首先,针对各例的防污性膜,将黑丙烯板隔着光学粘合层贴附到基材的与聚合物层相反的一侧的表面。接着,作为设想的指纹物是将伊势久公司制造的人工污染液0.1ml暂时浸泡于旭化成纤维公司制造的“BEMCOT(注册商标)S-2”后,使其附着到戴着橡胶手套的手指。然后,用手指使人工污染液附着到各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材相反的一侧的表面),再过10分钟后,用旭化成纤维公司制造的“BEMCOTS-2”擦拭10个来回,在照度为100lx(荧光灯)的环境下目视观察了人工污染液是否被擦除。判定基准如下所示。
○:人工污染液被完全擦除,看不到擦拭残留物。
△:人工污染液不醒目,但当用荧光灯照射时可见少量擦拭残留物。
×:人工污染液完全未被擦除。
在此,将判定为○或△的情况判断为能允许的水平(指纹擦除性优异)。
<指纹的浮现程度>
将进行了上述的指纹擦除性的评价的各例的防污性膜在温度30℃、湿度85%的环境下放置了12小时。之后,在照度为100lx(荧光灯)的环境下目视观察了设想附着有指纹的人工污染液的浮现程度。判定基准如下所示。
A:无论用荧光灯照射时还是不用荧光灯照射时,都看不到人工污染液的浮现。
B:在用荧光灯照射时看到少量人工污染液的浮现,在不用荧光灯照射时看不到人工污染液的浮现。
C:在用荧光灯照射时看到人工污染液的浮现,在不用荧光灯照射时看不到人工污染液的浮现。
D:在用荧光灯照射时清楚地看到人工污染液的浮现,在不用荧光灯照射时看到少量人工污染液的浮现。
E:无论用荧光灯照射时还是不用荧光灯照射时,都清楚地看到人工污染液的浮现。
在此,将判定为A、B或C的情况判断为能允许的水平(抑制了高湿下的指纹的浮现)。
<紧贴性>
针对上述规格1和规格2这两者中的各例的防污性膜,用以下的方法评价了紧贴性。在此,在规格2中,与规格1相比,氟原子在聚合物层的表面(与基材相反的一侧的表面)上难以以高浓度取向,即氟原子有可能分布于聚合物层的基材侧。因此,设想了规格2与规格1相比紧贴性易于下降。
首先,在温度23℃、湿度50%的环境下对聚合物层的表面(与基材相反的一侧的表面)用切刀按棋盘格状以1mm的间隔切出纵向11个、横向11个切痕,刻出100个正方形状的方格(1mm见方)。然后,在将日东电工公司制造的聚酯粘合胶带“No.31B”压接到方格部分后,将粘合胶带向相对于方格部分的表面为90°的方向以100mm/s的速度进行了剥离。之后,目视观察了基材上的聚合物层的剥离状态。将结果用“X”(单位:个)示出(X是基材上的聚合物层未被剥离的方格的个数)。判定基准如下所示。
(规格1的紧贴性)
A:X=100
B:X=1~99
C:X=0
在此,将判定为A的情况判断为能允许的水平(规格1的紧贴性优异)。
(规格2的紧贴性)
a:X=100
b:X=90~99
c:X=0~89
在此,将判定为a或b的情况判断为能允许的水平(规格2的紧贴性优异)。
基于规格1的紧贴性和规格2的紧贴性的评价结果,用下述的判定基准进行了针对紧贴性的综合评价。
○:规格1的紧贴性是A,规格2的紧贴性是a。
△:规格1的紧贴性是A,规格2的紧贴性是b。
×:规格1的紧贴性是B或C、和/或、规格2的紧贴性是c。
在此,将综合评价是○或△的情况判断为能允许的水平(紧贴性优异)。
<耐擦性>
作为耐擦性,针对上述的规格1的各例的防污性膜评价了耐钢丝绒性。
(耐钢丝绒性)
首先,在向日本钢丝绒公司制造的钢丝绒“#0000”施加了400g的负荷的状态下,用其对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材相反的一侧的表面)进行了擦拭。然后,在照度为100lx(荧光灯)的环境下一边目视观察一边计数对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材相反的一侧的表面)造成的伤痕的个数“N”(单位:个)。此外,在用钢丝绒擦拭时,使用新东科学公司制造的表面性测定仪“HEIDON-14FW”作为试验机,将行程幅度设为30mm,将速度设为100mm/s,将擦拭次数设为10个来回。判定基准如下所示。
◎:N=0
○:N=1~3
△:N=4~10
×:N=11~20
××:N≥21
在此,将判定为◎、○或△的情况判断为能允许的水平(耐钢丝绒性优异)。
<可靠性>
作为可靠性,关于上述的规格1的各例的防污性膜,评价了渗出的产生程度。
(渗出的产生程度)
