CN107790355B - 减压干燥装置、减压干燥***、减压干燥方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供减压干燥装置、减压干燥***、减压干燥方法。减压干燥装置包括:支撑部,对涂布有膜的基板进行支撑;基板收容部,包含可连接分离的第1覆盖部及第2覆盖部,将支撑于支撑部的基板收容于第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间;连接分离驱动部,通过使第1覆盖部与第2覆盖部接触而封闭处理空间,另一方面,通过使第1覆盖部与第2覆盖部分离而打开处理空间;减压机构,通过使经封闭的处理空间减压,而使涂布于基板上的膜干燥;以及排气机构,配置在基板收容部的外侧,从分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出处理空间内的气化成分。可抑制来自膜的气化成分飞散至基板收容部的外部且可从基板收容部的内部去除气化成分。
Description
技术领域
本发明涉及一种对涂布于基板上的膜进行减压干燥的装置、减压干燥***,减压干燥方法。
背景技术
在专利文献1中,记载有对涂布于基板上的薄膜进行干燥的减压干燥装置。所述减压干燥装置通过使收容基板的腔室(chamber)的内部减压,而使薄膜中所含的溶剂气化。由此,可以使薄膜干燥。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2015-64185号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
然而,在涂布于基板上的膜的干燥完成的时点,在收容基板的基板收容部(腔室)的内部残留有由膜气化而成的成分。因此,在打开基板收容部时,会产生所述气化成分飞散至基板收容部的外部,使周围污染的问题。
本发明是鉴于所述问题而完成,目的在于提供如下技术:通过使收容基板的基板收容部的内部减压而使涂布于基板上的膜干燥,可以一方面抑制来自膜的气化成分飞散至基板收容部的外部,一方面从基板收容部的内部去除所述气化成分。
[解决问题的手段]
本发明的减压干燥装置包括:支撑部,对涂布有膜的基板进行支撑;基板收容部,包括可相互连接分离的第1覆盖(cover)部及第2覆盖部,将支撑于支撑部的基板收容于第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间;连接分离驱动部,通过使第1覆盖部与第2覆盖部相互接触而封闭处理空间,另一方面,通过使第1覆盖部与第2覆盖部相互分离而打开处理空间;减压机构,通过使经封闭的处理空间减压,而使涂布于基板上的膜干燥;以及排气机构,配置在基板收容部的外侧,从相互分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出处理空间内的气化成分。
本发明的减压干燥方法包括如下工序:通过在基板收容部所具有的第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间内收容着涂布有膜的基板的状态下,使第1覆盖部与第2覆盖部相互接触而封闭处理空间;通过使经封闭的处理空间减压,而使涂布于基板上的膜干燥;使第1覆盖部与第2覆盖部相互分离;以及利用配置在基板收容部的外侧的排气机构,从相互分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出处理空间内的气化成分。
在如上所述构成的本发明(减压干燥装置、减压干燥方法)中,基板收容部包括第1覆盖部及第2覆盖部,通过使第1覆盖部与第2覆盖部接触而封闭第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间。然后,通过使经第1覆盖部及第2覆盖部封闭的处理空间减压,来执行收容于处理空间内的基板的膜的干燥。在所述干燥完成的时点,如上所述在基板收容部的内部,即在处理空间内残留有来自膜的气化成分。因此,如果使第1覆盖部与第2覆盖部分离而打开处理空间,则气化成分有可能从第1覆盖部与第2覆盖部之间飞散至外部。对此,在本发明中,在基板收容部的外侧配置有排气机构。而且,排气机构从相互分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出处理空间内的气化成分。由此,将气化成分从处理空间排出至排气机构。其结果为,可以一方面抑制来自膜的气化成分飞散至基板收容部的外部,一方面从基板收容部的内部去除所述气化成分。
并且,也可以如下方式构成减压干燥装置:还包括与排气机构排出气化成分同时,对处理空间供给气体的供气机构。在所述构成中,一方面利用供给至处理空间内的气体置换气化成分,一方面利用排气机构执行气化成分的排出。因此,可以迅速地执行气化成分从处理空间的去除,并且可以利用已置换气化成分的气体来使处理空间保持洁净。
