CN107102517A

CN107102517A - 一种amoleed显示屏用光刻胶剥离液组合物

Info

Publication number: CN107102517A
Application number: CN201710409591.1A
Authority: CN
Inventors: 白航空
Original assignee: Hefei Huike Precision Mould Co Ltd
Current assignee: Hefei Huike Precision Mould Co Ltd
Priority date: 2017-06-02
Filing date: 2017-06-02
Publication date: 2017-08-29

Abstract

本发明公开了一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，所述剥离液由以下重量百分比的原料组成：有机硅类化合物25‑30％、丙烯酸酯类共聚物26‑32％、季铵类氢氧化物18‑25％、表面活性剂9‑16％、络合剂5‑8％、N,N‑二甲基丙酰胺11‑14％、有机胺9‑14％、添加剂5‑10％、溶剂26‑32％。本发明通过N,N‑二甲基丙酰胺有效的提高了剥离速度，防止因长时间作用导致残留物渗透到要形成的图形层中影响终端产品的质量，获得了更好的剥离效果；同时，溶剂不仅具有较好的溶解性，同时亲水性强，在配线工艺时可以避免光刻胶的再附着，避免了光刻胶残留；表面活性剂加入了有机硅类化合物，作为应力均衡剂加入了丙烯酸酯类共聚物，因此提高了对光刻胶的溶解性和剥离性，解决了光刻胶的残留或渗透污染问题。

Description

一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物

技术领域

本发明涉及AMOLEED显示屏技术领域，具体涉及一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物。

背景技术

在液晶显示装置以及半导体元件等的制造工艺中，通常采用光刻技术形成所需的图形。

以制造液晶显示装置的彩色滤光片为例，利用光刻胶进行刻蚀的过程主要包括：利用旋转涂布(spin coating)、狭缝涂布(slit coating)或狭缝与旋转涂布(slit&spincoating)等方法，在玻璃基板上均匀涂布一层光刻胶；干燥已涂布的光刻胶；使用掩模板对上述基板曝光；将已曝光的基板采用显影液对其进行显影处理，经过显影工序去除未感光部分的光刻胶，获得所需的图形；在烘箱内烘烤，从而完全蒸发掉光刻胶里面的溶剂，并坚固光刻胶膜层。

上述利用旋转涂布、狭缝涂布或狭缝与旋转涂布等方法涂布光刻胶的过程中，因为采用任何一个工艺，都不可避免地将光刻胶涂布于基板边缘或背面，这些多余的光刻胺会造成设备污染，从而增加了清洗设备的生产成本，所以必须用光刻胶剥离液去除多余光刻胶。

现有的光刻胶剥离液一般包含有机胺类化合物、有机溶剂以及表面活性剂，其中，有机胺类化合物可以是二乙胺、乙二醇胺、异丙醇胺、链烷基醇胺或单乙醇胺等，有机溶剂可以是丙酮、环己酮、乙酸甲酯、乙二醇单甲醚或三乙二醇等，表面活性剂可以是丙烯酸共聚物等。

但是上述光刻胶剥离液，在浸泡清洗时，成份中的有机胺类化合物容易分解并呈碱性，因此容易腐蚀掉铝、铜等金属，并且由于其剥离性差，因此无法完全去除光刻胶残留物，当溶解光刻胶的时间越长，残留物渗透到要形成的图形层中的几率就越大，从而容易造成液晶显示器件或半导体元件等的不良，影响最终产品的质量。

发明内容

本发明旨在提供了一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物。

本发明提供如下技术方案：

一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，所述剥离液由以下重量百分比的原料组成：有机硅类化合物25-30％、丙烯酸酯类共聚物26-32％、季铵类氢氧化物18-25％、表面活性剂9-16％、络合剂5-8％、N,N-二甲基丙酰胺11-14％、有机胺9-14％、添加剂5-10％、溶剂26-32％。

所述表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、烷基磺酸钠的一种或几种。

所述溶剂为选自由二甲基亚砜、N-甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基咪唑、γ-丁内酯、以及环丁砜组成的组中的一种以上。

所述有机胺包含选自由单乙醇胺、乙二胺、1-氨基-2-丙醇、二乙醇胺、亚氨基二丙胺、2-甲氨基乙醇N-甲基单乙醇胺、三乙氨基乙醇、1-(2-羟乙基)甲基哌嗪、N-(3-氨丙基)吗啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、1-氨基-4-甲基哌嗪、1-苄基哌嗪、组成的组中的一种以上化合物。

所述添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1,2,4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐中的至少一种。

所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:3的质量比混合而成。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过N,N-二甲基丙酰胺有效的提高了剥离速度，防止因长时间作用导致残留物渗透到要形成的图形层中影响终端产品的质量，获得了更好的剥离效果；同时，溶剂不仅具有较好的溶解性，同时亲水性强，在配线工艺时可以避免光刻胶的再附着，避免了光刻胶残留；表面活性剂加入了有机硅类化合物，作为应力均衡剂加入了丙烯酸酯类共聚物，因此提高了对光刻胶的溶解性和剥离性，解决了光刻胶的残留或渗透污染问题。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，所述剥离液由以下重量百分比的原料组成：有机硅类化合物25％、丙烯酸酯类共聚物26％、季铵类氢氧化物18％、表面活性剂9％、络合剂5％、N,N-二甲基丙酰胺11％、有机胺9％、添加剂5％、溶剂26％。

实施例2一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，所述剥离液由以下重量百分比的原料组成：有机硅类化合物30％、丙烯酸酯类共聚物32％、季铵类氢氧化物25％、表面活性剂16％、络合剂8％、N,N-二甲基丙酰胺14％、有机胺14％、添加剂10％、溶剂32％。

实施例3一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，所述剥离液由以下重量百分比的原料组成：有机硅类化合物27％、丙烯酸酯类共聚物29％、季铵类氢氧化物21％、表面活性剂14％、络合剂7％、N,N-二甲基丙酰胺13％、有机胺12％、添加剂8％、溶剂28％。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims

1.一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，其特征在于，所述剥离液由以下重量百分比的原料组成：有机硅类化合物25-30％、丙烯酸酯类共聚物26-32％、季铵类氢氧化物18-25％、表面活性剂9-16％、络合剂5-8％、N,N-二甲基丙酰胺11-14％、有机胺9-14％、添加剂5-10％、溶剂26-32％。

2.根据权利要求1所述的一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，其特征在于：所述表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、烷基磺酸钠的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，其特征在于：所述溶剂为选自由二甲基亚砜、N-甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基咪唑、γ-丁内酯、以及环丁砜组成的组中的一种以上。

4.根据权利要求1所述的一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，其特征在于：所述有机胺包含选自由单乙醇胺、乙二胺、1-氨基-2-丙醇、二乙醇胺、亚氨基二丙胺、2-甲氨基乙醇N-甲基单乙醇胺、三乙氨基乙醇、1-(2-羟乙基)甲基哌嗪、N-(3-氨丙基)吗啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、1-氨基-4-甲基哌嗪、1-苄基哌嗪、组成的组中的一种以上化合物。

5.根据权利要求1所述的一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，其特征在于：所述添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1,2,4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的一种AMOLEED显示屏用光刻胶剥离液组合物，其特征在于：所述络合剂为二乙烯三胺五乙酸与羟乙基乙烯二胺三乙酸按1:3的质量比混合而成。