TWM564821U - Wafer cleaning machine capable of splitting liquid and pumping, and wafer cleaning station having the same - Google Patents

Abstract

本創作的晶圓清洗機具有盆體、蓋體、及承載台。盆體具有底壁及環形擋板，環形擋板連接於底壁而自底壁向上延伸。蓋體具有上周壁及環形隔板。環形隔板連接於上周壁的內側面而向內延伸。承載台能升高至高於該環形隔板，或能降低至低於該環形擋板上緣。本創作的晶圓清洗工作站具有如前所述的晶圓清洗機及抽氣箱。承載台高於環形隔板時以異丙醇對晶圓進行清洗，並透過環形隔板導引異丙醇抽取回收，承載台低於環形擋板上緣時透過丙酮對晶圓進行清洗，並透過環形擋板引導異丙醇及丙酮抽取回收，因此所回收的異丙醇及丙酮不會相互摻雜。

Description

能分流液體及抽氣的晶圓清洗機及具有該晶圓清洗機的晶圓清洗工作站

本創作是關於一種晶圓清洗裝置。

在晶圓加工處理的過程中，會於切割下來的晶圓片進行氧化及沉積，然後在晶圓上塗佈光阻材料後進行蝕刻，而蝕刻後再將光阻材料清洗除去而使晶圓保留預定的結構。如此反複多次加工後即能於晶圓片上製造出電晶體及其他電子元件。

在將光阻材料由晶圓上清洗除去的過程中，可能會需要使用多種溶液才能將光阻材料洗淨，例如最常見的是以異丙醇及丙酮先後對晶圓進行沖洗。而為了節約成本及減少物資的浪費，沖洗後的廢液可經過回收處理而再次利用。若所回收的廢液越純，例如只包含異丙醇及光阻材料而不包含丙酮之廢液，將異丙醇與光阻材料分離較為容易，因此越純的廢液越有回收的價值。相較之下，若廢液中同時含有異丙醇及丙酮，由於將異丙醇及丙酮分離的難度較高，因此這種廢液的回收價值非常低。

現有技術中對晶圓沖洗的清洗機中，由於無法確實分隔異丙醇及丙酮的流通路徑，因此廢液往往包含了異丙醇及丙酮兩者，因此無法有效降低清洗的成本。

有鑑於此，提出一種更佳的改善方案，乃為此業界亟待解決的問題。

本創作的主要目的在於，提出一種晶圓清洗機，其能承放一晶圓並對該晶圓噴灑溶液，並能連接二抽液設備及一抽氣設備，且能分別以異丙醇及丙酮對晶圓進行清洗而以不同的抽液設備抽取並回收異丙醇及丙酮，且所回收的異丙醇及丙酮不會相摻雜。

為達上述目的，本創作所提出的晶圓清洗機具有： 一盆體，其具有： 一下周壁； 一底壁，其連接於該下周壁的底緣，並形成有： 一第一環槽，其凹陷形成於該底壁的上側面； 一第一排出口，其位於該第一環槽內並連通該底壁的上下兩側，且能連接其中一該抽液設備； 一第二環槽，其凹陷形成於該底壁的上側面； 一第二排出口，其位於該第二環槽內並連通該底壁的上下兩側，且能連接另一該抽液設備； 至少一抽氣口，其連通該底壁的上下兩側，且能連接該抽氣設備；及 一環形擋板，其連接於該底壁而自該底壁向上延伸，該第一環槽位於該環形擋板外，而該第二環槽及該至少一抽氣口位於該環形擋板內； 其中，該第一環槽及該第二環槽相互環繞； 一蓋體，其選擇性地封閉該盆體的上開口，並具有： 一頂壁； 一上周壁；其連接於該頂壁的外緣，且該上周壁的下緣選擇性地連接該盆體的下周壁的上緣；及 一環形隔板，其連接於該上周壁的內側面，並自該上周壁向內延伸；該環形隔板形成有： 至少一連通口，其連通該環形隔板的上下兩側；該環形隔板上的液體能經該至少一連通口流入該第一環槽； 一開蓋機構，其連接於該蓋體，並能操作該蓋體相對於該盆體移動或轉動； 複數個噴頭，其設置於該蓋體上，並用以對該晶圓噴灑溶液；以及 一承放機構，其穿設於該盆體的該底壁，並具有： 一承載台，其位於該盆體內部，並用以承放該晶圓； 一旋轉組件，其連接於該承載台，並用以轉動該承載台；及 一升降組件，其連接於該承載台及該旋轉組件，並用以升降該承載台及該旋轉組件； 其中，該承載台能升高至高於該環形隔板，或能降低至低於該環形擋板上緣。