并且,也可以如下方式构成减压干燥装置:还包括配置在处理空间内,从第2覆盖部之侧对由支撑部支撑的基板进行加热的加热板(hot plate),供气机构将气体供给至加热板与第2覆盖部之间,加热板与第2覆盖部之间的间隙将经供气机构供给的气体引导至第2覆盖部的周缘部。在所述构成中,供给至处理空间的气体是通过加热板与第2覆盖部之间的间隙而引导至第2覆盖部的周缘部。由此,生成从处理空间向第2覆盖部的周缘部的气流,从而可以有效率地从处理空间去除气化成分。
并且,也可以如下方式构成减压干燥装置:排气机构在处理空间的外侧具有沿第2覆盖部的周缘部延伸设置的开口,通过经由相互分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间从开口对处理空间内进行抽吸,而排出气化成分。通过从如上所述设置的开口对处理空间内进行抽吸,可以一方面更确实地抑制从第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出的气化成分飞散至外部,一方面从处理空间排出气化成分。
并且,也可以如下方式构成减压干燥装置:支撑部在伴随着第1覆盖部与第2覆盖部相互分离,利用排气机构开始气化成分的排出之后的规定期间内,将基板支撑于与开口相对向的范围内。由此,可以在处理空间内的气化成分的残留量比较多的排气开始时点,一方面使开口与作为气化成分的产生源的基板的膜相对向,一方面从开口排出气化成分。因此,可以一方面更确实地抑制气化成分飞散至基板收容部的外部,一方面从处理空间排出气化成分。
并且,也可以如下方式构成减压干燥装置:排气机构包括设置有开口的导管(duct),导管的上表面是朝向外侧下降的倾斜面。当如上所述使导管的上表面倾斜时,从上方抵碰至导管的上表面的气流一边沿所述上表面的斜度缓缓弯曲一边流向下方。因此,即使将所述减压干燥装置设置于生成有下降流(down flow)的洁净室(clean room)等内,也可以抑制下降流因为排气机构的导管而被打乱。
并且,也可以如下方式构成减压干燥装置:第1覆盖部在与支撑于支撑部的基板相对向的范围内具有平面。由此,可以抑制涂布于基板上的膜产生干燥不均。进一步来说,正是因为将排气机构配置在基板收容部的外侧,而不是使排气机构例如经由第1覆盖部与处理空间连通,所以能够采用所述构成。
并且,也可以在使包含聚酰亚胺前体及溶剂的膜干燥时,使用所述减压干燥装置。即,聚酰亚胺前体的膜具有例如与光阻剂的膜相比包含更多的溶剂的倾向。因此,特别适合于一方面抑制经气化的溶剂飞散至基板收容部的外部,一方面从基板收容部的内部去除所述气化成分。
本发明的减压干燥***包括多个所述减压干燥装置。因此,可以一方面抑制来自膜的气化成分飞散至基板收容部的外部,一方面从基板收容部的内部去除所述气化成分。
并且,也可以如下方式构成减压干燥***:多个减压干燥装置针对同一基板依次执行膜的干燥。在所述构成中,利用多个减压干燥装置分阶段地执行膜的干燥。这时,在初期执行干燥的减压干燥装置的基板收容部的内部,残留有大量的气化成分。对此,根据本发明,可以一方面抑制残留于基板收容部的内部的大量的气化成分飞散至外部,一方面去除所述气化成分。其结果为,可以抑制其它减压干燥装置因气化成分而污染。
并且,也可以如下方式构成减压干燥***:在垂直方向上并列地配置有多个减压干燥装置。在如上所述的构成中,由于从减压干燥装置的基板收容部飞散至外部的气化成分滞留在下方,有可能使配置在下侧的减压干燥装置受到污染。对此,根据本发明,可以一方面抑制残留于基板收容部的内部的大量气化成分飞散至外部,一方面去除所述气化成分。其结果为,可以抑制配置在下侧的减压干燥装置因气化成分而污染。
[发明的效果]
如上所述,根据本发明,在通过使收容基板的基板收容部的内部减压而使涂布于基板上的膜干燥的技术中,可以一方面抑制来自膜的气化成分飞散至基板收容部的外部,一方面从基板收容部的内部去除所述气化成分。
附图说明
图1是示意性地表示配备本发明的减压干燥装置的一实施方式的聚酰亚胺膜生产线的图。
图2是示意性地表示减压干燥装置的构成的局部截面图。
图3是局部地表示图2的减压干燥装置的构成的立体图。
图4是表示图2的减压干燥装置所具备的电气构成的图。
图5是将排气机构所具有的排气导管的周边加以放大的局部截面图。
图6是表示减压干燥处理的流程图。
图7是示意性地表示按照图6的流程图而执行的动作的图。
图8是示意性地表示包含减压干燥***的第1例的聚酰亚胺膜生产线的一例的图。
图9是示意性地表示包含减压干燥***的第2例的聚酰亚胺膜生产线的一例的图。
[符号的说明]
1:聚酰亚胺膜生产线
2:控制部
3:腔室
4:支撑部
5:加热部
6:减压单元
7:供气单元
8:排气单元
11:涂布装置
12:减压干燥装置
13:热处理装置
14、15、16:搬运机器人
30:处理空间
31:底座部(第2覆盖部)
32:盖部(第1覆盖部)
33:O形圈(第2覆盖部)
34:开闭驱动部
35:空间
41:支撑销
42:支撑构件
43:升降驱动部
51:加热板
52:橡胶发热体
61:排气配管(减压机构)
62:减压阀
71:供气配管(供气机构)
