CN108193190A - 一种真空装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空装置，包括：第一腔室，第一腔室设有第一通道口；第二腔室，第二腔室设有第二通道口，以及分别与第一腔室和第二腔室密封相连的第三腔室，第一通道口和第二通道口分别与第三腔室连通，第三腔室中设有密封门组件；密封门组件包括：能够在第三腔室中升降的升降机构、设置在升降机构上的可密封第一通道口的第一门体以及设置在升降机构上的可密封第二通道口的第二门体，其中：第一门体受控密封第一通道口和/或第二门体同步受控密封第二通道口。实施本发明的真空装置，能够分别对应密封相应的真空腔室，相互不影响腔室的真空状态，能够提高设备的作业效果；结构精简，易于维修和维护。
Description
技术领域
本发明涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种用于显示面板生产制造中的真空装置。
背景技术
现有技术用于传动玻璃基板的真空设备因结构设计不合理，主要存在如下缺陷：
1、密封件安装在通道口两侧的腔体内壁上，对其进行更换时，需要将相应的腔室进行破真空操作，影响整机的作业效果；同时，操作人员需要在腔室内部作业，效率较低；
2、对设有密封门的腔室进行清洁和维修时，需要将相应的腔室同时破真空操作，操作人员需要在设有密封门腔室的狭窄空间内作业，效率低。
3、真空装置断电或断CDA较长时间的情况下，真空泵和升降气缸均无法工作，密封门因自重下落导致腔室通道开启，导致相应腔室破真空，复机效率降低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种真空装置，能够分别对应密封相应的真空腔室，互不影响腔室的真空状态，能够提高设备的作业效果；结构精简，易于维修和维护。
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种真空装置，包括：第一腔室，第一腔室设有第一通道口；第二腔室，第二腔室设有第二通道口，以及分别与第一腔室和第二腔室密封相连的第三腔室，第一通道口和第二通道口分别与第三腔室连通，第三腔室中设有密封门组件；密封门组件包括：能够在第三腔室中升降的升降机构、设置在升降机构上的可密封第一通道口的第一门体以及设置在升降机构上的可密封第二通道口的第二门体，其中：第一门体受控密封第一通道口和/或第二门体同步受控密封第二通道口。
其中，第三腔室和第一腔室之间设有抽真空组件，抽真空组件包括：连接至第一腔室中的第一真空泵；分别与第一真空泵和第三腔室相连的真空管路，真空管路中设有第一气动阀，真空泵和第一气动阀之间设有第二气动阀，第一气动阀和第三腔室之间设有第三气动阀。
其中，第一门体受控密封第一通道口，第一气动阀关闭，第二气动阀和第三气动阀开启，第一真空泵抽真空使第一腔室保持真空状态，第三腔室与外部连通且与第一腔室形成压差。
其中，第二腔室接连第二真空泵，第二真空泵和第二腔室之间设有第四气动阀；第二腔室还接连具有第五气动阀的管路。
其中，第二门体受控密封第二通道口，第五气动阀关闭，第四气动阀开启，第二真空泵抽真空使第二腔室保持真空状态，第三腔室与外部连通且与第二腔室形成压差。
其中，第一门体受控密封第一通道口和第二门体同步受控密封第二通道口；第三气动阀和第五气动阀关闭，第一气动阀、第二气动阀以及第四气动阀开启，第一真空泵和第二真空泵分别抽真空使第一腔室、第二腔室及第三腔室保持真空状态。
其中，保持第五气动阀关闭，将第一气动阀、第二气动阀以及第四气动阀关闭，第三气动阀开启，第一腔室和第二腔室保持真空状态，第三腔室与外部连通且与第一腔室和第二腔室形成压差。
其中，第一门体和第二门体上分别设有密封圈。