為達上述目的，本創作還提出另一晶圓清洗機，其具有： 一盆體，其具有： 一下周壁； 一環形隔板，其連接於該下周壁的內側面，並自該下周壁向內延伸；該環形隔板形成有： 至少一連通口，其連通該環形隔板的上下兩側； 一底壁，其連接於該下周壁的底緣，並形成有： 一第一環槽，其凹陷形成於該底壁的上側面；該環形隔板上的液體能經該至少一連通口流入該第一環槽； 一第一排出口，其位於該第一環槽內並連通該底壁的上下兩側，且能連接其中一該抽液設備； 一第二環槽，其凹陷形成於該底壁的上側面； 一第二排出口，其位於該第二環槽內並連通該底壁的上下兩側，且能連接另一該抽液設備； 至少一抽氣口，其連通該底壁的上下兩側，且能連接該抽氣設備；及 一環形擋板，其連接於該底壁而自該底壁向上延伸，該第一環槽位於該環形擋板外，而該第二環槽及該至少一抽氣口位於該環形擋板內； 其中，該第一環槽及該第二環槽相互環繞； 一蓋體，其選擇性地封閉該盆體的上開口； 一開蓋機構，其連接於該蓋體，並能操作該蓋體相對於該盆體移動或轉動； 複數個噴頭，其設置於該蓋體上，並用以對該晶圓噴灑溶液；以及 一承放機構，其穿設於該盆體的該底壁，並具有： 一承載台，其位於該盆體內部，並用以承放該晶圓； 一旋轉組件，其連接於該承載台，並用以轉動該承載台；及 一升降組件，其連接於該承載台及該旋轉組件，並用以升降該承載台及該旋轉組件； 其中，該承載台能升高至高於該環形隔板，或能降低至低於該環形擋板上緣。

為達上述目的，本創作還提出一晶圓清洗工作站，其具有： 一工作腔室； 一如前所述的晶圓清洗機，其設置於該工作腔室內；以及 一抽氣組件，其設置於該工作腔室內，並連接於該抽氣設備；該抽氣組件具有： 一抽氣箱，其連接於該抽氣設備，該抽氣箱用以抽出該工作腔室內的氣體；以及 一第一連通管，其一端連通於該抽氣箱，另一端連通於該抽氣設備。

因此，本創作的優點在於，晶圓清洗機及具有晶圓清洗機的晶圓清洗工作站中，透過可升降的承載台承放晶圓，且使晶圓能升高至高於環形隔板或低於環形擋板，因此在晶圓高於環形隔板時以異丙醇對晶圓進行清洗，並透過環形隔板將異丙醇導引至第一環槽內而被一抽液設備抽取回收，以及在晶圓低於環形擋板時透過丙酮對晶圓進行清洗，並透過環形擋板將丙酮導引至第二環槽內而被另一抽液設備抽取回收，使異丙醇及丙酮以不同流動路徑被兩個抽液設備抽取回收，因此所回收的異丙醇及丙酮不會相互摻雜。

如前所述之晶圓清洗機中： 自該盆體的該底壁由外而內依序為該該第二環槽該至少一抽氣口； 該盆體更具有一遮罩，其完全遮蔽於該至少一抽氣口的正上方，且部分地遮蔽於該第二環槽的正上方。

如前所述之晶圓清洗機中，該蓋體更具有至少一導引管，各該至少一導引管分別連通該至少一連通口；該至少一導引管向下延伸且管口朝向該第一環槽。

如前所述之晶圓清洗機中，該等噴頭的數量的為三個，其中一該噴頭穿設於該頂壁的中心並朝向正下方，另外二噴頭穿設於該頂壁且與該頂壁的中心的距離相等，並朝向下方且偏斜向中心。

如前所述之晶圓清洗機中，該承放機構的該承載台形成有： 一抽氣孔，其貫穿該承載台的中心，並連接於該抽氣設備； 一網狀槽，其凹陷形成於該承載台的上表面，並連通於該抽氣孔，且該網狀槽與該抽氣孔的連通處低於該承載台的上表面。