72:供气阀
80:排气机构(排气机构)
81:排气导管(导管)
81a:上部
81b:下部
82:排气配管
85:流量调整阀
311:底板部
312:壁部(周缘部)
321:顶板部
321a:水平面
322:壁部(周缘部)
611:排气配管61的一端
612:排气配管61的另一端711:供气配管71的一端
712:供气配管71的另一端
811:上表面(导管的上表面)
812:侧面
813:开口
814:中空部
821:排气配管82的一端
822:排气配管82的另一端
D:间隙
F:涂布膜(膜)
G:承载玻璃板(基板)
G1:上表面
La:气流
Lb:溶剂成分(气化成分)
P:减压泵
R:范围
S:减压干燥***
S11~S20:步骤
Ue:排气动力
Us:供气动力
X、Y、Z:方向
具体实施方式
图1是示意性地表示配备本发明的减压干燥装置的一实施方式的聚酰亚胺膜生产线的图。所述聚酰亚胺膜生产线1包括涂布装置11、减压干燥装置12、热处理装置13及两台搬运机器人14、搬运机器人15。在聚酰亚胺膜生产线1中,涂布装置11在承载玻璃板G(参照图2)的上表面G1(参照图2)涂布包含聚酰亚胺前体及溶剂的涂布液而形成涂布膜F(参照图2)。作为涂布装置11,可以使用例如使从喷出口喷出涂布液的狭缝喷嘴相对于承载玻璃板G相对移动而形成涂布膜F的所谓狭缝涂布机(slit coater)。当然,也可以利用其它涂布方式的涂布装置。并且,在本实施方式中,当使用聚酰胺酸(polyamide acid;polyamic acid)及N-甲基-2-吡咯烷酮(N-Methyl-2-Pyrrolidone,NMP)分别作为本发明的“聚酰亚胺前体”及“溶剂”而形成所需厚度的10倍左右(例如5[μm]~20[μm]左右的聚酰亚胺膜时,50[μm]~200[μm]左右)的比较厚的涂布膜F。
形成有涂布膜F的承载玻璃板G被搬运机器人14从涂布装置11搬运至减压干燥装置12。所述减压干燥装置12通过对涂布膜F进行减压干燥处理,来去除涂布膜F中的溶剂而形成所需的膜厚的聚酰亚胺前体涂膜。再者,关于减压干燥装置12的构成及动作,将接在聚酰亚胺膜生产线1的整体说明之后进行详述。
形成有聚酰亚胺前体涂膜的承载玻璃板G被搬运机器人15从减压干燥装置12搬运至热处理装置13。所述热处理装置13对聚酰亚胺前体涂膜实施热处理而使聚酰亚胺前体酰亚胺化而形成聚酰亚胺膜。热处理装置13既可以包含对单个承载玻璃板G进行加热的单片式的加热部,也可以包含对多个承载玻璃板G进行统一加热的批次式的加热部。再者,酰亚胺化需要数个小时的加热处理,减压干燥处理的节拍时间(tact time)与用于酰亚胺化的热处理的节拍时间大不相同。因此,当利用单片式的加热部构成热处理装置13时,理想的是层叠配置多台所述加热部而进行并列处理。
图2是示意性地表示减压干燥装置的构成的局部截面图,图3是局部地表示图2的减压干燥装置的构成的立体图,图4是表示图2的减压干燥装置所具备的电气构成的图。在图2及图3中,表示将Z方向设为垂直方向,将X方向及Y方向分别设为水平方向的XYZ正交坐标系。减压干燥装置12是使在承载玻璃板G的上表面G1上涂布涂布液而成的涂布膜F中所含的溶剂成分气化而使涂布膜F干燥的装置。减压干燥装置12如图4所示,包括对装置各部的动作进行笼统控制的控制部2。所述控制部2包括具有中央处理器(Central ProcessingUnit,CPU)及存储部等的计算机。此外,减压干燥装置12如图2所示,包括腔室3、支撑部4及加热部5。
腔室3是包含用于对承载玻璃板G进行减压干燥处理(=减压处理+加热处理)的处理空间30的耐压容器。腔室3包括可以相互连接分离的底座(base)部31及盖部32。底座部31固定设置在装置框架(省略图示)上。底座部31包括水平配置的矩形状的底板部311、以及沿底板部311的各边延伸设置的壁部312。壁部312从底板部311的各边,即从周缘部向上方垂直地设置,底板部311的上表面与壁部312的内面通过光滑的曲面而连接。如上所述,底座部31俯视时具有矩形状的外形,形成为朝向上方开口的箱型。
另一方面,盖部32包括水平配置的矩形状的顶板部321、以及沿顶板部321的各边延伸设置的壁部322。壁部322从顶板部321的各边,即从周缘部向下方垂直地设置,顶板部321的下表面与壁部322的内面通过光滑的曲面而连接。如上所述,盖部32俯视时具有矩形状的外形,形成为朝向下方开口的箱型。所述盖部32配置在底座部31的上方,盖部32的壁部322与底座部31的壁部312从Z方向相对向。这样一来,在沿Z方向相互对向的盖部32与底座部31之间形成处理空间30。并且,腔室3包含配置在壁部322的上表面的橡胶制的O形圈33。因此,盖部32的壁部322与底座部31的壁部312经由O形圈33而相互接触。