其中，升降机构包括：设在第三腔室中的导柱；套接在导柱上的移动衬套，第一门体和第二门体分别设在移动衬套的相对两侧；以及设在第三腔室的外部且与移动衬套相连的气缸，其中：气缸通过移动衬套联动第三腔室内的第一门体和第二门体往复移动。
其中，第一门体和第二门体的形状和与各自相对应的通道口的形状相适配，使能够在移动衬套推动第一门体和第二门体时分别对应密封抵压在与各自相对应的通道口上；第一腔室、第二腔室以及第三腔室中分别设置压力传感器。
实施本发明所提供的真空装置，具有如下有益效果，密封门组件包括：能够在第三腔室中升降的升降机构、设置在升降机构上的可密封第一通道口的第一门体以及设置在升降机构上的可密封第二通道口的第二门体，其中：第一门体受控密封第一通道口和/或第二门体同步受控密封第二通道口，能够分别对应密封相应的真空腔室，相互不影响腔室的真空状态，能够提高设备的作业效果；结构精简，易于维修和维护。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明真空装置实施例一的纵断面结构示意图。
图2是本发明真空装置实施例一的第一运行状态的横断面结构示意图。
图3是本发明真空装置实施例一的第二运行状态的横断面结构示意图。
图4是本发明真空装置实施例一的第三运行状态的横断面结构示意图。
图5是本发明真空装置实施例二的第一作业状态的横断面结构示意图。
图6是本发明真空装置实施例二的第二作业状态的横断面结构示意图。
图7是本发明真空装置实施例二的第三作业状态的横断面结构示意图。
图8是本发明真空装置实施例二的第四作业状态的横断面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参见图1-图4，为本发明真空装置的实施例一。
本实施例中的真空装置主要应用在需要将玻璃基板在不同的真空腔室中进行输运的设备中，例如：本实施例中的玻璃基板由第一腔室1传送至第二腔室2，再由第二腔室2返回至第一腔室1，在此过程中需要保持各自腔室的真空密闭性，从而实现不同的制备进程。
本实施例中的真空装置包括：第一腔室1，第一腔室1设有第一通道口11；第二腔室2，第二腔室2设有第二通道口21，以及分别与第一腔室1和第二腔室2密封相连的第三腔室3，第一通道口11和第二通道口1分别与第三腔室3连通，第三腔室3中设有密封门组件4；密封门组件4包括：能够在第三腔室中升降的升降机构41、设置在升降机构41上的可密封第一通道口11的第一门体42以及设置在升降机构41上的可密封第二通道口21的第二门体43，其中：第一门体42受控密封第一通道口11和/或第二门体43同步受控密封第二通道口21。
本实施例中的第一腔室1、第二腔室2以及第三腔室3分别呈立方状，第一腔室1和第二腔室2的结构设为对称，第三腔室3密封连接在第一腔室1和第二腔室2之间且其体积略小于第一腔室1，
第一通道口11和第二通道口21设置的位置相对且大小相同，呈矩形。也就是说，当第三腔室3中的密封门组件4没有实施密封功能时，第一腔室1和第三腔室3 之间通过第一通道口11，第三腔室3和第二腔室2之间通过第二通道口21彼此互通，所设置第一通道口11和第二通道口21的另一作用是传输玻璃基板。
进一步的，密封门组件4包括能够在第三腔室3中升降的升降机构41、设置在升降机构41上的可密封第一通道口11的第一门体42以及设置在升降机构41上的可密封第二通道口21的第二门体43。
升降机构41包括：设在第三腔室3中的导柱411；套接在导柱411上的能够沿导柱411进行上下移动的移动衬套412，第一门体42和第二门体43分别设在移动衬套412的相对两侧，第一门体42和第二门体43能够分别受控进行相对于移动衬套412的推出或收缩的运动，如此实现第一门体42密封抵压在第一通道口11上，第二门体43密封抵压在第二通道口21上的作业；以及设在第三腔室3的外部且与移动衬套412相连的气缸413，其中：气缸413通过移动衬套412联动第三腔室3内的第一门体42和第二门体43往复移动。
