CN107623087A - 柔性oled显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种柔性OLED显示面板，包括柔性基底以及设置于所述柔性基底表面的TFT器件；其中，所述柔性基底包括：第一聚酰亚胺层；第一无机阻隔层，制备于所述第一聚酰亚胺层表面；钛金属层，制备于所述第一无机阻隔层表面；第二聚酰亚胺层，制备于所述钛金属层表面；以及，第二无机阻隔层，制备于所述钛金属层表面；所述TFT器件制备于所述第二无机阻隔层表面；有益效果为：本发明提供的OLED显示面板，在柔性基底中设置钛金属层，能够有效吸收激光的能量，进而降低无机阻隔层的膜层厚度，进一步提高柔性OLED显示面板的弯曲性能。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性OLED显示面板及其制备方法。
背景技术
有机发光二极管(OLED)具有自发光性、应答速度快、广视角等特点，应用前景广阔。如今，可弯折显示器成为主流。
为实现显示器件的弯折、卷曲等特性，目前最主要的技术是将薄膜晶体管(Thin-film transistor，简称TFT)及显示器件制作于PI(polyimide，聚酰亚胺)基板上，以弥补玻璃基板脆性大、不易弯曲的性质。而由于PI具有易弯曲、韧性好的特点，在器件制作过程中无法作为承载基板使用，需要将PI涂覆在载体玻璃基板上，完成显示器件制作后，再用激光剥离技术将PI基板从玻璃基板上分离，获得柔性显示器。在进行激光剥离时，激光的高能量易影响TFT器件电性，降低产品良率。因此，出现了双层PI结构，在两层PI之间增加无机阻隔层，以减缓激光剥离时能量向TFT器件的传导，但这要求无机层厚度较厚，降低了基板柔韧性。
现有技术的柔性OLED显示面板，其柔性基板中的无机阻隔层厚度较大，影响柔性OLED显示面板的柔韧性，导致柔性OLED显示面板难以达到理想的弯曲效果。
发明内容
本发明提供一种柔性OLED显示面板，能够在保证制程中TFT器件安全的情况下，不降低OLED显示面板的柔韧性；以解决现有OLED显示面板，因无机阻隔层膜层较厚，导致OLED显示面板柔性降低的技术问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种柔性OLED显示面板，包括柔性基底以及设置于所述柔性基底表面的TFT器件；其中，
所述柔性基底包括：
第一聚酰亚胺层；
第一无机阻隔层，制备于所述第一聚酰亚胺层表面；
钛金属层，制备于所述第一无机阻隔层表面；
第二聚酰亚胺层，制备于所述钛金属层表面；以及，
第二无机阻隔层，制备于所述钛金属层表面；
所述TFT器件制备于所述第二无机阻隔层表面。
根据本发明一优选实施例，所述钛金属层经图形化处理，形成钛金属图案。
根据本发明一优选实施例，所述TFT器件至少包括一有源层，所述钛金属图案投射在所述第二无机阻隔层表面的形状，与所述有源层的图案一致，所述钛金属图案与所述有源层对位设置。
根据本发明一优选实施例，所述第一无机阻隔层、所述第二无机阻隔层的材料采用TiO2。
根据本发明一优选实施例，所述第一聚酰亚胺层与所述第二聚酰亚胺层的膜层厚度相同，所述第一无机阻隔层与所述第二无机阻隔层的膜层厚度相同，并且，所述第一无机阻隔层和所述第二无机阻隔层的膜层厚度，为所述第一聚酰亚胺层和所述第二聚酰亚胺层的膜层厚度的1/3。
根据本发明一优选实施例，所述钛金属层、所述第一无机阻隔层、所述第二无机阻隔层的膜层厚度相同。
依据本发明的上述目的，提出一种柔性OLED显示面板的制备方法，所述方法包括：
步骤S10，提供玻璃衬底；
步骤S20，在所述玻璃衬底表面制备第一聚酰亚胺层；
步骤S30，在所述第一聚酰亚胺层表面制备第一无机阻隔层；
步骤S40，在所述第一无机阻隔层表面制备钛金属层；
步骤S50，在所述钛金属层表面制备第二聚酰亚胺层；
步骤S60，在所述第二聚酰亚胺层表面制备第二无机阻隔层；以及，
步骤S70，在所述第二无机阻隔层表面制备TFT器件。
根据本发明一优选实施例，所述步骤S40还包括：S401，将所述钛金属层进行图案化处理，形成钛金属图案。
根据本发明一优选实施例，所述步骤S70还包括：S701，将所述TFT器件制备于相对应的所述钛金属图案的正上方。
根据本发明一优选实施例，所述方法还包括：步骤S80，使用激光将所述玻璃衬底剥离。