首先,对各例的防污性膜在温度60℃、湿度95%的环境下进行了放置1000小时的高温/高湿试验。之后,在照度为100lx(荧光灯)的环境下目视观察了各例的防污性膜的聚合物层的白色浑浊程度。目视观察的结果是,针对聚合物层没有发生白色浑浊的防污性膜,判断为没有发生渗出,判定为可靠性好(OK)。而针对聚合物层发生了白色浑浊的防污性膜,判断为发生了渗出,判定为可靠性差(NG)。另一方面,在不易通过目视观察进行判定的情况下,使在高温/高湿试验的前后测定到的入射角为5°的正反射光谱重合,通过两者的光谱有无偏差进行了判定。具体地,对高温/高湿试验前后的光谱的反射率进行比较,将两者没有产生偏差的情况判定为可靠性好,将两者产生了偏差的情况(在高温/高湿试验后整体上反射率增加的情况)判定为可靠性差。此外,入射角为5°的正反射光谱是如下测定的。首先,对各例的防污性膜,在基材的与聚合物层相反的一侧的表面贴附了黑丙烯板。之后,对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材相反的一侧的表面)从极角为5°的方位照射光源的光,使用岛津制作所公司制造的“UV-3100PC”在380~780nm的波长区域内测定了正反射光谱。
[表17]
Figure BDA0002133283940000361
[表18]
Figure BDA0002133283940000362
[表19]
Figure BDA0002133283940000371
[表20]
Figure BDA0002133283940000372
[表21]
Figure BDA0002133283940000381
[表22]
Figure BDA0002133283940000382
[表23]
Figure BDA0002133283940000391
[表24]
Figure BDA0002133283940000392
如表17~21所示,在实施例1~22中,实现了防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。其中,尤其在实施例1、2、3、11中,以良好的平衡实现了耐擦性的提高和高湿下的指纹的浮现的抑制。
另一方面,如表22~24所示,在比较例1~13中,没有实现防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。
在比较例1中,在聚合性组合物r1中,成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算高于65重量%,因此,高湿下的指纹的浮现未被抑制。
在比较例2中,在聚合性组合物r2中,成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算高于65重量%,因此,高湿下的指纹的浮现未被抑制。
在比较例3中,在聚合性组合物r3中,成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算不到40重量%,因此,耐擦性低。
在比较例4中,在聚合性组合物r4中,成分B的含有率以有效成分换算高于25重量%,因此,耐擦性低。
在比较例5中,在聚合性组合物r5中,成分B的含有率以有效成分换算不到5重量%,因此,紧贴性低。
在比较例6中,在聚合性组合物r6中,成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算高于65重量%,因此,高湿下的指纹的浮现未被抑制。
在比较例7中,在聚合性组合物r7中,成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算高于65重量%,因此,高湿下的指纹的浮现未被抑制。
在比较例8中,在聚合性组合物r8中,成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算高于65重量%,因此,高湿下的指纹的浮现未被抑制。
在比较例9中,在聚合性组合物r9中,成分B的含有率以有效成分换算不到5重量%,因此,紧贴性低。
在比较例10中,在聚合性组合物r10中,成分B的含有率以有效成分换算不到5重量%,成分A中的环氧乙烷基和成分B的含有率的总计以有效成分换算不到40重量%,因此,紧贴性和耐擦性低。
在比较例11中,在聚合性组合物r11中,成分C的含有率以有效成分换算高于10重量%,因此,可靠性差。
在比较例12中,在聚合性组合物r12中不含有成分C,因此,防污性和耐擦性低。
在比较例13中,在聚合性组合物r13中不含有成分C,取而代之含有硅系脱模剂,因此,防污性低。
此外,在比较例12、13中,虽然判断为抑制了高湿下的指纹的浮现,但由于防污性低,人工污染液(设想的指纹物)未被擦除而在聚合物层的整个表面扩展,所以认为在聚合物层的表面难以产生折射率不同的区域,在外观上无法判断人工污染液的浮现。
[备注]