并且,减压干燥装置12为了使腔室3开闭,包括图2中概念性地表示的开闭驱动部34。所述开闭驱动部34是对盖部32相对于底座部31沿Z方向进行驱动的致动器(actuator),通过开闭驱动部34根据来自控制部2的升降指令来运行,而使盖部32相对于底座部31在Z方向上升降。即,当控制部2将下降指令输出至开闭驱动部34时,开闭驱动部34使盖部32下降。由此,将盖部32经由O形圈33按压至底座部31,对处理空间30进行密闭。另一方面,当控制部2将上升指令输出至开闭驱动部34时,开闭驱动部34使盖部32上升。由此,盖部32与底座部31及O形圈33分离,使处理空间30打开,从而可以相对于处理空间30搬入或搬出承载玻璃板G。
支撑部4是用于将承载玻璃板G支撑于腔室3的处理空间30内的机构。支撑部4包括多个支撑销41、以及对支撑销41进行支撑的支撑构件42。支撑构件42配置在腔室3的外侧下方,多个支撑销41立设于支撑构件42上。各支撑销41贯通于底座部31及加热板51而突设于底座部31的处理空间30内,各支撑销41的头部抵接于承载玻璃板G的下表面,借此水平地支撑承载玻璃板G。再者,在支撑于支撑部4的承载玻璃板G(的涂布膜F)上,形成于盖部32的顶板部321的下表面的平滑的水平面321a从上方相对向。
并且,减压干燥装置12包括图2中概念性地表示的升降驱动部43,以使支撑部4升降。所述升降驱动部43是对支撑部4在Z方向上进行驱动的致动器,通过升降驱动部43根据来自控制部2的升降指令来运行,而使支撑部4在Z方向上升降。即,控制部2通过对升降驱动部43进行控制,可以对支撑于支撑部4的承载玻璃板G的高度进行调整。具体而言,当执行相对于处理空间30的承载玻璃板G的搬入或搬出时,控制部2将上升指令输出至升降驱动部43,使支撑部4对承载玻璃板G的支撑位置上升至规定的上升位置为止。另一方面,当对搬入至处理空间30内的承载玻璃板G的涂布膜F执行减压干燥处理时,控制部2将下降指令输出至升降驱动部43,使支撑于支撑部4的承载玻璃板G下降至低于上升位置的规定的下降位置为止。
加热部5包括安装于底座部31的加热板51、以及安装于盖部32的橡胶发热体(rubber heater)52。加热板51是与底板部311之间空开间隙D而水平地安装在底座部31的底板部311的上表面。并且,橡胶发热体52配置成覆盖着盖部32的上表面。而且,控制部2通过将加热指令输出至加热部5,而借由加热板51及橡胶发热体52的发热来对处理空间30进行加热。所述处理空间30的加热是从承载玻璃板G搬入至处理空间30之前起预先持续执行,已搬入至处理空间30内的承载玻璃板G是借由处理空间30内的环境温度而加热。由此,溶剂成分从涂布膜F气化。
减压干燥装置12包括减压单元6,以与加热部5的加热处理同时执行减压处理。所述减压单元6包括排气配管61(减压机构)以及与排气配管61连接的减压阀62。排气配管61安装在腔室3的底座部31的中央,从底座部31的底板部311向下方突出。排气配管61的一端611在底板部311的上表面开口,排气配管61与腔室3内的处理空间30连通。而且,排气配管61的另一端612经由减压阀62与减压泵P连接。减压泵P进而与排气动力Ue连接,即与设置有减压干燥装置12的施设中所含的排气用的动力设备连接。所述减压泵P基本上时常运转,控制部2通过使减压阀62开闭,而执行或停止处理空间30的减压。即,当在处理空间30借由腔室3而密闭的状态下,控制部2对减压阀62输出打开指令时,减压阀62打开,借由减压泵P的排气而使处理空间30减压。另一方面,当控制部2将关闭指令输出至减压阀62时,减压阀62关闭,而使处理空间30的减压停止。
并且,减压干燥装置12包括供气单元7,以使减压停止后的处理空间30的气压恢复至大气压。所述供气单元7包括多个供气配管71(供气机构)、以及与各供气配管71连接的供气阀72。各供气配管71从底座部31的底板部311向下方突出。各供气配管71的一端711一边与加热板51的下表面相对向,一边在底板部311的上表面开口,各供气配管71与腔室3内的处理空间30连通。而且,各供气配管71的另一端712经由供气阀72与供气动力Us连接,即与设置有减压干燥装置12的施设中所含的供气用的动力设备连接。在此处的示例中,供气动力Us是供给氮气。然后,控制部2通过使供气阀72开闭,而执行或停止对处理空间30的供气。即,当控制部2将打开指令输出至供气阀72时,供气阀72打开,对处理空间30供给氮气(气体净化(gas purge))。另一方面,当控制部2对供气阀72输出关闭指令时,供气阀72关闭,而停止对处理空间30供给氮气。
此外,减压干燥装置12中,在所述减压单元6之外,另包括排出处理空间30内的气化成分的排气单元8。所述排气单元8是为了从处理空间30排出干燥处理后的处理空间30内所残留的经气化的溶剂成分(气化成分)而设置。所述排气单元8包括安装在腔室3的外侧的排气机构80、以及与排气机构80连接的流量调整阀85。所述排气机构80包括四个排气导管81、以及设置于各排气导管81上的排气配管82。
接着,同时使用图5,对排气机构80的构成的详细情况进行说明。在这里,图5是将排气机构所具有的排气导管的周边加以放大的局部截面图。排气机构80所具有的四个排气导管81是在底座部31的四边上一一对应地设置,各排气导管81是沿所对应的底座部31的边在水平方向上延伸设置。如图3所示,底座部31具有在Y方向上比X方向上更长的长方形,与此相对应地,在Y方向上延伸设置的排气导管81长于在X方向上延伸设置的排气导管81。