其中：第一门体42和第二门体43的形状和与各自相对应的通道口的形状相适配，例如：本实施例中的第一门体42为尺寸略大于第一通道口11截面且具有一定厚度的矩形板。通过该结构设计，使在气缸413上下移动过程中，能够通过推动移动衬套412从而联动其上的第一门体42密封抵压在第一通道口11上，第二门体43密封抵压在第二通道口21上。
优选的，第一门体42和第二门体43上分别设有密封圈421，431。将截面为圆形的密封圈421，431设置在门体上的作用是：能够保持直接在第三腔室3将其取下进行更换，也便于在真空装置的第一腔室1或第二腔室2不破真空不影响作业效率的基础上，完成密封圈421，431维修、维护及更换。
本实施例中真空装置的升降机构41在具体实施时，当玻璃基板由第一腔室1传输至第二腔室2，气缸413推动移动衬套412上升，当第一门体42和第二门体43上升至与第一通道口11和第二通道口21的水平位置齐平时，第一门体42或第二门体43分别受控相对于移动衬套412水平推出，第一门体42密封抵压在第一通道口11上密封第一腔室1后锁紧，第二门体43密封抵压在第二通道口21上密封第二腔室2后锁紧。玻璃基板完成相应的制成后，升降机构41按照上述相逆的过程实现收缩，玻璃基板由第二腔室2传输至第一腔室1。
上述结构的真空装置能够分别或同时实现第一腔室1和第二腔室2的密封，作业时不影响真空状态，提升设备作业效率。
进一步的，如图5所示，为本发明真空装置实施例二的第一作业状态的横断面结构示意图。
本实施例中第三腔室3和第一腔室1之间设有抽真空组件5，抽真空组件5包括：连接至第一腔室1中的第一真空泵51；分别与第一真空泵51和第三腔室3相连的真空管路52，真空管路52中设有第一气动阀V1，第一真空泵51和第一气动阀V1之间设有第二气动阀V2，第一气动阀V1和第三腔室3之间设有第三气动阀V3。
第二腔室2接连第二真空泵61，第二真空泵61和第二腔室2之间设有第四气动阀V4；第二腔室2还接连具有第五气动阀V5的管路62。
实施时，当第一门体42受控密封第一通道口11，第一气动阀V1关闭，第二气动阀V2和第三气动阀V3开启，第一真空泵51抽真空使第一腔室1保持真空状态，第三腔室3与外部连通且与第一腔室1形成一定的压差，防止因升降装置的自重导致第一腔室1破真空。
进一步的，如图6所示，为本发明真空装置实施例二的第二作业状态的横断面结构示意图。
实施时，第二门体43受控密封第二通道口21，第五气动阀V5关闭，第四气动阀V4开启，第二真空泵61抽真空使第二腔室2保持真空状态，第三腔室3与外部连通且与第二腔室2形成一定的压差，防止因升降装置的自重导致第二腔室2破真空。
进一步的，如图7所示，为本发明真空装置实施例二的第三作业状态的横断面结构示意图。
实施时，第一门体42受控密封第一通道口11和第二门体43同步受控密封第二通道口21；第三气动阀V3和第五气动阀V5关闭，第一气动阀V1、第二气动阀V2以及第四气动阀V4开启，第一真空泵51和第二真空泵61分别抽真空使第一腔室1、第二腔室2及第三腔室3保持真空状态，使升降装置在动作时腔体间不存在较大的压差，不影响动作。
进一步的，如图8所示，为本发明真空装置实施例二的第四作业状态的横断面结构示意图。
实施时，保持第五气动阀V5关闭，将第一气动阀V1、第二气动阀V2以及第四气动阀V4关闭，第三气动阀V3开启，第一腔室1和第二腔室2保持真空状态，第三腔室3与外部连通且与第一腔室1和第二腔室2形成压差，防止因升降装置的自重导致第一腔室1和第二腔室2破真空。
优选的，第一腔室1和第二腔室2中分别设置压力传感器7，作用是侦测真空状况。此外，上述气动阀为电磁阀，保证阀体动作时腔体间不会产生过大的压差。
