CN109701943A - 一种晶片清洗盆 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种晶片清洗盆，该清洗盆包括：钵状主体，所述钵状主体的内部底面中心位置设有凸起结构，所述凸起结构的中部设置第一通孔，所述第一通孔的边缘设置有向上延伸的环形件，所述钵状主体的底部连通有抽气管道；固定模组，所述固定模组的第一端穿过所述第一通孔用来固定晶片，所述固定模组的第一端设置有向下延伸的环形扣；升降模组，所述升降模组的移动端与所述固定模组的第二端固定连接；其中，所述环形扣的直径大于所述环形件的直径，所述升降模组处于下降状态时，所述环形扣罩设在所述环形件上，所述环形扣的下边沿高度小于所述环形件的上边沿高度。本发明的有益效果为提供晶片清洗的固定与废液收集平台。

Description

一种晶片清洗盆

技术领域

本发明属于晶片清洗领域，具体涉及一种晶片清洗盆。

背景技术

晶片有很高的洁净度要求，因此需要对晶片进行清洗。刷片机就是用来完成对晶片的自动清洗工作的装置，刷片机中清洗过程的进行中，会产生废液，废液如果不能及时收集，会重复污染晶片。因此需要废液收集装置，配合晶片的夹持机构。

发明内容

针对现有技术中存在的问题，本发明提供一种晶片清洗盆，本发明能够固定住晶片的同时使得晶片保持自转，并且通过钵状主体完成对晶片清洗时产生的废液进行即时回收。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种晶片清洗盆，该清洗盆包括：

钵状主体，所述钵状主体的内部底面中心位置设有凸起结构，所述凸起结构的中部设置第一通孔，所述第一通孔的边缘设置有向上延伸的环形件，所述钵状主体的底部连通有抽气管道；

固定模组，所述固定模组的第一端穿过所述第一通孔用来固定晶片，所述固定模组的第一端设置有向下延伸的环形扣；

升降模组，所述升降模组的移动端与所述固定模组的第二端固定连接；

其中，

所述环形扣的直径大于所述环形件的直径，所述升降模组处于下降状态时，所述环形扣罩设在所述环形件上，所述环形扣的下边沿高度小于所述环形件的上边沿高度。

所述抽气管道的数量为2个，所述抽气管道对称分布在所述钵状主体的两侧。

所述钵状主体的内部底面高度自中心位置向边沿位置按照预定倾斜角度下降。

所述预定倾斜角度为1-8°。

所述预定倾斜角度为3-5°。

所述钵状主体的侧壁包括在下设置的基座、在上设置的罩体，所述基座为圆柱壳结构，所述罩体与所述基座在连接处构成阶梯互卡结构。

所述基座为PVC材质。

所述罩体为PP材质。

所述固定模组包括：

转轴，所述转轴为圆柱壳结构，所述转轴的侧壁设置有贯穿孔，所述贯穿孔与所述转轴的内腔相连通，所述转轴的底部与电机转子轴连接，使得所述转轴能够绕自轴旋转，所述环形扣固定在所述转轴的顶部；

中间层，所述中间层套设在所述转轴上，所述中间层与所述转轴之间的间隙距离为预定值，所述中间层的两端固定有轴承，所处轴承的内圈与所述转轴紧配合，所述中间层的内侧壁设置有凹入的环形腔，所述环形空腔与所述贯穿孔相连通，所述中间层上开设有第二通孔，所述第二通孔的一端与所述中间层的外部空间连通，所述第二通孔的另一端与所述环形腔相连通；以及外壳，所述外壳套设在所述中间层上，所述外壳上设置有抽气孔，所述抽气孔的一端与所述第二通孔相连通，所述抽气孔的另一端与外部的抽气装置连接；

其中，

所述转轴的顶部放置所述晶片，通过在所述转轴内抽真空固定所述晶片。

与现有技术相比，本发明的有益效果为：

1、通过固定模组完成对晶片的夹持，同时固定模组带动晶片自转，既能辅助清洗，清洗后，也可通过自转甩干晶片表面的清洗液；

2、钵状主体能够及时对清洗过程中产生的废液进行收集，防止废液对晶片表面造成二次污染，从而提高了清洗效率；

3、通过设置内部底面斜坡配合两个抽气管道迅速抽走废液，环形扣扣住环形件的结构，保证清洗液不会进入固定模组的电机设备中，造成故障；

4、通过基座与罩体的分离设计，方便安装、清洁以及维修，此外基座与罩体的阶梯互卡结构既能方便安装，又能实现良好的密封。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的整体结构示意图。

图2为图1中A-A处的剖面示意图。

图3为钵状主体处的局部放大示意图。

图4为固定模组处的剖面示意图。

图5为固定模组中抽气处的局部示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

如图1-5所示，本实施例提供一种晶片清洗盆，该清洗盆包括：

钵状主体1，所述钵状主体1的内部底面中心位置设有凸起结构11，所述凸起结构11的中部设置第一通孔111，所述第一通孔111的边缘设置有向上延伸的环形件112，所述钵状主体1的底部连通有抽气管道14；

固定模组2，所述固定模组2的第一端穿过所述第一通孔111用来固定晶片9，所述固定模组2的第一端设置有向下延伸的环形扣21；

升降模组3，所述升降模组3的移动端与所述固定模组2的第二端固定连接；

其中，

所述环形扣21的直径大于所述环形件112的直径，所述升降模组3处于下降状态时，所述环形扣21罩设在所述环形件112上，所述环形扣的下边沿211高度小于所述环形件的上边沿1121高度。抽气管道在清洗过程中不间断工作。