本发明的一个方式可以是一种防污性膜,具备:基材;以及聚合物层,其配置于上述基材的表面上,在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构,在上述防污性膜中,上述聚合物层是聚合性组合物的固化物,上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~90重量%的具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯、5~25重量%的单官能酰胺单体、0.5~10重量%的氟系脱模剂,并且,上述多官能丙烯酸酯中的上述环氧乙烷基和上述单官能酰胺单体总计含有40~65重量%。根据该方式,能实现防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。
也可以是,上述多官能丙烯酸酯包含:2官能的第一多官能丙烯酸酯,其按每1官能基具有2~7个环氧乙烷基;以及3~6官能的第二多官能丙烯酸酯,其按每1官能基具有1~2个环氧乙烷基,上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~65重量%的上述第一多官能丙烯酸酯、10~70重量%的上述第二多官能丙烯酸酯。根据这种构成,紧贴性和耐擦性进一步提高,高湿下的指纹的浮现被进一步抑制。
也可以是,上述单官能酰胺单体包含N,N-二甲基丙烯酰胺。根据这种构成,上述单官能酰胺单体的粘度变低,与上述多官能丙烯酸酯和上述氟系脱模剂的相溶性进一步提高。另外,上述基材即使是三乙酰纤维素膜,紧贴性也会提高。
也可以是,上述氟系脱模剂具有全氟聚醚基。根据这种构成,与不具有全氟聚醚基的脱模剂(例如具有全氟烷基的脱模剂、硅系脱模剂等)相比,防污性和耐擦性进一步提高。
也可以是,十六烷相对于上述聚合物层的表面的接触角是60°以上。根据这种构成,防污性更好地提高。
也可以是,上述聚合物层的厚度是5.0μm以上、20.0μm以下。根据这种构成,上述氟系脱模剂中的氟原子在上述聚合物层的表面(与上述基材相反的一侧的表面)以更高浓度取向。
也可以是,上述多个凸部的平均间距是100nm以上、400nm以下。根据这种构成,能充分地防止莫条纹、彩虹状不均等光学现象的发生。
也可以是,上述多个凸部的平均高度是50nm以上、600nm以下。根据这种构成,能兼顾上述多个凸部的优选的平均高宽比。
也可以是,上述多个凸部的平均高宽比是0.8以上、1.5以下。根据这种构成,能充分地防止莫尔纹、彩虹状不均等光学现象的发生,能实现优异的防反射性。而且,能充分地防止上述凹凸结构的加工性的下降所致的、粘连的产生以及在形成上述凹凸结构时的转印状况的恶化。
附图标记说明
1:防污性膜
2:基材
3:聚合物层
4:凸部
5:聚合性组合物
6:模具
P:间距
T:聚合物层的厚度。

Claims (7)

1.一种防污性膜,具备:
基材;以及
聚合物层,其配置于上述基材的表面上,在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构,上述防污性膜的特征在于,
上述聚合物层是聚合性组合物的固化物,
上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~90重量%的具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯、5~25重量%的单官能酰胺单体、0.5~10重量%的氟系脱模剂,并且上述多官能丙烯酸酯中的上述环氧乙烷基和上述单官能酰胺单体总计含有40~65重量%,
上述氟系脱模剂具有全氟聚醚基,
上述多官能丙烯酸酯包含:2官能的第一多官能丙烯酸酯,其按每1官能基具有2~7个环氧乙烷基;以及3~6官能的第二多官能丙烯酸酯,其按每1官能基具有1~2个环氧乙烷基,
上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~65重量%的上述第一多官能丙烯酸酯、10~70重量%的上述第二多官能丙烯酸酯。
2.根据权利要求1所述的防污性膜,
上述单官能酰胺单体包含N,N-二甲基丙烯酰胺。
3.根据权利要求1或2所述的防污性膜,
十六烷相对于上述聚合物层的表面的接触角是60°以上。
4.根据权利要求1或2所述的防污性膜,
上述聚合物层的厚度是5.0μm以上、20.0μm以下。
5.根据权利要求1或2所述的防污性膜,
上述多个凸部的平均间距是100nm以上、400nm以下。
6.根据权利要求1或2所述的防污性膜,
上述多个凸部的平均高度是50nm以上、600nm以下。
7.根据权利要求1或2所述的防污性膜,
上述多个凸部的平均高宽比是0.8以上、1.5以下。
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