排气导管81的上表面811是越朝向外侧(腔室3的相反侧)越下降的倾斜面,排气导管81的外侧的侧面812是与Z方向平行的垂直面。排气导管81的上部81a突出至比底座部31的壁部312更靠上方的位置,底座部31的下部81b(比上部81a更靠下侧)安装在壁部312的外侧的侧面。在排气导管81的上部81a,朝向内侧(腔室3侧)设置有开口813,开口813与在排气导管81内沿Z方向设置的中空部814连通。如图3所示,开口813具有沿底座部31的壁部312在水平方向上延伸设置的矩形状。在各排气导管81中,沿底座部31设置有具有与边相对应的长度的开口813,在Y方向上延伸设置的长条状的排气导管81上所形成的开口813长于在X方向上延伸设置的短条状的排气导管81上所形成的开口813。
此外,在图5的状态下,承载玻璃板G被支撑部4支撑在下降位置。而且,排气导管81的开口813的位置相对于位于下降位置的承载玻璃板G具有规定的位置关系。即,开口813与下降位置的承载玻璃板G从水平方向相对向,换而言之,承载玻璃板G位于开口813所对向的范围R内,即,位于Z方向上的开口813的上端与下端之间的范围R内。
并且,排气机构80具有从排气导管81的底部向下方突出的排气配管82。所述排气配管82是在各开口813的下方沿水平方向并列设置有多个。具体而言,在Y方向上延伸设置的长条状的排气导管81中在Y方向上并列设置有三个排气配管82,在X方向上延伸设置的短条状的排气导管81中在X方向上并列设置有两个排气配管82。排气配管82的一端821相对于排气导管81的中空部814而开口,排气配管82与排气导管81的中空部814连通。而且,排气配管82的另一端822经由流量调整阀85与排气动力Ue连接。再者,控制部2基本上时常打开流量调整阀85。因此,伴随着排气动力Ue的排气,排气导管81时常从开口813抽吸外部气体。
如上所述,排气机构80的排气导管81在从底座部31的壁部312向上方突出的位置上具有开口813,从开口813时常抽吸外部气体。因此,在腔室3经封闭的状态下,开口813与腔室3的盖部32相对向,另一方面,在腔室3经打开的状态下,开口813可以从底座部31与盖部32之间排出经打开的处理空间30内的溶剂成分。
以上是减压干燥装置12的构成的概要。接着对减压干燥装置12所执行的减压干燥处理的流程进行说明。图6是表示减压干燥处理的流程图,图7是示意性地表示按照图6的流程图而执行的动作的图。图6的流程图是通过控制部2的控制来执行。再者,在所述流程图开始前,减压阀62及供气阀72关闭,流量调整阀85打开。
在步骤S11中,在支撑部4将承载玻璃板G支撑于下降位置的状态下,盖部32朝向底座部31下降,而封闭腔室3。由此,盖部32经由O形圈33抵接于底座部31,从而将腔室3内的处理空间30加以封闭而密闭。
接着,减压阀62打开,开始利用与减压泵P连通的排气配管61排出处理空间30内的环境气体(步骤S12)。伴随于此,处理空间30的压力变为负压,从而促进形成于承载玻璃板G的上表面G1的涂布膜F中所含的溶剂成分的气化。同时,通过利用加热部5进行加热,也使所述溶剂成分的气化得到促进。而且,在处理空间30的压力抵达至规定的负压的时点,减压阀62封闭,处理空间30的排气结束。这样一来,涂布膜F的干燥完成,涂布膜F中所含的溶剂成分减少至干燥前的10%~20%左右(即,变为80%~90%左右的溶剂成分经气化的状态)。
在步骤S12中的减压结束时,供气阀72打开,开始从供气配管71向处理空间30供给氮气(步骤S13)。这时,在图7的步骤S13的栏中,如以虚线箭头示意性地表示,从供气配管71供给至处理空间30的氮气的一部分气流La与加热板51的下表面发生碰撞而向水平方向改变方向,被引导至加热板51与底座部31之间的间隙D,而流向底座部31的周缘部(壁部312)。
在步骤S14中,判断伴随着处理空间30的氮气的供给,处理空间30的压力是否达到大气压以上。当处理空间30的压力未达大气压时(步骤S14中为“否(NO)”),判断是否从氮气的供给开始起经过了规定时间(步骤S19)。这样一来,如果在规定时间内处理空间30的压力未达大气压以上(步骤S19中为“是(YES)”),则将警报通知给操作者而异常结束(步骤S20)。另一方面,如果在规定时间内处理空间30的压力达到大气压以上(步骤S14中为“是(YES)”),则盖部32开始上升,而打开处理空间30(步骤S15)。其结果为,盖部32的壁部322远离底座部31的壁部312及O形圈33,在盖部32的壁部322与底座部31的壁部312之间形成空间35,排气导管81的开口813与所述空间35相对向。即,排气导管81的开口813与打开处理空间30的空间35相对向。因此,在步骤S15以后,排气导管81从开口813经由空间35时常抽吸处理空间30,处理空间30通过排气导管81而持续地排气。这时,承载玻璃板G被支撑部4支撑于下降位置,位于排气导管81的开口813的对向范围R。