如前所述之晶圓清洗工作站中，該抽氣組件具有一連通機構，其具有： 一第一調節板體，其固設於該抽氣箱；該第一調節板體形成有複數個穿孔，藉此連通該抽氣箱的內部與外部；以及 至少一第二調節板體，其可移動地設置於該抽氣箱，並貼靠於該第一調節板體；該第二調節板體形成有複數個穿孔，該第二調節板體的各該穿孔選擇性地正對於該第一調節板體的其中一該穿孔，藉此調整連通該抽氣箱的內部與外部的截面積。

如前所述之晶圓清洗工作站更具有至少一第二連通管，其一端連通於該晶圓清洗機的該至少一抽氣口，另一端連通於該第一連通管；該至少一第二連通管連通於該第一連通管的開口位於該抽氣箱外。

首先請參考圖1至圖3。本創作提出一種晶圓清洗機10及一種具有前述晶圓清洗機10的晶圓清洗工作站1，其能承放一晶圓並對晶圓噴灑溶液，並能連接二抽液設備（圖未繪示）及一抽氣設備（圖未繪示）。

晶圓清洗工作站1具有一晶圓清洗機10、一抽氣組件20、及一第一連通管30，並選擇性地具有至少一第二連通管40。晶圓清洗工作站1還形成一工作腔室A，晶圓清洗機10及抽氣組件20設置於工作腔室A內。

接著請參考圖3及圖4。晶圓清洗機10具有一盆體11、一蓋體12、一開蓋機構13、複數個噴頭14、及一承放機構15。盆體11具有一下周壁111、一底壁112、及一環形擋板113，且選擇性地具有一遮罩114。底壁112的外緣連接於下周壁111的下緣。底壁112具有一第一內環壁且選擇性地具有一第二內環壁，第一內環壁及第二內環壁自該底壁112的上側面向上延伸，藉此形成有一第一環槽115及一第二環槽116，並選擇性地形成有一第三環槽117。從另一個觀點來看，第一環槽115、第二環槽116、及第三環槽117是凹陷形成於底壁112的上側面。

第一內環壁及第二內環壁呈同心相間隔排列，而第一環槽115形成於下周壁111與第一內環壁之間，第二環槽116形成於第一內環壁與第二內環壁之間，第三環槽117形成於第二內環壁內。換言之，第一環槽115、第二環槽116、及第三環槽117也呈同心相間隔排列。本實施例中，自盆體11的底壁112由外而內依序為第一環槽115、第二環槽116、及第三環槽117。於其他實施例中可不以此為限，例如可以不同的排列順序或相對位置關係形成第一環槽115、第二環槽116、及第三環槽117。

環形擋板113連接於底壁112而自底壁112向上延伸，且是相對於底壁112垂直向上延伸再向內延伸。環形擋板113並位於第一環槽115及第二環槽116之間。於本實施例中，環形擋板113即為第一內環壁，但不以此為限。

盆體11的底壁112還形成有一第一排出口1150、一第二排出口1160、及至少一抽氣口1170。第一排出口1150位於第一環槽115內並連通底壁112的上下兩側，且能連接其中一抽液設備。第二排出口1160位於第二環槽116內並連通底壁112的上下兩側，且能連接另一抽液設備。抽氣口1170位於第三環槽117內並連通底壁112的上下兩側，且能連接抽氣設備。本實施例中，可具有兩個抽氣口1170。於其他實施例中，第一排出口1150、第二排出口1160、及抽氣口1170的位置及數量可不以此為限。

遮罩114完全遮蔽於第三環槽117及抽氣口1170的正上方，且部分地遮蔽於第二環槽116的正上方。本實施例中，遮罩114的外周緣向下延伸並伸入第二環槽116內，但不接觸第二環槽116的底面。透過遮罩114，第三環槽117必須透過第二環槽116才能與外界相通，因此當本創作的晶圓清洗機10透過第三環槽117內的抽氣口1170進行抽氣時，外界的空氣會先流入第二環槽116才流入抽氣口1170，以確保抽氣時的抽吸力能作用於第二環槽116。