作为优选，本实施例所述抽气管道14的数量为2个，所述抽气管道14对称分布在所述钵状主体1的两侧。

作为进一步优选，本实施例所述钵状主体1的内部底面高度自中心位置向边沿位置按照预定倾斜角度下降。

作为进一步优选，本实施例所述预定倾斜角度为1-8°。

作为进一步优选，本实施例所述预定倾斜角度为3-5°。

作为进一步优选，本实施例所述钵状主体1的侧壁包括在下设置的基座12、在上设置的罩体13，所述基座12为圆柱壳结构，所述罩体13与所述基座12在连接处构成阶梯互卡结构。

作为进一步优选，本实施例所述基座12为PVC材质。

作为进一步优选，本实施例所述罩体13为PP材质。

作为进一步优选，本实施例所述固定模组2包括：

转轴22，所述转轴22为圆柱壳结构，所述转轴22的侧壁设置有贯穿孔221，所述贯穿孔221与所述转轴22的内腔相连通，所述转轴22的底部与电机23转子轴连接，使得所述转轴22能够绕自轴旋转，所述环形扣21固定在所述转轴22的顶部；

中间层24，所述中间层24套设在所述转轴22上，所述中间层24与所述转轴22之间的间隙距离为预定值，所述中间层24的两端固定有轴承，所处轴承的内圈与所述转轴22紧配合，所述中间层24的内侧壁设置有凹入的环形腔241，所述环形腔241与所述贯穿孔221相连通，所述中间层24上开设有第二通孔242，所述第二通孔242的一端与所述中间层24的外部空间连通，所述第二通孔242的另一端与所述环形腔241相连通；以及

外壳25，所述外壳25套设在所述中间层24上，所述外壳25上设置有抽气孔251，所述抽气孔251的一端与所述第二通孔242相连通，所述抽气孔251的另一端与外部的抽气装置连接；

其中，

所述转轴22的顶部放置所述晶片9，通过在所述转轴22内抽真空固定所述晶片9。

尽管上述实施例已对本发明作出具体描述，但是对于本领域的普通技术人员来说，应该理解为可以在不脱离本发明的精神以及范围之内基于本发明公开的内容进行修改或改进，这些修改和改进都在本发明的精神以及范围之内。

Claims (9)

1.一种晶片清洗盆，其特征在于，该清洗盆包括：

钵状主体（1），所述钵状主体（1）的内部底面中心位置设有凸起结构（11），所述凸起结构（11）的中部设置第一通孔（111），所述第一通孔（111）的边缘设置有向上延伸的环形件（112），所述钵状主体（1）的底部连通有抽气管道（14）；

固定模组（2），所述固定模组（2）的第一端穿过所述第一通孔（111）用来固定晶片（9），所述固定模组（2）的第一端设置有向下延伸的环形扣（21）；

升降模组（3），所述升降模组（3）的移动端与所述固定模组（2）的第二端固定连接；

其中，

所述环形扣（21）的直径大于所述环形件（112）的直径，所述升降模组（3）处于下降状态时，所述环形扣（21）罩设在所述环形件（112）上，所述环形扣的下边沿（211）高度小于所述环形件的上边沿（1121）高度。

2.根据权利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述抽气管道（14）的数量为2个，所述抽气管道（14）对称分布在所述钵状主体（1）的两侧。

3.根据权利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述钵状主体（1）的内部底面高度自中心位置向边沿位置按照预定倾斜角度下降。

4.根据权利要求3所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述预定倾斜角度为1-8°。

5.根据权利要4求所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述预定倾斜角度为3-5°。

6.根据权利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述钵状主体（1）的侧壁包括在下设置的基座（12）、在上设置的罩体（13），所述基座（12）为圆柱壳结构，所述罩体（13）与所述基座（12）在连接处构成阶梯互卡结构。

7.根据权利要求6所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述基座（12）为PVC材质。

8.根据权利要求6所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述罩体（13）为PP材质。

9.根据权利要求1所述的晶片清洗盆，其特征在于，所述固定模组（2）包括：

转轴（22），所述转轴（22）为圆柱壳结构，所述转轴（22）的侧壁设置有贯穿孔（221），所述贯穿孔（221）与所述转轴（22）的内腔相连通，所述转轴（22）的底部与电机（23）转子轴连接，使得所述转轴（22）能够绕自轴旋转，所述环形扣（21）固定在所述转轴（22）的顶部；

中间层（24），所述中间层（24）套设在所述转轴（22）上，所述中间层（24）与所述转轴（22）之间的间隙距离为预定值，所述中间层（24）的两端固定有轴承，所处轴承的内圈与所述转轴（22）紧配合，所述中间层（24）的内侧壁设置有凹入的环形腔（241），所述环形腔（241）与所述贯穿孔（221）相连通，所述中间层（24）上开设有第二通孔（242），所述第二通孔（242）的一端与所述中间层（24）的外部空间连通，所述第二通孔（242）的另一端与所述环形腔（241）相连通；以及

外壳（25），所述外壳（25）套设在所述中间层（24）上，所述外壳（25）上设置有抽气孔（251），所述抽气孔（251）的一端与所述第二通孔（242）相连通，所述抽气孔（251）的另一端与外部的抽气装置连接；

其中，

所述转轴（22）的顶部放置所述晶片（9），通过在所述转轴（22）内抽真空固定所述晶片（9）。