此外,从盖部32开始上升之前起,排气导管81持续执行从开口813的抽吸。因此,盖部32上升,可以从盖部32与底座部31之间形成有空间35的时点起立即开始处理空间30的排气,从而可以迅速执行从处理空间30的溶剂成分(气化成分)Lb的排出。并且,在盖部32开始上升后也继续执行在步骤S13中开始的对处理空间30的氮气的供给。因此,盖部32上升后的处理空间30的压力多少变为正压,由此也促进了溶剂成分从处理空间30排出。
而且,在步骤S16中判断腔室3是否已全开。当腔室3没有全开时(步骤S16中为“否(NO)”时),将警报通知给操作者而异常结束(步骤S20)。另一方面,当腔室3全开时(步骤S16中为“是(YES)”),关闭供气阀72,停止对处理空间30供给氮气(步骤S17)。接着,支撑部4使承载玻璃板G上升至比排气导管81更上方的上升位置为止(步骤S18)。由此,搬运机器人15可以从排气导管81的上方进入至承载玻璃板G的下侧,将承载玻璃板G从处理空间30搬出。这样一来,图6的流程图结束。
如上所述在本实施方式中,将承载玻璃板G支撑于经腔室3的底座部31及盖部32密闭的处理空间30内,对承载玻璃板G的涂布膜F执行减压干燥处理。而且,当减压干燥处理完成时,盖部32与底座部31分离,而使腔室3打开。这时,配置在腔室3的外侧的排气机构80从底座部31的壁部312与盖部32的壁部322之间排出处理空间30内的气化成分(溶剂成分)。因此,在减压干燥处理完成时残留于处理空间30内的来自涂布膜F的气化成分(溶剂成分)通过排气机构80而从处理空间30排出,并收集至排气动力Ue。其结果为,可以一方面抑制由涂布膜F气化的溶剂成分飞散至腔室3的外部,一方面从腔室3的内部去除所述溶剂成分。
并且,与排气机构80排出处理空间30内的溶剂成分同时,供气配管71将氮气供给至处理空间30。因此,一边利用供给至处理空间30的氮气置换溶剂成分,一边利用排气机构80执行溶剂成分的排出。因此,可以迅速地执行溶剂成分从处理空间30的去除,并且可以利用已置换溶剂成分的氮气来使处理空间30保持洁净。
这时,供气配管71将氮气供给至配置在处理空间30内的加热板51与底座部31之间的间隙D。而且,氮气通过间隙D而导向底座部31的壁部312(周缘部)。由此,生成从处理空间30向底座部31的壁部312的气流,从而可以有效率地利用排气机构80从处理空间30排出溶剂成分。
特别是如NMP等的溶剂成分容易因为重力而滞留在底座部31的底部。因此,在加热板51与底座部31的间隙D内生成所述气流的构成可以从处理空间30有效率地排出所滞留的溶剂成分,从而较佳。
并且,排气机构80在处理空间30的外侧具有沿底座部31的壁部312延伸设置的开口813。而且,排气机构80经由相互分离的盖部32的壁部322与底座部31的壁部312之间,从开口813抽吸处理空间30的内部。通过从如上所述而设置的开口813抽吸处理空间30的内部,可以一方面更确实地抑制从盖部32的壁部322与底座部31的壁部312之间排出的溶剂成分飞散至腔室3的外部,一方面从处理空间30排出溶剂成分。
并且,支撑部4在伴随着腔室3打开,利用排气机构80开始进行腔室3的排气之后的规定期间(即,执行步骤S18之前的期间)内,将承载玻璃板G支撑在与排气机构80的开口813相对向的范围R内。由此,在处理空间30内的溶剂成分的残留量比较多的排气开始时点,可以一边使开口813与作为溶剂成分的产生源的承载玻璃板G的涂布膜F相对向,一边从开口813排出处理空间30内的溶剂成分。因此,可以一方面更确实地抑制溶剂成分飞散至腔室3的外部,一方面从处理空间30排出溶剂成分。
并且,涂布于承载玻璃板G上的涂布膜F包含聚酰亚胺前体及溶剂。这种涂布膜F具有例如与光阻剂的膜相比包含更多的溶剂的倾向。因此,特别优选的是通过使用包含所述排气机构80的减压干燥装置12,来一方面抑制经气化的溶剂成分飞散至腔室3的外部,一方面从腔室3的内部去除所述溶剂成分。
并且,排气机构80的排气导管81的上表面811是朝向外侧下降的倾斜面。当如上所述,使排气导管81的上表面811倾斜时,从上方抵碰至排气导管81的上表面811的气流一边沿所述排气导管81的上表面811的斜度缓缓弯曲,一边沿排气导管81的侧面812流向下方。因此,在生成有下降流的洁净室等内设置所述减压干燥装置12,也可以抑制下降流被排气机构80的排气导管81打乱。
并且,盖部32在与支撑于支撑部4的承载玻璃板G相对向的范围内具有水平面321a。由此,可以抑制涂布于承载玻璃板G上的涂布膜F中产生干燥不均。进而言之,正是因为将排气机构80配置在腔室3的外侧,而不是使排气机构80例如经由盖部32与处理空间30连通,所以能够采用所述构成。