蓋體12選擇性地封閉盆體11的上開口。換言之，蓋體12可連接於盆體11的下周壁111上緣。蓋體12具有一頂壁121、一上周壁122、及一環形隔板123，並選擇性地具有至少一導引管124。上周壁122的上緣連接於頂壁121的外緣，且上周壁122的下緣選擇性地連接盆體11的下周壁111的上緣。環形隔板123為環形且連接於上周壁122的內側面，並自上周壁122向內延伸，且具體而言是向內並向上延伸。於其他實施例中，環形隔板123可為水平延伸，而環形隔板123的內緣可上向凸起防止環形隔板123上的液體自內緣洩露，且環形隔板123上還可形成有溝槽來引導環形隔板123上的液體流動。

本實施例中，環形隔板123形成有至少一連通口1230，其連通環形隔板123的上下兩側，藉此環形隔板123上的液體能經連通口1230流入第一環槽115。各導引管124分別對應連通一連通口1230，導引管124向下延伸且管口朝向第一環槽115，藉此自連通口1230流出的液體能經導引管124流入第一環槽115。本實施例中，連通口1230及導引管124皆位於第一環槽115的正上方，因此環形隔板123上的液體能直接向下流入第一環槽115。於其他實施例中，連通口1230可形成於環形隔板123的外緣而與上周壁122相鄰，因此自連通口1230流出的液體能沿上周壁122的內側面流入第一環槽115；此實施例中，上周壁122的內側面可形成有凸肋來引導液體的流動。

其他實施例中，蓋體12可不具有環形隔板123，而是將環形隔板123改為設置於盆體11的下周壁111內側面，且類似地，環形隔板123自下周壁111向內延伸。

開蓋機構13連接於蓋體12，並能操作蓋體12相對於盆體11移動或轉動，藉此打開或關閉盆體11。

噴頭14設置於蓋體12上，並用以對晶圓噴灑溶液。本實施例中，噴頭14的數量的為三個，其中一噴頭14穿設於頂壁121的中心並朝向正下方，另外二噴頭14穿設於頂壁121且與頂壁121的中心的距離相等，並朝向下方且偏斜向中心。

接著請參考圖4、圖5、圖7及圖8。承放機構15穿設於盆體11的底壁112，並具有一承載台151、一旋轉組件152、及一升降組件153。承載台151位於盆體11內部，並用以承放晶圓。承載台151形成有一抽氣孔1511及一網狀槽1512。抽氣孔1511貫穿承載台151的中心，並連接於抽氣設備。網狀槽1512凹陷形成於承載台151的上表面，並連通於抽氣孔1511，且網狀槽1512與抽氣孔1511的連通處低於承載台151的上表面。本實施例中，承載台151可為圓形，因此抽氣孔1511貫穿承載台151的圓心，而網狀槽1512包含多個同心環部及多個徑向延伸部，該等同心環部與該等徑向延伸部相互連通。藉此，當晶圓承放於承載台151時，晶圓貼靠於承載台151的上表面並遮蔽網狀槽1512，因此可利用抽氣設備於網狀槽1512內形成負壓，使晶圓被固定於承載台151上。

旋轉組件152連接於承載台151的下側面，並用以轉動承載台151。升降組件153連接於承載台151的下側面，以及連接於旋轉組件152，並用以升降承載台151及旋轉組件152。透過升降組件153，在蓋體12蓋合於盆體11上時，承載台151可升高至承載台151的上表面高於蓋體12的環形隔板123，且可降低至承載台151的上表面位於環形擋板113內（例如低於環形擋板113中斜向內延伸的部分的下緣）；從另一個角度觀之，在蓋體12未蓋合於盆體11上時，承載台151可升高至承載台151的上表面高於環形擋板113斜向內延伸的部分的上緣。

接著請參考圖1、圖2、圖9、及圖10。抽氣組件20連接於抽氣設備，並具有一抽氣箱21，而選擇性地具有一連通機構。抽氣箱21連接於抽氣設備。

連通機構具有至少一第一調節板體22及至少一第二調節板體23。第一調節板體22固設於抽氣箱21，且可位於抽氣箱21朝向晶圓清洗機10的側面。第一調節板體22形成有複數個穿孔24，藉此連通抽氣箱21的內部與外部。本實施例中，第一調節板體22的穿孔24可被劃分為多組，且各組包多個穿孔24。

