CN107608181A - 一种用于tft‑lcd显示屏的光刻胶剥离剥离液 - Google Patents

一种用于tft‑lcd显示屏的光刻胶剥离剥离液 Download PDF

Info

Publication number
CN107608181A
CN107608181A CN201710825424.5A CN201710825424A CN107608181A CN 107608181 A CN107608181 A CN 107608181A CN 201710825424 A CN201710825424 A CN 201710825424A CN 107608181 A CN107608181 A CN 107608181A
Authority
CN
China
Prior art keywords
stripper
tft
photoresist lift
lcd display
display screens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710825424.5A
Other languages
English (en)
Inventor
白航空
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Huike Jinyang Technology Co Ltd
Original Assignee
Hefei Huike Jinyang Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Huike Jinyang Technology Co Ltd filed Critical Hefei Huike Jinyang Technology Co Ltd
Priority to CN201710825424.5A priority Critical patent/CN107608181A/zh
Publication of CN107608181A publication Critical patent/CN107608181A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于TFT‑LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,其特征在于,包括以下重量百分比的原料:有机胺化合物15‑18%、丙烯酸酯类共聚物26‑32%、表面活性剂9‑16%、络合剂5‑8%、N,N‑二甲基丙酰胺6‑9%、腐蚀抑制剂4‑6%、有机溶剂60‑75%和添加剂0.2‑10%。本发明将至少两种有机胺化合物一起,配合采用二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂组成的混合有机溶剂使用,有效的提高了剥离速度,防止因长时间作用导致残留物渗透到要形成的图形层中影响终端产品的质量,获得了更好的剥离效果。同时,本发明的有机溶剂不仅具有较好的溶解性,同时亲水性强,在配线工艺时可以避免光刻胶的再附着,避免了光刻胶残留。此外,本发明的剥离液中的添加剂,不仅具有很好的缓蚀作用,能有效的防止金属配线腐蚀。

Description

一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液
技术领域
本发明涉及技术领域,具体涉及一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液。
背景技术
在液晶显示装置以及半导体元件等的制造工艺中,通常采用光刻技术形成所需的图形。
以制造液晶显示装置的彩色滤光片为例,利用光刻胶进行刻蚀的过程主要包括:利用旋转涂布(spin coating)、狭缝涂布(slit coating)或狭缝与旋转涂布(slit&spincoating)等方法,在玻璃基板上均匀涂布一层光刻胶;干燥已涂布的光刻胶;使用掩模板对上述基板曝光;将已曝光的基板采用显影液对其进行显影处理,经过显影工序去除未感光部分的光刻胶,获得所需的图形;在烘箱内烘烤,从而完全蒸发掉光刻胶里面的溶剂,并坚固光刻胶膜层。
上述利用旋转涂布、狭缝涂布或狭缝与旋转涂布等方法涂布光刻胶的过程中,因为采用任何一个工艺,都不可避免地将光刻胶涂布于基板边缘或背面,这些多余的光刻胺会造成设备污染,从而增加了清洗设备的生产成本,所以必须用光刻胶剥离液去除多余光刻胶。
现有的光刻胶剥离液一般包含有机胺类化合物、有机溶剂以及表面活性剂,其中,有机胺类化合物可以是二乙胺、乙二醇胺、异丙醇胺、链烷基醇胺或单乙醇胺等,有机溶剂可以是丙酮、环己酮、乙酸甲酯、乙二醇单甲醚或三乙二醇等,表面活性剂可以是丙烯酸共聚物等。
但是上述光刻胶剥离液,在浸泡清洗时,成份中的有机胺类化合物容易分解并呈碱性,因此容易腐蚀掉铝、铜等金属,并且由于其剥离性差,因此无法完全去除光刻胶残留物,当溶解光刻胶的时间越长,残留物渗透到要形成的图形层中的几率就越大,从而容易造成液晶显示器件或半导体元件等的不良,影响最终产品的质量。
发明内容
本发明旨在提供了一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液。
本发明提供如下技术方案:
一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,包括以下重量百分比的原料:有机胺化合物15-18%、丙烯酸酯类共聚物26-32%、表面活性剂9-16%、络合剂5-8%、N,N-二甲基丙酰胺6-9%、腐蚀抑制剂4-6%、有机溶剂60-75%和添加剂0.2-10%。
所述有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少两种。
所述有机溶剂由二乙二醇甲醚和N-甲基甲酰胺混合而成。
所述添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1,2,4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐中的至少一种。
所述表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、烷基磺酸钠的一种或几种。
所述所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:3的质量比混合而成。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明将至少两种有机胺化合物一起,配合采用二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂组成的混合有机溶剂使用,有效的提高了剥离速度,防止因长时间作用导致残留物渗透到要形成的图形层中影响终端产品的质量,获得了更好的剥离效果。同时,本发明的有机溶剂不仅具有较好的溶解性,同时亲水性强,在配线工艺时可以避免光刻胶的再附着,避免了光刻胶残留。此外,本发明的剥离液中的添加剂,不仅具有很好的缓蚀作用,能有效的防止金属配线腐蚀。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,包括以下重量百分比的原料:有机胺化合物15%、丙烯酸酯类共聚物26%、表面活性剂9%、络合剂5%、N,N-二甲基丙酰胺6%、腐蚀抑制剂4%、有机溶剂60%和添加剂0.2%。
所述有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少两种。
所述有机溶剂由二乙二醇甲醚和N-甲基甲酰胺混合而成。
所述添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1,2,4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐中的至少一种。
所述表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、烷基磺酸钠的一种或几种。
所述所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:3的质量比混合而成。
实施例2一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,包括以下重量百分比的原料:有机胺化合物18%、丙烯酸酯类共聚物32%、表面活性剂16%、络合剂8%、N,N-二甲基丙酰胺9%、腐蚀抑制剂6%、有机溶剂75%和添加剂10%。
所述有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少两种。
所述有机溶剂由二乙二醇甲醚和N-甲基甲酰胺混合而成。
所述添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1,2,4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐中的至少一种。
所述表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、烷基磺酸钠的一种或几种。
所述所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:3的质量比混合而成。
实施例3一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,包括以下重量百分比的原料:有机胺化合物16%、丙烯酸酯类共聚物30%、表面活性剂11%、络合剂7%、N,N-二甲基丙酰胺8%、腐蚀抑制剂5%、有机溶剂66%和添加剂3%。
所述有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少两种。
所述有机溶剂由二乙二醇甲醚和N-甲基甲酰胺混合而成。
所述添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1,2,4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐中的至少一种。
所述表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、烷基磺酸钠的一种或几种。
所述所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:3的质量比混合而成。
对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于所述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (6)