本发明的有益效果为：相较于现有技术的柔性OLED显示面板，本发明提供的OLED显示面板，在柔性基底中设置钛金属层，能够有效吸收激光的能量，进而降低无机阻隔层的膜层厚度，进一步提高柔性OLED显示面板的弯曲性能；解决了现有技术的柔性OLED显示面板，其柔性基板中的无机阻隔层厚度较大，影响柔性OLED显示面板的柔韧性，导致柔性OLED显示面板难以达到理想的弯曲效果。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的柔性OLED显示面板膜层结构图；
图2为本发明柔性OLED显示面板的制备方法流程图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有技术的柔性OLED显示面板，其柔性基板中的无机阻隔层厚度较大，影响柔性OLED显示面板的柔韧性，导致柔性OLED显示面板难以达到理想的弯曲效果，本实施例能够解决该缺陷。
如图1所示，本发明提供的一种柔性OLED显示面板，包括柔性基底以及设置于所述柔性基底表面的TFT器件；其中，所述柔性基底包括：第一聚酰亚胺层102；第一无机阻隔层103，制备于所述第一聚酰亚胺层102表面；钛金属层，制备于所述第一无机阻隔层103表面；第二聚酰亚胺层104，制备于所述钛金属层表面；以及，第二无机阻隔层105，制备于所述钛金属层表面；所述TFT器件制备于所述第二无机阻隔层105表面。
钛金属，具备韧性好、热导系数低、光吸收能力强的特点，钛金属制备的所述钛金属层，能够吸收大部分用于剥离玻璃衬底的激光能量，进而阻止激光穿透靠近所述TFT器件的所述第二聚酰亚胺层104，起到保护所述TFT器件的电性的作用。所述钛金属层具有一定的导电性，可减少所述第一聚酰亚胺层102、第二聚酰亚胺层104对制程中产生的导电粒子的静电吸附，进而提高第一聚酰亚胺层102、第二聚酰亚胺层104的洁净度，提高产品良率。
所述柔性基底中，所述第一聚酰亚胺层102、第二聚酰亚胺层104具有较佳的弯折特性，所述第一聚酰亚胺层102用作所述柔性基底的第一衬底，同时用作所述柔性基底的第一外保护层，所述第二聚酰亚胺层104用作所述柔性基底的第二衬底，同时用作所述柔性基底的第二外保护层；所述第一无机阻隔层103用作所述柔性基底的第一阻水层，避免水汽浸入所述钛金属层，所述第一无机阻隔层103用作所述柔性基底的第二阻水层，用于所述柔性基底的二次阻水保护层，以保护设置于所述柔性基底表面的发光器件。
所述钛金属层通过光罩工艺，形成钛金属图案106，所述钛金属图案106阵列分布；所述TFT器件至少包括一有源层107，所述钛金属图案106投射在所述第二无机阻隔层105表面的形状，与所述有源层107的图案一致，所述钛金属图案106与所述有源层107对位设置；即所述钛金属图案106投射在所述第二无机阻隔层105表面的投影与所述有源层107的图案相对应；使得所述钛金属图案106一对一地对所述有源层107进行保护。
所述钛金属图案106阵列分布，任意两相邻的所述钛金属图案106之间具有间隙，所述间隙能够吸收所述柔性基底的部分弯曲应力，使得所述柔性基底具有更佳的弯折效果。
例如，两相邻的所述钛金属图案106之间的间隙内具有钛金属，所述间隙内的钛金属厚度为所述钛金属图案106的膜层厚度的1/2；即所述钛金属层在进行光罩刻蚀时，所述钛金属层的刻蚀深度为所述钛金属层的膜层厚度的1/2；从而避免激光通过相邻两所述钛金属图案106之间的间隙到达TFT器件所在膜层，进而损伤到TFT器件所在膜层表面的金属线路。
所述第一无机阻隔层103、所述第二无机阻隔层105的材料可采用Al2O33(氧化铝)、TiO2(氧化钛)、SiNx(氮化硅)、SiCNx(氮碳化硅)、SiOx(氧化硅)；优选的，所述第一无机阻隔层103、所述第二无机阻隔层105的材料采用TiO2，以增强所述柔性基底的柔韧性。
所述第一聚酰亚胺层102与所述第二聚酰亚胺层104的膜层厚度相同，所述第一无机阻隔层103与所述第二无机阻隔层105的膜层厚度相同，并且，所述第一无机阻隔层103和所述第二无机阻隔层105的膜层厚度，为所述第一聚酰亚胺层102和所述第二聚酰亚胺层104的膜层厚度的1/3；所述钛金属层的设置，使得现有技术较厚的无机阻隔层膜厚减小，进一步增强所述柔性基底的柔韧性。
所述钛金属层、所述第一无机阻隔层103、所述第二无机阻隔层105的膜层厚度相同。
所述柔性OLED显示面板还包括：OLED显示器件，所述OLED显示器件对应设置于所述TFT器件表面；柔性封装盖板，设置于所述柔性基底上，且覆盖所述OLED显示器件。