第二調節板體23可移動地設置於抽氣箱21，並貼靠於第一調節板體22。第二調節板體23形成有複數個穿孔24，第二調節板體23的各穿孔24選擇性地正對於第一調節板體22的其中一穿孔24。本實施例中，第二調節板體23恰可遮蔽第一調節板體22上其中一組的所有穿孔24，或以第二調節板體23的穿孔24正對於第一調節板體22上的該組穿孔24。換言之，本實施例中具有多個第二調節板體23，且第二調節板體23的數量等於第一調節板體22的穿孔24的組數。藉由使第二調節板體23移動至遮蔽第一調節板體22的穿孔24或移動至第二調節板體23的穿孔24正對第一調節板體22上的穿孔24，可調整連通抽氣箱21的內部與外部的截面積。

於其他實施例中，連通機構包含一第一調節板體22及一第二調節板體23，而抽氣組件20可具有一個連通機構或多個連通機構。

第一連通管30的一端連通於抽氣箱21，另一端連通於抽氣設備。第二連通管40的一端連通於晶圓清洗機10的抽氣口1170，另一端連通於第一連通管30，且第二連通管40連通於第一連通管30的開口位於抽氣箱21外。具體而言，本實施例中的第一連通管30連接於抽氣箱21的上側面，而第二連通管40自抽氣箱21的下側面穿入抽氣箱21，並延伸通過抽氣箱21後穿入第一連通管30，因此第二連通管40末端開口位於第一連通管30內而位於抽氣箱21外。相較於將第二連通管40連通於抽氣箱21，而以抽氣設備透過第一連通管30對抽氣箱21抽氣，再透過抽氣箱21對第二連通管40抽氣，本實施例是以抽氣設備透過第一連通管30對第二連通管40抽氣，因此第二連通管40的抽吸力量較大。

接著請參考圖.至圖7。透過上述結構，本創作可用於清洗晶圓。具體而言，首先晶圓清洗機10的蓋體12打開而升降組件153抬升承載台151，然後將一晶圓放置於承載台151上，並以承載台151的抽氣孔1511進行抽氣，使晶圓被吸附於承載台151上而得以固定。接著，蓋上蓋體12並以低速轉動承載台151及其上的晶圓，用以位於蓋體12頂壁121中心的噴頭14對晶圓噴灑異丙醇。由於此時承載台151的上表面以及晶圓的位置高於環形隔板123，因此噴灑於晶圓上的異丙醇會被承載台151及晶圓經低速轉動而甩至環形隔板123上方。環形隔板123上的異丙醇可經由環形隔板123的連通口1230及蓋體12的引導管向下流至第一環槽115，然後再經第一環槽115內的第一排出口1150被抽取至一抽液設備進行回收。

接著，噴頭14停止噴灑異丙醇，然後承載台151再轉動一段時間至承載台151上的異丙醇被甩乾後，承載台151下降至承載台151的上表面及晶圓低於環形擋板113。當晶圓低於環形擋板113，非位於蓋體12頂壁121中心的噴頭14便斜向地對晶圓噴灑丙酮。由於丙酮較易揮發且味道較重，因此在噴灑丙酮時，必須以抽氣設備透過第三環槽117內的抽氣口1170對晶圓清洗機10內部進行抽氣，且可更進一步地以抽氣設備透過位於工作腔室A內的抽氣組件20對晶圓清洗機10的外部空間抽氣，藉此能徹底防止臭氣散發到工作腔室A外。

在噴灑丙酮時，承載台151同樣會以低速轉動，因此丙酮會被甩至環形擋板113上再向下流動進入第二環槽116，而由第二環槽116內的第二排出口1160被抽取至另一抽液設備進行回收。藉此，丙酮的流動路徑與異丙醇的流動路徑是完全隔離的，因此被該二抽液設備所抽取的丙酮及異丙醇不會相互混雜。當清洗完畢，噴頭14停止噴灑丙酮，而承載台151由低速轉動改為高速轉動，以徹底甩除晶圓上殘留的丙酮。由於高速轉動下，丙酮容易化為水霧，因此更需要透過第三環槽117內的抽氣口1170對晶圓清洗機10內部進行抽氣。

綜上所述，本創作的晶圓清洗機10及具有晶圓清洗機10的晶圓清洗工作站1中，透過可升降的承載台151承放晶圓，且使晶圓能升高至高於環形隔板123或低於環形擋板113，因此在晶圓高於環形隔板123時以異丙醇對晶圓進行清洗，並透過環形隔板123將異丙醇導引至第一環槽115內而被一抽液設備抽取回收，以及在晶圓低於環形擋板113時透過丙酮對晶圓進行清洗，並透過環形擋板113將丙酮導引至第二環槽116內而被另一抽液設備抽取回收，使異丙醇及丙酮以不同流動路徑被兩個抽液設備抽取回收，因此所回收的異丙醇及丙酮不會相互摻雜。