1.一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,其特征在于,包括以下重量百分比的原料:有机胺化合物15-18%、丙烯酸酯类共聚物26-32%、表面活性剂9-16%、络合剂5-8%、N,N-二甲基丙酰胺6-9%、腐蚀抑制剂4-6%、有机溶剂60-75%和添加剂0.2-10%。
2.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,其特征在于:所述有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少两种。
3.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,其特征在于:所述有机溶剂由二乙二醇甲醚和N-甲基甲酰胺混合而成。
4.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,其特征在于:所述添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1,2,4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,其特征在于:所述表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、烷基磺酸钠的一种或几种。
6.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD显示屏的光刻胶剥离剥离液,其特征在于:所述所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:3的质量比混合而成。
CN201710825424.5A 2017-09-14 2017-09-14 一种用于tft‑lcd显示屏的光刻胶剥离剥离液 Pending CN107608181A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710825424.5A CN107608181A (zh) 2017-09-14 2017-09-14 一种用于tft‑lcd显示屏的光刻胶剥离剥离液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710825424.5A CN107608181A (zh) 2017-09-14 2017-09-14 一种用于tft‑lcd显示屏的光刻胶剥离剥离液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107608181A true CN107608181A (zh) 2018-01-19

Family

ID=61063776

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710825424.5A Pending CN107608181A (zh) 2017-09-14 2017-09-14 一种用于tft‑lcd显示屏的光刻胶剥离剥离液

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107608181A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111352315A (zh) * 2020-03-19 2020-06-30 厦门思美科新材料有限公司 一种用于光刻胶剥离的水性剥离液
CN113820927A (zh) * 2021-09-23 2021-12-21 易安爱富(武汉)科技有限公司 一种正性光刻胶剥离液组合物

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111352315A (zh) * 2020-03-19 2020-06-30 厦门思美科新材料有限公司 一种用于光刻胶剥离的水性剥离液
CN113820927A (zh) * 2021-09-23 2021-12-21 易安爱富(武汉)科技有限公司 一种正性光刻胶剥离液组合物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2015056428A1 (ja) レジスト剥離液
US20070078072A1 (en) Photoresist stripping solution
CN104781732B (zh) 光刻胶剥离液组合物及光刻胶的剥离方法
KR100288769B1 (ko) 포토레지스트용스트리퍼조성물
WO2015029277A1 (ja) レジスト剥離液
CN107608181A (zh) 一种用于tft‑lcd显示屏的光刻胶剥离剥离液
KR100268108B1 (ko) 포토레지스트용 스트리퍼 조성물
CN104102097B (zh) 抗蚀剂剥离剂组合物
TW201635051A (zh) 抗蝕劑剝離液
JP7244519B2 (ja) フォトレジスト剥離組成物
CN110727181A (zh) 一种正型光刻胶剥离液组合物
CN107168021B (zh) 一种光刻胶用剥离液及其制备方法和应用
US6815150B2 (en) Photoresist stripping composition and process for stripping resist
KR20100033006A (ko) 티에프티 엘시디용 열경화성 수지 박리액 조성물
CN107102517A (zh) 一种amoleed显示屏用光刻胶剥离液组合物
TWI629353B (zh) Receptor stripping solution
TWI559102B (zh) Resin stripping solution
JP2012242696A (ja) フォトレジスト用剥離液
CN102866601B (zh) 等离子显示屏剥离液及其制备方法与应用
JP5885043B1 (ja) レジスト剥離液とその製造方法
KR102675757B1 (ko) 레지스트 박리액 조성물
JP2008176098A (ja) 現像液及びパターン形成方法
CN107193188A (zh) 抗蚀剂剥离液组合物及利用其的抗蚀剂的剥离方法
KR101686007B1 (ko) 인듐 옥살레이트 용해제 조성물
CN110042018A (zh) 一种线路板防焊显影用的清槽剂

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20180119