如上所述,在本实施方式中,减压干燥装置12相当于本发明的“减压干燥装置”的一例,支撑部4相当于本发明的“支撑部”的一例,腔室3相当于本发明的“基板收容部”的一例,盖部32相当于本发明的“第1覆盖部”的一例,底座部31及O形圈33构成本发明的“第2覆盖部”的一例,盖部32的壁部322相当于本发明的“第1覆盖部的周缘部”的一例,底座部31的壁部312相当于本发明的“第2覆盖部的周缘部”的一例,开闭驱动部34相当于本发明的“连接分离驱动部”的一例,排气配管61相当于本发明的“减压机构”的一例,排气机构80相当于本发明的“排气机构”的一例(再者,排气机构80不含排气动力Ue),排气导管81相当于本发明的“导管”的一例,开口813相当于本发明的“开口”的一例,排气导管81的上表面811相当于本发明的“导管的上表面”的一例,多个供气配管71相当于本发明的“供气机构”的一例,加热板51相当于本发明的“加热板”的一例,间隙D相当于本发明的“间隙”的一例,承载玻璃板G相当于本发明的“基板”的一例,涂布膜F相当于本发明的“膜”的一例,氮气相当于本发明的“气体”的一例。
再者,本发明并不限定于所述实施方式,在不脱离其主旨的范围内,除所述情况以外可以进行各种变更。例如,在所述实施方式中,设置有一台减压干燥装置12。但是,也可以利用多台减压干燥装置12构成减压干燥***S。在所述减压干燥***S中,减压干燥装置12包含所述排气机构80,所以可以一方面抑制由涂布膜F气化的溶剂成分飞散至腔室3的外部,一方面从腔室3的内部去除所述溶剂成分。这时,减压干燥***S的具体构成可以进行各种变形。
图8是示意性地表示包含减压干燥***的第1例的聚酰亚胺膜生产线的一例的图。所述图8的聚酰亚胺膜生产线1所包含的减压干燥***S包括串联排列的两台减压干燥装置12、以及在两台减压干燥装置12之间搬运承载玻璃板G的搬运机器人16。两台减压干燥装置12均具备与所述减压干燥装置12相同的构成。
减压干燥***S利用前段(图8左侧)的减压干燥装置12对经搬运机器人14从涂布装置11搬运而来的承载玻璃板G进行减压干燥处理。接着,减压干燥***S利用搬运机器人16将在前段的减压干燥装置12中已完成减压干燥处理的承载玻璃板G搬运至后段(图8右侧)的减压干燥装置12,并利用后段的减压干燥装置12执行承载玻璃板G的减压干燥处理。再者,前段的减压干燥装置12及后段的减压干燥装置12是在不同的温度下利用加热部5执行加热处理,前段的减压干燥装置12中的加热处理的温度低于后段的减压干燥装置12的加热处理的温度。这样一来,通过在加热处理的前半部分降低加热温度,来抑制在加热处理的初期容易产生的涂布膜F的干燥不均或膜破损,并且通过在加热处理的后半部分提高加热温度,来缩短减压干燥处理所需要的时间。
如上所述,第1例的减压干燥***S是两台减压干燥装置12对同一承载玻璃板G依次进行减压干燥处理。这时,在前段的减压干燥装置12的腔室3的内部,残留有大量的溶剂成分。对此,减压干燥装置12配备有所述排气机构80,因此可以一方面抑制残留于腔室3的内部的大量的溶剂成分飞散至外部,一方面去除所述溶剂成分。其结果为,可以抑制后段的减压干燥装置12因溶剂成分而污染。
图9是示意性地表示包含减压干燥***的第2例的聚酰亚胺膜生产线的一例的图。所述图9的聚酰亚胺膜生产线1所含的减压干燥***S包含并列地排列的两台减压干燥装置12。两台减压干燥装置12均具备与所述减压干燥装置12相同的构成,在垂直方向上并排地配置。
减压干燥***S将经搬运机器人14从涂布装置11搬运而来的承载玻璃板G,接收至两台减压干燥装置12之中承载玻璃板G所不在的另一个减压干燥装置12,利用所述减压干燥装置12执行减压干燥处理。然后,利用搬运机器人15,将所述减压干燥装置12中的减压干燥处理已完成的承载玻璃板G搬运至热处理装置13。
如上所述,当在垂直方向上并排地配置有两台减压干燥装置12时,如果溶剂成分从各减压干燥装置12的腔室3飞散至外部,那么所述溶剂成分有可能滞留于下方,使下侧的减压干燥装置12受到污染。对此,各减压干燥装置12配备有所述排气机构80,因此可以一方面抑制残留于腔室3的内部的大量的溶剂成分飞散至外部,一方面去除所述溶剂成分。其结果为,可以抑制配置在下侧的减压干燥装置12因溶剂成分而污染。
此外,关于减压干燥装置12的具体构成,也可以进行各种变更。例如,腔室3的底座部31形成为朝向上方开口的箱型。但是,也可以不设置壁部312,而将底座部31形成为平板形状。这时,也可以通过利用排气机构80从盖部32及底座部31各自的周缘部之间(即,空间35)排出处理空间30内的溶剂成分,来一方面抑制残留于腔室3的内部的溶剂成分飞散至外部,一方面去除所述溶剂成分。
并且,也可以对腔室3进行其它变形。例如,通过使盖部32升降而使腔室3开闭。但是,也可以通过使底座部31升降而使腔室3开闭。
并且,关于排气导管81的形状或安装位置,也可以适当变更,例如也可以将排气导管81安装于盖部32。这时,也可以使排气导管81上下颠倒而安装于盖部32,在盖部32及底座部31各自的周缘部之间使排气导管81的开口813相对向。
并且,下降位置上的承载玻璃板G与排气导管81的开口813的位置关系也并不限于所述示例。即,即使承载玻璃板G与开口813未相对向,也可以通过利用排气导管81排出处理空间30内的溶剂成分,而一方面抑制残留于腔室3的内部的溶剂成分飞散至外部,一方面去除所述溶剂成分。