1‧‧‧晶圓清洗工作站
10‧‧‧晶圓清洗機
11‧‧‧盆體
111‧‧‧下周壁
112‧‧‧底壁
113‧‧‧環形擋板
114‧‧‧遮罩
115‧‧‧第一環槽
1150‧‧‧第一排出口
116‧‧‧第二環槽
1160‧‧‧第二排出口
117‧‧‧第三環槽
1170‧‧‧抽氣口
12‧‧‧蓋體
121‧‧‧頂壁
122‧‧‧上周壁
123‧‧‧環形隔板
1230‧‧‧連通口
124‧‧‧導引管
13‧‧‧開蓋機構
14‧‧‧噴頭
15‧‧‧承放機構
151‧‧‧承載台
1511‧‧‧抽氣孔
1512‧‧‧網狀槽
152‧‧‧旋轉組件
153‧‧‧升降組件
20‧‧‧抽氣組件
21‧‧‧抽氣箱
22‧‧‧第一調節板體
23‧‧‧第二調節板體
24‧‧‧穿孔
30‧‧‧第一連通管
40‧‧‧第二連通管
A‧‧‧工作腔室

圖1為本創作的晶圓清洗工作站的前視圖。 圖2為本創作的晶圓清洗工作站的側視圖。 圖3為本創作的晶圓清洗工作站的上視圖。 圖4為本創作的晶圓清洗機的側視圖，其中蓋體蓋上且承載台位於低點。 圖5為本創作的晶圓清洗機的側視圖，其中蓋體蓋上且承載台位於高點。 圖6為本創作的晶圓清洗機的側視圖，其中蓋體打開且承載台位於高點。 圖7為本創作的晶圓清洗機的承載台的上視圖。 圖8為本創作的晶圓清洗機的承載台的剖視圖。 圖9及圖10為本創作的晶圓清洗工作站的連通機構的動作示意圖。

Claims (9)