如图2所示，依据本发明的上述目的，提出一种柔性OLED显示面板的制备方法，所述方法包括：
步骤S10，提供玻璃衬底。
步骤S20，在所述玻璃衬底表面制备第一聚酰亚胺层。具体的，在所述玻璃衬底表面涂覆液态聚酰亚胺层，并完成固化，形成所述第一聚酰亚胺层。
步骤S30，在所述第一聚酰亚胺层表面制备第一无机阻隔层。
步骤S40，在所述第一无机阻隔层表面制备钛金属层。
所述步骤S40还包括：S401，将所述钛金属层进行图案化处理，形成钛金属图案。
步骤S50，在所述钛金属层表面制备第二聚酰亚胺层。具体的，在所述钛金属层表面涂覆液态聚酰亚胺层，并完成固化，形成所述第二聚酰亚胺层。
步骤S60，在所述第二聚酰亚胺层表面制备第二无机阻隔层。
步骤S70，在所述第二无机阻隔层表面制备TFT器件；具体的，在所述第二聚酰亚胺层表面沉积非晶硅层，利用激光退火工艺，使所述非晶硅层形成多晶硅层，通过刻蚀工艺，使所述多晶硅层图形化为TFT器件的有源层。
所述步骤S70还包括：S701，将所述TFT器件制备于相对应的所述钛金属图案的正上方。
本发明的有益效果为：相较于现有技术的柔性OLED显示面板，本发明提供的OLED显示面板，在柔性基底中设置钛金属层，能够有效吸收激光的能量，进而降低无机阻隔层的膜层厚度，进一步提高柔性OLED显示面板的弯曲性能；解决了现有技术的柔性OLED显示面板，其柔性基板中的无机阻隔层厚度较大，影响柔性OLED显示面板的柔韧性，导致柔性OLED显示面板难以达到理想的弯曲效果。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种柔性OLED显示面板，其特征在于，包括柔性基底以及设置于所述柔性基底表面的TFT器件；其中，
所述柔性基底包括：
第一聚酰亚胺层；
第一无机阻隔层，制备于所述第一聚酰亚胺层表面；
钛金属层，制备于所述第一无机阻隔层表面；
第二聚酰亚胺层，制备于所述钛金属层表面；以及，
第二无机阻隔层，制备于所述钛金属层表面；
所述TFT器件制备于所述第二无机阻隔层表面。
2.根据权利要求1所述的柔性OLED显示面板，其特征在于，所述钛金属层经图形化处理，形成钛金属图案。
3.根据权利要求2所述的柔性OLED显示面板，其特征在于，所述TFT器件至少包括一有源层，所述钛金属图案投射在所述第二无机阻隔层表面的形状，与所述有源层的图案一致，所述钛金属图案与所述有源层对位设置。
4.根据权利要求1所述的柔性OLED显示面板，其特征在于，所述第一无机阻隔层、所述第二无机阻隔层的材料采用TiO2。
5.根据权利要求1所述的柔性OLED显示面板，其特征在于，所述第一聚酰亚胺层与所述第二聚酰亚胺层的膜层厚度相同，所述第一无机阻隔层与所述第二无机阻隔层的膜层厚度相同，并且，所述第一无机阻隔层和所述第二无机阻隔层的膜层厚度，为所述第一聚酰亚胺层和所述第二聚酰亚胺层的膜层厚度的1/3。
6.根据权利要求5所述的柔性OLED显示面板，其特征在于，所述钛金属层、所述第一无机阻隔层、所述第二无机阻隔层的膜层厚度相同。
7.一种柔性OLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
步骤S10，提供玻璃衬底；
步骤S20，在所述玻璃衬底表面制备第一聚酰亚胺层；
步骤S30，在所述第一聚酰亚胺层表面制备第一无机阻隔层；
步骤S40，在所述第一无机阻隔层表面制备钛金属层；
步骤S50，在所述钛金属层表面制备第二聚酰亚胺层；
步骤S60，在所述第二聚酰亚胺层表面制备第二无机阻隔层；以及，
步骤S70，在所述第二无机阻隔层表面制备TFT器件。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S40还包括：
S401，将所述钛金属层进行图案化处理，形成钛金属图案。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S70还包括：
S701，将所述TFT器件制备于相对应的所述钛金属图案的正上方。
10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：
步骤S80，使用激光将所述玻璃衬底剥离。
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