并且,相互分离的盖部32与底座部31之间的空间35和开口813的位置关系也可以适当变更。例如,也可以朝向上方形成开口813,设置成与盖部32的壁部322的上表面齐平。
并且,不一定需要在底座部31的各边设置排气导管81。
并且,腔室3的外形并不限于所述示例,例如也可以俯视时具有圆形形状。这时,排气机构80的形状也可以根据腔室3设为圆形。
并且,在减压干燥处理完成后使承载玻璃板G上升的时机也不限于所述示例。因此,也可以与盖部32的上升联动地使承载玻璃板G上升。
并且,排气机构80时常从开口813抽吸外部气体。但是,也可以构成为只在底座部31打开期间利用排气机构80执行抽吸。
并且,从供气配管71供给至处理空间30的气体并不限于氮气。因此,也可以对处理空间30供给空气等其它气体。
并且,在承载玻璃板G的搬运中使用有搬运机器人。但是,也可以利用其它搬运方式,例如也可以利用输送机(conveyor)方式的搬运单元来搬运承载玻璃板G。
并且,在所述实施方式中,使用承载玻璃板G作为本发明的“基板”,但是也可以使用除此以外的平板状构件作为“基板”。
并且,减压干燥装置12的减压干燥处理的对象并不限于包含聚酰亚胺前体及溶剂的涂布膜F,例如也可以为抗蚀剂的薄膜。
[产业上的可利用性]
本发明可以应用于对涂布于基板上的膜进行减压干燥的所有技术。
Claims (11)
1.一种减压干燥装置,其特征在于,包括:
支撑部,对涂布有膜的基板进行支撑;
基板收容部,包含可相互连接分离的第1覆盖部及第2覆盖部,将支撑于所述支撑部的所述基板收容于所述第1覆盖部与所述第2覆盖部之间的处理空间;
连接分离驱动部,通过使所述第1覆盖部与所述第2覆盖部相互接触而封闭所述处理空间,另一方面,通过使所述第1覆盖部与所述第2覆盖部相互分离而打开所述处理空间;
减压机构,通过使经封闭的所述处理空间减压,而使涂布于所述基板上的所述膜干燥;以及
排气机构,配置在所述基板收容部的外侧,从相互分离的所述第1覆盖部及所述第2覆盖部各自的周缘部之间排出所述处理空间内的气化成分,
所述排气机构在所述处理空间的外侧具有沿所述第2覆盖部的周缘部延伸设置且朝向所述处理空间的开口,通过经由相互分离的所述第1覆盖部及所述第2覆盖部各自的周缘部之间从所述开口,在所述支撑部所支撑的所述基板位于所述开口相对向的范围的状态,对所述处理空间内进行抽吸,而排出所述气化成分。
2.根据权利要求1所述的减压干燥装置,其特征在于,还包括:供气机构,与所述排气机构排出所述气化成分同时,对所述处理空间供给气体。
3.根据权利要求2所述的减压干燥装置,其特征在于,还包括:
加热板,配置在所述处理空间内,对由所述支撑部支撑的所述基板从所述第2覆盖部之侧进行加热;并且
所述供气机构将气体供给至所述加热板与所述第2覆盖部之间,
所述加热板与所述第2覆盖部之间的间隙将所述供气机构所供给的气体引导至所述第2覆盖部的周缘部。
4.根据权利要求1所述的减压干燥装置,其特征在于:所述支撑部在伴随着所述第1覆盖部与所述第2覆盖部相互分离,利用所述排气机构开始排出所述气化成分之后的规定期间,将所述基板支撑于与所述开口相对向的范围内。
5.根据权利要求1所述的减压干燥装置,其特征在于:
所述排气机构包含设置有所述开口的导管,
所述导管的上表面是朝向外侧下降的倾斜面。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的减压干燥装置,其特征在于:所述第1覆盖部在与支撑于所述支撑部的所述基板相对向的范围内具有平面。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的减压干燥装置,其特征在于:所述膜包含聚酰亚胺前体及溶剂。
8.一种减压干燥***,其特征在于:包括多个减压干燥装置,所述多个减压干燥装置是根据权利要求1至7中任一项所述的减压干燥装置。
9.根据权利要求8所述的减压干燥***,其特征在于:所述多个减压干燥装置针对同一所述基板依次执行所述膜的干燥。
10.根据权利要求8所述的减压干燥***,其特征在于:所述多个减压干燥装置在垂直方向上并列地配置。
11.一种减压干燥方法,其特征在于,包括如下工序:
通过在基板收容部所具有的第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间内收容着涂布有膜的基板的状态下,使所述第1覆盖部与所述第2覆盖部相互接触而封闭所述处理空间;
通过使经封闭的所述处理空间减压,而使涂布于所述基板上的所述膜干燥;
使所述第1覆盖部与所述第2覆盖部相互分离;以及
利用配置在所述基板收容部的外侧的排气机构,从相互分离的所述第1覆盖部及所述第2覆盖部各自的周缘部之间,从朝向所述处理空间的开口,在所述基板位于所述开口相对向的范围的状态,排出所述处理空间内的气化成分。
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