1. 一種晶圓清洗機，其能承放一晶圓並對該晶圓噴灑溶液，並能連接二抽液設備及一抽氣設備；該晶圓清洗機具有： 一盆體，其具有： 一下周壁； 一底壁，其連接於該下周壁的底緣，並形成有： 一第一環槽，其凹陷形成於該底壁的上側面； 一第一排出口，其位於該第一環槽內並連通該底壁的上下兩側，且能連接其中一該抽液設備； 一第二環槽，其凹陷形成於該底壁的上側面； 一第二排出口，其位於該第二環槽內並連通該底壁的上下兩側，且能連接另一該抽液設備； 至少一抽氣口，其連通該底壁的上下兩側，且能連接該抽氣設備；及 一環形擋板，其連接於該底壁而自該底壁向上延伸，該第一環槽位於該環形擋板外，而該第二環槽及該至少一抽氣口位於該環形擋板內； 其中，該第一環槽及該第二環槽相互環繞； 一蓋體，其選擇性地封閉該盆體的上開口，並具有： 一頂壁； 一上周壁；其連接於該頂壁的外緣，且該上周壁的下緣選擇性地連接該盆體的下周壁的上緣；及 一環形隔板，其連接於該上周壁的內側面，並自該上周壁向內延伸；該環形隔板形成有： 至少一連通口，其連通該環形隔板的上下兩側；該環形隔板上的液體能經該至少一連通口流入該第一環槽； 一開蓋機構，其連接於該蓋體，並能操作該蓋體相對於該盆體移動或轉動； 複數個噴頭，其設置於該蓋體上，並用以對該晶圓噴灑溶液；以及 一承放機構，其穿設於該盆體的該底壁，並具有： 一承載台，其位於該盆體內部，並用以承放該晶圓； 一旋轉組件，其連接於該承載台，並用以轉動該承載台；及 一升降組件，其連接於該承載台及該旋轉組件，並用以升降該承載台及該旋轉組件； 其中，該承載台能升高至高於該環形隔板，或能降低至低於該環形擋板上緣。
2. 如請求項1所述之晶圓清洗機，其中： 自該盆體的該底壁由外而內依序為該該第二環槽該至少一抽氣口； 該盆體更具有一遮罩，其完全遮蔽於該至少一抽氣口的正上方，且部分地遮蔽於該第二環槽的正上方。
3. 如請求項1所述之晶圓清洗機，其中，該蓋體更具有至少一導引管，各該至少一導引管分別連通該至少一連通口；該至少一導引管向下延伸且管口朝向該第一環槽。
4. 如請求項1至3中任一項所述之晶圓清洗機，其中，該等噴頭的數量的為三個，其中一該噴頭穿設於該頂壁的中心並朝向正下方，另外二噴頭穿設於該頂壁且與該頂壁的中心的距離相等，並朝向下方且偏斜向中心。
5. 如請求項1至3中任一項所述之晶圓清洗機，其中，該承放機構的該承載台形成有： 一抽氣孔，其貫穿該承載台的中心，並連接於該抽氣設備； 一網狀槽，其凹陷形成於該承載台的上表面，並連通於該抽氣孔，且該網狀槽與該抽氣孔的連通處低於該承載台的上表面。
6. 一種晶圓清洗機，其能承放一晶圓並對該晶圓噴灑溶液，並能連接二抽液設備及一抽氣設備；該晶圓清洗機具有： 一盆體，其具有： 一下周壁； 一環形隔板，其連接於該下周壁的內側面，並自該下周壁向內延伸；該環形隔板形成有： 至少一連通口，其連通該環形隔板的上下兩側； 一底壁，其連接於該下周壁的底緣，並形成有： 一第一環槽，其凹陷形成於該底壁的上側面；該環形隔板上的液體能經該至少一連通口流入該第一環槽； 一第一排出口，其位於該第一環槽內並連通該底壁的上下兩側，且能連接其中一該抽液設備； 一第二環槽，其凹陷形成於該底壁的上側面； 一第二排出口，其位於該第二環槽內並連通該底壁的上下兩側，且能連接另一該抽液設備； 至少一抽氣口，其連通該底壁的上下兩側，且能連接該抽氣設備；及 一環形擋板，其連接於該底壁而自該底壁向上延伸，該第一環槽位於該環形擋板外，而該第二環槽及該至少一抽氣口位於該環形擋板內； 其中，該第一環槽及該第二環槽相互環繞； 一蓋體，其選擇性地封閉該盆體的上開口； 一開蓋機構，其連接於該蓋體，並能操作該蓋體相對於該盆體移動或轉動； 複數個噴頭，其設置於該蓋體上，並用以對該晶圓噴灑溶液；以及 一承放機構，其穿設於該盆體的該底壁，並具有： 一承載台，其位於該盆體內部，並用以承放該晶圓； 一旋轉組件，其連接於該承載台，並用以轉動該承載台；及 一升降組件，其連接於該承載台及該旋轉組件，並用以升降該承載台及該旋轉組件； 其中，該承載台能升高至高於該環形隔板，或能降低至低於該環形擋板上緣。
7. 一種晶圓清洗工作站，其能承放一晶圓並對該晶圓進行清洗，並能連接二抽液設備及一抽氣設備；該晶圓清洗工作站具有： 一工作腔室； 一如請求項1至6中任一項所述的晶圓清洗機，其設置於該工作腔室內；以及 一抽氣組件，其設置於該工作腔室內，並連接於該抽氣設備；該抽氣組件具有： 一抽氣箱，其連接於該抽氣設備，該抽氣箱用以抽出該工作腔室內的氣體；以及 一第一連通管，其一端連通於該抽氣箱，另一端連通於該抽氣設備。
8. 如請求項7所述之晶圓清洗工作站，其中，該抽氣組件具有一連通機構，其具有： 一第一調節板體，其固設於該抽氣箱；該第一調節板體形成有複數個穿孔，藉此連通該抽氣箱的內部與外部；以及 至少一第二調節板體，其可移動地設置於該抽氣箱，並貼靠於該第一調節板體；該第二調節板體形成有複數個穿孔，該第二調節板體的各該穿孔選擇性地正對於該第一調節板體的其中一該穿孔，藉此調整連通該抽氣箱的內部與外部的截面積。
9. 如請求項7或8所述之晶圓清洗工作站，其更具有至少一第二連通管，其一端連通於該晶圓清洗機的該至少一抽氣口，另一端連通於該第一連通管；該至少一第二連通管連通於該第一連通管的開口位於該抽氣箱外。