实施本发明所提供的真空装置，具有如下有益效果：密封门组件包括：能够在第三腔室中升降的升降机构、设置在升降机构上的可密封第一通道口的第一门体以及设置在升降机构上的可密封第二通道口的第二门体，其中：第一门体受控密封第一通道口和/或第二门体同步受控密封第二通道口，能够分别对应密封相应的真空腔室，相互不影响腔室的真空状态，能够提高设备的作业效果；结构精简，易于维修和维护。
Claims (10)
1.一种真空装置，其特征在于，包括：
第一腔室，所述第一腔室设有第一通道口；
第二腔室，所述第二腔室设有第二通道口，以及分别与所述第一腔室和所述第二腔室密封相连的第三腔室，所述第一通道口和所述第二通道口分别与所述第三腔室连通，所述第三腔室中设有密封门组件；
所述密封门组件包括：能够在所述第三腔室中升降的升降机构、设置在所述升降机构上的可密封所述第一通道口的第一门体以及设置在所述升降机构上的可密封所述第二通道口的第二门体，其中：
所述第一门体受控密封所述第一通道口和/或所述第二门体同步受控密封所述第二通道口。
2.如权利要求1所述的真空装置，其特征在于，所述第三腔室和所述第一腔室之间设有抽真空组件，所述抽真空组件包括：
连接至所述第一腔室中的第一真空泵；
分别与所述第一真空泵和所述第三腔室相连的真空管路，所述真空管路中设有第一气动阀，所述第一真空泵和所述第一气动阀之间设有第二气动阀，所述第一气动阀和第三腔室之间设有第三气动阀。
3.如权利要求2所述的真空装置，其特征在于，所述第一门体受控密封所述第一通道口，所述第一气动阀关闭，所述第二气动阀和所述第三气动阀开启，所述第一真空泵抽真空使所述第一腔室保持真空状态，所述第三腔室与外部连通且且与第一腔室形成压差。
4.如权利要求2或3任一项所述的真空装置，其特征在于，所述第二腔室接连第二真空泵，所述第二真空泵和所述第二腔室之间设有第四气动阀；
所述第二腔室还接连具有第五气动阀的管路。
5.如权利要求4所述的真空装置，其特征在于，所述第二门体受控密封所述第二通道口，所述第五气动阀关闭，所述第四气动阀开启，所述第二真空泵抽真空使所述第二腔室保持真空状态，所述第三腔室与外部连通且与所述第二腔室形成压差。
6.如权利要求4所述的真空装置，其特征在于，所述第一门体受控密封所述第一通道口和所述第二门体同步受控密封所述第二通道口；
所述第三气动阀和所述第五气动阀关闭，所述第一气动阀、所述第二气动阀以及所述第四气动阀开启，所述第一真空泵和所述第二真空泵分别抽真空使所述第一腔室、所述第二腔室及所述第三腔室保持真空状态。
7.如权利要求6所述的真空装置，其特征在于，保持所述第五气动阀关闭，将所述第一气动阀、所述第二气动阀以及所述第四气动阀关闭，所述第三气动阀开启，所述第一腔室和所述第二腔室保持真空状态，所述第三腔室与外部连通且与所述第一腔室和所述第二腔室形成压差。
8.如权利要求1所述的真空装置，其特征在于，所述第一门体和所述第二门体上分别设有密封圈。
9.如权利要求1或8所述的真空装置，其特征在于，所述升降机构包括：
设在所述第三腔室中的导柱；
套接在所述导柱上的移动衬套，所述第一门体和所述第二门体分别设在所述移动衬套的相对两侧；以及
设在所述第三腔室的外部且与所述移动衬套相连的气缸，其中：所述气缸通过所述移动衬套联动所述第三腔室内的所述第一门体和所述第二门体往复移动。
10.如权利要求9所述的真空装置，其特征在于，所述第一门体和所述第二门体的形状和与各自相对应的通道口的形状相适配，使能够在所述移动衬套推动所述第一门体和所述第二门体时分别对应密封抵压在与各自相对应的通道口上；
所述第一腔室、所述第二腔室以及所述第三腔室中分别设置压力传感器。
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