CN109094278A - 一种釉下印彩陶瓷器皿的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种釉下印彩陶瓷器皿的制备方法。该方法包括如下步骤:(1)将陶瓷胚体在1300℃~1400℃下烧制5~7h,然后取出,在室温下降温至常温;(2)将装饰图案印彩在薄膜上,根据釉下彩图案薄膜的厚度,对胚体表面进行打磨,使得图案饰品的厚度与打磨的厚度一致,然后将图案通过胶水粘贴在打磨位置;(3)在图案表面覆盖一层透明薄膜,然后进行浸釉,通过温度为40~50℃的热风烘干后,于1200~1300℃下烧制5~7h,即得。本发明克服现有带装饰图案日用器皿的弊端,将图案设置于釉层下方,同时能有效放置装饰图案的脱落。
Description
技术领域
本发明属于陶瓷领域,具体涉及一种釉下印彩陶瓷器皿的制备方法。
背景技术
日用陶瓷的产生可以说是因为人们对日常生活的需求而产生的,日常生活中人们接触最多,也是最熟悉的瓷器,如餐具、茶具、咖啡具、酒具、饭具等。而日用陶瓷器皿表面的钻饰图案都是一些花纸粘贴后,烧制而成的。但是对于大片的装饰图案或者是卡通图案,通常都是需要印在陶瓷表面上,经过烧制得到,但是这样容易在清洗的时候脱落,或者是使用时,图案上的某些物质渗出。
发明内容
本发明克服上述缺陷,提供一种釉下印彩陶瓷器皿的制备方法。
本发明技术方案如下。
一种釉下印彩陶瓷器皿的制备方法,包括如下步骤:
(1)将陶瓷胚体在1300℃~1400℃下烧制5~7h,然后取出,在室温下降温至常温;
(2)将装饰图案印彩在薄膜上,根据釉下彩图案薄膜的厚度,对胚体表面进行打磨,使得图案饰品的厚度与打磨的厚度一致,然后将图案通过胶水粘贴在打磨位置;
(3)在图案表面覆盖一层透明薄膜,然后进行浸釉,通过温度为40~50℃的热风烘干后,于1200~1300℃下烧制5~7h,即得。
上述方法中,步骤(2)中,所述薄膜的厚度为0.1~0.5mm。
上述方法中,步骤(3)中,所述透明薄膜的厚度为0.1~0.5mm。
上述方法中,所述浸釉的釉料为长石13份、锂辉石7份、滑石8份、石英石14份、高岭土25份、白刚玉6份、钙钛矿6份、熔块4份和田土8份,经过研磨,与水混合得到。
上述方法中,所述水的添加量满足:水与物料的质量比为2~3:1。
本发明的优势在于:
(1)克服现有带装饰图案日用器皿的弊端,将图案设置于釉层下方,同时能有效放置装饰图案的脱落。
(2)采用涂覆透明薄膜的方式,可以有效防止内部彩印原料渗出。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明走进一步说明。
以下实施例中所用到的釉料制备方法为:取长石13份、锂辉石7份、滑石8份、石英石14份、高岭土25份、白刚玉6份、钙钛矿6份、熔块4份和田土8份公1kg,经过研磨,与2kg水混合得到。
实施例1
(1)将陶瓷胚体在1300℃下烧制7h,然后取出,在室温下降温至常温;
(2)将装饰图案印彩在厚度为0.1mm薄膜上,根据釉下彩图案薄膜的厚度,对胚体表面进行打磨,使得图案饰品的厚度与打磨的厚度一致,然后将图案通过胶水粘贴在打磨位置;
(3)在图案表面覆盖一层透明薄膜(厚度为0.1mm),然后进行浸釉,通过温度为40~50℃的热风烘干后,于1200℃下烧制7h,即得。
实施例2
(1)将陶瓷胚体在1400℃下烧制5h,然后取出,在室温下降温至常温;
(2)将装饰图案印彩在厚度为0.3mm薄膜上,根据釉下彩图案薄膜的厚度,对胚体表面进行打磨,使得图案饰品的厚度与打磨的厚度一致,然后将图案通过胶水粘贴在打磨位置;
(3)在图案表面覆盖一层透明薄膜(厚度为0.1mm),然后进行浸釉,通过温度为50℃的热风烘干后,于1300℃下烧制5h,即得。
实施例3
(1)将陶瓷胚体在1350℃下烧制6h,然后取出,在室温下降温至常温;
(2)将装饰图案印彩在厚度为0.5mm薄膜上,根据釉下彩图案薄膜的厚度,对胚体表面进行打磨,使得图案饰品的厚度与打磨的厚度一致,然后将图案通过胶水粘贴在打磨位置;
(3)在图案表面覆盖一层透明薄膜(厚度为0.1mm),然后进行浸釉,通过温度为40~50℃的热风烘干后,于1250℃下烧制6h,即得。
Claims (5)
1.一种釉下印彩陶瓷器皿的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将陶瓷胚体在1300℃~1400℃下烧制5~7h,然后取出,在室温下降温至常温;
(2)将装饰图案印彩在薄膜上,根据釉下彩图案薄膜的厚度,对胚体表面进行打磨,使得图案饰品的厚度与打磨的厚度一致,然后将图案通过胶水粘贴在打磨位置;
(3)在图案表面覆盖一层透明薄膜,然后进行浸釉,通过温度为40~50℃的热风烘干后,于1200~1300℃下烧制5~7h,即得。
2.根据权利要求1所述釉下印彩陶瓷器皿的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述薄膜的厚度为0.1~0.5mm。
3.根据权利要求1所述釉下印彩陶瓷器皿的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述透明薄膜的厚度为0.1~0.5mm。
4.根据权利要求1所述釉下印彩陶瓷器皿的制备方法,其特征在于,所述浸釉的釉料为长石13份、锂辉石7份、滑石8份、石英石14份、高岭土25份、白刚玉6份、钙钛矿6份、熔块4份和田土8份,经过研磨,与水混合得到。
5.根据权利要求1所述釉下印彩陶瓷器皿的制备方法,其特征在于,所述水的添加量满足:水与物料的质量比为2~3:1。
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2018
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